JP4427605B1 - 接着剤の滴下制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 予行試験工程では、滴下径X及び滴下ピッチPの変化とシール線2bの線幅Bとのデータ群の関連性を予め抽出しておき、その後のワーク製造過程では、滴下径Xの測定値より、滴下径X及び滴下ピッチPの変化とシール線2bの線幅Bとのデータ群の関連性に基づき、両板状ワーク1が所定のギャップGで重ね合わされたことによる伸展後のシール線2bの線幅Bを推定することで、滴下ピッチPを制御変数として伸展後のシール線幅Bを制御することにより、ワーク製造過程の途中にディスペンサ3からの点状接着剤2aの滴下径Xが微妙に変化しても、その滴下径Xの測定値から予行試験工程の測定結果に基づいて、ディスペンサ3からの滴下ピッチPを自動的に修正し、その後は修正した滴下条件でシール線2bが形成される。
【選択図】 図2
Description
詳しくは、一対の板状ワークの少なくともいずれか一方に、接着剤を定量ずつ等間隔おきに滴下して点状接着剤を定ピッチで配置し、これら板状ワークの貼り合わせにより、点状接着剤を伸展させ相互に繋いでシール線が形成される接着剤の滴下制御方法に関する。
しかし乍ら、ディスペンサから点状に滴下される接着剤は、ディスペンサーのノズル性能だけでなく、粘度や配合比などの材料固有の違いや、温度又は湿度などの滴下環境変化によって、ディスペンサから滴下される一滴当たりの量(滴下量)が変化し、それにより板状ワークに滴下された点状接着剤の径を一定に保つことが困難であった。
特に、使用する接着剤が変ってディスペンサから初めて滴下させる時や接着剤の滴下を開始する始業時には、接着剤の滴下量が安定し難いため、伸展して繋がったシール線の線幅にバラツキが発生し易く、それにより封止空間の容積が頻繁に変動して、高精度な貼り合わせ構造体を安定的に製造できないという問題があった。
そこで、この問題点を解決するため、始業時に先ず実ワークでテスト運転してディスペンサからの点状接着剤の滴下径を安定させ、次に点状接着剤が相互に繋がった実際のシール線の線幅を実測して、目的とするシール線幅との差を求め、これらの差に基づいてディスペンサからの滴下量を調整することが考えられる。
しかし、この場合には、始業時においてテスト運転開始から線幅の実測値に基づきディスペンサからの滴下量を調整し終わるまで、その間に作成した板状ワーク及び貼り合わせ構造体が全て不良品となってしまうため、歩留まりが悪いという問題もあった。
さらに前述した特徴に加えて、前記一方の板状ワークに対し、前記ディスペンサから滴下ピッチで前記接着剤を定量滴下して前記点状接着剤の滴下径を測定する調整用滴下工程と、前記調整用滴下工程の結果に基づいて前記ディスペンサから前記接着剤を定量滴下するシール用滴下工程と、前記点状接着剤を挟むように前記他方の板状ワークが重ね合わされて前記シール線を形成する接着剤伸展工程とを順次実行するワーク製造過程において、前記調整用滴下工程における前記点状接着剤の滴下径の測定値と前記滴下ピッチから、前記「BXP関連性」に基づき、前記両板状ワークが所定のギャップで重ね合わされたことによる伸展後の前記シール線の線幅を推定し、該推定値が規格外である時には、前記「BXP関連性」に基づいて、前記シール用滴下工程における滴下ピッチを修正することを特徴とする。
またワーク製造過程によっては、前記調整用滴下工程を有さない場合もあり得る。その場合は、前記一方の板状ワークに対し、少なくとも前記ディスペンサから前記接着剤を定量滴下するシール用滴下工程と、前記一方の板状ワークに前記他方の板状ワークが前記点状接着剤を挟むように所定のギャップで重ね合わされて前記シール線を形成する接着剤伸展工程とを順次実行するワーク製造過程において、前記シール用滴下工程にて、前記点状接着剤の滴下径を測定し、前記接着剤伸展工程にて、前記シール線の線幅を測定し、該シール線幅の測定値が規格外である時には、前記「BXP関連性」に基づいて、目標とするシール線幅を与える、前記点状接着剤の滴下径の実測値に対する滴下ピッチを推定し、次のワーク製造過程で前記シール用滴下工程における滴下ピッチを修正することを特徴とする。
したがって、実際のシール形成前にシール線幅を自動調節することができる。
その結果、使用する接着剤が変ってディスペンサから初めて滴下させる時や接着剤の滴下を開始する始業時に接着剤の滴下量が安定し難い従来の方法に比べ、シール線幅を一定に維持して封止空間の容積を定量化でき、それにより精度の高い接着封止構造体を安定して歩留まり良く製造できるとともに、使用する接着剤が変ってディスペンサから初めて滴下させる時や接着剤の滴下を開始する始業時における調整作業の効率化を図ることができる。
