JP4404816B2 - ミクロトーム - Google Patents
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Description
本発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、バイス位置決め部材をいずれの方向に対して傾動調節する場合、正確な傾動調節を行うことができるミクロトームを提供することにある。
請求項1の発明では、作動部材を互いに直交する二方向のうち、一方の方向に沿って移動させると、該作動部材はガイド部材ともに、同じ方向に変位する。この変位に応じた分バイス位置決め部材は、この一方の方向に対して傾動する。
この変位に応じた分バイス位置決め部材は、他方の方向に対して傾動する。この結果、作動部材は、直交する二方向において、それぞれ変位する時は、互いに他の方向には変位しないため、バイス位置決め部材は、互いに直交する二方向のそれぞれの変位に応じて、正確に傾動させることが可能となる。
請求項2の発明によれば、作動部材と第1位置調節部材、作動部材と第2位置調節部材とは、それぞれ離間することがないため、作動部材の互いに直交する方向の変位を好適に行うことができる。
以下、本発明を具体化した第1実施形態を図1〜図7(a)を参照して説明する。
図1に示すように、ミクロトーム10は、切断刃21を保持する切断刃ホルダ22をレール上に水平移動自在に配置した切断刃移動機構20と、試料S(図3、図6参照)を上下方向に昇降自在に配置する昇降機構30、及び、該昇降機構30の上部に設けられた、バイス取付ユニット40を備えている。バイス取付ユニット40には、試料Sを保持するバイス50の傾きを調節する傾き調節機構Kを備えている。ミクロトーム10のベース23には切断刃移動機構20及び位置調整機構13が設けられている。
ミクロトーム10は、ベース23上に固定された支台24及び支台24上に固定されたテーブル25を備えている。切断刃移動機構20は、テーブル25上に設けられたX方向に延びる図示しないレールと、該レールに対して、スライド自在に係合された滑走ブロック26とを備えている。又、ミクロトーム10は、テーブル25上をX方向に沿って移動する切断刃ホルダ22及び切断刃ホルダ22に取り付けされた切断刃21を備えている。滑走ブロック26上には、副ブロック27が固定されており、副ブロック27上に切断刃ホルダ22が固定されている。副ブロック27の右側部には、図示はしないがハンド操作板が固定されており、該ハンド操作板を把持して操作することにより、滑走ブロック26をスライド操作可能とされている。
昇降機構30は、荒調整及び微調整が可能に構成された機構である。昇降機構30は、本発明の要部ではないため、簡単に説明する。
バイス取付ユニット40は、バイス台410、バイス位置決め台420、調整板430、移動リング440、第1位置調節軸450、第2位置調節軸452、リターンスプリング454a、第1バネケース456、第2バネケース457、第1バネ心棒458、第2バネ心棒459、固定体460等を備えている。
移動リング440の挿通孔441には、バイス位置決め台420の突出部422が、該突出部422の曲面に沿って傾動自在に嵌合されている。そして、移動リング440が、X方向、反X方向、Y方向、反Y方向の少なくともいずれか一方向に変位すると、その変位に応じて、突出部422を介して、バイス位置決め台420がバイス台410に対して傾動可能である。
前記バイス位置決め台420、調整板430、移動リング440、第1位置調節軸450、第2位置調節軸452、第1バネケース456、第2バネケース457、第1バネ心棒458、第2バネ心棒459、リターンスプリング454a,454bにより、傾き調節機構Kが構成されている。
バイスブロック51はバイス位置決め台420に対してボルトにより固定されている。バイスブロック51は、その上面に固定爪52が形成されており、固定爪52と相対する一側部側には可動爪53が回動自在に軸53aにて支持されている。又、図示はしないが、バイスブロック51には、可動爪53を押圧するスプリングが内装されており、該スプリングにより、常に、図3において、固定爪52側へ回動するように付勢されている。バイスブロック51の上面には、X方向へ延びる溝55が形成されている。溝55は、図3に示すように、バイスブロック51の前側及び後側の側面に開口されている。可動爪53には、溝55内に挿入された操作杆54が、取付けされている。操作杆54は、溝55の開口を介して、図3,図6に示すように前方へ突出されている。操作杆54を上下方向に操作することにより、可動爪53を可動して、試料Sを固定爪52と協働して把持可能である。バイスブロック51の前側壁には、ストッパピン56が突出されている。
次に、本実施形態の作用について説明する。
さて、昇降機構30により、予め、昇降機構30を操作して、切断刃21の移動軌跡上に、試料Sを対応配置させた状態にする。そして、この状態で、固定ハンドル470を解除方向に回動操作して、固定体460による、バイス位置決め台420のバイス台410への拘束を解除しておく。
(反X方向移動)
第1位置調節軸450のバイス台410に対する螺合量を調節する。たとえば、リターンスプリング454aの付勢力に抗して、反X方向へ第1位置調節軸450が移動すると、移動リング440は、係合面445において第1位置調節軸450により押圧される。このとき、第1位置調節軸450により押圧された移動リング440が受板部432を押圧するため、移動リング440は、側面413xに規制された状態の調整板430とともに、反X方向へ変位する。
又、X方向へ第1位置調節軸450が移動すると、リターンスプリング454aに押圧された第1バネ心棒458により、受板部432が押圧される。この結果、移動リング440は、側面413xに規制された状態の調整板430とともにX方向へ変位する。
