JP4397211B2 - Reference voltage generation circuit and power supply device using the same - Google Patents

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Description

本発明は基準電圧発生回路及びそれを用いた電源装置に関するものである。   The present invention relates to a reference voltage generation circuit and a power supply device using the same.

ゲートとソースを接続したデプレッショントランジスタを定電流源とする基準電圧発生回路が知られている(例えば特許文献1参照。)。そのような基準電圧発生回路では、図10に示されるように、NMOS(Nチャネル型 Metal Oxide Semiconductors)デプレッショントランジスタQ5のゲートとソースを接続してその定電流性を利用する。そして、ゲートとドレインが接続されたNMOSエンハンスメントトランジスタQ6をトランジスタQ5の定電流で動作するように直列に接続して、トランジスタQ6に発生する電圧を基準電圧Vrefとして取り出すものである。基準電圧Vrefとしては、トランジスタQ5のしきい値電圧Vt_dとトランジスタQ6のしきい値電圧Vt_eの差分が出力される。   A reference voltage generation circuit using a depletion transistor having a gate and a source connected as a constant current source is known (see, for example, Patent Document 1). In such a reference voltage generating circuit, as shown in FIG. 10, the gate and the source of an NMOS (N-channel type metal oxide semiconductors) depletion transistor Q5 are connected and their constant current characteristics are utilized. Then, an NMOS enhancement transistor Q6 having a gate and a drain connected is connected in series so as to operate with the constant current of the transistor Q5, and a voltage generated in the transistor Q6 is taken out as a reference voltage Vref. As the reference voltage Vref, the difference between the threshold voltage Vt_d of the transistor Q5 and the threshold voltage Vt_e of the transistor Q6 is output.

特許文献1では、トランジスタQ5とトランジスタQ6とでしきい値電圧を異ならせる方法として、基板の不純物濃度又はチャネルの不純物濃度を変化させる方法が実施例として挙げられている。その方法としては、いずれもイオン注入時の注入量を変えることが提案されている。   In Patent Document 1, as a method of changing the threshold voltage between the transistor Q5 and the transistor Q6, a method of changing the impurity concentration of the substrate or the impurity concentration of the channel is given as an example. As the method, it has been proposed to change the implantation amount at the time of ion implantation.

図11にトランジスタQ5,Q6のVgs対(Ids)1/2 波形(ただしドレイン電圧は飽和条件)を示す。ただし、トランジスタQ5,Q6のコンダクタンスファクタ(K)は同一とする。Vgsはゲートとソース間の電圧、Idsはドレイン電流である。
トランジスタQ5はVgsが0Vで接続されているため、図11のQ5の波形からIconstなる定電流を流す。したがって、Ids=IconstとなるトランジスタQ6のVgsがVrefとなる。ゆえに、
Vref = Vt_e − Vt_d (1)
となり、Vrefが2つのトランジスタQ5,Q6のしきい値電圧Vt_e,Vt_dの差分で表わされることがわかる。
FIG. 11 shows the Vgs versus (Ids) 1/2 waveform (where the drain voltage is a saturation condition) of the transistors Q5 and Q6. However, the conductance factors (K) of the transistors Q5 and Q6 are the same. Vgs is a voltage between the gate and the source, and Ids is a drain current.
Since the transistor Q5 is connected at Vgs of 0 V, a constant current of Iconst is passed from the waveform of Q5 in FIG. Therefore, Vgs of the transistor Q6 where Ids = Iconst is Vref. therefore,
Vref = Vt_e−Vt_d (1)
Thus, it can be seen that Vref is represented by the difference between the threshold voltages Vt_e and Vt_d of the two transistors Q5 and Q6.

この回路構成のVrefの利点として次の点を挙げることができる。
(1)2つのトランジスタQ5,Q6の温度特性がほぼ同一であることにより、Vrefの温度依存性が小さい。
(2)バンドギャップリファレンス回路などに比べてトランジスタが最低2つで構成できるため、比較的容易にかつ、小面積で構築できる。バンドギャップリファレンス回路とは、PN接合のVbe(ベース・エミッタ間の電圧)とサーマルボルテージVt(=kT/q)(kはボルツマン定数、Tは絶対温度、qは単位電荷)の温度特性の極性の違いを利用して温度係数の極めて小さい基準電圧Vrefを取りだすようにしたものである。
The following points can be cited as advantages of Vref of this circuit configuration.
(1) Since the temperature characteristics of the two transistors Q5 and Q6 are substantially the same, the temperature dependence of Vref is small.
(2) Compared to a bandgap reference circuit or the like, since it can be configured with at least two transistors, it can be constructed relatively easily and with a small area. The band gap reference circuit is the polarity of the temperature characteristics of Vbe (voltage between base and emitter) and thermal voltage Vt (= kT / q) (k is Boltzmann constant, T is absolute temperature, q is unit charge) of PN junction. The reference voltage Vref having a very small temperature coefficient is taken out using the difference between the two.

また、デプレッショントランジスタQ5のゲートの結線方法を変えることにより、低電圧の基準電圧を発生させることができる利点もある(例えば特許文献2参照。)。その回路図を図12に示す。図10と異なる点は、デプレッショントランジスタQ1のゲートが接地されている点である。
ここで、Vrefは
Vref=(Vt_e−Vt_d)/2 (2)
となり、低い基準電圧を設定するのに適している。
In addition, there is an advantage that a low reference voltage can be generated by changing the connection method of the gate of the depletion transistor Q5 (see, for example, Patent Document 2). The circuit diagram is shown in FIG. The difference from FIG. 10 is that the gate of the depletion transistor Q1 is grounded.
Where Vref is
Vref = (Vt_e−Vt_d) / 2 (2)
Therefore, it is suitable for setting a low reference voltage.

また、デプレッショントランジスタの基板バイアス効果を利用するために帰還回路を使って出力電圧を安定させる方法が開示されている(例えば特許文献3参照。)。
特開昭56−108258号公報 特開平8−335122号公報 特開平4−295910号公報
Also, a method for stabilizing the output voltage using a feedback circuit in order to use the substrate bias effect of the depletion transistor is disclosed (for example, see Patent Document 3).
JP-A-56-108258 JP-A-8-335122 JP-A-4-295910

しかしながら、これらの回路構成で、より高精度のVrefを実現するためには以下のような課題がある。
(1)2つのトランジスタQ5,Q6は別々のイオン注入工程によってしきい値電圧Vt_d,Vt_eをそれぞれ決定しているため、ばらつきは独立で、その差分はばらつきが大きくなり、結果としてVrefのばらつきが大きくなる。図13にトランジスタQ6のしきい値電圧Vt_eが高くなった場合の例を示す。破線が変化前の状態である。
However, there are the following problems in order to realize higher-precision Vref with these circuit configurations.
(1) Since the threshold voltages Vt_d and Vt_e of the two transistors Q5 and Q6 are determined by separate ion implantation processes, the variations are independent, and the differences become large, resulting in variations in Vref. growing. FIG. 13 shows an example when the threshold voltage Vt_e of the transistor Q6 is increased. The broken line is the state before the change.

(2)デプレッショントランジスタQ5とエンハンスメントトランジスタQ6では、チャネルに注入される不純物の導電型が異なるため、しきい値電圧やモビリティーの温度特性が厳密には異なり、Vrefの温度特性向上に限界がある。図14に高温時のトランジスタQ6のしきい値電圧Vt_e及びモビリティーが変化した場合の例を示す。破線が変化前の状態であり、トランジスタQ6のVt_e及び傾斜が変化している。 (2) Since the depletion transistor Q5 and the enhancement transistor Q6 have different conductivity types of impurities injected into the channel, the threshold voltage and mobility temperature characteristics are strictly different, and there is a limit to improving the temperature characteristics of Vref. FIG. 14 shows an example when the threshold voltage Vt_e and mobility of the transistor Q6 at high temperature change. The broken line is the state before the change, and the Vt_e and the slope of the transistor Q6 are changed.

本発明はこのような問題点に鑑み、プロセスばらつきや温度変化に対して依存性が小さく、ばらつきが小さい基準電圧を発生できる基準電圧発生回路及びそれを用いた電源装置を提供することを目的とするものである。   SUMMARY OF THE INVENTION In view of such problems, the present invention has an object to provide a reference voltage generation circuit that can generate a reference voltage that is less dependent on process variations and temperature changes and that has less variations, and a power supply device using the reference voltage generation circuit. To do.

