JP4428256B2 - レーザ加工装置 - Google Patents

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Description

本発明は、レーザ光源から出力されたレーザ光を加工対象物に照射して該加工対象物を加工する装置に関するものである。
レーザ加工装置は、レーザ光を出力するレーザ光源と、このレーザ光源から出力されたレーザ光を加工対象物の加工面に照射する照射光学系とを備える(例えば特許文献1および非特許文献1を参照)。
特開2004−322146号公報 川人洋介、他、「アルミニウム合金のレーザマイクロスポット重ね溶接におけるインプロセスモニタリングと適応制御」、第62回レーザ加工学会論文集、第136頁〜第142頁、2004年12月
しかしながら、従来のレーザ加工装置では、レーザ光が人体に照射される可能性や、塵埃など不測の可燃物混入などに因る火災発生の危険性が考慮されていない。本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、より安全にレーザ加工を行うことができるレーザ加工装置を提供することを目的とする。
本発明に係るレーザ加工装置は、(1) レーザ光を出力するレーザ光源と、(2) レーザ光源から出力されたレーザ光を加工対象物の加工面に略垂直に照射する照射光学系と、(3) 照射光学系によりレーザ光が照射された加工面で発生する反射光の強度をモニタする反射光モニタ部と、(4) 照射光学系によりレーザ光が照射された加工面で熱放射が開始される前に、反射光モニタ部によりモニタされた反射光強度が第1の所定値より下がると、レーザ光源のレーザ光出力を低下または停止させる制御部と、を備えることを特徴とする。このレーザ加工装置では、レーザ光源から出力されたレーザ光は、照射光学系により、加工対象物の加工面に略垂直に照射される。このとき加工面で発生する反射光の強度は反射光モニタ部によりモニタされ、このモニタされた反射光強度が第1の所定値より下がると、制御部により、レーザ光源のレーザ光出力は低下または停止される。「熱放射が開始される」とは、「照射後であり、加工面からの熱放射強度がある所定値に達するまで期間」をさす。なお、「熱放射が開始される前」は、前もって確認された照射開始後の所定の時間で判断してもよい。本発明に係るレーザ加工装置は、照射光学系によりレーザ光が照射された加工面で発生する熱放射の強度をモニタする熱放射モニタ部を備えるのが好適である。
本発明に係るレーザ加工装置は、(1) レーザ光を出力するレーザ光源と、(2) レーザ光源から出力されたレーザ光を加工対象物の加工面に略垂直に照射する照射光学系と、(3) 照射光学系によりレーザ光が照射された加工面で発生する反射光の強度をモニタする反射光モニタ部と、(4) 照射光学系によりレーザ光が照射された加工面で熱放射が観測されない場合に、反射光モニタ部によりモニタされた反射光強度が第1の所定値より下がると、レーザ光源のレーザ光出力を低下または停止させる制御部とを備えることを特徴とする。
本発明に係るレーザ加工装置は、(1) レーザ光を出力するレーザ光源と、(2) レーザ光源から出力されたレーザ光を加工対象物の加工面に略垂直に照射する照射光学系と、(3) 照射光学系によりレーザ光が照射された加工面で発生する反射光の強度をモニタする反射光モニタ部と、(4) 照射光学系によりレーザ光が照射された加工面で発生する熱放射の強度をモニタする熱放射モニタ部と、(5) 反射光モニタ部によりモニタされた反射光強度が第1の所定値より下回っているとき、熱放射モニタ部によりモニタされた熱放射強度が第2の所定値より上回っているときは、レーザの出力パワーを正常動作時のパワーに制御する制御部とを備えることを特徴とする。
制御部は、熱放射モニタ部によりモニタされた熱放射強度が第2の所定値より上回っていて、反射光モニタ部によりモニタされた反射光強度が第1の所定値より上回っているとき、警報を発出するのが好適である。
本発明によれば、より安全にレーザ加工を行うことができる。
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
