NL8802171A - Alkalimetaaldamp-dispenser. - Google Patents
Alkalimetaaldamp-dispenser. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8802171A NL8802171A NL8802171A NL8802171A NL8802171A NL 8802171 A NL8802171 A NL 8802171A NL 8802171 A NL8802171 A NL 8802171A NL 8802171 A NL8802171 A NL 8802171A NL 8802171 A NL8802171 A NL 8802171A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- alkali metal
- cesium
- carrier
- silicon
- support
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/12—Manufacture of electrodes or electrode systems of photo-emissive cathodes; of secondary-emission electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/38—Exhausting, degassing, filling, or cleaning vessels
- H01J9/395—Filling vessels
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2201/00—Electrodes common to discharge tubes
- H01J2201/34—Photoemissive electrodes
- H01J2201/342—Cathodes
- H01J2201/3421—Composition of the emitting surface
- H01J2201/3425—Metals, metal alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2201/00—Electrodes common to discharge tubes
- H01J2201/34—Photoemissive electrodes
- H01J2201/342—Cathodes
- H01J2201/3421—Composition of the emitting surface
- H01J2201/3426—Alkaline metal compounds, e.g. Na-K-Sb
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Image-Pickup Tubes, Image-Amplification Tubes, And Storage Tubes (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
Description
De uitvinding heeft betrekking op een inrichting voor het door middel van verhitting vrijmaken van metaaldamp van een alkalimetaal.
Dergelijke inrichtingen (dispensers) worden bijvoorbeeld gebruikt in buizen voorzien van fotokathodes (heldertieidsversterkers, röntgenbeeldversterkers) en fotomultiplicatorbuizen waarbij bijvoorbeeld een dunne laag cesium wordt aangebracht om de uittreepotentiaal van de elektronen te verlagen. Ook in weergeefbuizen voorzien van halfgeleiderkathoden kunnen dit soort dispensers worden gebruikt.
Een inrichting van de in de aanhef genoemde soort is beschreven in GB 1,265,197 waarin het poeder een alkalichromaat bevat. Bij verhitting van het poeder, dat in het getoonde voorbeeld cesiumchromaat bevat wordt dit chromaat ontleed zodat zuiver cesium vrijkomt.
Eén van de bezwaren van een dergelijke inrichting bestaat hierin dat de afmetingen van de poederkorrels van het chromaat zodanig klein zijn dat bij het vullen van de houders onregelmatige toevoer van deze korrels optreedt (slechte loopeigenschappen). Hierdoor is het moeilijk de dispensers op reproduceerbare wijze te vervaardigen.
Een tweede bezwaar is de afgifte van ongewenste gassen tijdens de levering van het alkalimetaal. Weliswaar bevatten dergelijke dispensers naast het chromaat vaak silicium en zircoon-aluminium om tijdens de ontledingsreactie vrijkomend zuurstof te binden, maar met name zircoon-aluminium geeft bij de ontleedtemperatuur van de diverse alkalichromaten (700-800°C) waterstof en koolwaterstofgassen af terwijl ook de omhulling, die doorgaans uit nikkel-chroomstaal bestaat, deze gassen, met name koolstofhoudende gassen afgeeft; in het bijzonder deze laatste hebben een ongunstige invloed op de werking van fotokathoden en halfgeleiderkathoden.
Bovendien vindt de levering van het alkalimetaal plaats vanaf de ontledingstemperatuur; de afgifte van het alkalimetaal is daardoor Moeilijk of geheel niet regelbaar.
De uitvinding stelt zich onder neer ten doel een inrichting van de in de aanhef genoemde soort te verschaffen die op een meer reproduceerbare wijze vervaardigd kan worden.
Verder stelt zij zich ten doel een inrichting te verschaffen waarbij de afgifte van de alkalimetaaldamp regelbaar is.
Daarnaast stelt zij zich ten doel de afgifte van de ongewenste gassen zoveel mogelijk te verminderen.
De uitvinding berust op het inzicht dat dit bereikt kan worden door het alkalimetaal door middel van diffusie vrij te maken in plaats van door een ontledingsreactie.
Verder berust zij op het inzicht dat een dergelijke wijze van vrijmaken bereikt kan worden door af te zien van poedermengsels.
Een inrichting volgens de uitvinding heeft daartoe het kenmerk, dat de inrichting een metalen drager bevat waarbij de drager althans ten dele bestaat uit deeltjes die een silicium-alkalimetaalverbinding (of gernanium-alkalimetaalverbinding) bevatten.