本発明にかかる基準電圧発生回路の第1態様は、NMOSデプレッショントランジスタを定電流源とし、上記NMOSデプレッショントランジスタとはしきい値電圧が異なるNMOSトランジスタを上記NMOSデプレッショントランジスタに直列に結線することによって構成され、上記NMOSデプレッショントランジスタのドレインが電源電圧に、ゲートとソースが出力電圧端子に、基板がGND電位に接続されており、かつ、上記NMOSトランジスタのドレインとゲートが出力電圧端子に、ソースと基板がGND電位に接続された回路構成をもち、上記NMOSデプレッショントランジスタは、上記出力電圧端子の電圧変化分と実質的に同じ大きさの電圧変化をしきい値電圧に与える基板バイアス係数をもち、かつエンハンスメント型にならない程度のしきい値電圧をもつ。
ここで、上記NMOSトランジスタは上記NMOSデプレッショントランジスタとはしきい値電圧が異なるものであれば、エンハンスメント型であってもよいしデプレッション形であってもよい。また、本発明において、出力電圧端子の電圧変化分と実質的に同じ大きさの電圧変化とは、出力電圧端子の電圧変化に対して大きさが同じであることが望ましいが、最大で±50%以内の大きさの電圧変化であれば本件に示す効果が期待できる。
A first aspect of the reference voltage generating circuit according to the present invention is configured by using an NMOS depletion transistor as a constant current source, and connecting an NMOS transistor having a threshold voltage different from that of the NMOS depletion transistor in series with the NMOS depletion transistor. The drain of the NMOS depletion transistor is connected to the power supply voltage, the gate and source are connected to the output voltage terminal, the substrate is connected to the GND potential, and the drain and gate of the NMOS transistor are connected to the output voltage terminal. Is connected to the GND potential, and the NMOS depletion transistor has a substrate bias coefficient that gives the threshold voltage a voltage change substantially equal to the voltage change of the output voltage terminal, and enhancement With the degree of the threshold voltage does not become.
Here, the NMOS transistor may be an enhancement type or a depression type as long as the threshold voltage is different from that of the NMOS depletion transistor. In the present invention, the voltage change having substantially the same magnitude as the voltage change at the output voltage terminal is preferably the same in magnitude as the voltage change at the output voltage terminal, but at most ± 50 The effect shown in this case can be expected if the voltage change is less than%.

本発明の基準電圧発生回路の第1態様において、出力電圧の範囲が0.5〜1.5Vである例を挙げることができる。
さらに、上記NMOSデプレッショントランジスタの基板バイアス係数が2〜3V1/2である例を挙げることができる。
さらに、上記NMOSデプレッショントランジスタの基板・ソース間電圧Vbs=0V時のしきい値電圧の絶対値の範囲が1〜2Vである例を挙げることができる。
In the first aspect of the reference voltage generating circuit of the present invention, an example in which the range of the output voltage is 0.5 to 1.5 V can be given.
Furthermore, an example in which the substrate depletion coefficient of the NMOS depletion transistor is 2 to 3V 1/2 can be given.
Further, an example in which the absolute value range of the threshold voltage of the NMOS depletion transistor when the substrate-source voltage Vbs = 0V is 1 to 2V can be given.

本発明にかかる基準電圧発生回路の第2態様は、PMOS(Pチャネル型MOS)デプレッショントランジスタを定電流源とし、上記PMOSデプレッショントランジスタとはしきい値電圧が異なるPMOSトランジスタを上記PMOSデプレッショントランジスタに直列に結線することによって構成され、上記PMOSデプレッショントランジスタのドレインがGND電位に、ゲートとソースが出力電圧端子に、基板が電源電圧に接続されており、かつ、上記PMOSトランジスタのドレインとゲートが出力電圧端子に、ソースと基板が電源電圧に接続された回路構成をもち、上記PMOSデプレッショントランジスタは、上記出力電圧端子の電圧変化分と実質的に同じ大きさで極性が逆の電圧変化をしきい値電圧に与える基板バイアス係数をもち、かつエンハンスメント型にならない程度のしきい値電圧をもつ。
ここで、上記PMOSトランジスタは上記PMOSデプレッショントランジスタとはしきい値電圧が異なるものであれば、エンハンスメント型であってもよいしデプレッション形であってもよい。
According to a second aspect of the reference voltage generating circuit of the present invention, a PMOS (P-channel MOS) depletion transistor is used as a constant current source, and a PMOS transistor having a threshold voltage different from that of the PMOS depletion transistor is connected in series to the PMOS depletion transistor. The drain of the PMOS depletion transistor is connected to the GND potential, the gate and source are connected to the output voltage terminal, the substrate is connected to the power supply voltage, and the drain and gate of the PMOS transistor are connected to the output voltage. The PMOS depletion transistor has a circuit configuration in which the source and the substrate are connected to the power supply voltage at the terminal, and the PMOS depletion transistor has a threshold voltage that is substantially the same size as the voltage change at the output voltage terminal and has the opposite polarity. Substrate bias for voltage The rice cake, and with the threshold voltage of the grade which is not an enhancement type.
Here, the PMOS transistor may be an enhancement type or a depression type as long as the threshold voltage is different from that of the PMOS depletion transistor.

本発明の基準電圧発生回路の第2態様において、電源電圧から出力電圧を差し引いた電圧の範囲が0.5〜1.5Vである例を挙げることができる。
さらに、上記PMOSデプレッショントランジスタの基板バイアス係数が2〜3V1/2である例を挙げることができる。
さらに、上記PMOSデプレッショントランジスタの基板・ソース間電圧Vbs=0V時のしきい値電圧の絶対値の範囲が1〜2Vである例を挙げることができる。
In the second aspect of the reference voltage generation circuit of the present invention, an example in which the range of the voltage obtained by subtracting the output voltage from the power supply voltage is 0.5 to 1.5 V can be given.
Furthermore, an example in which the substrate depletion coefficient of the PMOS depletion transistor is 2 to 3 V 1/2 can be given.
Further, an example in which the absolute value range of the threshold voltage of the PMOS depletion transistor when the substrate-source voltage Vbs = 0 V is 1 to 2 V can be given.

本発明にかかる電源装置の第1態様は、入力電圧を分割して分割電圧を供給するための分割抵抗回路と、基準電圧を供給するための基準電圧発生回路と、上記分割抵抗回路からの分割電圧と上記基準電圧発生回路からの基準電圧を比較するための比較回路をもつ電圧検出回路を備えた電源装置であって、上記基準電圧発生回路として本発明の基準電圧発生回路を備えているものである。   A first aspect of a power supply device according to the present invention includes a divided resistor circuit for dividing an input voltage and supplying a divided voltage, a reference voltage generating circuit for supplying a reference voltage, and a division from the divided resistor circuit A power supply device including a voltage detection circuit having a comparison circuit for comparing a voltage with a reference voltage from the reference voltage generation circuit, the power supply device including the reference voltage generation circuit of the present invention as the reference voltage generation circuit It is.

本発明にかかる電源装置の第2態様は、入力電圧の出力を制御する出力ドライバと、出力電圧を分割して分割電圧を供給するための分割抵抗回路と、基準電圧を供給するための基準電圧発生回路と、上記分割抵抗回路からの分割電圧と上記基準電圧発生回路からの基準電圧を比較し、比較結果に応じて上記出力ドライバの動作を制御するための比較回路をもつ定電圧発生回路を備えた電源装置であって、上記基準電圧発生回路として本発明の基準電圧発生回路を備えているものである。   A second aspect of the power supply device according to the present invention includes an output driver that controls output of an input voltage, a divided resistor circuit that divides the output voltage and supplies a divided voltage, and a reference voltage that supplies a reference voltage And a constant voltage generation circuit having a comparison circuit for comparing the divided voltage from the division resistance circuit with the reference voltage from the reference voltage generation circuit and controlling the operation of the output driver according to the comparison result. A power supply device provided with the reference voltage generation circuit of the present invention as the reference voltage generation circuit.

本発明にかかる電源装置の第3態様は、基準電圧発生回路からの基準電圧に基づいて動作する発振回路からの発振出力に基づく内臓スイッチの切替え動作によりコンデンサに電荷を充放電させることで電流を流すチャージポンプ方式のDC/DCコンバータを備えた電源装置であって、上記基準電圧発生回路として本発明の基準電圧発生回路を備えているものである。   According to a third aspect of the power supply device of the present invention, the capacitor is charged and discharged by charging and discharging the capacitor by the switching operation of the built-in switch based on the oscillation output from the oscillation circuit that operates based on the reference voltage from the reference voltage generation circuit. A power supply device including a flowing charge pump type DC / DC converter includes the reference voltage generation circuit of the present invention as the reference voltage generation circuit.

本発明の基準電圧発生回路の第1態様では、NMOSデプレッショントランジスタの基板はGND電位に接続されているようにし、NMOSデプレッショントランジスタに出力電圧の電圧値分の基板バイアスをかけ、NMOSデプレッショントランジスタの基板バイアス係数を出力電圧端子の電圧変化分と実質的に同じ大きさの電圧変化をしきい値電圧に与えるように設定することにより、例えばプロセス変動や温度変化などに起因する出力電圧の変化に対してNMOSデプレッショントランジスタのしきい値電圧の変化をほぼ線形にすることができるので、プロセス変動や温度変化などの外的不安定要因に対して、出力電圧(基準電圧)の変動が小さい基準電圧発生回路を得ることができる。   According to the first aspect of the reference voltage generating circuit of the present invention, the substrate of the NMOS depletion transistor is connected to the GND potential, and the substrate bias of the output voltage is applied to the NMOS depletion transistor, so that the substrate of the NMOS depletion transistor is applied. By setting the bias coefficient so that the threshold voltage is given a voltage change that is substantially the same size as the voltage change at the output voltage terminal, for example, against a change in the output voltage due to process fluctuations, temperature changes, etc. This makes it possible to make the change in the threshold voltage of the NMOS depletion transistor almost linear, thus generating a reference voltage with small fluctuations in the output voltage (reference voltage) against external instability factors such as process fluctuations and temperature changes. A circuit can be obtained.

基準電圧発生回路の第1態様において、出力電圧の範囲が0.5〜1.5Vであるようにすれば、実用的電源電圧の範囲や製造工程におけるトランジスタのしきい値電圧のばらつきに対して、より効率的に変動が小さい基準電圧発生回路を得ることができる。   In the first aspect of the reference voltage generation circuit, if the output voltage range is 0.5 to 1.5 V, the range of the practical power supply voltage and the variation in the threshold voltage of the transistor in the manufacturing process can be reduced. Thus, it is possible to obtain a reference voltage generating circuit with less fluctuations more efficiently.

さらに、基板バイアス係数が2〜3V1/2の範囲であるようにすれば、出力電圧の変化に対する、上記出力電圧の電圧値分の基板バイアスがかかったNMOSデプレッショントランジスタのしきい値電圧の変化の線形性を高めて、ばらつきを抑える効果を一層高められることにより、一層変動が小さい基準電圧発生回路を得ることができる。 Further, if the substrate bias coefficient is in the range of 2 to 3 V 1/2 , the change in the threshold voltage of the NMOS depletion transistor to which the substrate bias corresponding to the voltage value of the output voltage is applied with respect to the change in the output voltage. As a result, the reference voltage generating circuit with smaller variation can be obtained.

さらに、上記NMOSデプレッショントランジスタの基板・ソース間電圧Vbs=0V時のしきい値電圧の絶対値の範囲が1〜2Vであるようにすれば、例えば基板バイアス係数を2〜3V1/2の範囲に設定した場合であっても、出力電圧において、NMOSデプレッショントランジスタがエンハンスメント型になることがなく、回路誤動作を防ぐことができる。 Further, if the absolute value range of the threshold voltage of the NMOS depletion transistor when the substrate-source voltage Vbs = 0 V is 1-2 V, for example, the substrate bias coefficient is in the range of 2-3 V 1/2 . Even in the case of setting to, the NMOS depletion transistor does not become an enhancement type at the output voltage, and circuit malfunction can be prevented.

本発明の基準電圧発生回路の第2態様では、PMOSデプレッショントランジスタの基板は電源電位に接続されているようにしてPMOSデプレッショントランジスタに電源電圧から出力電圧を差し引いた電圧(以下、差分電圧という)の基板バイアスをかけ、PMOSデプレッショントランジスタの基板バイアス係数を出力電圧端子の電圧変化分と実質的に同じ大きさで極性が逆の電圧変化をしきい値電圧に与えるように設定することにより、例えばプロセス変動や温度変化などに起因する上記差分電圧の変化に対してPMOSデプレッショントランジスタのしきい値電圧の変化をほぼ線形にすることができるので、プロセス変動や温度変化などの外的不安定要因に対して、出力電圧(基準電圧)の変動が小さい基準電圧発生回路を得ることができる。   In the second embodiment of the reference voltage generating circuit of the present invention, the substrate of the PMOS depletion transistor is connected to the power supply potential, and a voltage obtained by subtracting the output voltage from the power supply voltage to the PMOS depletion transistor (hereinafter referred to as differential voltage). By applying a substrate bias and setting the substrate bias coefficient of the PMOS depletion transistor to be substantially the same as the voltage change of the output voltage terminal and applying a reverse voltage change to the threshold voltage, for example, the process Since the change in the threshold voltage of the PMOS depletion transistor can be made almost linear with respect to the change in the differential voltage due to fluctuations and temperature changes, it is possible to deal with external instability factors such as process fluctuations and temperature changes. Therefore, it is possible to obtain a reference voltage generation circuit with small fluctuations in the output voltage (reference voltage). Can.

基準電圧発生回路の第2態様において、上記差分電圧の範囲が0.5〜1.5Vであるようにすれば、実用的電源電圧の範囲や製造工程におけるトランジスタのしきい値電圧のばらつきに対して、より効率的に変動が小さい基準電圧発生回路を得ることができる。
さらに、基板バイアス係数γが2〜3V1/2の範囲であるようにすれば、上記差分電圧の変化に対する、上記差分電圧の基板バイアスがかかったPMOSデプレッショントランジスタのしきい値電圧の変化の線形性を高めて、ばらつきを抑える効果を一層高められることにより、一層変動が小さい基準電圧発生回路を得ることができる。
さらに、上記PMOSデプレッショントランジスタの基板・ソース間電圧Vbs=0V時のしきい値電圧の絶対値の範囲が1〜2Vであるようにすれば、基板バイアス係数を2〜3V1/2の範囲に設定した場合であっても、出力電圧において、PMOSデプレッショントランジスタがエンハンスメントになることがなく、回路誤動作を防ぐことができる。
In the second aspect of the reference voltage generation circuit, if the range of the differential voltage is 0.5 to 1.5 V, the range of the practical power supply voltage and the variation in the threshold voltage of the transistor in the manufacturing process can be reduced. Thus, it is possible to obtain a reference voltage generating circuit with less variation more efficiently.
Further, if the substrate bias coefficient γ is in the range of 2 to 3V 1/2 , the change in the threshold voltage of the PMOS depletion transistor to which the substrate bias of the differential voltage is applied is linear with respect to the change in the differential voltage. As a result, it is possible to obtain a reference voltage generating circuit with less variation.
Further, if the range of the absolute value of the threshold voltage of the PMOS depletion transistor when the substrate-source voltage Vbs = 0 V is 1-2 V, the substrate bias coefficient is set within the range of 2-3 V 1/2 . Even in the case of setting, the PMOS depletion transistor is not enhanced in the output voltage, and circuit malfunction can be prevented.

本発明にかかる電源装置の第1態様では、分割抵抗回路と、基準電圧発生回路と、分割電圧と基準電圧を比較するための比較回路をもつ電圧検出回路を備えた電源装置において、上記基準電圧発生回路として本発明の基準電圧発生回路を備えているようにしたので、プロセス変動や温度変化などの外的不安定要因に対して基準電圧の変動が小さい本発明の基準電圧発生回路により、電圧検出能力の安定化及び精度の向上を図ることができる。   In a first aspect of the power supply device according to the present invention, in the power supply device including a divided resistor circuit, a reference voltage generation circuit, and a voltage detection circuit having a comparison circuit for comparing the divided voltage and the reference voltage, the reference voltage Since the reference voltage generation circuit of the present invention is provided as a generation circuit, the reference voltage generation circuit of the present invention has a small variation in the reference voltage against external instability factors such as process variations and temperature variations. The detection capability can be stabilized and the accuracy can be improved.

本発明にかかる電源装置の第2態様では、出力ドライバと、分割抵抗回路と、基準電圧発生回路と、分割電圧と基準電圧を比較して比較結果に応じて上記出力ドライバの動作を制御するための比較回路をもつ定電圧発生回路を備えた電源装置において、上記基準電圧発生回路として本発明の基準電圧発生回路を備えているようにしたので、プロセス変動や温度変化などの外的不安定要因に対して基準電圧の変動が小さい本発明の基準電圧発生回路により、出力電圧の安定化及び精度の向上を図ることができる。   In the second aspect of the power supply device according to the present invention, the output driver, the divided resistor circuit, the reference voltage generating circuit, the divided voltage and the reference voltage are compared, and the operation of the output driver is controlled according to the comparison result. In the power supply apparatus having the constant voltage generation circuit having the comparison circuit of FIG. 5, the reference voltage generation circuit of the present invention is provided as the reference voltage generation circuit, so that external instability factors such as process fluctuations and temperature changes In contrast, the reference voltage generation circuit of the present invention in which the fluctuation of the reference voltage is small can stabilize the output voltage and improve the accuracy.

本発明にかかる電源装置の第3態様は、基準電圧発生回路からの基準電圧に基づいて動作する発振回路からの発振出力に基づく内臓スイッチの切替え動作によりコンデンサに電荷を充放電させることで電流を流すチャージポンプ方式のDC/DCコンバータを備えた電源装置において、上記基準電圧発生回路として本発明の基準電圧発生回路を備えているようにしたので、プロセス変動や温度変化などの外的不安定要因に対して基準電圧の変動が小さい本発明の基準電圧発生回路により、出力電圧の安定化及び精度の向上を図ることができる。   According to a third aspect of the power supply device of the present invention, the capacitor is charged and discharged by charging and discharging the capacitor by the switching operation of the built-in switch based on the oscillation output from the oscillation circuit that operates based on the reference voltage from the reference voltage generation circuit. In the power supply device having the charge pump type DC / DC converter to be flown, the reference voltage generation circuit of the present invention is provided as the reference voltage generation circuit, so that external instability factors such as process variations and temperature changes In contrast, the reference voltage generation circuit of the present invention in which the fluctuation of the reference voltage is small can stabilize the output voltage and improve the accuracy.

図1に本発明の基準電圧発生回路の第1態様の一実施例の回路図を示す。
Q1は定電流源を構成するNMOSデプレッショントランジスタ、Q2はNMOSエンハンスメントトランジスタである。トランジスタQ1とQ2は直列に接続され、しきい値電圧は互いに異なっている。
トランジスタQ1は、ドレインが電源電圧1に接続され、ゲートとソースが出力電圧端子3に接続され、基板がGND電位5に接続されている。
トランジスタQ2は、ドレインとゲートが出力電圧端子3に接続され、ソースと基板がGND電位5に接続されている。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of the first aspect of the reference voltage generating circuit of the present invention.
Q1 is an NMOS depletion transistor constituting a constant current source, and Q2 is an NMOS enhancement transistor. Transistors Q1 and Q2 are connected in series and have different threshold voltages.
The transistor Q1 has a drain connected to the power supply voltage 1, a gate and a source connected to the output voltage terminal 3, and a substrate connected to the GND potential 5.
The transistor Q 2 has a drain and a gate connected to the output voltage terminal 3, and a source and a substrate connected to the GND potential 5.

この実施例の基準電圧発生回路の出力電圧値の計算は、図10に示した従来の基準電圧発生回路とほぼ同じである。相違点は、トランジスタQ1に基板バイアスがかかっている点である。上述の基準電圧Vrefの計算式(1)から計算すれば、
Vref = Vt_e − Vt_d_Vsb (3)
となり、式(1)に比べてデプレッショントランジスタQ1のしきい値電圧は、基板バイアスがかかったときのもの(Vt_d_Vsb)に置き換わる。
The calculation of the output voltage value of the reference voltage generating circuit of this embodiment is almost the same as that of the conventional reference voltage generating circuit shown in FIG. The difference is that the substrate bias is applied to the transistor Q1. If calculated from the above formula (1) for the reference voltage Vref,
Vref = Vt_e−Vt_d_Vsb (3)
Thus, the threshold voltage of the depletion transistor Q1 is replaced with that when the substrate bias is applied (Vt_d_Vsb) as compared with the equation (1).

図2は、デプレッショントランジスタQ1の基板バイアス効果を説明するためのVgs対(Ids)1/2 波形を示す図である。基板バイアス効果とは、基板バイアスVsbがかかったときのしきい値電圧Vthの変化をいう。
基板バイアスVsbがかかった場合、しきい値電圧VthがΔVthだけ上昇する。また、図1を見れば明らかなように、出力電圧VrefそのものがデプレッショントランジスタQ1の基板バイアスVsbに相当する。このことと上記Vrefの式(3)を考え合わせてみれば、本発明の基準電圧発生回路においては、その出力電圧Vrefがプロセスばらつき等で上昇しようとするとデプレッショントランジスタQ1の基板バイアスVsbが増加し、しきい値電圧Vthが上昇して負帰還がかかり、出力電圧Vrefを一定にしようとする効果がある。
FIG. 2 is a diagram showing a waveform of Vgs versus (Ids) 1/2 for explaining the substrate bias effect of the depletion transistor Q1. The substrate bias effect is a change in the threshold voltage Vth when the substrate bias Vsb is applied.
When the substrate bias Vsb is applied, the threshold voltage Vth increases by ΔVth. As apparent from FIG. 1, the output voltage Vref itself corresponds to the substrate bias Vsb of the depletion transistor Q1. Considering this and Vref's expression (3), in the reference voltage generating circuit of the present invention, if the output voltage Vref is increased due to process variations or the like, the substrate bias Vsb of the depletion transistor Q1 increases. As a result, the threshold voltage Vth rises and negative feedback is applied, so that the output voltage Vref can be made constant.

ところで、実用的な出力電圧の範囲である0.5V〜1.5V程度における基板バイアス効果は一般には小さすぎて、Vrefを一定にする効果も小さい。
図3に、基板バイアス係数γ=0.5V1/2、基板バイアスVsb=0Vの条件におけるしきい値電圧Vth=−0.3VのデプレッショントランジスタのVth対Vsb波形を示す。
基板バイアスVsbが大きくなるほどしきい値電圧Vthが上昇しているのがわかる。
しかしながら、基板バイアスVsbが0.5V〜1.5Vの範囲で変化したときのしきい値電圧Vthの変化は0.2V程度である。これは出力電圧が1V変化したときに0.2Vの帰還の効果しかないことを示す。したがって帰還の効果を最大限生かそうとすれば、デプレッショントランジスタQ1の基板バイアス効果の最適設計が必須である。
By the way, the substrate bias effect in a practical output voltage range of about 0.5 V to 1.5 V is generally too small, and the effect of making Vref constant is small.
FIG. 3 shows a Vth vs. Vsb waveform of a depletion transistor having a threshold voltage Vth = −0.3V under the conditions of a substrate bias coefficient γ = 0.5V 1/2 and a substrate bias Vsb = 0V.
It can be seen that the threshold voltage Vth increases as the substrate bias Vsb increases.
However, the change of the threshold voltage Vth when the substrate bias Vsb is changed in the range of 0.5V to 1.5V is about 0.2V. This indicates that there is only a 0.2V feedback effect when the output voltage changes by 1V. Therefore, in order to make the best use of the feedback effect, it is essential to optimally design the substrate bias effect of the depletion transistor Q1.

図4に、基板バイアス係数γを2.5V1/2に設定した場合のVth対Vsb波形を示す。
基板バイアスVsbが0.5V〜1.5Vの範囲で変化したときのしきい値電圧Vthの変化は1V程度で、ほぼ線形の関係があり、この範囲で効率的に帰還をかけることができる。
しかしながら、基板バイアスVsb=0Vのとき、しきい値電圧Vth=1.5Vであり、エンハンスメントになってしまっているのがわかる。
これは、一般的なVthの式
Vth=2φf+Vfb+γ(2φf+Vsb) (4)
から明らかなように、基板バイアス係数γが基板バイアスVsb=0Vのときも2φf分に対して影響するため、基板バイアスVsb=0Vのときのしきい値電圧Vthも上昇してしまった結果である。
FIG. 4 shows a Vth vs. Vsb waveform when the substrate bias coefficient γ is set to 2.5 V 1/2 .
When the substrate bias Vsb changes in the range of 0.5 V to 1.5 V, the change of the threshold voltage Vth is about 1 V, which has a substantially linear relationship, and feedback can be efficiently applied in this range.
However, it can be seen that when the substrate bias Vsb = 0V, the threshold voltage Vth = 1.5V, which is an enhancement.
This is a general Vth equation
Vth = 2φf + Vfb + γ (2φf + Vsb) (4)
As can be seen from the above, since the substrate bias coefficient γ also affects 2φf when the substrate bias Vsb = 0V, the threshold voltage Vth when the substrate bias Vsb = 0V is also increased. .

この対策として基板バイアスVbs=0Vのときのしきい値電圧Vthを不純物注入などで低く設定する方法が考えられる。しかし、しきい値電圧を低くしすぎると、デプレッショントランジスタQ1のしきい値電圧Vthのみで基準電圧発生回路の出力電圧Vrefを越えてしまい、結線するエンハンスメントトランジスタQ2が挿入できなくなる。
以上より、本発明に使用するデプレッショントランジスタQ1では、単に基板バイアス係数γを最適化するだけではなく、基板バイアスVsb=0Vのときのしきい値電圧Vthも最適化する必要があることがわかる。
As a countermeasure, a method of setting the threshold voltage Vth when the substrate bias Vbs = 0V to be low by impurity implantation or the like can be considered. However, if the threshold voltage is too low, only the threshold voltage Vth of the depletion transistor Q1 exceeds the output voltage Vref of the reference voltage generating circuit, and the connected enhancement transistor Q2 cannot be inserted.
From the above, it can be seen that in the depletion transistor Q1 used in the present invention, it is necessary not only to optimize the substrate bias coefficient γ but also to optimize the threshold voltage Vth when the substrate bias Vsb = 0V.

例えば1V出力の基準電圧発生回路用に、基板バイアスVsb=0Vのときのしきい値電圧Vthも最適化したデプレッショントランジスタのVth対Vsb波形を図5に示す。
デプレッショントランジスタQ1は、基板バイアスVsb=0Vのときのしきい値電圧Vth=−1.8V、基板バイアス係数γ=2.5V1/2、基板バイアスVsb=1Vのときのしきい値電圧Vth=−0.6Vに設計されている。しきい値電圧Vth=0.4VのエンハンスメントトランジスタQ2と組み合わせることにより、1V出力のバラツキの少ない基準電圧を得ることができる。
For example, FIG. 5 shows a Vth vs. Vsb waveform of a depletion transistor in which the threshold voltage Vth when the substrate bias Vsb = 0 V is also optimized for a reference voltage generating circuit of 1 V output.
The depletion transistor Q1 has a threshold voltage Vth = -1.8V when the substrate bias Vsb = 0V, a substrate bias coefficient γ = 2.5V1 / 2 , and a threshold voltage Vth = when the substrate bias Vsb = 1V. Designed to -0.6V. By combining with the enhancement transistor Q2 with the threshold voltage Vth = 0.4V, a reference voltage with less variation of 1V output can be obtained.

基板バイアスVsb=0Vのときのしきい値電圧Vth=−1.8V、基板バイアス係数γ=2.5V1/2となるデプレッショントランジスタQ1の製造方法について述べる。
基板バイアス係数γはゲート膜厚と基板濃度によって制御可能であるので、基板バイアス係数γが2.5V1/2になるようにこれらを制御すればよい。例えば
γ=(2qεNsub/Cox)1/2 (5)
より、ゲート膜厚を60nm、基板濃度(Nsub)=6×1016cm-3程度に設定することで基板バイアス係数γ=2.5V1/2が得られる。
また、しきい値電圧Vthの制御についてはしきい値電圧補正用の不純物注入、例えばNMOSデプレッショントランジスタならリン又はヒ素を注入して、基板バイアスVsb=0Vのときのしきい値電圧Vth=−1.8Vを得ることができる。
A manufacturing method of the depletion transistor Q1 in which the threshold voltage Vth = -1.8V when the substrate bias Vsb = 0V and the substrate bias coefficient γ = 2.5V 1/2 will be described.
Since the substrate bias coefficient γ can be controlled by the gate film thickness and the substrate concentration, these may be controlled so that the substrate bias coefficient γ becomes 2.5 V 1/2 . For example
γ = (2qεNsub / Cox) 1/2 (5)
Accordingly, the substrate bias coefficient γ = 2.5 V 1/2 can be obtained by setting the gate film thickness to 60 nm and the substrate concentration (Nsub) = about 6 × 10 16 cm −3 .
For controlling the threshold voltage Vth, impurity implantation for threshold voltage correction, for example, phosphorus or arsenic is implanted in the case of an NMOS depletion transistor, and the threshold voltage Vth = −1 when the substrate bias Vsb = 0V. .8V can be obtained.

本発明による基準電圧発生回路は携帯電話やPDA(Personal Digital Assistance)などの低消費電力向け製品に好適であり、その場合、実用的電源電圧の範囲や製造工程におけるトランジスタのしきい値電圧のばらつきを考慮すると、出力電圧は0.5〜1.5V程度が望ましい。出力電圧の範囲が決定すると効率的に帰還がかけられる基板バイアス係数γの範囲としてγ=2〜3V1/2が得られる。また、基板バイアス係数γがこの範囲に制御された時に基板バイアスVbs=0Vのときのしきい値電圧Vthの絶対値の最適範囲はデプレッショントランジスタがエンハンスメントにならず、かつ出力電圧におけるしきい値電圧Vthの絶対値が出力電圧を越えないように、1〜2Vが適している。 The reference voltage generation circuit according to the present invention is suitable for products for low power consumption such as cellular phones and PDAs (Personal Digital Assistance), in which case the range of practical power supply voltage and the threshold voltage variation of transistors in the manufacturing process are suitable. In view of the above, the output voltage is preferably about 0.5 to 1.5V. When the range of the output voltage is determined, γ = 2 to 3V 1/2 is obtained as the range of the substrate bias coefficient γ that can be efficiently fed back. When the substrate bias coefficient γ is controlled within this range, the optimum range of the absolute value of the threshold voltage Vth when the substrate bias Vbs = 0 V is that the depletion transistor is not enhanced and the threshold voltage at the output voltage is 1-2V is suitable so that the absolute value of Vth does not exceed the output voltage.

本発明の基準電圧発生回路はPMOSトランジスタでも同様に構成可能である。
図6に本発明の基準電圧発生回路の第2態様の一実施例の回路図を示す。
Q3はPMOSエンハンスメントトランジスタ、Q4は定電流源を構成するPMOSデプレッショントランジスタである。トランジスタQ3とQ4は直列に接続され、しきい値電圧は互いに異なっている。
トランジスタQ3は、ソースと基板が電源電圧1に接続され、ゲートとドレインが出力電圧端子3に接続されている。
トランジスタQ4は、ソースとゲートが出力電圧端子3に接続され、ドレインがGND電位5に接続され、基板が電源電圧1に接続されている。
この実施例において、電源電圧から出力電圧を引いた電圧がNMOSを用いた場合の基準電圧Vrefに相当するので、電源電圧1を基準に基準電圧が必要な場合に好適である。
The reference voltage generating circuit of the present invention can be similarly configured with a PMOS transistor.
FIG. 6 shows a circuit diagram of an embodiment of the second aspect of the reference voltage generating circuit of the present invention.
Q3 is a PMOS enhancement transistor, and Q4 is a PMOS depletion transistor constituting a constant current source. Transistors Q3 and Q4 are connected in series and have different threshold voltages.
The transistor Q3 has a source and substrate connected to the power supply voltage 1, and a gate and drain connected to the output voltage terminal 3.
The transistor Q4 has a source and a gate connected to the output voltage terminal 3, a drain connected to the GND potential 5, and a substrate connected to the power supply voltage 1.
In this embodiment, since the voltage obtained by subtracting the output voltage from the power supply voltage corresponds to the reference voltage Vref when NMOS is used, it is suitable when the reference voltage is required based on the power supply voltage 1.

この実施例では、PMOSデプレッショントランジスタQ4の基板は電源電圧1に接続されているので、PMOSデプレッショントランジスタQ4に電源電圧1から出力電圧端子3の電圧を差し引いた電圧(差分電圧)の基板バイアスがかかる。PMOSデプレッショントランジスタQ4の基板バイアス係数は出力電圧端子3の電圧変化分と実質的に同じ大きさで極性が逆の電圧変化をしきい値電圧に与えるように設定されている。   In this embodiment, since the substrate of the PMOS depletion transistor Q4 is connected to the power supply voltage 1, a substrate bias of a voltage (differential voltage) obtained by subtracting the voltage of the output voltage terminal 3 from the power supply voltage 1 is applied to the PMOS depletion transistor Q4. . The substrate bias coefficient of the PMOS depletion transistor Q4 is set so as to give the threshold voltage a voltage change having substantially the same magnitude as the voltage change of the output voltage terminal 3 and having the opposite polarity.

例えば、PMOSデプレッショントランジスタQ4は、基板・ソース間電圧Vbs=0Vのときのしきい値電圧Vth=1.8V、基板バイアス係数γ=2.5V1/2、上記差分電圧の基板バイアス=−1Vのときのしきい値電圧Vth=0.6Vに設計されている。 For example, the PMOS depletion transistor Q4 has a threshold voltage Vth = 1.8V when the substrate-source voltage Vbs = 0V, a substrate bias coefficient γ = 2.5V 1/2 , and a substrate bias of the differential voltage = −1V. In this case, the threshold voltage Vth is designed to be 0.6V.

この実施例では、上記差分電圧は出力電圧端子3の電圧変化に対して同じ大きさで極性が逆の電圧変化をする。したがって、PMOSデプレッショントランジスタQ4の基板バイアス係数を出力電圧端子3の電圧変化分と実質的に同じ大きさで極性が逆の電圧変化をしきい値電圧に与えるように設定することにより、上記差分電圧の変化に対するPMOSデプレッショントランジスタQ4のしきい値電圧の変化をほぼ線形にすることができる。
そして、例えばしきい値電圧Vth=−0.4VのPMOSエンハンスメントトランジスタQ3と組み合わせることにより、(電源電圧−1)V出力のバラツキの少ない基準電圧を得ることができる。
In this embodiment, the differential voltage changes in voltage with the same magnitude and opposite polarity with respect to the voltage change at the output voltage terminal 3. Therefore, by setting the substrate bias coefficient of the PMOS depletion transistor Q4 to be substantially the same as the voltage change of the output voltage terminal 3 and having a reverse polarity to the threshold voltage, the difference voltage is set. The change of the threshold voltage of the PMOS depletion transistor Q4 with respect to the change of can be made almost linear.
For example, by combining with the PMOS enhancement transistor Q3 having the threshold voltage Vth = −0.4V, it is possible to obtain a reference voltage with less variation in (power supply voltage−1) V output.

PMOSを用いた本発明の基準電圧発生回路を例えば携帯電話やPDAなどの低消費電力向け製品に適用する場合、実用的電源電圧の範囲や製造工程におけるトランジスタのしきい値電圧のばらつきを考慮すると、NMOSを用いた本発明の基準電圧発生回路と同様に、出力電圧は0.5〜1.5V程度が望ましい。出力電圧の範囲が決定すると効率的に帰還がかけられる基板バイアス係数γの範囲としてγ=2〜3V1/2が得られる。また、基板バイアス係数γがこの範囲に制御された時に基板・ソース間電圧Vbs=0Vのときのしきい値電圧Vthの絶対値の最適範囲はデプレッショントランジスタがエンハンスメントにならないように、1〜2Vが適している。 When applying the reference voltage generation circuit of the present invention using a PMOS to a product for low power consumption such as a mobile phone or a PDA, considering the range of practical power supply voltage and the variation of the threshold voltage of the transistor in the manufacturing process, As in the case of the reference voltage generation circuit of the present invention using NMOS, the output voltage is preferably about 0.5 to 1.5V. When the range of the output voltage is determined, γ = 2 to 3V 1/2 is obtained as the range of the substrate bias coefficient γ that can be efficiently fed back. Further, when the substrate bias coefficient γ is controlled within this range, the optimum range of the absolute value of the threshold voltage Vth when the substrate-source voltage Vbs = 0V is 1-2V so that the depletion transistor does not become enhancement. Is suitable.

本発明の基準電圧発生回路は、例えば電源装置に適用することができる。以下に、本発明の基準電圧発生回路を備えた電源装置の実施例について説明する。ただし、本発明の基準電圧発生回路の用途は電源装置に限定されるものではない。   The reference voltage generation circuit of the present invention can be applied to, for example, a power supply device. Hereinafter, embodiments of the power supply device including the reference voltage generation circuit of the present invention will be described. However, the use of the reference voltage generation circuit of the present invention is not limited to the power supply device.

図7は定電圧発生回路を備えた電源装置の一実施例を示す回路図である。
直流電源7からの電源を負荷9に安定して供給すべく、定電圧発生回路11が設けられている。定電圧発生回路11は、直流電源7が接続される入力端子(Vbat)13、基準電圧発生回路(Vref)15、演算増幅器(比較回路)17、出力ドライバを構成するPチャネルMOSトランジスタ(以下、PMOSと略記する)19、分割抵抗素子R1,R2及び出力端子(Vout)21を備えている。基準電圧発生回路15として、本発明の基準電圧発生回路を備えている。
FIG. 7 is a circuit diagram showing an embodiment of a power supply device having a constant voltage generating circuit.
A constant voltage generation circuit 11 is provided in order to stably supply power from the DC power supply 7 to the load 9. The constant voltage generation circuit 11 includes an input terminal (Vbat) 13 to which the DC power supply 7 is connected, a reference voltage generation circuit (Vref) 15, an operational amplifier (comparison circuit) 17, and a P-channel MOS transistor (hereinafter referred to as an output driver). 19 (abbreviated as PMOS) 19, divided resistance elements R 1 and R 2, and an output terminal (Vout) 21. The reference voltage generation circuit 15 includes the reference voltage generation circuit of the present invention.

定電圧発生回路11の演算増幅器17では、出力端子がPMOS19のゲート電極に接続され、反転入力端子(−)に基準電圧発生回路15から基準電圧Vrefが印加され、非反転入力端子(+)に出力電圧Voutを抵抗素子R1とR2で分割した電圧が印加され、抵抗素子R1,R2の分割電圧が基準電圧Vrefに等しくなるように制御される。
この実施例では、基準電圧発生回路15として本発明の基準電圧発生回路を備えているので、プロセス変動や温度変化などの外的不安定要因に対して基準電圧の変動が小さい本発明の基準電圧発生回路により、出力電圧の安定化及び精度の向上を図ることができる。
In the operational amplifier 17 of the constant voltage generation circuit 11, the output terminal is connected to the gate electrode of the PMOS 19, the reference voltage Vref is applied from the reference voltage generation circuit 15 to the inverting input terminal (−), and the non-inverting input terminal (+) is applied. A voltage obtained by dividing the output voltage Vout by the resistance elements R1 and R2 is applied, and the division voltage of the resistance elements R1 and R2 is controlled to be equal to the reference voltage Vref.
In this embodiment, since the reference voltage generating circuit 15 of the present invention is provided as the reference voltage generating circuit 15, the reference voltage of the present invention is small in fluctuation of the reference voltage against external instability factors such as process fluctuation and temperature change. The generation circuit can stabilize the output voltage and improve the accuracy.

図8は、電圧検出回路を備えた電源装置の一実施例を示す回路図である。
電圧検出回路23において、17は演算増幅器で、その反転入力端子(−)に基準電圧発生回路15が接続され、基準電圧Vrefが印加される。入力端子(Vsens)25から入力される測定すべき端子の電圧が分割抵抗素子R1とR2によって分割されて演算増幅器17の非反転入力端子(+)に入力される。演算増幅器17の出力は出力端子(Vout)27を介して外部に出力される。基準電圧発生回路15として、本発明の基準電圧発生回路を備えている。
FIG. 8 is a circuit diagram showing an embodiment of a power supply device provided with a voltage detection circuit.
In the voltage detection circuit 23, reference numeral 17 denotes an operational amplifier. A reference voltage generation circuit 15 is connected to an inverting input terminal (−) of the operational amplifier, and a reference voltage Vref is applied. The voltage of the terminal to be measured input from the input terminal (Vsens) 25 is divided by the dividing resistance elements R1 and R2 and input to the non-inverting input terminal (+) of the operational amplifier 17. The output of the operational amplifier 17 is output to the outside through an output terminal (Vout) 27. The reference voltage generation circuit 15 includes the reference voltage generation circuit of the present invention.

電圧検出回路23では、測定すべき端子の電圧が高く、分割抵抗素子R1とR2により分割された電圧が基準電圧Vrefよりも高いときは演算増幅器17の出力がHレベルを維持し、測定すべき端子の電圧が降下してきて分割抵抗素子R1とR2により分割された電圧が基準電圧Vref以下になってくると演算増幅器17の出力がLレベルになる。
この実施例では、基準電圧発生回路15として本発明の基準電圧発生回路を備えているので、プロセス変動や温度変化などの外的不安定要因に対して基準電圧の変動が小さい本発明の基準電圧発生回路により、電圧検出能力の安定化及び精度の向上を図ることができる。
In the voltage detection circuit 23, when the voltage of the terminal to be measured is high and the voltage divided by the dividing resistor elements R1 and R2 is higher than the reference voltage Vref, the output of the operational amplifier 17 is maintained at the H level and should be measured. When the voltage at the terminal drops and the voltage divided by the dividing resistor elements R1 and R2 becomes equal to or lower than the reference voltage Vref, the output of the operational amplifier 17 becomes L level.
In this embodiment, since the reference voltage generating circuit 15 of the present invention is provided as the reference voltage generating circuit 15, the reference voltage of the present invention is small in fluctuation of the reference voltage against external instability factors such as process fluctuation and temperature change. The generation circuit can stabilize the voltage detection capability and improve the accuracy.

図9は、反転型チャージポンプDC/DCコンバータを備えた電源装置の一実施例を示す回路図である。
回路には、入力端子(Vin)29、出力端子(Vout、反転出力)31、GND端子(GND)33、ポンプ容量正側端子(CP+)35とポンプ容量負側端子(CP−)37が設けられている。ポンプ容量正側端子35とポンプ容量負側端子37の間には、外付け部品のコンデンサ(図示は省略)が接続されている。
FIG. 9 is a circuit diagram showing an embodiment of a power supply device including an inverting charge pump DC / DC converter.
The circuit includes an input terminal (Vin) 29, an output terminal (Vout, inverted output) 31, a GND terminal (GND) 33, a pump capacity positive terminal (CP +) 35, and a pump capacity negative terminal (CP-) 37. It has been. An external component capacitor (not shown) is connected between the pump capacity positive side terminal 35 and the pump capacity negative side terminal 37.

内部には、入力端子29とGND端子33の間に、順にPMOSトランジスタ39とNMOSトランジスタ41が設けられている。PMOSトランジスタ39とNMOSトランジスタ41の間にポンプ容量正側端子35が接続されている。NMOSトランジスタ41とGND端子33の間はGND電位43に接続されている。
GND電位43と出力端子31の間に、順にNMOSトランジスタ45,47が接続されている。NMOSトランジスタ45,47の間にポンプ容量負側端子37が接続されている。
Inside, a PMOS transistor 39 and an NMOS transistor 41 are sequentially provided between the input terminal 29 and the GND terminal 33. A pump capacitor positive side terminal 35 is connected between the PMOS transistor 39 and the NMOS transistor 41. A ground potential 43 is connected between the NMOS transistor 41 and the GND terminal 33.
NMOS transistors 45 and 47 are sequentially connected between the GND potential 43 and the output terminal 31. A pump capacity negative terminal 37 is connected between the NMOS transistors 45 and 47.

基準電圧発生回路(Vref)49からの基準電圧に基づいて、入力端子29と同じ大きさの電圧(Vin電圧)及びGND端子33と同じ大きさの電圧(GND電圧)を交互に発振する発振回路(OSC)51が設けられている。基準電圧発生回路15として本発明の基準電圧発生回路を備えている。発振回路51の出力端子は、NMOSトランジスタ41,47のゲート電極に直接接続されており、NMOSトランジスタ45のゲート電極にインバータ53を介して接続されており、PMOSトランジスタ39のゲート電極にインバータ53及び55を介して接続されている。   An oscillation circuit that alternately oscillates a voltage (Vin voltage) having the same magnitude as that of the input terminal 29 and a voltage (GND voltage) having the same magnitude as that of the GND terminal 33 based on the reference voltage from the reference voltage generation circuit (Vref) 49. (OSC) 51 is provided. The reference voltage generation circuit 15 includes the reference voltage generation circuit of the present invention. The output terminal of the oscillation circuit 51 is directly connected to the gate electrodes of the NMOS transistors 41 and 47, is connected to the gate electrode of the NMOS transistor 45 via the inverter 53, and the inverter 53 and the gate electrode of the PMOS transistor 39 are connected to each other. 55 is connected.

この反転型チャージポンプDC/DCコンバータは、発振回路51を通して4つのトランジスタ39,41,45,47のゲート電極に電圧を与えてスイッチングさせ、ポンプ容量正側端子35とポンプ容量負側端子37の間に接続されたコンデンサを充放電させることにより電流を流し、出力端子31に入力電圧29の反転電圧が出力される仕組みになっている。   This inverting charge pump DC / DC converter applies a voltage to the gate electrodes of the four transistors 39, 41, 45, 47 through the oscillation circuit 51 to switch them, and the pump capacity positive side terminal 35 and the pump capacity negative side terminal 37 are switched. Current is passed by charging and discharging the capacitors connected in between, and an inverted voltage of the input voltage 29 is output to the output terminal 31.

発振回路51からGND電圧を発したとき、PMOSトランジスタ39とNMOSトランジスタ45がオンし、他の2つのNMOSトランジスタ41,47はオフになる。このとき、ポンプ容量正側端子35とポンプ容量負側端子37の間に接続されたコンデンサに電荷がたまる。
発振回路51からVin電圧が発せられると、PMOSトランジスタ39とNMOSトランジスタ45はオフになり、他の2つのNMOSトランジスタ41,47はオンする。このとき、電荷をためたコンデンサは放電するが、出力端子31がGND端子33よりも低い電位にされているので、入力電圧でたまった電荷とは反転電圧が出力端子31から出力される。
上記の動作が繰り返されることにより、入力電圧の反転電圧で電流が流れ続ける。
When the GND voltage is generated from the oscillation circuit 51, the PMOS transistor 39 and the NMOS transistor 45 are turned on, and the other two NMOS transistors 41 and 47 are turned off. At this time, a charge is accumulated in the capacitor connected between the pump capacity positive terminal 35 and the pump capacity negative terminal 37.
When the Vin voltage is generated from the oscillation circuit 51, the PMOS transistor 39 and the NMOS transistor 45 are turned off, and the other two NMOS transistors 41 and 47 are turned on. At this time, the capacitor storing the electric charge is discharged, but since the output terminal 31 is set at a lower potential than the GND terminal 33, an inverted voltage from the charge accumulated in the input voltage is output from the output terminal 31.
By repeating the above operation, current continues to flow at the inverted voltage of the input voltage.

この実施例では、基準電圧発生回路15として本発明の基準電圧発生回路を備えているようにしたので、プロセス変動や温度変化などの外的不安定要因に対して基準電圧の変動が小さい本発明の基準電圧発生回路により、出力電圧の安定化及び精度の向上を図ることができる。   In this embodiment, since the reference voltage generating circuit 15 of the present invention is provided as the reference voltage generating circuit 15, the reference voltage variation is small with respect to external instability factors such as process variations and temperature changes. The reference voltage generating circuit can stabilize the output voltage and improve the accuracy.

以上、本発明の実施例を説明したが、本発明は実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の範囲内で種々の変更が可能である。
例えば、図1に示した実施例では、デプレッショントランジスタQ1とエンハンスメントトランジスタQ2を1個ずつ備えているが、本発明はこれに限定されるものではなく、直列に接続されるデプレッショントランジスタ及びエンハンスメントトランジスタの個数は何個ずつであってもよい。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications can be made within the scope of the present invention described in the claims.
For example, the embodiment shown in FIG. 1 includes one depletion transistor Q1 and one enhancement transistor Q2. However, the present invention is not limited to this, and the depletion transistor and enhancement transistor connected in series are not limited thereto. Any number may be used.

基準電圧発生回路の第1態様の一実施例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing an embodiment of a first aspect of a reference voltage generating circuit. デプレッショントランジスタQ1の基板バイアス効果を説明するためのVgs対(Ids)1/2 波形を示す図である。It is a figure which shows the Vgs pair (Ids) 1/2 waveform for demonstrating the substrate bias effect of the depletion transistor Q1. 基板バイアス係数γ=0.5、基板バイアスVsb=0Vの条件におけるしきい値電圧Vth=−0.3VのデプレッショントランジスタのVth対Vsb波形を示す図である。It is a figure which shows the Vth vs. Vsb waveform of a depletion transistor of threshold voltage Vth = -0.3V on the conditions of substrate bias coefficient (gamma) = 0.5 and substrate bias Vsb = 0V. 基板バイアス係数γを2.5に上げた場合のデプレッショントランジスタのVth対Vsb波形を示す図である。It is a figure which shows the Vth vs. Vsb waveform of a depletion transistor at the time of raising a substrate bias coefficient (gamma) to 2.5. 1V出力の基準電圧発生回路用に、基板バイアスVsb=0Vのときのしきい値電圧Vthも最適化したデプレッショントランジスタのVth対Vsb波形を示す図である。It is a figure which shows the Vth vs. Vsb waveform of the depletion transistor which also optimized the threshold voltage Vth when the substrate bias Vsb = 0V for the reference voltage generating circuit of 1V output. 本発明の基準電圧発生回路の第2態様の一実施例の回路図である。It is a circuit diagram of one Example of the 2nd aspect of the reference voltage generation circuit of this invention. 定電圧発生回路を備えた電源装置の一実施例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows one Example of a power supply device provided with the constant voltage generation circuit. 電圧検出回路を備えた電源装置の一実施例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows one Example of a power supply device provided with the voltage detection circuit. 反転型チャージポンプDC/DCコンバータを備えた電源装置の一実施例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows one Example of the power supply device provided with the inverting type charge pump DC / DC converter. デプレッショントランジスタを定電流とする基準電圧発生回路の従来例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the prior art example of the reference voltage generation circuit which makes a depletion transistor a constant current. ドレイン電圧が飽和条件を満たしているトランジスタQ5,Q6のVgs対(Ids)1/2 波形を示す図である。It is a figure which shows the Vgs vs. (Ids) 1/2 waveform of transistors Q5 and Q6 whose drain voltage satisfies the saturation condition. デプレッショントランジスタを定電流とする基準電圧発生回路の他の従来例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the other conventional example of the reference voltage generation circuit which makes a depletion transistor a constant current. トランジスタQ6のしきい値電圧が変化した場合のVgs対(Ids)1/2 波形を示す図である。It is a figure which shows Vgs vs. (Ids) 1/2 waveform when the threshold voltage of transistor Q6 changes. 高温時にMOSトランジスタQ6のしきい値電圧及びモビリティーが変化した場合のVgs対(Ids)1/2 波形を示す図である。It is a figure which shows a Vgs pair (Ids) 1/2 waveform when the threshold voltage and mobility of MOS transistor Q6 change at high temperature.

符号の説明Explanation of symbols

1 電源電圧
3 出力電圧端子
5 GND電位
7 直流電源
9 負荷
11 定電圧発生回路
13 入力端子
15 基準電圧発生回路
17 演算増幅器
19 PチャネルMOSトランジスタ
21 出力端子
23 電圧検出回路
25 入力端子
27 出力端子
29 入力端子
31 出力端子
33 GND端子
35 ポンプ容量正側端子
37 ポンプ容量負側端子
39 PMOSトランジスタ
41,45,47 NMOSトランジスタ
43 GND電位
49 基準電圧発生回路
51 発振回路
53,55 インバータ
Q1 NMOSデプレッショントランジスタ
Q2 NMOSエンハンスメントトランジスタ
Q3 PMOSエンハンスメントトランジスタ
Q4 PMOSデプレッショントランジスタ
R1,R2 分割抵抗素子
1 power supply voltage 3 output voltage terminal 5 GND potential 7 DC power supply 9 load 11 constant voltage generation circuit 13 input terminal 15 reference voltage generation circuit 17 operational amplifier 19 P-channel MOS transistor 21 output terminal 23 voltage detection circuit 25 input terminal 27 output terminal 29 Input terminal 31 Output terminal 33 GND terminal 35 Pump capacity positive side terminal 37 Pump capacity negative side terminal 39 PMOS transistor 41, 45, 47 NMOS transistor 43 GND potential 49 Reference voltage generation circuit 51 Oscillation circuit 53, 55 Inverter Q1 NMOS depletion transistor Q2 NMOS enhancement transistor Q3 PMOS enhancement transistor Q4 PMOS depletion transistors R1, R2 Split resistance element

Claims (11)

NMOSデプレッショントランジスタを定電流源とし、前記NMOSデプレッショントランジスタとはしきい値電圧が異なるNMOSトランジスタを前記NMOSデプレッショントランジスタに直列に結線することによって構成され、前記NMOSデプレッショントランジスタのドレインが電源電圧に、ゲートとソースが出力電圧端子に、基板がGND電位に接続されており、かつ、前記NMOSトランジスタのドレインとゲートが出力電圧端子に、ソースと基板がGND電位に接続された回路構成をもち、
前記NMOSデプレッショントランジスタは、前記出力電圧端子の電圧変化分と実質的に同じ大きさの電圧変化をしきい値電圧に与える基板バイアス係数をもち、かつエンハンスメント型にならない程度のしきい値電圧をもつ基準電圧発生回路。
An NMOS depletion transistor is used as a constant current source, and an NMOS transistor having a threshold voltage different from that of the NMOS depletion transistor is connected in series to the NMOS depletion transistor. The drain of the NMOS depletion transistor is connected to the power supply voltage, And the source is connected to the output voltage terminal, the substrate is connected to the GND potential, the drain and gate of the NMOS transistor are connected to the output voltage terminal, and the source and the substrate are connected to the GND potential,
The NMOS depletion transistor has a substrate bias coefficient that gives the threshold voltage a voltage change substantially equal to the voltage change of the output voltage terminal, and has a threshold voltage that does not become an enhancement type. Reference voltage generation circuit.
出力電圧の範囲が0.5〜1.5Vである請求項1に記載の基準電圧発生回路。   2. The reference voltage generating circuit according to claim 1, wherein the range of the output voltage is 0.5 to 1.5V. 前記NMOSデプレッショントランジスタの基板バイアス係数が2〜3V1/2である請求項1又は2に記載の基準電圧発生回路。 3. The reference voltage generating circuit according to claim 1, wherein a substrate bias coefficient of the NMOS depletion transistor is 2 to 3V1 / 2. 前記NMOSデプレッショントランジスタの基板・ソース間電圧Vbs=0V時のしきい値電圧の絶対値の範囲が1〜2Vである請求項1、2又は3に記載の基準電圧発生回路。   4. The reference voltage generation circuit according to claim 1, wherein an absolute value range of a threshold voltage of the NMOS depletion transistor when the substrate-source voltage Vbs = 0 V is 1 to 2 V. 5. PMOSデプレッショントランジスタを定電流源とし、前記PMOSデプレッショントランジスタとはしきい値電圧が異なるPMOSトランジスタを前記PMOSデプレッショントランジスタに直列に結線することによって構成され、前記PMOSデプレッショントランジスタのドレインがGND電位に、ゲートとソースが出力電圧端子に、基板が電源電圧に接続されており、かつ、前記PMOSトランジスタのドレインとゲートが出力電圧端子に、ソースと基板が電源電圧に接続された回路構成をもち、
前記PMOSデプレッショントランジスタは、前記出力電圧端子の電圧変化分と実質的に同じ大きさで極性が逆の電圧変化をしきい値電圧に与える基板バイアス係数をもち、かつエンハンスメント型にならない程度のしきい値電圧をもつ基準電圧発生回路。
A PMOS depletion transistor is used as a constant current source, and a PMOS transistor having a threshold voltage different from that of the PMOS depletion transistor is connected in series to the PMOS depletion transistor. The drain of the PMOS depletion transistor is set to the GND potential. And the source is connected to the output voltage terminal, the substrate is connected to the power supply voltage, and the drain and gate of the PMOS transistor are connected to the output voltage terminal, and the source and substrate are connected to the power supply voltage.
The PMOS depletion transistor has a substrate bias coefficient that gives a voltage change of substantially the same magnitude as the voltage change of the output voltage terminal and a reverse polarity to the threshold voltage, and has a threshold that does not become an enhancement type. Reference voltage generation circuit with value voltage.
電源電圧から出力電圧を差し引いた電圧の範囲が0.5〜1.5Vである請求項5に記載の基準電圧発生回路。   6. The reference voltage generating circuit according to claim 5, wherein a range of a voltage obtained by subtracting an output voltage from a power supply voltage is 0.5 to 1.5V. 前記PMOSデプレッショントランジスタの基板バイアス係数が2〜3V1/2である請求項5又は6に記載の基準電圧発生回路。 7. The reference voltage generation circuit according to claim 5, wherein a substrate bias coefficient of the PMOS depletion transistor is 2 to 3V1 / 2 . 前記PMOSデプレッショントランジスタの基板・ソース間電圧Vbs=0V時のしきい値電圧の絶対値の範囲が1〜2Vである請求項5、6又は7に記載の基準電圧発生回路。   8. The reference voltage generation circuit according to claim 5, wherein an absolute value range of a threshold voltage of the PMOS depletion transistor when a substrate-source voltage Vbs = 0 V is 1 to 2V. 入力電圧を分割して分割電圧を供給するための分割抵抗回路と、基準電圧を供給するための基準電圧発生回路と、前記分割抵抗回路からの分割電圧と前記基準電圧発生回路からの基準電圧を比較するための比較回路をもつ電圧検出回路を備えた電源装置において、
前記基準電圧発生回路として請求項1から8のいずれかに記載の基準電圧発生回路を備えていることを特徴とする電源装置。
A divided resistor circuit for dividing the input voltage to supply a divided voltage, a reference voltage generating circuit for supplying a reference voltage, a divided voltage from the divided resistor circuit, and a reference voltage from the reference voltage generating circuit In a power supply device equipped with a voltage detection circuit having a comparison circuit for comparison,
A power supply apparatus comprising the reference voltage generation circuit according to claim 1 as the reference voltage generation circuit.
入力電圧の出力を制御する出力ドライバと、出力電圧を分割して分割電圧を供給するための分割抵抗回路と、基準電圧を供給するための基準電圧発生回路と、前記分割抵抗回路からの分割電圧と前記基準電圧発生回路からの基準電圧を比較し、比較結果に応じて前記出力ドライバの動作を制御するための比較回路をもつ定電圧発生回路を備えた電源装置において、
前記基準電圧発生回路として請求項1から8のいずれかに記載の基準電圧発生回路を備えていることを特徴とする電源装置。
An output driver for controlling the output of the input voltage, a divided resistor circuit for dividing the output voltage and supplying a divided voltage, a reference voltage generating circuit for supplying a reference voltage, and a divided voltage from the divided resistor circuit In a power supply device comprising a constant voltage generation circuit having a comparison circuit for comparing the reference voltage from the reference voltage generation circuit and controlling the operation of the output driver according to the comparison result,
A power supply apparatus comprising the reference voltage generation circuit according to claim 1 as the reference voltage generation circuit.
基準電圧発生回路からの基準電圧に基づいて動作する発振回路からの発振出力に基づく内臓スイッチの切替え動作によりコンデンサに電荷を充放電させることで電流を流すチャージポンプ方式のDC/DCコンバータを備えた電源装置において、
前記基準電圧発生回路として請求項1から8のいずれかに記載の基準電圧発生回路を備えていることを特徴とする電源装置。
A charge pump type DC / DC converter is provided that allows current to flow by charging / discharging a capacitor by switching operation of a built-in switch based on an oscillation output from an oscillation circuit that operates based on a reference voltage from a reference voltage generation circuit. In power supply,
A power supply apparatus comprising the reference voltage generation circuit according to claim 1 as the reference voltage generation circuit.
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