図1は、本実施形態に係るレーザ加工装置1の構成図である。この図に示されるレーザ加工装置1は、レーザ光を加工対象物2に照射して該加工対象物2を加工する装置であって、レーザ光源11、ビームスプリッタ12、集光レンズ13、ダイクロイックミラー14、反射光モニタ部15、熱放射モニタ部16および制御部17を備える。
レーザ光源11は、加工対象物2へ照射すべきレーザ光を出力するものである。レーザ光源11から出力されるレーザ光は、連続光であってもよいし、パルス光であってもよい。また、レーザ光源11から出力されるレーザ光の波長は、加工対象物2の材料(例えば金属や樹脂)に応じて適切に選ばれ、例えば1μm帯である。なお、COレーザ光源から出力される波長10.6μm帯のレーザ光と比べると、波長1μm帯のレーザ光は、回折拡がりが小さく、狭い領域への集光が容易である。例えば、レーザ光源11は、Nd添加YAGロッドやYb添加ファイバなどをレーザ媒質として含み、また、このレーザ媒質に添加された活性元素(Nd,Ybなど)を励起する励起光を出力する励起光源としてレーザダイオードを含む。
ビームスプリッタ12および集光レンズ13は、レーザ光源11から出力されたレーザ光を加工対象物2の加工面に略垂直に照射する照射光学系を構成する。ビームスプリッタ12は、例えば反射率が99%であって透過率が1%であり、入射した光の殆どを反射させ、残部を透過させる。集光レンズ13は、ビームスプリッタ12と加工対象物2との間に設けられている。
ビームスプリッタ12は、レーザ光源11から出力されたレーザ光を入力し、そのレーザ光の殆どを集光レンズ13へ反射する。集光レンズ13は、レーザ光源11から出力されたレーザ光のうちビームスプリッタ12により反射されたレーザ光を入力して、そのレーザ光を加工対象物2の加工面上に集光する。集光レンズ13から加工対象物2の加工面にレーザ光が垂直に入射するように、照射光学系と加工対象物2との相対的位置関係を調整する手段(例えば、加工対象物2を載置するステージ)が設けられているのが好適である。
また、集光レンズ13は、レーザ光が照射された加工対象物2の加工面で発生した反射光および熱放射を入力して、これら反射光および熱放射をビームスプリッタ12へ出力する。ビームスプリッタ12は、集光レンズ13から出力された反射光および熱放射を入力して、これら反射光および熱放射それぞれの一部を透過させてダイクロイックミラー14へ出力する。ここで、反射光は、レーザ光源11から出力されるレーザ光と同一の波長である。また、熱放射は、レーザ光照射に因り加工対象物2が溶融してプラズマ状態となることに伴って発生するものであり、上記レーザ光の波長とは異なる波長成分(例えば可視域や波長1.3μ帯等の近赤外域の光)を含む。
ダイクロイックミラー14は、ビームスプリッタ12から出力された反射光および熱放射を入力して、これら反射光と熱放射とを互いに分離して出力する。例えば、ダイクロイックミラー14は、反射光を反射させ、熱放射を透過させる。反射光モニタ部15は、ダイクロイックミラー14から到達した反射光を入力し、その反射光の強度をモニタする。熱放射モニタ部16は、ダイクロイックミラー14から到達した熱放射を入力し、その熱放射の強度をモニタする。制御部17は、反射光モニタ部15によりモニタされた反射光強度、および、熱放射モニタ部16によりモニタされた熱放射強度に基づいて、レーザ光源11のレーザ光出力を制御する。
加工対象物2にレーザ光が照射されるとき、その照射の開始の当初は反射が生じる。加工対象および加工目的次第ではこの過程で加工が終了する。この場合、反射光が検出される状態が正常であり、モニタされる反射光強度が所定値より低い場合は、不測の物質が混入したと判断され、前記レーザ光源11のレーザ光出力を低下または停止させ、或いは警報を発出させる。
より長時間を要する溶接・切断などの加工の場合、レーザ光照射後に、やがて加工対象物2が溶融し始めると、反射率が低下するとともに、熱放射が発生する。したがって、通常、反射光モニタ部15によりモニタされる反射光強度は徐々に減衰し、熱放射モニタ部16によりモニタされる熱放射強度は徐々に増加する。
仮に、レーザ光照射時に、人体や可燃物(例えば塵埃)などの異物が加工対象物2の直前に誤って挿入された場合、火傷または火災などの災害が発生することが想定される。しかし、加工対象物2の直前に挿入された異物にレーザ光が照射された場合に生じる反射光および熱放射は、加工対象物2にレーザ光が照射された場合に生じる反射光および熱放射とは相違する。そこで、制御部17は、この相違を利用して、以下のような制御を行う。
最も簡易には、制御部17による制御は以下のとおりである。レーザ光源11からレーザ光を出力させ、そのレーザ光のパワーが目標値に設定される。レーザ光源11から出力されたレーザ光は、ビームスプリッタ12により反射され、集光レンズ13により収斂されて、加工対象物2の加工面に集光照射される。レーザ光が照射された加工対象物2の加工面で発生した反射光の強度が反射光モニタ部15によりモニタされ、このモニタにより得られた反射光強度Prと所定値Aとが制御部17により大小比較される。そして、反射光強度Prが所定値以上であると制御部17により判断された場合には、その状態が継続され、そうでない場合には、レーザ光源11のレーザ光出力が低下または停止され、或いは警報が発出される。
しかし、より好適には、制御部17は、熱放射モニタ部16によるモニタ結果を利用して、図2または図3に示されるような制御を行う。
図2は、本実施形態に係るレーザ加工装置1の動作の一例を示すタイミングチャートである。ステップS1では、レーザ光源11からレーザ光を出力させ、続くステップS2では、レーザ光源11から出力されるレーザ光のパワーが目標値に設定される。ステップS2では、レーザ光源11において励起光源からレーザ媒質に供給される励起光のパワーが目標値に設定されてもよい。レーザ光源11から出力されたレーザ光は、ビームスプリッタ12により反射され、集光レンズ13により収斂されて、加工対象物2の加工面に集光照射される。
ステップS3では、レーザ光が照射された加工対象物2の加工面で発生した反射光の強度が反射光モニタ部15によりモニタされ、このモニタにより得られた反射光強度Prと所定値Aとが制御部17により大小比較される。そして、反射光強度Prが所定値A以上であると制御部17により判断された場合にはステップS2に戻り、そうでない場合にはステップS4に進む。
ステップS4では、レーザ光が照射された加工対象物2の加工面で発生した熱放射の強度が熱放射モニタ部16によりモニタされ、このモニタにより得られた熱放射強度Phと所定値Bとが制御部17により大小比較される。そして、熱放射強度Phが所定値B以上であると制御部17により判断された場合にはステップS2に戻り、そうでない場合にはステップS5に進む。
ステップS5では、制御部17により、レーザ光源11のレーザ光出力が低下または停止され、或いは警報が発出される。
このように、ステップS2およびS2のループ、ならびに、ステップS2〜S4のループにより、「Pr<A」且つ「Ph<B」であるか否かが判断され、「Pr<A」且つ「Ph<B」である場合にはステップS5に進み、そうでない場合(「Pr≧A」又は「Ph≧B」である場合)にはレーザ光源11から出力されるレーザ光のパワーは目標値のままとされる。
すなわち、「Pr≧A」又は「Ph≧B」である場合には、レーザ光が加工対象物2に正常に照射されていると判断され、その状態が継続される。これに対して、「Pr<A」且つ「Ph<B」である場合には、人体や可燃物などの異物が加工対象物2の直前に存在する為に、モニタにより得られた反射光強度Prおよび熱放射強度Phそれぞれが小さくなったと判断されて、制御部17により、レーザ光源11のレーザ光出力が低下または停止され、或いは警報が発出される(ステップS5)。したがって、人体や可燃物などの異物が加工対象物2の直前に挿入されたときに、直ちにレーザ光源11のレーザ光出力が低下または停止されることにより、より安全にレーザ加工を行うことができる。
図3は、本実施形態に係るレーザ加工装置1の動作の他の一例を示すカルノーマップである。この図は、反射光モニタ部15によるモニタにより得られた反射光強度Prと所定値Aとの大小関係、および、熱放射モニタ部16によるモニタにより得られた熱放射強度Phと所定値Bとの大小関係について、4つの場合それぞれにおける制御部17の動作を示している。
この図に示されるように、「Pr<A」且つ「Ph≧B」である場合、または、「Pr≧A」且つ「Ph<B」である場合には、レーザ光が加工対象物2に正常に照射されていると判断される。「Pr<A」且つ「Ph<B」である場合には、人体や可燃物などの異物が加工対象物2の直前に存在する為に、モニタにより得られた反射光強度Prおよび熱放射強度Phそれぞれが小さくなったと判断されて、制御部17により、レーザ光源11のレーザ光出力が低下または停止され、或いは警報が発出される(ステップS5)。以上の3つの場合は、図2における制御と同様である。「Pr≧A」且つ「Ph≧B」である場合は通常ありえないので、この場合には、レーザ加工装置1の何れかの構成要素が異常であると判断されて、警報が発出され、また、安全の為にレーザ光源11のレーザ光出力が低下または停止される。
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、ビームスプリッタ12に替えて偏波消光比モニタ結合器が用いられてもよい。また、レーザ光源11から出力されたレーザ光は、上記実施形態では空間伝搬して加工対象物2に照射されたが、光ファイバを伝搬して加工対象物2に照射されてもよく、この場合には、ビームスプリッタ12に替えて光ファイバカプラが好適に用いられる。
本実施形態に係るレーザ加工装置1の構成図である。 本実施形態に係るレーザ加工装置1の動作の一例を示すタイミングチャートである。 本実施形態に係るレーザ加工装置1の動作の他の一例を示すカルノーマップである。
符号の説明
1…レーザ加工装置、2…加工対象物、11…レーザ光源、12…ビームスプリッタ、13…集光レンズ、14…ダイクロイックミラー、15…反射光モニタ部、16…熱放射モニタ部、17…制御部。

Claims (5)

  1. レーザ光を出力するレーザ光源と、
    前記レーザ光源から出力されたレーザ光を加工対象物の加工面に略垂直に照射する照射光学系と、
    前記照射光学系によりレーザ光が照射された前記加工面で発生する反射光の強度をモニタする反射光モニタ部と、
    前記照射光学系によりレーザ光が照射された前記加工面で熱放射が開始される前に、前記反射光モニタ部によりモニタされた反射光強度が第1の所定値より下がると、前記レーザ光源のレーザ光出力を低下または停止させる制御部と
    を備えることを特徴とするレーザ加工装置。
  2. 前記照射光学系によりレーザ光が照射された前記加工面で発生する熱放射の強度をモニタする熱放射モニタ部を備えることを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。
  3. レーザ光を出力するレーザ光源と、
    前記レーザ光源から出力されたレーザ光を加工対象物の加工面に略垂直に照射する照射光学系と、
    前記照射光学系によりレーザ光が照射された前記加工面で発生する反射光の強度をモニタする反射光モニタ部と、
    前記照射光学系によりレーザ光が照射された前記加工面で熱放射が観測されない場合に、前記反射光モニタ部によりモニタされた反射光強度が第1の所定値より下がると、前記レーザ光源のレーザ光出力を低下または停止させる制御部と
    を備えることを特徴とするレーザ加工装置。
  4. レーザ光を出力するレーザ光源と、
    前記レーザ光源から出力されたレーザ光を加工対象物の加工面に略垂直に照射する照射光学系と、
    前記照射光学系によりレーザ光が照射された前記加工面で発生する反射光の強度をモニタする反射光モニタ部と、
    前記照射光学系によりレーザ光が照射された前記加工面で発生する熱放射の強度をモニタする熱放射モニタ部と、
    前記反射光モニタ部によりモニタされた反射光強度が前記第1の所定値より下回っているとき、前記熱放射モニタ部によりモニタされた熱放射強度が第2の所定値より上回っているときは、前記レーザの出力パワーを正常動作時のパワーに制御する制御部と
    を備えることを特徴とするレーザ加工装置。
  5. 前記制御部は、前記熱放射モニタ部によりモニタされた熱放射強度が前記第2の所定値より上回っていて、前記反射光モニタ部によりモニタされた反射光強度が前記第1の所定値より上回っているとき、警報を発出することを特徴とする請求項2または4に記載のレーザ加工装置。

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