JP4429953B2 - ファイバブラッググレーティング素子 - Google Patents
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Description
図1は、この発明の実施の形態1にかかるファイバブラッググレーティング素子を用いた光分岐線路監視システムの概要構成を示す図である。この光分岐線路監視システムは、電送装置10に幹線光線路22が接続され、この幹線光線路22は、光スプリッタ28によって光多分岐され、複数の幹線光線路22に分岐される。この分岐された幹線光線路22は、光カプラ18を介して局外に延び、屋外の光スプリッタ3によって各分岐線路1a1〜1a8に光多分岐される。光多分岐された各分岐光線路1a1〜1a8は、ユーザ24内の各ONU(Optical Network Unit)20に接続される。なお、この光スプリッタ3は、図示しない光線路監視用デバイスを有し、この光監視線路用デバイスは、監視光λc1〜λc8のみをそれぞれ各分岐光線路1a1〜1a8に対応させて入出力する。
図8は図3の変形例である実施の形態2を示す図であり、FBG21を含むFBG部40を示すものである。図8では、FBG部40のクラッド42の外部が、クラッド42の屈折率以上の屈折率をもつ高屈折率部43によって覆われている。なお、高屈折率部43は、FBG部21の周囲全体であることが好ましいが、一部であってもよい。高屈折率部43に用いられる部材は、コア41およびクラッド42の屈折率以上の高い屈折率をもつものであればよく、たとえばマッチングオイルでも、接着剤でもよい。なお、高屈折率部43は、コア41の屈折率以上の高い屈折率をもつものでもよい。
上述した実施の形態1および実施の形態2のFBG21は、屈折率プロファイルが外側から中心に向って尖塔状となるように設計されているコアにのみグレーティングが形成されているが、この実施の形態3では、クラッド52領域にも同一のチャープトグレーティングを形成している。
上述した実施の形態1から実施の形態3のFBG21は、屈折率プロファイルが外側から中心に向って尖塔状となるように設計され、隣り合うグレーティングのピッチ間隔Λが、光ファイバの長手方向に向って広くなるように形成されている。これに対し、この実施の形態4のFBG部60では、図10に示すように、コアの屈折率プロファイルが外側から中心に向って尖塔状となるように設計され、かつ隣り合うグレーティングのピッチ間隔Λが光ファイバの長手方向の中心に向って広くなるように形成されている。
2 OTDR
3,28 光スプリッタ
10 伝送装置
18 光カプラ
20 ONU
21,21−1〜21−8 FBG
22 幹線光線路
24 ユーザ
25 ファイバセレクタ(FS)
26 制御部
30−1,30−3 光コネクタ
31−1,31−3 光受信部
32−1,32−3 O/E部
33−1,33−3 受信処理部
40,50 FBG部
41,51 コア
42,52 クラッド
43 高屈折率部
λa,λb,λc1〜λc8 波長
Claims (6)
- コアと、前記コアの外側にクラッドとを備えた光導波路に、グレーティングを形成することにより、入力される光信号に対し、遮断帯域では40dB以上の遮断を行い、透過帯域ではロスの発生を2dB以下としたファイバブラッググレーティング素子において、
前記光導波路の長さ方向に直交する断面における前記コアの屈折率プロファイルは、
前記断面のコアの中心から±2μmの範囲に設けられた、前記コアの外側から中心に向って屈折率が大きくなる尖塔状部と、
前記尖塔状部の外側に設けられた、外側に向かって屈折率が小さくなる傾斜であって前記尖塔状部の傾斜よりも緩い傾斜である第1の傾斜部と、
前記第1の傾斜部の外側に設けられた、外側に向かって屈折率が小さくなる傾斜であって前記第1の傾斜部よりも急傾斜である第2の傾斜部と、を有することを特徴とするファイバブラッググレーティング素子。 - 前記コアは、前記光導波路の長さ方向に直交する断面の中心から2μmの範囲に最大屈折率を有することを特徴とする請求項1に記載のファイバブラッググレーティング素子。
- 前記グレーティングは、ピッチ間隔が、前記光導波路の長さ方向における前記グレーティングの中心に向って広くなるように形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載のファイバブラッググレーティング素子。
- 前記光導波路は、少なくともコア領域にグレーティングが形成され、クラッド領域の外側であって該クラッド領域の屈折率以上の屈折率をもつ材料により、前記グレーティングが形成されたコア領域に相当する一部あるいは全部を覆うことを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のファイバブラッググレーティング素子。
- 前記グレーティングは、前記クラッド領域に、紫外線に対して感光性を有する感光性材料を添加し、コア領域と同じグレーティングを形成させたことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のファイバブラッググレーティング素子。
- 前記遮断帯域は1650nmを含む約15nm程度の帯域であり、前記透過帯域は1630nm以下であることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載のファイバグレーティング素子。
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JP2005100633A JP4429953B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | ファイバブラッググレーティング素子 |
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- 2005-03-31 JP JP2005100633A patent/JP4429953B2/ja active Active
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