また、伸展して繋がったシール線の線幅を自動的に監視しているので、板状ワークの貼り合わせ不良の発生をも防止できる。
したがって、シール線幅の自動調節精度を更に向上させることができる。
その結果、シール線幅が更に一定化され、それに伴い封止空間の容積の定量化も向上し、より精度の高い接着封止構造体を安定して歩留まり良く製造できる。
したがって、シール線幅の自動調節精度を更に向上させることができる。
その結果、シール線幅が更に一定化され、それに伴い封止空間の容積の定量化も向上し、より精度の高い接着封止構造体を安定して歩留まり良く製造できる。
また、板状ワーク1の表面1aへ向けてディスペンサ3から定量滴下された直後の接着剤2は、その表面張力によってある径を保ち、その直径を以下「滴下径」という。
また必要に応じて、ワーク製造過程に調整用滴下工程を有するようにすることも可能である。以下、調整滴下工程を実行する場合について説明する。
そして、これら滴下径Xに対応した複数の異なる滴下ピッチPで滴下を行い、その後、図1(c)(d)に示すように、他方の板状ワーク1を所定のギャップGで重ね合わせて、図1(e)に示すように、各点状接着剤2aを潰し伸展させ繋げることにより、複数の異なる滴下径X及び滴下ピッチPからなるシール線2bの試作を行い、これら試作された各シール線2bの線幅Bを測定し、それぞれの滴下径X及び滴下ピッチPの変化とシール線2bの線幅Bとのデータ群の関連性を抽出する。
そして、前述した調整用滴下工程及びシール用滴下工程では、例えば図2(a)(b)に示すように本ワーク11を使用し、それ以外の予行試験工程などでは、テストワーク12を使用することが好ましい。
さらに、計測部5は、各点状接着剤2a間の隙間寸法なども一緒に計測することも可能である。
これに続き、ワーク製造過程において、一方の板状ワーク1に向け、ディスペンサ3から接着剤2を所定の滴下ピッチPで定量滴下して、点状接着剤2aの滴下径Xを測定し、該滴下径Xの測定値より、前述した滴下径X及び滴下ピッチPの変化とシール線2bの線幅Bとのデータ群の関連性に基づき、両板状ワーク1が所定のギャップGで重ね合わされたことによる伸展後のシール線2bの線幅Bを推定することで、滴下ピッチPを制御変数として伸展後のシール線幅Bを制御している。
予行試験工程では、滴下径X及び滴下ピッチPの変化とシール線2bの線幅Bとのデータ群の関連性を抽出して、例えば図3(a)に示すようなシール線幅B−滴下径X−滴下ピッチPの関連を示す線図(以下「B−X−P線図」という)を作成する。
例えば、滴下径XがXiの時、滴下ピッチPを変えることで得られる線幅Bは、曲線Siに従う。
この関係は、点状接着剤2aの質量と、潰すという物理的に単純な作用による関係のみであるので、温度や湿度などの滴下条件を滴下時のものに一定に保ちながら、ディスペンサ3から滴下される一滴当たりの滴下量Wを一定に保てば再現性が高くなり、温度や湿度などによる滴下環境の影響は無視できないが温調室内であれば無視できるため、再現性に優れる。
すなわち、それらの影響を制御して、予定の線幅を確保する必要がある。
Xj−Xiが規定値(例えば±10%程度)を超えた場合には、このまま本ワーク11に接着剤2の滴下を行って、一対の本ワーク11を所定のギャップGで重ね合わせることにより押し潰すと、図2(b)に示す線幅B1はBjとなるはずであり、接着剤伸展後の目標線幅Bs(≒Bi)を大幅に超えることになる。
X座標=XjでPB平面と平行な平面で、BXP曲面を切った表面の曲線をSjとする。
B座標=BsでPX平面に平行な平面で、BXP曲面を切った等高線をSsとする。
曲線Sjと等高線Ssの交点をQとすると、Q点のP座標=Pjが求めるものである。
すなわち、この滴下ピッチPjで滴下すれば、線幅Bsが得られるはずである。
また、Xj−Xiが規定値(例えば±10%程度)以内の場合は、シール用滴下工程における滴下ピッチP2はPiのままでよい。
この時点で、その滴下径X2を測定し、この測定値X2≒Xjであれば問題はなく、その測定値を次回のXiとする。
この許容誤差は、予定するシール線幅の規定誤差と同じである。
規定線幅Bmm±0.5mmなど図3(b)に示したように、測定値B2と線幅Bsが大幅に違う場合は、Sj線に従わない現象が生じたということである。