又、第2位置調節軸452のバイス台410に対する螺合量を調節した場合には、たとえば、リターンスプリング454bの付勢力に抗して、Y方向へ第2位置調節軸452が移動すると、移動リング440は、第2位置調節軸452により押圧されるとともに、受板部432の平面によりガイドされてY方向へ変位する。このとき、移動リング440との摩擦により、調整板430がY方向に移動しようとしても、調整板430は、側面413xにより規制されて、Y方向への移動はできない。
又、反Y方向へ第2位置調節軸452が移動すると、移動リング440は、リターンスプリング454bに押圧されるとともに、受板部432によりガイドされて反Y方向へ変位する。
(1) 本実施形態では、移動リング440が、X方向や、反X方向へ移動する際には、X方向及び反X方向にのみ移動が許容された調整板430の受板部432に対して面接触した状態で移動できるため、移動リング440はX方向や、反X方向への直線移動のみできる。
(第2実施形態)
次に、第2実施形態を図8〜12を参照して説明する。なお、第1実施形態と同一構成又は相当する構成については、同一符号を付してその説明を省略し、異なる構成について説明する。
バネ取付ピン601は、バイス台410の後側壁に固定されている。又、揺動ユニット610は、バイス台410の右側壁に対して設けられている。揺動ユニット610は、揺動部材611、揺動アーム612、回動軸613、軸受614からなる。
なお、第2実施形態では、受板部432は斜面となっていないため、第1実施形態と異なり、移動リング440の積極的な浮き上がり防止効果はない。
・ 図13、図14は、第1実施形態の構成にさらに、以下の構成を追加した構成である。
前記第1実施形態では、説明はしなかったが、第1位置調節軸450、第2位置調節軸452、第2バネ心棒459の移動リング440に対して、点接触であるため、両者間に働く力が、接触点に集中する。このため、原点位置から、移動リング440が大きく変位している場合には、移動リング440に大きな回転モーメントが働く。第1実施形態では、受板部432や、413xで回転モーメントによる回転を移動リング440や、調整板430により阻止しているとはいえ、移動リング440のX方向,反X方向、或いはY方向、反Y方向の移動が、スムーズにいかなくなる虞がある。
・ 第1実施形態では、図5(a)に示すように、係合面445を斜面にしたが、浮き上がり防止のためには、係合面445,446のいずれか一方の斜面となっている面を省略しても、残りの面が斜面となっているため、浮き上がり防止機能を有する。たとえば、図7(a)は、係合面445を移動リング440の底面から垂直に形成したものであるが、このようにしても、受板部432と係合面444により、移動リング440の調整板430からの浮き上がりを防止できる。
・ 第1実施形態では、調整板430を移動リング440の下に配置したが、移動リング440の上に調整板430を配置して、受板部432を下に向くように配置してもよい。ただし、第1実施形態では、受板部432、係合面444,445は、挿通孔441側ではなく、挿通孔441とは反対側へ向くように傾斜させるものとする。このように構成しても、浮き上がり防止をすることができる。
上記実施形態から把握できる請求項以外の技術的思想について述べる。
420…バイス位置決め台(バイス位置決め部材)
430…調整板(ガイド部材)、431…底板(平板部)
432…受板部(ガイド部、ガイド側板、浮き上がり防止手段)
440…移動リング(作動部材)、
450…第1位置調節軸(第1位置調節部材)、
452…第2位置調節軸(第2位置調節部材)、
454a…リターンスプリング(第1バネ)、
454b…リターンスプリング(第2バネ)
50…バイス、502…リターンスプリング(第1バネ)
602…リターンスプリング(第2バネ)、
650,660…押圧板(押圧部材)、S…試料
Claims (5)
- バイス台に対して傾動自在に設けられ、試料を保持可能なバイスを支持するバイス位置決め部材と、外部操作により、一平面内において互いに直交する二方向に移動自在に配置され、移動により、前記バイス位置決め部材に対して傾動を付与する作動部材と、前記作動部材の前記直交する二方向の位置をそれぞれ調節する第1位置調節部材と、第2位置調節部材を有するミクロトームにおいて、
前記バイス台には、前記二方向のうち、一方の方向にのみ移動可能に配置され、前記第1位置調節部材により、変位駆動されるガイド部材が設けられ、前記ガイド部材には、前記二方向のうち、前記ガイド部材が移動可能な方向とは異なる他方の方向に前記作動部材をガイドするガイド部が設けられ、前記第2位置調節部材により、前記作動部材が前記他方の方向に位置調節される際に、前記ガイド部により、前記作動部材がガイドされることを特徴とするミクロトーム。 - 前記バイス台には、前記作動部材の前記第1位置調節部材による位置調節時に、リターンスプリングとして前記作動部材に作用する第1バネと、
前記ガイド部材の前記第2位置調節部材による位置調節時にリターンスプリングとして前記ガイド部材に作用する第2バネを設けたことを特徴とする請求項1に記載のミクロトーム。 - 前記ガイド部材は、前記作動部材を移動自在に載せる平板部と、該平板部の一側から立設したガイド部としてのガイド側板とからなり、前記ガイド側板には、前記平板部から作動部材の浮き上がりを防止する浮き上がり防止手段を備えたことを特徴とする請求項2に記載のミクロトーム。
- 前記浮き上がり防止手段は、前記ガイド側板が、前記作動部材を下方へ押圧するように斜状に立設された構成であることを特徴とする請求項3に記載のミクロトーム。
- 前記作動部材と第1位置調節部材間、及び前記作動部材と第2位置調節部材間の少なくともいずれかの間には、前記作動部材に対して面接触する押圧部材を介在配置したことを特徴とする請求項1乃至請求項4のうちいずれか1項に記載のミクロトーム。
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