Bij voorkeur is de drager draadvormig uitgevoerd. In het geval van een silicium-cesium verbinding (vermoedelijk CsSi^) komt cesium vrij bij ca. 530° en diffundeert naar buiten. Door middel van de stooktemperatuur kan de difussiesnelheid en daarmee de cesium-afgifte geregeld worden.
Omdat het vulproces nu vervangen is door een diffusieproces van alkalimetaal in het dragermateriaal kern een dergelijke dispenser op een reproduceerbaarder wijze vervaardigd worden.
Bovendien is door de lagere bedrijfstemperatuur de afgifte van ongewenste gassen aanzienlijk lager.
Geschikte metalen voor de drager zijn Al, Ag, Cu, Fe, Pt,
Ti, V en V, terwijl voor de alkalimetalen bij voorkeur Cs, Na, K en Ru worden gekozen.
Natrium, kalium en rubidium zijn zeer geschikt voor toepassingen in bijvoorbeeld helderheidsversterkers en röntgenbeeldversterkers voorzien van fotokathoden terwijl cesium met name toepassing vindt in fotomultiplicatorbuizen en (weergeef) buizen gebaseerd op halfgeleiderkathoden.
Om een gerichte dampafgifte te krijgen kan de drager althans oedeelteliik worden voorzien van een voor het alkalimetaal ondoordringbare laag bijvoorbeeld chroom. Dit is met name voordelig in een inrichting zoals voorgesteld in de Nederlandse octrooiaanvrage No. 8700486 (PHN 12.047) van Aanvraagster, waar een aantal halfgeleiderkathoden naast elkaar gemonteerd zijn, zodat een spieetvormige opening in de cesiumdispenser tegenover de rij kathoden gewenst is. Gerichte afgifte van het alkalimetaal kan ook worden verkregen door de drager onder te brengen in een houder welke van een opening van de gewenste vorm voorzien is (bijvoorbeeld een spleet of gerichte openingen).
De uitvinding zal thans nader worden verklaard aan de hand van een uitvoeringsvoorbeeld.
Een inrichting volgens de uitvinding wordt verkregen door uit te gaan van een bij voorkeur draadvormige houder van zilver of aluminium waarin zich tot 10 gewichtsprocent silicium bevindt. Aangezien het dragermateriaal niet of nauwelijks met het silicium reageert bevindt dit laatste zich voornamelijk langs de korrelgrenzen van het dragermateriaal. Dit silicium kan met cesium een silicium-cesium verbinding vormen (bijvoorbeeld CsSi4) op analoge wijze als in de tegelijkertijd ingediende octrooiaanvrage No.......... (PHN 12.657) waarbij de houder onder geschikte omstandigheden (1 atmosfeer-argondruk, T = 28°C) bedekt wordt met cesium en vervolgens verhit. Tijdens het verhitten diffundeert cesium langs de korrelgrenzen en wordt gebonden aan het silicium (tot bijvoorbeeld CsSi4). De aldus gevormde verbindingen zijn afgesloten van de omgeving, zodat de inrichting praktisch chemisch stabiel is.
Een dergelijke draadvormige cesiumbron (dispenser) kan worden gemonteerd in een vacuumbuis bijvoorbeeld tegenover een rij halfgeleiderkathoden zoals beschreven in de Nederlandse octrooiaanvrage No. 8700486 (PHN 12.047). Bij verhitting komt vanaf ca. 530° cesium vrij uit het CsSi4; dit cesium diffundeert via de korrelgrenzen naar buiten. De difussiesnelheid en daarmee de cesiumafgifte is regelbaar door instelling van de temperatuur. De draad(drager) kan hierbij tegelijk drager en stookdraad zijn.
Een gerichte afgifte van het cesium kan verkregen worden door het oppervlak van de draad grotendeels te verchromen, zodat een nauwe spleet overblijft voor de afgifte van het cesium. Ook kan een dergelijke afgifte worden bereikt door de draad grotendeels of geheel onder te brengen in een nikkel-chroom omhulling die op de gewenste wijze van één of aeer openingen (bijvoorbeeld een spleet) voorzien is.
Uiteraard is de uitvinding niet beperkt tot het hier besproken voorbeeld. Zo kunnen ook andere metalen voor de drager gekozen worden, die elektrisch geleidend zijn en tot ca. 600° niet met cesium reageren. Aan deze eisen voldoen bijvoorbeeld nikkel, koper, ijzer, platina, titaan, vanadium en wolfraam.