線幅B2は、ディスペンサ3から滴下される一滴当たりの滴下量Wと滴下ピッチPによって決まるものであり、滴下ピッチPが正確だとすれば、本来の条件であれば、滴下径はXkと計測されるべきものであるのに、例えば周囲の温度が上がって接着剤2の粘度が下がったために、点状接着剤2aの滴下径Xが広がり易くなり、一滴当たりの滴下量Wは変らないのに滴下径が大きめにXjと計測されていた。この場合の点状接着剤2aは見掛けほど質量がなかったことになる。
すなわち、調整用滴下工程における滴下ピッチP1を前回のものに対し、△=Pk−Pjだけ補正することになる。
なお、この補正量は、前述した実施形態では、B−X−P線図で求めたが、ある程度の固定値でも実用は可能である。予測したシール線幅Bよりも大きな線幅B2が計測された場合も、同様な方法で対処することが可能である。
この場合には、前述したように調整用滴下工程における滴下ピッチP1を補正するのに代えて、シール用滴下工程における滴下ピッチP2を補正するものとする。
それにより、シール用滴下工程におけるシール線2bの形成直前にディスペンサ3からの滴下ピッチPが自動的に修正され、その後は修正した滴下条件でシール線2bが形成されるので、実際のシール形成前にシール線幅を自動調節することができる。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
その他の例として、封入材8の充填に代えて、本ワーク11に形成された電子回路やチップなどの封止部材を気密封止することも可能である。
また、その他の例として、本ワーク11の最外周を囲むように気密保持用シールを追加配置したり、ダミーシール2dが形成される箇所に代えて、調整用滴下工程で気密保持用シールが形成される箇所に向けディスペンサ3から接着剤2を定量滴下させることも可能である。
予行試験工程では、図5に示すフローチャートのように、シール線幅B−滴下径X−滴下ピッチPが異なるシール線2bを複数試作して、これら試作されたシール線2bの線幅をそれぞれ測定し、これら関連するデータを抽出してB−X−P線図を作成する。
テスト滴下工程では、図6に示すフローチャートのように、先ずディスペンサ3から滴下される接着剤2の一滴当たりの滴下量Wを設定する。
滴下量Wの設定方法の一例としては、ディスペンサ3からテストワーク12に向けて滴下される接着剤2の一滴当たりの滴下量W(μg)を計量する。
この一滴当たりの滴下量Wを該接着剤2の比重で除法して体積Vを求める。
この一滴当たりの体積Vは、図1(d)(e)に示すように、一対のテストワーク12が所定のギャップGで重ね合わされることにより、各点状接着剤2aが伸展した時の円柱状の体積と等しくなるから、この伸展半径をRとすれば以下の式が成立する。
V=G×πR2 R2=V/π・G
よって、理想的な滴下ピッチPaは、下記の制約を受ける。
Pa=πR/2
しかし、理想的な滴下ピッチPaでディスペンサ3から接着剤2を定量滴下し、これらテスト用の点状接着剤2aを伸展させてテスト用のシール線2bを作成しても、接着剤2の粘度や配合比などの材料固有の違いや、温度又は湿度などの滴下環境変化によって、その線幅が必ずしも目標とする理想的な線幅値Baになるとは限らない。
さらに、滴下を開始する作業始業時などは、接着剤2の配合比が一定しないが、滴下を繰り返すことで徐々に一定に近づく。配合が硬めになると、滴下径は、正常配合に比べ小さめになって小さく測定され、線幅は、滴下径の測定値から予想される幅寸法に比べ大きくなる。
これらテスト用の滴下ピッチP(i)は、以下の式となる。
P(i)=Pa−i×ΔP i=0,±1,±2,・・・,N N:サンプル数
この際、ディスペンサ3から滴下される接着剤2の一滴当たりの滴下量Wは、一定に設定されるため、テスト用の点状接着剤2aの滴下径も一定(X0)である。
その後、図4(b)に示す如く、もう一枚のテストワーク(図示しない)を所定のギャップGで実際に貼り合わせることにより、各テスト用の点状接着剤2aを夫々伸展させ相互に繋いでテスト用のシール線2bを形成し、夫々の線幅を測定する。
また逆に、テスト用滴下ピッチP(i)が理想的な滴下ピッチPaよりも大きいPa+△Pの場合には、テストワーク12が所定のギャップGで重ね合わされたことにより各テスト用の点状接着剤2aを潰して伸展させると、その量が不足するため、これら点状接着剤2a同士の境界面2a″が凹み易く、それによりシール線2bが全体的に細くなる傾向がある。
図示例では、調整用滴下ピッチP1として、P(−1)=Pa−ΔPを採用している。
調整用滴下工程では、図8に示すフローチャートのように、先ず前述したテスト滴下工程で決定された調整用滴下ピッチP1を設定し、図2(a)に示すように、該調整用滴下ピッチP1でディスペンサ3から一方の本ワーク11の余白領域S2(ダミーシール2dが形成される箇所)に向けて接着剤2を定量滴下する。
そして、滴下径X1と予行試験工程で抽出されたB−X−P線図とから、それにより作成されるシール線2bの線幅B1を予測し、それに基づき、その後に実行されるシール用滴下工程及び接着剤伸展工程を経て実際に形成されるシール線2bの線幅B2が、予定の線幅となるように、該シール用滴下工程における滴下ピッチP2を補正している。
予行試験工程では、図9に示すフローチャートのように、調整用滴下工程で決定されたシール用ピッチP2を設定し、図2(a)に示すように、このシール用ピッチP2でディスペンサ3から、一方の本ワーク11の本シール形成領域S1に向けて接着剤2を定量滴下する。
その後、必要に応じて、この滴下された点状接着剤2aのパターンの特徴として、滴下径X2などを計測する。
接着剤伸展工程では、図10に示すフローチャートのように、接着剤2が滴下された一方の本ワーク11に対して、該点状接着剤2aを挟むように他方の本ワーク11が所定のギャップGで重ね合わされたことにより、例えば図2(b)に示すように、滴下された各点状接着剤2aを潰して拡張伸展させ相互に繋いで、シール線2bを形成する。
その後、少なくともシール線2bの線幅B2を測定している。
このような場合には、滴下量を疎にするため、次回の滴下ピッチP1が大きくなるように補正される。
それによって、次回のシール線2bの線幅B2は細くなる。
さらに、前示実施例においても、ワーク製造過程に調整用滴下工程を有する場合を示したが、これに限定されず、ワーク製造過程によっては、調整滴下工程がなく、シール用滴下工程から実行する場合もあり得る。
この場合には、前述したように調整用滴下工程における滴下ピッチP1を補正するのに代えて、シール用滴下工程における滴下ピッチP2を補正するものとする。
12 テストワーク 1a 表面
2 接着剤 2a 点状接着剤
2b シール線 3 ディスペンサ
A 貼り合わせ構造体 B 線幅(シール線幅)
P 滴下ピッチ S1 本シール形成領域
S2 外側の領域 X 滴下径
Claims (3)
- 一対の板状ワーク(1)のいずれか一方に、接着剤(2)をディスペンサ(3)から所定量ずつ等間隔おきに滴下して点状接着剤(2a)を所定ピッチで配置し、該点状接着剤(2a)を挟むように前記両板状ワーク(1)が所定のギャップで重ね合わされて、前記点状接着剤(2a)を伸展させ相互に繋いでシール線(2b)が形成されるワーク製造過程に用いる接着剤の滴下制御方法であって、
前記ワーク製造過程とは別に、所定条件下で、前記ディスペンサ(3)から滴下される前記点状接着剤(2a)の滴下径(X)を変化させ、これら滴下径(X)に対応した複数の滴下ピッチ(P)で滴下して前記シール線(2b)の試作を行い、試作された前記シール線(2b)の線幅(B)を測定する予行試験工程を有し、
この予行試験工程において、前記滴下径(X)及び前記滴下ピッチ(P)の変化と前記シール線(2b)の線幅(B)とのデータ群の関連性を予め抽出しておき、
前記ワーク製造過程において、前記一方の板状ワーク(1)に向け、前記ディスペンサ(3)から前記接着剤(2)を所定の滴下ピッチ(P)で定量滴下して、前記点状接着剤(2a)の滴下径(X)を測定し、該滴下径(X)の測定値より、前記滴下径(X)及び前記滴下ピッチ(P)の変化と前記シール線(2b)の線幅(B)とのデータ群の関連性に基づき、前記両板状ワーク(1)が所定のギャップで重ね合わされたことによる伸展後の前記シール線(2b)の線幅(B)を推定することで、前記滴下ピッチ(P)を制御変数として前記伸展後のシール線幅(B)を制御することを特徴とする接着剤の滴下制御方法。 - 前記一方の板状ワーク(1)に対し、前記ディスペンサ(3)から滴下ピッチ(P1)で前記接着剤(2)を定量滴下して前記点状接着剤(2a)の滴下径(X1)を測定する調整用滴下工程と、前記調整用滴下工程の結果に基づいて前記ディスペンサ(3)から前記接着剤(2)を定量滴下するシール用滴下工程と、前記点状接着剤(2a)を挟むように前記他方の板状ワーク(1)が重ね合わされて前記シール線(2b)を形成する接着剤伸展工程とを順次実行するワーク製造過程において、
前記調整用滴下工程における前記点状接着剤(2a)の滴下径(X1)の測定値と前記滴下ピッチ(P1)から、前記予行試験工程で抽出された前記滴下径(X)及び前記滴下ピッチ(P)の変化と前記シール線(2b)の線幅(B)とのデータ群の関連性に基づき、前記両板状ワーク(1)が所定のギャップで重ね合わされたことによる伸展後の前記シール線(2b)の線幅(B)を推定し、
該推定値が規格外である時には、前記予行試験工程で抽出された前記滴下径(X)及び前記滴下ピッチ(P)の変化と前記シール線(2b)の線幅(B)とのデータ群の関連性に基づいて、前記シール用滴下工程における滴下ピッチ(P2)を修正することを特徴とする請求項1記載の接着剤の滴下制御方法。 - 前記一方の板状ワーク(1)に対し、少なくとも前記ディスペンサ(3)から前記接着剤(2)を定量滴下するシール用滴下工程と、前記一方の板状ワーク(1)に前記他方の板状ワーク(1)が前記点状接着剤(2a)を挟むように所定のギャップで重ね合わされて前記シール線(2b)を形成する接着剤伸展工程とを順次実行するワーク製造過程において、
前記シール用滴下工程にて、前記点状接着剤(2a)の滴下径(X2)を測定し、
前記接着剤伸展工程にて、前記シール線(2b)の線幅(B2)を測定し、
該シール線幅(B2)の測定値が規格外である時には、前記予行試験工程で抽出された前記滴下径(X)及び前記滴下ピッチ(P)の変化と前記シール線(2b)の線幅(B)とのデータ群の関連性に基づいて、目標とするシール線幅(B)を与える、前記点状接着剤(2a)の滴下径(X2)の実測値に対する滴下ピッチ(P2)を推定し、次のワーク製造過程で前記シール用滴下工程における滴下ピッチ(P2)を修正することを特徴とする請求項1記載の接着剤の滴下制御方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003266669A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-24 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置とその描画方法、およびデバイス製造装置とデバイス製造方法並びにデバイス |
JP2005119139A (ja) * | 2003-10-16 | 2005-05-12 | Seiko Epson Corp | 機能液滴吐出ヘッドの吐出量測定方法およびその装置、機能液滴吐出ヘッドの駆動制御方法、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
JP2006003704A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Hitachi Displays Ltd | 液晶パネルのシール剤塗布方法および装置 |
JP2007111679A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-10 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 塗布装置及び塗布装置の調整方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003266669A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-24 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置とその描画方法、およびデバイス製造装置とデバイス製造方法並びにデバイス |
JP2005119139A (ja) * | 2003-10-16 | 2005-05-12 | Seiko Epson Corp | 機能液滴吐出ヘッドの吐出量測定方法およびその装置、機能液滴吐出ヘッドの駆動制御方法、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
JP2006003704A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Hitachi Displays Ltd | 液晶パネルのシール剤塗布方法および装置 |
JP2007111679A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-10 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 塗布装置及び塗布装置の調整方法 |
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