JP4430040B2 - 基板にパターンを形成するためのリソグラフィ方法およびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
本発明の一実施例では、以下に記述するステップを含む、リセット可能または復元可能なコントラスト向上層を用いたデバイス製造方法が提供される。放射線感光層が基板の上に形成される。リセット可能または復元可能なコントラスト向上層が、放射線感光層の上に形成される。リセット可能または復元可能なコントラスト向上層が、対応する第1のパターン像への露出によって第1のパターンで漂白(ブリーチ)される。リセット可能または復元可能なコントラスト向上層に形成された第1のパターンの漂白フィーチャは、露光放射線に対する透過率が、漂白されていない領域の透過率とは異なる。放射線感光層は、第1のパターンの漂白フィーチャでパターン形成されたリセット可能または復元可能なコントラスト向上層を通る露光放射線の透過によって、放射線の第1のパターンに露出されるようになる。リセット可能なコントラスト向上層がリセットされて、または復元可能なコントラスト向上層が復元されて、リセット可能または復元可能なコントラスト向上層が漂白解除される。リセット可能または復元可能なコントラスト向上層が、第2のパターンで漂白される。リセット可能または復元可能なコントラスト向上層に形成された第2のパターンの漂白フィーチャは、第2のパターンの漂白フィーチャでパターン形成されたリセット可能または復元可能なコントラスト向上層を通る露光放射線の透過によって、放射線の第2のパターンに対する放射線感光層の露出を可能にする。
図10および図11に、本発明の一実施例による、図5の第1および第2の像500および502を用い、且つリセット可能または復元可能なコントラスト向上層1012を用いた多重露光プロセスを図式的に示す。
図17に、本発明の一実施例による、基板をパターン形成するためのリソグラフィ多重露光方法1700を表す流れ図を示す。例えば、この方法は、パターン形成されるフィーチャの解像度を高めるために、能動的にリセット可能な、または受動的に復元可能なコントラスト向上層を利用して多重露光を行うために使用される。これは、上述した例示的なシステムの1つまたは複数を使用して行うことができる。
本発明の様々な実施例を上に述べてきたが、それらが単に例示として提示されており、限定ではないことを理解すべきである。本発明の精神および範囲から逸脱することなく、形態および細部の様々な変更を行うことができることが当業者には明らかであろう。したがって、本発明の外延および範囲は、上述した例示的な実施例の任意のものによって限定されるべきではなく、添付する特許請求の範囲およびその等価箇所に従ってのみ定義されるべきである。
SO 放射線源
BD ビーム送達システム
B 放射線ビーム
PD パターン形成デバイス
PS 投影システム
W 基板
WT 基板テーブル
L1、L2 レンズ
AS アパーチャ・ストップ
S スポット
SE スポット露光部
500、502 像
610 放射線感光層
612、712 コントラスト向上層
614 基板
618 パターン
616、816 漂白領域
1400 多重露光マスクベース・リソグラフィ・システム
1402 走査ステージ
1406a、1406b レチクル
1408a、1408b 光学構成要素
1410a、1410b 光学素子
1412 プリズム
1422 像領域
1432 検出器
1434 光学ブロック
Claims (10)
- リソグラフィ・システムを使用して基板にパターンを形成するためのリソグラフィ方法であって、
(a)放射線感光層を基板の上に形成するステップと、
(b)リセット可能または復元可能なコントラスト向上層を前記放射線感光層の上に形成するステップと、
(c)前記コントラスト向上層を第1のパターンで漂白するステップと、
(d)前記第1のパターンが前記コントラスト向上層から前記放射線感光層内に伝達するのを許可するステップと、
(e)前記コントラスト向上層をリセットまたは復元して、前記コントラスト向上層を漂白解除するステップと、
(f)前記コントラスト向上層を第2のパターンで漂白するステップと、
(g)前記第2のパターンが前記コントラスト向上層から前記放射線感光層内に伝達するのを許可するステップと
を含み、
ステップ(c)と(f)が、光学システムの第1および第2のチャネルを使用して実質的に同時に行われ、またステップ(d)と(g)が実質的に同時に行われ、
ステップ(e)が、所定の波長値を有する放射線の漂白解除ビームを使用して前記コントラスト向上層の漂白解除を行うことを含み、
前記第1および第2のパターンと前記漂白解除ビームとが、光学システムの第1、第2、および第3のそれぞれのチャネルを通して方向付けられ、
前記第1のパターンが、前記第2のパターンに関して前記基板上の異なる位置に形成され、
前記漂白解除ビームが、目標領域の第1および第2のパターンによる露光時間の間の一時点で、前記基板上の目標領域に伝送され、
リソグラフィ・システムの走査動作により、前記基板上において前記第1および第2のパターンが重ね合わされて露光される、方法。 - 前記リセット可能または復元可能なコントラスト向上層を構成する材料としてレーザ色素を使用することをさらに含む請求項1に記載の方法。
- マスクレス・リソグラフィ・システムを使用して漂白ステップ(c)および(f)を行うことをさらに含む請求項1または2に記載の方法。
- マスクベース・リソグラフィ・システムを使用して漂白ステップ(c)および(f)を行うことをさらに含む請求項1または2に記載の方法。
- 前記第1および第2のチャネルが、光学システムの像領域において並べて配置されている請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 前記第3のチャネルが、光学システムの像領域において前記第1および第2のチャネルの間に配置されている請求項5に記載の方法。
- 放射線ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターン形成デバイスを支持するように構築された支持体であって、該パターン形成デバイスは、前記放射線ビームの断面にパターンを与えてパターン形成された放射線ビームを形成することが可能である支持体と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン形成された放射線ビームを、放射線感光層とリセット可能または復元可能なコントラスト向上層とが上に設けられた前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと
を有するリソグラフィ装置であって、
前記リセット可能または復元可能なコントラスト向上層を能動的に漂白解除するために前記基板に放射線の漂白解除ビームを提供するように構成された第2の照明システムをさらに有し、
前記投影システムが、第1、第2、および第3のそれぞれのチャネルを通して、第1および第2のパターンと前記漂白解除ビームを方向付けするよう構成されており、
前記第1のパターンが、前記第2のパターンに関して前記基板上の異なる位置に形成され、
前記第1および第2のパターンが、前記投影システムの第1および第2のチャネルを使用して実質的に同時に基板に投影され、
前記漂白解除ビームが、目標領域の第1および第2のパターンによる露光時間の間の一時点で、前記基板上の目標領域に伝送され、
当該リソグラフィ装置の走査動作により、前記基板上において前記第1および第2のパターンが重ね合わされて露光される、リソグラフィ装置。 - 前記リセット可能または復元可能なコントラスト向上層を構成する材料としてレーザ色素を使用することをさらに含む請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1および第2のチャネルが、前記投影システムの像領域において並べて配置されている請求項7または8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第3のチャネルが、前記投影システムの像領域において前記第1および第2のチャネルの間に配置されている請求項9に記載のリソグラフィ装置。
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