Ook kan in plaats van cesium een ander alkalimetaal gekozen worden, bijvoorbeeld natrium of kalium, terwijl silicium vervangen kern worden door germanium. Hierbij veranderen uiteraard de vervaardigingscondities, terwijl ook de als drager geschikte metalen niet zonder meer dezelfde hoeven te zijn.
Naast het genoemde voorbeeld van de dunne vacuumbuis zijn alkalimetaalbronnen volgens de uitvinding ook zeer goed toepasbaar in andere elektronenbuizen (High Brightness Gun) en ook in inrichtingen voorzien van fotokathoden (helderheidsversterkers, röntgenbeeldversterkers) en in fotomultiplicatorbuizen.
Claims (10)
1. Inrichting voor het door middel van verhitting vrijmaken van een alkalimetaal, met het kenmerk, dat de inrichting een metalen drager bevat waarbij de drager althans ten dele bestaat uit deeltjes die een silicium-alkalimetaal of germanium-alkalimetaal verbinding bevatten.
2. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de drager draadvormig is.
3. Inrichting volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat de drager in hoofdzaak bestaat uit een metaal uit de groep, aluminium, zilver, koper, ijzer, platina, titaan, vanadium en wolfraam.
4. Inrichting volgens één der vorige conclusies, met het kenmerk, dat het alkalimetaal tot de groep natrium, kalium, rubidium en cesium behoort.
5. Inrichting volgens één der vorige conclusies, met het kenmerk, dat de drager althans gedeeltelijk bedekt is met een voor het alkalimetaal ondoordringbare laag.
6. Inrichting volgens conclusie 5, met het kenmerk, dat de ondoordringbare laag chroom bevat.
7. Inrichting volgens één der conclusies 1 tot en met 4, met het kenmerk, dat de drager zich in een houder voorzien van tenminste een opening bevindt.
8. Inrichting volgens conclusie 7, met het kenmerk, dat de opening spieetvormig is.
9. Elektronenbuis, met het kenmerk, dat deze is voorzien van een fotokathode en een inrichting volgens één der conclusies 1 tot en met 8.
10. Elektronenbuis, met het kenmerk, dat deze is voorzien van een halfgeleiderkathode en een inrichting volgens één der conclusies 1 tot en met 8.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8802171A NL8802171A (nl) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Alkalimetaaldamp-dispenser. |
JP1221839A JPH02106845A (ja) | 1988-09-02 | 1989-08-30 | アルカリ金属の金属蒸気放出装置 |
DE68919457T DE68919457T2 (de) | 1988-09-02 | 1989-08-30 | Alkalimetalldampfspender. |
CN89106657A CN1026039C (zh) | 1988-09-02 | 1989-08-30 | 碱金属蒸气发放器 |
EP89202191A EP0360317B1 (en) | 1988-09-02 | 1989-08-30 | Alkali metal vapour dispenser |
US07/401,887 US5066888A (en) | 1988-09-02 | 1989-08-31 | Alkali metal vapor dispenser |
KR1019890012620A KR900005536A (ko) | 1988-09-02 | 1989-09-01 | 알칼리 금속 증기 분배기 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8802171 | 1988-09-02 | ||
NL8802171A NL8802171A (nl) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Alkalimetaaldamp-dispenser. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL8802171A true NL8802171A (nl) | 1990-04-02 |
Family
ID=19852845
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL8802171A NL8802171A (nl) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Alkalimetaaldamp-dispenser. |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5066888A (nl) |
EP (1) | EP0360317B1 (nl) |
JP (1) | JPH02106845A (nl) |
KR (1) | KR900005536A (nl) |
CN (1) | CN1026039C (nl) |
DE (1) | DE68919457T2 (nl) |
NL (1) | NL8802171A (nl) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITMI20010995A1 (it) * | 2001-05-15 | 2002-11-15 | Getters Spa | Dispensatori di cesio e processo per il loro uso |
DE602004029235D1 (de) * | 2003-01-17 | 2010-11-04 | Hamamatsu Photonics Kk | Alkalimetall erzeugendes mittel und dessen verwendung zur herstellung einer photokathode und einer sekundärelektronen emittierenden oberfläche |
AT501721B1 (de) * | 2005-03-11 | 2006-11-15 | Konstantin Technologies Ges M | Verdampferquelle zum verdampfen von alkali/erdalkalimetallen |
US20060257296A1 (en) * | 2005-05-13 | 2006-11-16 | Sarnoff Corporation | Alkali metal dispensers and uses for same |
ITMI20070301A1 (it) * | 2007-02-16 | 2008-08-17 | Getters Spa | Supporti comprendenti materiali getter e sorgenti di metalli alcalini o alcalino-terrosi per sistemi di termoregolazione basati su effetto tunnel |
WO2011084139A1 (en) * | 2009-12-16 | 2011-07-14 | Los Alamos National Security, Llc | Self-healing low temperature dispenser photocathode |
CN109920711B (zh) * | 2017-12-13 | 2021-06-15 | 有研工程技术研究院有限公司 | 一种碱金属释放剂所用释放器的制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3096211A (en) * | 1959-03-31 | 1963-07-02 | Emi Ltd | Alkali metal generators |
GB1265197A (nl) * | 1968-09-13 | 1972-03-01 | ||
NL7208146A (nl) * | 1972-06-15 | 1973-12-18 | ||
NL7802116A (nl) * | 1977-03-14 | 1978-09-18 | Getters Spa | Alkalimetaaldampgenerator. |
NL8700486A (nl) * | 1987-02-27 | 1988-09-16 | Philips Nv | Weergeefinrichting. |
-
1988
- 1988-09-02 NL NL8802171A patent/NL8802171A/nl not_active Application Discontinuation
-
1989
- 1989-08-30 CN CN89106657A patent/CN1026039C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-30 JP JP1221839A patent/JPH02106845A/ja active Pending
- 1989-08-30 EP EP89202191A patent/EP0360317B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-30 DE DE68919457T patent/DE68919457T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-31 US US07/401,887 patent/US5066888A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-09-01 KR KR1019890012620A patent/KR900005536A/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0360317A1 (en) | 1990-03-28 |
CN1040702A (zh) | 1990-03-21 |
DE68919457D1 (de) | 1995-01-05 |
CN1026039C (zh) | 1994-09-28 |
US5066888A (en) | 1991-11-19 |
JPH02106845A (ja) | 1990-04-18 |
KR900005536A (ko) | 1990-04-14 |
EP0360317B1 (en) | 1994-11-23 |
DE68919457T2 (de) | 1995-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100575536C (zh) | 用于蒸发锂的混合物 | |
NL8802171A (nl) | Alkalimetaaldamp-dispenser. | |
US2131204A (en) | Indirectly heated thermionic cathode | |
HU215491B (hu) | Keveréktöltet higanykibocsátó eszközhöz, higanykibocsátó eszköz és eljárás higanynak elektroncsövek belsejébe juttatására | |
HU215489B (hu) | Keveréktöltet higanykibocsátó eszközhöz, higanykibocsátó eszköz és eljárás higanynak elektroncsövek belsejébe juttatására | |
US5492879A (en) | Catalyst comprising finely divided metals and oxidized metals | |
NL8702727A (nl) | Scandaatkathode. | |
US4047101A (en) | Filament for alkali metal ionization detector | |
EP0876679A1 (en) | High pressure discharge lamp | |
EP0907960B1 (de) | Kalte elektrode für gasentladungen | |
Vetrov et al. | Antiemissive coatings | |
US5006756A (en) | Alkali metal vapor dispenser | |
US4357365A (en) | Refractory metal coating method | |
JP3957344B2 (ja) | 放電管または放電ランプ及びスカンデート−ディスペンサ陰極 | |
JPH0719530B2 (ja) | 陰極線管 | |
US4709185A (en) | Device for electron emission including device for providing work function-reducing layer and method of applying such a layer | |
Bunshah | Vacuum evaporation-history, recent developments and applications | |
JPS59134547A (ja) | 高圧気体放電灯電極およびその製造方法 | |
US3499785A (en) | Coating substrates by evaporation-deposition | |
EP1109641A1 (en) | Method and apparatus for producing material vapour | |
US2097157A (en) | Electron emitting cathode and method of developing same | |
GB1568463A (en) | Thin coatings of temperature resistant metals | |
EP0140979B1 (en) | Alloy containing liquid metal ion species | |
Aida et al. | Evaluation of the base metal activity of oxide cathodes | |
US20050199861A1 (en) | Manufacturing method for transparent and conductive coatings |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1B | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |