JP4396197B2 - Electro-optical device and electrical equipment - Google Patents

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Description

本発明は、電気光学装置および電気機器に関する。特に、コントラストや視角特性等に優れた電気光学装置および電気機器に関する。   The present invention relates to an electro-optical device and an electric apparatus. In particular, the present invention relates to an electro-optical device and an electrical apparatus that are excellent in contrast, viewing angle characteristics, and the like.

携帯電話等の普及に伴い、高精細な画像表示が可能な液晶表示装置が望まれている。
例えば、コントラストが十分で、しかも良好な黒表示を得ることができるノーマリーブラックモードの液晶表示装置が提案されている。すなわち、ノーマリーブラックモードの液晶表示装置は、ノーマリーホワイトモードの液晶表示装置と異なり、非電圧印加状態の際に、光の透過率が最も小さくなって、画素を黒色認識させる構成になっている。
より具体的には、図18に示すように、液晶素子310の液晶分子が初期のツイスト配向状態にあるときに光の透過率が最も小さくなるように吸収軸319a,320aの方向を設定し、配置された一対の偏光板319,320のうちの、前側偏光板319との間に、液晶素子310のリタデーションの値とほぼ等しい値で、且つ液晶素子310のリタデーションの波長依存性に対して逆の波長依存性を有するリタデーションをもつねじれ位相板321を配置し、さらにねじれ位相板321と、このねじれ位相板321に隣接する前側偏光板319との間に、位相差板327を、その遅相軸327aを前側偏光板319の吸収軸319aに対して斜めにずらして配置した液晶表示装置が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
With the spread of mobile phones and the like, a liquid crystal display device capable of displaying high-definition images is desired.
For example, a normally black mode liquid crystal display device has been proposed that has sufficient contrast and can provide a good black display. That is, the normally black mode liquid crystal display device is different from the normally white mode liquid crystal display device in that the light transmittance is the smallest when no voltage is applied, and the pixel is recognized as black. Yes.
More specifically, as shown in FIG. 18, the directions of the absorption axes 319a and 320a are set so that the light transmittance is minimized when the liquid crystal molecules of the liquid crystal element 310 are in the initial twist alignment state. Between the disposed polarizing plates 319 and 320 and the front polarizing plate 319, the retardation value of the liquid crystal element 310 is approximately equal to the retardation value, and the retardation of the liquid crystal element 310 is opposite to the wavelength dependence. A twisted phase plate 321 having a retardation having a wavelength dependency of the phase difference plate 321 is disposed, and a retardation plate 327 is provided between the twisted phase plate 321 and the front polarizing plate 319 adjacent to the twisted phase plate 321, and its retardation phase A liquid crystal display device in which the shaft 327a is arranged obliquely with respect to the absorption shaft 319a of the front polarizing plate 319 is disclosed (for example, see Patent Document 1).

また、認識される画像表示の視角特性を向上させるために、対向する基板上におけるいずれかの透明電極に、所定の開口部を形成した液晶表示装置が提案されている。より具体的には、図19に示すように、表示の単位となる絵素領域は液晶分子が軸対称配向する複数のサブ絵素領域を有するとともに、液晶層を挟持する第1電極および第2電極の少なくとも一方は、絵素領域内に規則的に配置された複数の開口部424aを有し、サブ絵素領域は、多角形の角および辺の少なくとも一方に開口部424aを有するサブ電極領域450で規定され、サブ電極領域450の端辺の少なくとも1つは、該絵素電極424の端辺の少なくとも1つと一致させてなる液晶表示装置が開示されている(例えば、特許文献2参照)。
特開2001−188232号公報 (特許請求の範囲) 特許第3386374号公報 (特許請求の範囲)
In addition, in order to improve the viewing angle characteristics of the recognized image display, a liquid crystal display device in which a predetermined opening is formed in any transparent electrode on the opposing substrate has been proposed. More specifically, as shown in FIG. 19, the picture element region serving as a display unit has a plurality of sub picture element regions in which liquid crystal molecules are axially symmetrically aligned, and the first electrode and the second electrode sandwiching the liquid crystal layer. At least one of the electrodes has a plurality of openings 424a regularly arranged in the pixel region, and the sub-pixel region has a sub-electrode region having an opening 424a at at least one of a polygon corner and a side. A liquid crystal display device is disclosed in which at least one of the end sides of the sub-electrode region 450 is matched with at least one of the end sides of the pixel electrode 424 (see, for example, Patent Document 2). .
JP 2001-188232 A (Claims) Japanese Patent No. 3386374 (Claims)

しかしながら、開示されたノーマリーブラックモードの液晶表示装置の場合、電気配線の線幅(W)や、その電気配線と、透明電極との間の距離(S)を何ら考慮していないために、液晶分子が所定方向に配向しないという配向不良が生じやすいという問題が見られた。
特に、特許文献2に開示された液晶表示装置のような、垂直配向モードの液晶表示装置の場合、配線(データ線)と画素電極との間に十分な距離が確保されていないと、データ線の電圧の影響により、液晶分子の配向制御を行うことができないという問題が見られた。
However, in the case of the disclosed normally black mode liquid crystal display device, the line width (W) of the electrical wiring and the distance (S) between the electrical wiring and the transparent electrode are not considered at all. There has been a problem that alignment defects such that liquid crystal molecules are not aligned in a predetermined direction are likely to occur.
In particular, in the case of a liquid crystal display device in a vertical alignment mode such as the liquid crystal display device disclosed in Patent Document 2, if a sufficient distance is not secured between the wiring (data line) and the pixel electrode, the data line There was a problem that the orientation of the liquid crystal molecules could not be controlled due to the influence of the voltage.

そこで、本発明は、上記問題点を解決するものであり、第1の基板および第2の基板に対して実質的に垂直に配向している電気光学物質を封入してなる電気光学装置等において、第2の基板の配線の線幅(W)や、その配線と第2の電極との間の距離(S)の関係をそれぞれ制限することにより、適確に配向制御を行うことが可能になり、コントラストや視角特性に優れた電気光学装置および電気機器をそれぞれ提供することを目的としている。   Accordingly, the present invention solves the above-described problems, and in an electro-optical device or the like in which an electro-optical material oriented substantially perpendicular to the first substrate and the second substrate is enclosed. By properly limiting the line width (W) of the wiring on the second substrate and the distance (S) between the wiring and the second electrode, the orientation can be controlled accurately. Therefore, it is an object to provide an electro-optical device and an electrical apparatus that are excellent in contrast and viewing angle characteristics.

本発明によれば、一対の第1の基板と、第2の基板との間に、電気光学物質を封入してなる電気光学装置であって、前記電気光学物質は、前記第1の基板および第2の基板に対して実質的に垂直に配向しており、前記第1の基板は、第1の電極を備え、前記第2の基板は、第2の電極を備えるとともに、当該第2の電極に対応して設けられたスイッチング素子と、当該スイッチング素子を介して、前記第2の電極に信号を供給するための配線とを備え、前記配線の線幅をW(μm)とし、当該配線と、前記第2の電極との間の距離をS(μm)としたときに、前記配線の線幅(W)を0.1〜0.7μmの範囲内の値とし、S/W>1の関係を満足することを特徴とする電気光学装置が提供され、上述した問題点を解決することができる。
なお、第2の基板の配線と、第2の電極との間の距離(S)は、当該配線から第2の電極へ直線を引いたと想定した場合における直線の最短距離を意味している。
According to the present invention, there is provided an electro-optical device in which an electro-optical material is sealed between a pair of first substrates and a second substrate, wherein the electro-optical material includes the first substrate and the second substrate. Oriented substantially perpendicular to the second substrate, wherein the first substrate comprises a first electrode, the second substrate comprises a second electrode, and the second substrate A switching element provided corresponding to the electrode, and a wiring for supplying a signal to the second electrode through the switching element, wherein the wiring has a line width of W (μm), and the wiring When the distance between the second electrode and the second electrode is S (μm), the line width (W) of the wiring is set to a value within the range of 0.1 to 0.7 μm, and S / W> 1 An electro-optical device characterized by satisfying the above relationship is provided, and the above-described problems can be solved.
Note that the distance (S) between the wiring of the second substrate and the second electrode means the shortest distance of the straight line when it is assumed that a straight line is drawn from the wiring to the second electrode.

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第2の基板における配線と、第2の電極との間の距離(S)を2.5〜7μmの範囲内の値とすることが好ましい。   In configuring the electro-optical device of the present invention, it is preferable to set the distance (S) between the wiring on the second substrate and the second electrode to a value in the range of 2.5 to 7 μm.

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第2の基板の配線の線幅(W)を0.1〜0.7μmの範囲内の値とすることが好ましい。   In configuring the electro-optical device of the present invention, it is preferable to set the line width (W) of the wiring of the second substrate to a value within the range of 0.1 to 0.7 μm.

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、スイッチング素子は、二端子型非線形素子であることが好ましい。   In configuring the electro-optical device of the present invention, the switching element is preferably a two-terminal nonlinear element.

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の基板は、画素領域において電気光学物質の配向を規制するための配向規制手段を備えることが好ましい。   In configuring the electro-optical device according to the present invention, it is preferable that at least one of the first substrate and the second substrate includes an alignment regulating unit for regulating the orientation of the electro-optic material in the pixel region. .

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、配向規制手段は、第1の電極および第2の電極の少なくとも一方の電極に設けられたスリットを含むことが好ましい。   In configuring the electro-optical device of the present invention, it is preferable that the orientation regulating means includes a slit provided in at least one of the first electrode and the second electrode.

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第1の基板は第1の配向膜を有し、第2の基板は第2の配向膜を有するとともに、配向規制手段は、第1の配向膜および第2の配向膜の少なくとも一方の表面に設けられた凸部を含むことが好ましい。   In configuring the electro-optical device of the present invention, the first substrate has the first alignment film, the second substrate has the second alignment film, and the alignment regulating means has the first alignment film. It is preferable to include a convex portion provided on at least one surface of the film and the second alignment film.

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第1の基板は第1の配向膜を有し、第2の基板は第2の配向膜を有するとともに、配向規制手段は、第1の配向膜および第2の配向膜の少なくとも一方の配向膜の表面に設けられた凹部を含むことが好ましい。   In configuring the electro-optical device of the present invention, the first substrate has the first alignment film, the second substrate has the second alignment film, and the alignment regulating means has the first alignment film. It is preferable to include a recess provided on the surface of at least one of the film and the second alignment film.

また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置を備えた電気機器である。   Another embodiment of the present invention is an electric apparatus including any one of the above-described electro-optical devices.

本発明の電気光学装置によれば、第2の基板の配線(電気配線)の線幅(W)と、第2の電極までの距離(S)との関係を制限することにより、配向不良を有効に防止して、コントラストや視角特性に優れた電気光学装置を提供することができる。   According to the electro-optical device of the present invention, the alignment defect is reduced by limiting the relationship between the line width (W) of the wiring (electric wiring) of the second substrate and the distance (S) to the second electrode. It is possible to provide an electro-optical device that is effectively prevented and has excellent contrast and viewing angle characteristics.

また、本発明の電気光学装置によれば、第2の基板における配線(電気配線)と、第2の電極と、の間の距離(S)を所定範囲内の値とすることにより、配向不良を確実に防止できるとともに、電気光学装置用基板の配線の引き回しや、製造自体についても容易に実施することができる。   In addition, according to the electro-optical device of the present invention, the distance (S) between the wiring (electric wiring) on the second substrate and the second electrode is set to a value within a predetermined range, thereby causing poor alignment. Can be surely prevented, and the wiring of the electro-optical device substrate and the manufacturing itself can be easily performed.

また、本発明の電気光学装置によれば、配線(電気配線)の線幅(W)を所定範囲内の値とすることにより、配向不良を確実に防止できるとともに、電気光学装置用基板の配線の引き回しや、製造自体についても容易に実施することができる。   In addition, according to the electro-optical device of the present invention, by setting the line width (W) of the wiring (electric wiring) to a value within a predetermined range, it is possible to reliably prevent orientation failure and to wire the substrate for the electro-optical device. It is also possible to easily carry out the routing and manufacture itself.

また、本発明の電気光学装置によれば、スイッチング素子を、二端子型非線形素子とすることにより、さらにコントラストに優れた画像表示を認識することができる。   In addition, according to the electro-optical device of the present invention, it is possible to recognize an image display with further excellent contrast by using a two-terminal nonlinear element as the switching element.

また、本発明の電気光学装置によれば、画素領域において所定の配向規制手段を備えることにより、視角特性に優れた画像表示を認識することができる。   In addition, according to the electro-optical device of the present invention, it is possible to recognize an image display excellent in viewing angle characteristics by providing a predetermined alignment regulating means in the pixel region.

また、本発明の電気光学装置によれば、配向規制手段が、第1の電極および第2の電極の少なくとも一方の電極に設けられたスリットを含むことにより、例えば、斜め電界を生じさせて、容易に配向制御することができ、優れた視角特性を示す画像表示を得ることができる。   In addition, according to the electro-optical device of the present invention, the orientation regulating means includes a slit provided in at least one of the first electrode and the second electrode, thereby generating an oblique electric field, for example, Orientation can be easily controlled, and an image display showing excellent viewing angle characteristics can be obtained.

また、本発明の電気光学装置によれば、配向規制手段が、所定の配向膜の表面に設けられた凸部を含むことにより、容易に配向制御をすることができ、優れた視角特性を示す画像表示を得ることができる。   In addition, according to the electro-optical device of the present invention, the alignment regulating means includes a convex portion provided on the surface of the predetermined alignment film, so that the alignment can be easily controlled and exhibits excellent viewing angle characteristics. An image display can be obtained.

また、本発明の電気光学装置によれば、配向規制手段が、所定の配向膜の表面に設けられた凹部を含むことにより、容易に配向制御をすることができ、優れた視角特性を示す画像表示を得ることができる。   In addition, according to the electro-optical device of the present invention, the alignment regulating means includes the concave portion provided on the surface of the predetermined alignment film, so that the alignment can be easily controlled and an image having excellent viewing angle characteristics. An indication can be obtained.

また、本発明の電気機器によれば、上述したいずれかの電気光学装置を備えることにより、薄型で、コントラストや視角特性に優れた電気光学装置を利用した電気機器を効率的に提供することができる。   In addition, according to the electric apparatus of the present invention, it is possible to efficiently provide an electric apparatus using the electro-optical device that is thin and excellent in contrast and viewing angle characteristics by including any of the electro-optical devices described above. it can.

以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置、および電気機器に関する実施形態について具体的に説明する。
ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
Embodiments relating to an electro-optical device and an electric apparatus according to the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.
However, this embodiment shows one aspect of the present invention and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the present invention.

[第1実施形態]
第1実施形態は、図1に例示されるように、一対の第1の基板12と、第2の基板14との間に、電気光学物質232を封入してなる電気光学装置10であって、
電気光学物質232は、第1の基板12および第2の基板14に対して実質的に垂直に配向しており、
第1の基板12は、第1の電極19を備え、
第2の基板14は、第2の電極20を備えるとともに、当該第2の電極20に対応して設けられたスイッチング素子31と、当該スイッチング素子31を介して、第2の電極20に信号を供給するための配線26とを備え、
配線26の線幅をW(μm)とし、当該配線と、第2の電極20との間の距離をS(μm)としたときに、S/W>1の関係を満足することを特徴とする電気光学装置10である。
なお、図1(a)は、第1実施形態の電気光学装置を垂直方向に透視した平面図を示し、図1(b)は、図1(a)中のAA断面を矢印方向に見た断面図を示し、特に説明を要しないものについては適宜省略されている。
以下、カラーフィルタ基板(第1の基板)12、二端子型非線形素子としてのTFD素子31を備えた対向基板(第2の基板)14、およびそれらを用いた液晶表示装置を例に採って説明する。
[First Embodiment]
As illustrated in FIG. 1, the first embodiment is an electro-optical device 10 in which an electro-optical material 232 is sealed between a pair of first substrates 12 and a second substrate 14. ,
The electro-optic material 232 is oriented substantially perpendicular to the first substrate 12 and the second substrate 14;
The first substrate 12 includes a first electrode 19,
The second substrate 14 includes the second electrode 20, a switching element 31 provided corresponding to the second electrode 20, and a signal to the second electrode 20 via the switching element 31. Wiring 26 for supplying,
When the line width of the wiring 26 is W (μm) and the distance between the wiring and the second electrode 20 is S (μm), the relationship of S / W> 1 is satisfied. The electro-optical device 10.
1A is a plan view of the electro-optical device according to the first embodiment seen through in the vertical direction, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. Sectional views are shown, and those not particularly needing explanation are omitted as appropriate.
Hereinafter, a color filter substrate (first substrate) 12, a counter substrate (second substrate) 14 provided with a TFD element 31 as a two-terminal nonlinear element, and a liquid crystal display device using them will be described as an example. To do.

1.液晶表示装置の基本構造
まず、図2〜図4を参照して、本発明の第1実施形態の電気光学装置としての液晶表示装置の基本構造、すなわち、セル構造や配線、あるいは位相差板および偏光板について具体的に説明する。なお、図2は、本発明に係る第1実施形態の電気光学装置としての液晶表示装置に使用される液晶パネル200を示す概略斜視図であり、図3は、液晶パネル200の概略断面図であり、図4は、アクティブマトリクス(TFD)の配線例を示す図である。
また、図2に示される液晶パネル200は、二端子型非線形素子としてのTFD素子(Thin Film Diode)31を用いたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネル200であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることにより、液晶表示装置となる。
1. Basic Structure of Liquid Crystal Display First, with reference to FIGS. 2 to 4, the basic structure of a liquid crystal display as an electro-optical device according to the first embodiment of the present invention, that is, a cell structure and wiring, or a retardation plate and The polarizing plate will be specifically described. 2 is a schematic perspective view showing a liquid crystal panel 200 used in the liquid crystal display device as the electro-optical device according to the first embodiment of the invention. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal panel 200. FIG. 4 is a diagram illustrating a wiring example of an active matrix (TFD).
A liquid crystal panel 200 shown in FIG. 2 is a liquid crystal panel 200 having an active matrix type structure using a TFD element (Thin Film Diode) 31 as a two-terminal type non-linear element. A liquid crystal display device is obtained by appropriately attaching an illumination device such as a light or a case body as necessary.

(1)セル構造
図2に示すように、液晶パネル200は、ガラス板や合成樹脂板等からなる透明な第1のガラス基板13を基体とする第1の基板(カラーフィルタ基板)12と、これに対向配置される第2のガラス基板27を基体とする第2の基板(対向基板)14とが、接着剤等のシール材230を介して貼り合わせられていることが好ましい。そして、カラーフィルタ基板12と、対向基板14とが形成する空間であって、シール材230の内側部分に対して、開口部230aを介して液晶分子を注入した後、封止材231にて封止されてなるセル構造を備えていることが好ましい。
すなわち、図3の液晶パネル200の概略断面図に示すように、カラーフィルタ基板12と対向基板14との間に、液晶分子232が充填されていることが好ましい。
(1) Cell Structure As shown in FIG. 2, the liquid crystal panel 200 includes a first substrate (color filter substrate) 12 having a transparent first glass substrate 13 made of a glass plate, a synthetic resin plate, or the like as a base, It is preferable that a second substrate (counter substrate) 14 having a second glass substrate 27 disposed opposite thereto as a base is bonded through a sealing material 230 such as an adhesive. Then, liquid crystal molecules are injected into the space formed by the color filter substrate 12 and the counter substrate 14 into the inner portion of the sealing material 230 through the opening 230a, and then sealed with the sealing material 231. It is preferable to have a cell structure that is stopped.
That is, as shown in the schematic cross-sectional view of the liquid crystal panel 200 in FIG. 3, it is preferable that the liquid crystal molecules 232 are filled between the color filter substrate 12 and the counter substrate 14.

(2)配線
図2に示すように、第2のガラス基板27の内面(第1のガラス基板13に対向する表面)上に、マトリクス状の第2の電極20を形成し、第1のガラス基板13の内面(第2のガラス基板27に対向する表面)上には、複数のストライプ状の第1の電極19を形成することが好ましい。
また、第2の電極20を、TFD素子31を介して配線(電気配線)26に対して導電接続するとともに、もう一方の第1の電極19を、電気配線26´に対して導電接続することが好ましい。
そして、第2の電極20と、第1の電極19との交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として液晶表示領域Aを構成することになる。
また、図4に、ドライバICおよびTFD素子を用いたアクティブマトリクスの具体的な配線例を示す。すなわち、Y方向に延在する複数の配線(データ線)26と、X方向に延在する複数の第1の電極(走査線)19とから構成されており、各交差部分において画素50が構成されている。また、各画素50において、液晶表示要素51と、TFD素子31とが直列接続されている。
(2) Wiring As shown in FIG. 2, the second electrode 20 in the form of a matrix is formed on the inner surface of the second glass substrate 27 (the surface facing the first glass substrate 13), and the first glass A plurality of striped first electrodes 19 are preferably formed on the inner surface of the substrate 13 (the surface facing the second glass substrate 27).
In addition, the second electrode 20 is conductively connected to the wiring (electrical wiring) 26 via the TFD element 31, and the other first electrode 19 is conductively connected to the electric wiring 26 '. Is preferred.
Then, a large number of pixels in which the intersecting regions of the second electrode 20 and the first electrode 19 are arranged in a matrix form, and the arrangement of the large number of pixels constitutes the liquid crystal display region A as a whole. become.
FIG. 4 shows a specific wiring example of an active matrix using a driver IC and a TFD element. That is, it is composed of a plurality of wirings (data lines) 26 extending in the Y direction and a plurality of first electrodes (scanning lines) 19 extending in the X direction. Has been. In each pixel 50, a liquid crystal display element 51 and a TFD element 31 are connected in series.

また、図2に示すように、第2のガラス基板27は、第1のガラス基板13の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部14Tを有し、この基板張出部14T上には、配線(データ線)26、電気配線26´、および、独立して形成された複数の配線パターンからなる入力端子部219が形成されていることが好ましい。
また、基板張出部14T上には、これら配線26、26´および入力端子部219に対して導電接続されるように、駆動回路等を内蔵した半導体素子(IC)261が実装されていることが好ましい。
さらに、基板張出部14Tの端部には、入力端子部219に導電接続されるように、フレキシブル配線基板110が実装されていることが好ましい。
Further, as shown in FIG. 2, the second glass substrate 27 has a substrate overhanging portion 14T that projects outward from the outer shape of the first glass substrate 13, and on the substrate overhanging portion 14T, The wiring (data line) 26, the electrical wiring 26 ', and the input terminal portion 219 composed of a plurality of wiring patterns formed independently are preferably formed.
Also, a semiconductor element (IC) 261 with a built-in drive circuit and the like is mounted on the substrate overhanging portion 14T so as to be conductively connected to the wirings 26, 26 'and the input terminal portion 219. Is preferred.
Furthermore, it is preferable that the flexible wiring board 110 is mounted on the end portion of the board extension part 14T so as to be conductively connected to the input terminal part 219.

(3)位相差板および偏光板
図2に示される液晶パネル200において、図3に示すように、第1のガラス基板13の所定位置に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板(1/4波長板)250および偏光板251が配置されていることが好ましい。
そして、第2のガラス基板27の外面においても、位相差板(1/4波長板)240および偏光板241が配置されていることが好ましい。
(3) Phase difference plate and polarizing plate In the liquid crystal panel 200 shown in FIG. 2, as shown in FIG. 3, the phase difference plate is used so that a clear image display can be recognized at a predetermined position of the first glass substrate 13. (Quarter wave plate) 250 and polarizing plate 251 are preferably disposed.
Also on the outer surface of the second glass substrate 27, it is preferable that a retardation plate (¼ wavelength plate) 240 and a polarizing plate 241 are disposed.

2.カラーフィルタ基板(第1の基板)
(1)基本的構成
カラーフィルタ基板12は、図3に示すように、基本的に、ガラス基板13と、着色層16と、第1の電極19と、から構成してあることが好ましい。
また、カラーフィルタ基板12において、反射機能が必要な場合、例えば、携帯電話等に使用される半透過反射型の液晶表示装置においては、ガラス基板13と、着色層16との間に、図3に示すように、反射層(半透過反射板)212を設けることが好ましい。
さらに、カラーフィルタ基板12において、図3に示すように、画素毎に着色層16が形成され、その上をアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなる平坦化層(表面保護層、オーバーコート層)215により、被覆してあることが好ましい。したがって、この着色層16と平坦化層(表面保護層)215とによってカラーフィルタが形成されることになる。さらに、電気絶縁性を向上させるための絶縁層(図示せず。)を設けることも好ましい。
2. Color filter substrate (first substrate)
(1) Basic Configuration As shown in FIG. 3, the color filter substrate 12 is preferably basically composed of a glass substrate 13, a colored layer 16, and a first electrode 19.
Further, when the color filter substrate 12 needs a reflection function, for example, in a transflective liquid crystal display device used for a mobile phone or the like, a gap between the glass substrate 13 and the colored layer 16 is shown in FIG. As shown, it is preferable to provide a reflective layer (semi-transmissive reflective plate) 212.
Further, in the color filter substrate 12, as shown in FIG. 3, a colored layer 16 is formed for each pixel, and a flattening layer (surface protective layer, overcoat layer) made of a transparent resin such as an acrylic resin or an epoxy resin is formed thereon. ) 215. Therefore, a color filter is formed by the colored layer 16 and the planarizing layer (surface protective layer) 215. It is also preferable to provide an insulating layer (not shown) for improving electrical insulation.

(2)着色層
また、図3に示す着色層16は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてR(赤)、G(緑)、B(青)の3色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Y(イエロー)、M(マゼンダ)、C(シアン)等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
かかる着色層は、通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ技術(エッチング法)によって不要部分を欠落させることによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成することができる。そして、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
また、着色層の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
(2) Colored layer In addition, the colored layer 16 shown in FIG. 3 is usually made to exhibit a predetermined color tone by dispersing colorants such as pigments and dyes in a transparent resin. An example of the color tone of the colored layer is a primary color filter composed of a combination of three colors R (red), G (green), and B (blue), but is not limited to this. ), M (magenta), C (cyan), and other various color tones.
Such a colored layer usually has a predetermined color by applying a colored resist made of a photosensitive resin containing a coloring material such as a pigment or a dye on the surface of the substrate, and removing unnecessary portions by a photolithography technique (etching method). A colored layer having a pattern can be formed. And when forming the colored layer of a some color tone, the said process is repeated.
In addition, a stripe arrangement is often used as the arrangement pattern of the colored layers, but various pattern shapes such as an oblique mosaic arrangement and a delta arrangement can be adopted in addition to the stripe arrangement.

(3)第1の電極
図3に示すように、平坦化層215の上に、ITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体からなる第1の電極19を形成することが好ましい。かかる第1の電極19は、ストライプ状であって、それが複数個並列した構成であることが好ましい。また、アクティブマトリクス配線においては、かかる第1の電極19が、走査線を構成することになる。
(3) First Electrode As shown in FIG. 3, the first electrode 19 made of a transparent conductor such as ITO (indium tin oxide) is preferably formed on the planarization layer 215. It is preferable that the first electrode 19 has a stripe shape and a plurality of the first electrodes 19 are arranged in parallel. Further, in the active matrix wiring, the first electrode 19 constitutes a scanning line.

また、図5(a)に例示されるように、第2の基板14におけるTFD素子31と、第1の基板における第1の電極19とを、鉛直方向に透視した場合に、それぞれが重ならないように配置してあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、第1の基板における第1の電極19と、第2の基板におけるTFD素子31との間の距離を、所定値以上の値とすることができるためである。したがって、第1の基板と、第2の基板とを近接して対向配置した場合や、押圧されて近接した場合であっても、第1の基板における第1の電極19と、第2の基板におけるTFD素子31との間でリーク電流が発生し、電圧が印加状態となることを防いで、画像欠陥の発生を有効に防止することができるためである。
なお、このように第1の基板における第1の電極19を、第2の基板におけるTFD素子31の位置を考慮して、それに重ならないように配置することも好ましい。さらには、第2の基板におけるTFD素子31を、第1の基板における第1の電極(走査線)19の位置を考慮して、それと重ならないように配置することも好ましい。
Further, as illustrated in FIG. 5A, when the TFD element 31 on the second substrate 14 and the first electrode 19 on the first substrate are seen through in the vertical direction, they do not overlap each other. It is preferable that they are arranged as described above.
This is because the distance between the first electrode 19 on the first substrate and the TFD element 31 on the second substrate can be set to a value greater than or equal to a predetermined value by configuring in this way. It is. Therefore, even when the first substrate and the second substrate are arranged close to each other and opposed to each other, or when pressed and brought close to each other, the first electrode 19 on the first substrate and the second substrate This is because a leak current is generated between the TFD element 31 and a voltage applied state, and image defects can be effectively prevented.
In addition, it is also preferable to arrange the first electrode 19 on the first substrate so as not to overlap with the position of the TFD element 31 on the second substrate. Furthermore, it is also preferable that the TFD element 31 on the second substrate is arranged so as not to overlap with the position of the first electrode (scanning line) 19 on the first substrate.

また、図6(a)〜(c)に例示されるように、第1の基板における第1の電極19には、電気光学物質(液晶分子)の配向規制手段としての第1のスリット41が設けてあるとともに、当該第1のスリット41の平面形状を実質的に円形とすることが好ましい。
この理由は、このような第1のスリットを形成することにより、液晶分子の配向方向を容易に制御して、視角特性に優れた画像表示を得ることができるためである。また、かかる第1のスリットの平面形状を実質的に円形とすることにより、全方位に対して視角特性に優れた画像表示を得ることができるためである。
ここで、第1のスリットを形成した場合の液晶分子の配向制御については、以下のようになされる。すなわち、液晶層において電圧非印加状態では、液晶分子は、例えば、垂直配向膜によって、垂直方向に配向する。一方、液晶層において電圧印加状態になると、図7に示すように、負の誘電異方性を有する液晶分子は、その長軸が電気力線Eに対して垂直になるように配向する。そして、第1のスリット41の周辺における電気力線Eは、垂直方向対して傾くために、第1のスリット41の周辺の液晶分子は、第1のスリット41を中心に放射状に倒れるように配向することとなる。よって、あらゆる方向からの画像表示の視認に対しても、優れた画像表示を認識することができる。
Moreover, as illustrated in FIGS. 6A to 6C, the first electrode 19 in the first substrate has a first slit 41 as an electro-optical substance (liquid crystal molecule) alignment regulating unit. In addition, the planar shape of the first slit 41 is preferably substantially circular.
The reason for this is that by forming such a first slit, it is possible to easily control the alignment direction of the liquid crystal molecules and obtain an image display excellent in viewing angle characteristics. In addition, by making the planar shape of the first slit substantially circular, it is possible to obtain an image display excellent in viewing angle characteristics with respect to all directions.
Here, the alignment control of the liquid crystal molecules when the first slit is formed is performed as follows. That is, when no voltage is applied to the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules are aligned in the vertical direction by, for example, a vertical alignment film. On the other hand, when a voltage is applied to the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules having negative dielectric anisotropy are aligned so that the major axis is perpendicular to the electric lines of force E, as shown in FIG. Since the electric lines of force E around the first slit 41 are inclined with respect to the vertical direction, the liquid crystal molecules around the first slit 41 are oriented so as to fall radially around the first slit 41. Will be. Therefore, it is possible to recognize an excellent image display even when the image display is viewed from all directions.

また、第1の基板12における第1の電極19に設ける第1のスリット41の数は特に制限されるものではく、図6(a)に示すように、画素領域それぞれに対して1個設けることも好ましく、図6(b)〜(c)に示すように、画素領域それぞれに対して複数個設けることも好ましい。
ただし、第2の電極(画素電極)の形状と相俟って、一つの画素領域においてバランスよく配向制御して、全方位に対して視角特性を向上させることができることから、図6(c)に示すように、画素領域それぞれに対して3個設けることがより好ましい。
Further, the number of the first slits 41 provided in the first electrode 19 in the first substrate 12 is not particularly limited, and one is provided for each pixel region as shown in FIG. It is also preferable, and as shown in FIGS. 6B to 6C, it is also preferable to provide a plurality of pixel regions.
However, in combination with the shape of the second electrode (pixel electrode), it is possible to improve the viewing angle characteristics with respect to all directions by controlling the orientation in a balanced manner in one pixel region. As shown in FIG. 4, it is more preferable to provide three for each pixel region.

また、図8(a)〜(b)に示されるように、第2の基板14における配線26の位置に対応させて、第1の基板12における第1の電極(走査線)19の周囲を絶縁処理することが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、第1の基板12と、第2の基板14とを近接して対向配置した場合であっても、対向する配線26と、第1の電極19との間での、リーク電流の発生を防いで、優れた電気絶縁性を示すことができるためである。したがって、電気光学装置を薄型化して構成した場合であっても、画像欠陥の発生を有効に防止することができる。
Further, as shown in FIGS. 8A to 8B, the periphery of the first electrode (scanning line) 19 on the first substrate 12 is made corresponding to the position of the wiring 26 on the second substrate 14. Insulating treatment is preferable.
The reason for this is that, even when the first substrate 12 and the second substrate 14 are arranged close to each other and arranged in opposition to each other, the opposing wiring 26 and the first electrode 19 This is because it is possible to prevent the occurrence of leakage current between the two and exhibit excellent electrical insulation. Therefore, even when the electro-optical device is configured to be thin, image defects can be effectively prevented.

また、第1の基板12における第1の電極19の一部を絶縁処理して、絶縁処理部33を設けるにあたり、絶縁抵抗(体積抵抗)を1×105〜1×1012Ω・cmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる絶縁処理部33における絶縁抵抗が1×105Ω・cm未満の値になると、第1の基板12と、第2の基板14とを近接して配置した場合に、配線26と、第1の電極19との間でリーク電流が発生し易くなる場合があるためである。一方、かかる絶縁抵抗が1×1012Ω・cmを超えると、絶縁処理部33に使用可能な絶縁処理材の種類が過度に制限される場合があるためである。
また、第1の基板12における第1の電極19の一部を絶縁処理するにあたり、当該絶縁処理方法は特に制限されるものではないが、例えば、図8(b)に示すように、絶縁性樹脂を塗布したり、あるいは、電気配線の端部に対して、絶縁性フィルム等の絶縁処理材を積層したりすることが好ましい。
なお、絶縁性樹脂を使用する場合、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂を使用することが好ましい。
また、絶縁処理材を使用する場合、エポキシ樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂等からなる高絶縁性樹脂からなる絶縁性フィルムを使用することがより好ましい。
In addition, when a part of the first electrode 19 in the first substrate 12 is insulated to provide the insulation processing part 33, the insulation resistance (volume resistance) is 1 × 10 5 to 1 × 10 12 Ω · cm. A value within the range is preferable.
This is because, when the insulation resistance in the insulation processing unit 33 is less than 1 × 10 5 Ω · cm, when the first substrate 12 and the second substrate 14 are arranged close to each other, the wiring 26 This is because a leak current may easily occur between the first electrode 19 and the first electrode 19. On the other hand, if the insulation resistance exceeds 1 × 10 12 Ω · cm, the type of insulation treatment material that can be used for the insulation treatment portion 33 may be excessively limited.
In addition, the insulating process method is not particularly limited when insulating a part of the first electrode 19 in the first substrate 12. For example, as shown in FIG. It is preferable to apply a resin or to laminate an insulating treatment material such as an insulating film on the end of the electric wiring.
In addition, when using insulating resin, it is preferable to use thermosetting resins, such as an epoxy resin, a urethane resin, a silicone resin, a polyester resin, a phenol resin.
Also, when using insulation treatment materials, insulation made of highly insulating resin such as epoxy resin, polysulfone resin, polycarbonate resin, polyether ether ketone resin, polyimide resin, fluorine resin, silicone resin, polyester resin, phenol resin, etc. It is more preferable to use a film.

(4)反射層
また、図3に示すように、第1のガラス基板13の表面には、反射層212が形成されていることが好ましい。この反射層212は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などからなる金属薄膜と、から構成することが好ましい。また、反射層212には、画素毎に、反射面を有する反射部212rと、開口部212aとが設けられていることが好ましい。
そして、例えば、携帯電話等に使用される半透過反射型の液晶表示装置においては、図3に示すように、ガラス基板13と、着色層16との間に、反射膜(半透過反射板)212を設けることが好ましい。
(4) Reflective Layer As shown in FIG. 3, it is preferable that a reflective layer 212 is formed on the surface of the first glass substrate 13. The reflective layer 212 is preferably composed of a metal thin film made of aluminum, aluminum alloy, chromium, chromium alloy, silver, silver alloy, or the like. The reflective layer 212 is preferably provided with a reflective portion 212r having a reflective surface and an opening 212a for each pixel.
For example, in a transflective liquid crystal display device used for a mobile phone or the like, as shown in FIG. 3, a reflective film (semitransmissive reflector) is provided between the glass substrate 13 and the colored layer 16. 212 is preferably provided.

(5)配向膜(第1の配向膜)
また、図3に示すように、第1の電極19の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜217が形成されていることが好ましい。
この理由は、このように配向膜217を設けることにより、カラーフィルタ基板12を液晶表示装置等に使用した場合に、電気光学物質(液晶分子)の配向駆動を電圧印加によって容易に実施することができるためである。
なお、電気光学物質に対して斜め電界領域を発生させるなど、配向制御を行う場合、特定の電気光学物質(液晶分子)を使用するのみならず、図7に示すような、垂直配向膜217、224等の特定の配向膜材料を通常使用することから、配向膜におけるラビング処理を不要とすることができる。したがって、ラビング処理の際の配向膜における劣化を容易に防止することができる。
(5) Alignment film (first alignment film)
Further, as shown in FIG. 3, an alignment film 217 made of polyimide resin or the like is preferably formed on the first electrode 19.
The reason for this is that by providing the alignment film 217 as described above, when the color filter substrate 12 is used in a liquid crystal display device or the like, the alignment drive of the electro-optical material (liquid crystal molecules) can be easily performed by applying a voltage. This is because it can.
In addition, when performing alignment control such as generating an oblique electric field region with respect to the electro-optical material, not only a specific electro-optical material (liquid crystal molecules) is used, but also a vertical alignment film 217 as shown in FIG. Since a specific alignment film material such as 224 is normally used, rubbing treatment in the alignment film can be eliminated. Therefore, it is possible to easily prevent the alignment film from being deteriorated during the rubbing process.

また、図9(a)に示すように、第1の配向膜217には、配向規制手段としての凸部217aが形成されていることが好ましい。この理由は、このような凸部を形成することにより、液晶分子の配向方向を制御して、視角特性に優れた画像表示を得ることができるためである。
ここで、配向膜の一部に凸部を形成した場合の液晶分子の配向制御については、以下のようになる。すなわち、例えば、第1の基板の配向膜には凸部を形成し、第2の基板の画素電極には、後述する第2のスリットを形成した場合に、図10(a)に示すように、電圧を印加しない状態では、液晶分子232は第1の基板12および第2の基板14に対して垂直に配向する。ここで、中間の電圧を印加すると、図10(b)に示すように、画素電極20における第2のスリット45で、第2の基板14に対して斜めの電界が発生する。また、配向膜217における凸部217aの近傍の液晶分子232は、電圧無印加の状態からわずかに傾斜する。この凸部217aの傾斜面と、斜め電界との影響で液晶分子232の傾斜方向が決定され、凸部217aと、第2のスリット45との真ん中で、液晶分子232の配向方向が分割される。この時、例えば真下から真上に透過する光Aは、液晶分子232が多少傾斜しているため、若干の複屈折の影響を受け、透過が抑えられ、グレイの中間調表示が得られる。また、右下から左上に透過する光Bは、液晶分子232が左方向に傾斜した領域では透過しにくく、右方向に傾斜した領域では透過しやすく、平均するとグレイの中間調表示が得られる。一方、左下から右上に透過する光Cも、同様の原理でグレイ表示となり、全方位で均一な表示が得られる。さらに、図10(c)に示すように、所定の電圧を印加すると液晶分子232はほぼ水平になり、白表示が得られる。したがって、黒、中間調、白の表示状態のすべての状態において、視角特性に優れた表示が得られる。
Further, as shown in FIG. 9A, the first alignment film 217 is preferably provided with a convex portion 217a as an alignment regulating means. The reason for this is that by forming such a convex portion, it is possible to control the alignment direction of the liquid crystal molecules and obtain an image display excellent in viewing angle characteristics.
Here, the alignment control of the liquid crystal molecules when a convex portion is formed on a part of the alignment film is as follows. That is, for example, when a convex portion is formed in the alignment film of the first substrate and a second slit described later is formed in the pixel electrode of the second substrate, as shown in FIG. In a state where no voltage is applied, the liquid crystal molecules 232 are aligned perpendicular to the first substrate 12 and the second substrate 14. Here, when an intermediate voltage is applied, an oblique electric field is generated with respect to the second substrate 14 at the second slit 45 in the pixel electrode 20 as shown in FIG. In addition, the liquid crystal molecules 232 in the alignment film 217 near the protrusions 217a are slightly inclined from the state where no voltage is applied. The inclination direction of the liquid crystal molecules 232 is determined by the influence of the inclined surface of the convex portion 217a and the oblique electric field, and the alignment direction of the liquid crystal molecules 232 is divided in the middle between the convex portion 217a and the second slit 45. . At this time, for example, the light A that is transmitted from directly below to above is slightly affected by the birefringence because the liquid crystal molecules 232 are slightly tilted, so that the transmission is suppressed and a gray halftone display is obtained. Further, the light B transmitted from the lower right to the upper left is difficult to transmit in the region where the liquid crystal molecules 232 are inclined in the left direction, and is easily transmitted in the region inclined in the right direction. On average, a gray halftone display is obtained. On the other hand, the light C transmitted from the lower left to the upper right is also displayed in gray on the same principle, and a uniform display can be obtained in all directions. Further, as shown in FIG. 10C, when a predetermined voltage is applied, the liquid crystal molecules 232 become substantially horizontal, and a white display is obtained. Therefore, a display with excellent viewing angle characteristics can be obtained in all of the black, halftone, and white display states.

一方、図9(b)に示すように、配向膜217には、凸部と同様、液晶分子232の配向方向を制御して、視角特性を向上させることができることから、配向規制手段としての凹部217bが形成されていることも好ましい。
なお、この場合の液晶分子の配向制御の仕組みについては、上述の凸部を形成した場合と同様であるために、説明は省略する。
On the other hand, as shown in FIG. 9B, the alignment film 217 has a concave portion as an alignment regulating means because the viewing angle characteristic can be improved by controlling the alignment direction of the liquid crystal molecules 232 in the same manner as the convex portion. It is also preferable that 217b is formed.
Note that the mechanism for controlling the alignment of the liquid crystal molecules in this case is the same as that in the case where the above-described convex portions are formed, and thus description thereof is omitted.

3.対向基板(第2の基板)
(1)基本構造
また、図1および図3に示すように、カラーフィルタ基板12と対向するもう一方の対向基板(第2の基板)14は、ガラス等からなる第2のガラス基板27上に、配線26と、TFD素子31と、第2の電極20と、を順次積層させたものである。
なお、第1実施形態の電気光学装置の例では、着色層16が、第1のガラス基板13に設けてあるが、着色層16を、対向基板14の第2のガラス基板27上に設けることも好ましい。
3. Counter substrate (second substrate)
(1) Basic Structure As shown in FIGS. 1 and 3, the other counter substrate (second substrate) 14 facing the color filter substrate 12 is placed on a second glass substrate 27 made of glass or the like. The wiring 26, the TFD element 31, and the second electrode 20 are sequentially stacked.
In the example of the electro-optical device according to the first embodiment, the colored layer 16 is provided on the first glass substrate 13. However, the colored layer 16 is provided on the second glass substrate 27 of the counter substrate 14. Is also preferable.

(2)配線(電気配線)
また、第2の基板には、図1(a)〜(b)に示すように、配線26を設けることが好ましい。かかる配線26は、図2に示すようにストライプ状であって、複数個が並列した構成であることが好ましい。なお、アクティブマトリクス型構造においては、かかる配線26が、データ線としての機能を果たすことになる。
ここで、第2の基板14の配線26の線幅をW(μm)とし、当該配線26と、第2のスリット45が形成してある第2の電極20との間の距離をS(μm)としたときに、S/W>1の関係を満足することを特徴としている。すなわち、第2の基板の配線の線幅(W)が過度に大きかったり、当該配線と、第2の電極との距離(S)が過度に短かったりすると、配線の電圧の影響が生じるためである。すなわち、配線に所定電圧が印加されると、第1の電極との間で印加状態となって液晶分子の配向性に影響を与え、白色表示となったり、視角特性を低下させたりするためである。
したがって、S/Wで表される値を1.1以上とすることがより好ましく、1.3以上とすることがさらに好ましい。
(2) Wiring (electrical wiring)
Moreover, it is preferable to provide the wiring 26 on the second substrate as shown in FIGS. Such a wiring 26 is preferably striped as shown in FIG. 2 and a plurality of wirings 26 are arranged in parallel. In the active matrix structure, the wiring 26 functions as a data line.
Here, the line width of the wiring 26 of the second substrate 14 is W (μm), and the distance between the wiring 26 and the second electrode 20 in which the second slit 45 is formed is S (μm). ) Satisfies the relationship of S / W> 1. That is, if the line width (W) of the wiring of the second substrate is excessively large, or if the distance (S) between the wiring and the second electrode is excessively short, the influence of the voltage of the wiring occurs. is there. That is, when a predetermined voltage is applied to the wiring, it is applied between the first electrode and affects the orientation of the liquid crystal molecules, resulting in a white display and a decrease in viewing angle characteristics. is there.
Therefore, the value represented by S / W is more preferably 1.1 or more, and further preferably 1.3 or more.

また、第2の基板における配線の線幅(W)を0.1〜0.7μmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる配線の線幅(W)が0.1μm未満の値になると、断線しやすくなったり、精度良く形成することが困難になったりする場合があるためである。一方、かかる配線の線幅(W)が0.7μmを超えると、画素電極としての第2の電極20との間の電気絶縁性が著しく低下したり、液晶分子の配向不良が生じたりする場合があるためである。
したがって、第2の基板における配線の線幅(W)を0.2〜0.6μmの範囲内の値とすることがより好ましい。
The line width (W) of the wiring in the second substrate is preferably set to a value in the range of 0.1 to 0.7 μm.
This is because when the line width (W) of the wiring is less than 0.1 μm, it may be easy to break or it may be difficult to form with high accuracy. On the other hand, when the line width (W) of the wiring exceeds 0.7 μm, the electrical insulation with the second electrode 20 as the pixel electrode is remarkably deteriorated, or alignment failure of liquid crystal molecules occurs. Because there is.
Therefore, it is more preferable to set the line width (W) of the wiring in the second substrate to a value within the range of 0.2 to 0.6 μm.

(3)スイッチング素子
スイッチング素子は、二端子型非線形素子であることが好ましい。この二端子型非線形素子としては、図11(a)〜(b)に例示するように、TFD素子31a、31bが典型的である。
かかるTFD素子31a、31bは、素子第1電極(第1金属膜)24、絶縁膜23、および素子第2電極(第2金属膜)22、25からなるサンドイッチ構成を有することが好ましい。ここで、第1金属膜24や第2金属膜22、25としては、タンタル(Ta)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)や、クロム(Cr)等が挙げられる。また、絶縁膜23としては、このような金属材料を陽極酸化させて構成してあることが好ましい。例えば、酸化タンタル(Ta25)、酸化アルミニウム(Al23)等が具体的に挙げられる。
そして、正負方向のダイオードスイッチング特性を示し、しきい値以上の電圧が、第1金属膜24および第2金属膜25の両端子間に印加されると導通状態となるアクティブ素子である。
なお、TFD素子以外にも、図12にその配線例を示すように、TFT(薄膜トランジスタ)素子のような非線形素子を使用することもできる。
(3) Switching element The switching element is preferably a two-terminal nonlinear element. As this two-terminal nonlinear element, TFD elements 31a and 31b are typical as illustrated in FIGS. 11 (a) to 11 (b).
The TFD elements 31a and 31b preferably have a sandwich configuration including the element first electrode (first metal film) 24, the insulating film 23, and the element second electrodes (second metal film) 22 and 25. Here, examples of the first metal film 24 and the second metal films 22 and 25 include tantalum (Ta), titanium (Ti), aluminum (Al), and chromium (Cr). The insulating film 23 is preferably configured by anodizing such a metal material. Specific examples include tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) and aluminum oxide (Al 2 O 3 ).
The active element exhibits diode switching characteristics in positive and negative directions and becomes conductive when a voltage equal to or higher than a threshold is applied between both terminals of the first metal film 24 and the second metal film 25.
In addition to the TFD element, a nonlinear element such as a TFT (thin film transistor) element can also be used as shown in the wiring example in FIG.

また、二端子型非線形素子の構成に関して、図11(a)に示すように、二個のTFD素子31a、31bを用いた場合、第1の電極(走査線)19または配線(データ線)26と、画素電極20との間に介在するように、第2のガラス基板27上に形成するとともに、反対のダイオード特性を有する第1のTFD素子31bおよび第2のTFD素子31aから構成してあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、印加する電圧波形として、交流を使用することができ、液晶表示装置等における液晶分子の劣化を防止することができるためである。すなわち、液晶分子の劣化を防止するために、ダイオードスイッチング特性が、正負方向において対称的であることが望まれ、図11(a)に例示するように、二個のTFD素子31a、31bを逆向きに直列接続することにより、交流を使用することができるためである。
また、第1のTFD素子31bは、図11(b)に示すように、配線から分岐した部分に相当する第2金属膜25と、絶縁膜23と、第1金属膜24と、がこの順に積層されて構成されていることが好ましい。一方、第2のTFD素子31aは、同様に、画素電極20に電気接続された第2金属膜22と、絶縁膜23と、第1金属膜24と、がこの順に積層されて構成されていることが好ましい。
さらに、第1のTFD素子31bおよび第2のTFD素子31aにおいて、それぞれ別個の第2金属膜22、25が設けてあるが、絶縁膜23および第1金属膜24は、それぞれ共通していることが好ましい。
Further, regarding the configuration of the two-terminal nonlinear element, as shown in FIG. 11A, when two TFD elements 31a and 31b are used, the first electrode (scanning line) 19 or the wiring (data line) 26 is used. Are formed on the second glass substrate 27 so as to be interposed between the pixel electrode 20 and the first TFD element 31b and the second TFD element 31a having opposite diode characteristics. It is preferable.
This is because, with this configuration, alternating current can be used as a voltage waveform to be applied, and deterioration of liquid crystal molecules in a liquid crystal display device or the like can be prevented. That is, in order to prevent the deterioration of the liquid crystal molecules, it is desired that the diode switching characteristics be symmetric in the positive and negative directions. As illustrated in FIG. 11A, the two TFD elements 31a and 31b are reversed. This is because alternating current can be used by connecting in series in the direction.
Further, as shown in FIG. 11B, the first TFD element 31b includes a second metal film 25 corresponding to a portion branched from the wiring, an insulating film 23, and a first metal film 24 in this order. It is preferable that they are stacked. On the other hand, the second TFD element 31a is similarly configured by laminating a second metal film 22 electrically connected to the pixel electrode 20, an insulating film 23, and a first metal film 24 in this order. It is preferable.
Furthermore, the first TFD element 31b and the second TFD element 31a have separate second metal films 22 and 25, respectively, but the insulating film 23 and the first metal film 24 are common to each other. Is preferred.

また、TFD素子の配置に関して、第2の基板の配線の線幅をW(μm)とし、TFD素子と、第2の電極と、の間の距離をL(μm)としたときに、L/W>1の関係を満足することが好ましい。
この理由は、第2の基板の配線の線幅(W)を基準として、TFD素子と、第2の電極との距離(W)が過度に短いと、TFD素子の電圧の影響が生じるためである。すなわち、第1の電極との間で印加状態となって液晶分子の配向性に影響を与え、白色表示となったり、視角特性を低下させたりするためである。
したがって、L/Wで表される値を1.1以上とすることがより好ましく、1.3以上とすることがさらに好ましい。
なお、第2の基板のTFD素子と、第2の電極との間の距離(L)は、TFD素子から第2の電極へ直線を引いたと想定した場合における、当該直線の最短距離を意味している。また、この場合のTFD素子とは、第1金属膜と、第2金属膜との、交差領域を意味している。
Further, regarding the arrangement of the TFD element, when the line width of the wiring of the second substrate is W (μm) and the distance between the TFD element and the second electrode is L (μm), L / It is preferable to satisfy the relationship of W> 1.
This is because, if the distance (W) between the TFD element and the second electrode is excessively short with reference to the line width (W) of the wiring of the second substrate, the voltage of the TFD element is affected. is there. That is, it is applied to the first electrode to affect the orientation of the liquid crystal molecules, resulting in white display or a reduction in viewing angle characteristics.
Therefore, the value represented by L / W is more preferably 1.1 or more, and further preferably 1.3 or more.
Note that the distance (L) between the TFD element of the second substrate and the second electrode means the shortest distance of the straight line when it is assumed that a straight line is drawn from the TFD element to the second electrode. ing. In addition, the TFD element in this case means an intersection region between the first metal film and the second metal film.

(4)第2の電極
また、図1等に示すように、第2の基板14上には、画素電極として、ITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体からなる第2の電極20を形成することが好ましい。
また、図6(a)〜(c)に例示されるように、第2の電極20の内部や端部に、第2のスリット45を設けることが好ましい。
この理由は、このように第2のスリット45を設けることにより、第1の基板における第1の電極19に形成された第1のスリット41と相俟って、液晶分子の配向方向を制御して、視角特性に優れた画像表示を得ることができるためである。
なお、第2の電極20の端部に、第2のスリット45を設けることにより、電気光学物質に対して配向制御を容易かつ精度良く行うことができることから、より好ましい態様である。
(4) Second Electrode As shown in FIG. 1 and the like, a second electrode 20 made of a transparent conductor such as ITO (indium tin oxide) is provided on the second substrate 14 as a pixel electrode. It is preferable to form.
In addition, as illustrated in FIGS. 6A to 6C, it is preferable to provide the second slit 45 inside or at the end of the second electrode 20.
The reason for this is that by providing the second slit 45 in this way, the alignment direction of the liquid crystal molecules is controlled in combination with the first slit 41 formed in the first electrode 19 in the first substrate. This is because an image display excellent in viewing angle characteristics can be obtained.
Note that providing the second slit 45 at the end of the second electrode 20 makes it possible to easily and accurately control the alignment of the electro-optic material, which is a more preferable mode.

また、第2の電極(画素電極)20を形成するにあたり、第2のスリット45との関係において、図6(c)に示すように、複数円が部分的に重なった形状とすることが好ましい。すなわち、電気光学装置を垂直方向に透視した場合に、第1の基板における第1の電極19に設けられた第1のスリット41を中心とした複数円が、部分的に重なった形状とすることが好ましい。
この理由は、第2の電極をこのような形状とすることにより、全方位に対して視角特性に優れた画像表示を得ることができるためである。したがって、あらゆる方向からの視認に対して、優れた画像表示を認識することができる。
In forming the second electrode (pixel electrode) 20, it is preferable that a plurality of circles partially overlap each other as shown in FIG. 6C in relation to the second slit 45. . That is, when the electro-optical device is seen through in the vertical direction, a plurality of circles centered on the first slit 41 provided in the first electrode 19 in the first substrate are partially overlapped. Is preferred.
This is because the second electrode having such a shape can obtain an image display excellent in viewing angle characteristics with respect to all directions. Therefore, it is possible to recognize an excellent image display with respect to visual recognition from all directions.

第2の電極(画素電極)に関して、第2の基板の配線(データ線)から、第2の電極までの距離(S)と、第2の基板の配線の線幅(W)と、の関係を所定範囲に制限することにより、電気光学物質に対して配向制御を行う場合に、第2の基板の配線の電位に起因した配向不良を有効に防止することができる。
すなわち、第2の基板の配線の線幅をW(μm)とし、当該配線と、第2の電極と、の間の距離をS(μm)としたときに、S/W>1の関係を満足するように配線および第2の電極を形成することを特徴とする。
この理由は、このような関係を満足することにより、第2の基板の配線に所定電圧が印加されていたとしても、画素電極である第2の電極上の液晶分子の配向性に対して、悪影響を及ぼすことが少なくなるためである。したがって、配向不良を効果的に防止し、コントラストに優れた電気光学装置を提供することができる。
Regarding the second electrode (pixel electrode), the relationship between the distance (S) from the wiring (data line) of the second substrate to the second electrode and the line width (W) of the wiring of the second substrate By limiting the range to a predetermined range, it is possible to effectively prevent alignment failure caused by the potential of the wiring of the second substrate when the alignment control is performed on the electro-optic material.
That is, when the line width of the wiring of the second substrate is W (μm) and the distance between the wiring and the second electrode is S (μm), the relationship of S / W> 1 is established. The wiring and the second electrode are formed so as to be satisfied.
The reason for this is that, by satisfying such a relationship, even if a predetermined voltage is applied to the wiring of the second substrate, the orientation of the liquid crystal molecules on the second electrode as the pixel electrode is This is because adverse effects are reduced. Accordingly, it is possible to provide an electro-optical device that effectively prevents alignment failure and has excellent contrast.

また、第2の基板における配線(データ線)と、第2の電極(画素電極)と、の間の距離(S)を2.5〜7μmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このような範囲内の値であれば、配向不良を確実に防止できるとともに、配線の引き回しや、製造自体についても容易に実施することができるためである。すなわち、かかる距離(S)が2.5μm未満の値になると、配線に印加されている電圧が、画素電極である第2の電極上の液晶分子の配向性に悪影響を及ぼし、配向不良を生じる場合があるためである。一方、かかる距離(S)が7μmを超えると、液晶分子の配向性に悪影響を及ぼすことは少なくなるものの、画素電極の面積が相対的に減少して、画像情報を認識することが困難になる場合があるためである。
したがって、第2の基板における配線(データ線)と、第2の電極(画素電極)と、の間の距離(S)を3〜6μmの範囲内の値とすることがより好ましく、3.5〜5μmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
The distance (S) between the wiring (data line) and the second electrode (pixel electrode) in the second substrate is preferably set to a value in the range of 2.5 to 7 μm.
This is because, if the value is within such a range, orientation failure can be reliably prevented and wiring can be routed and manufacturing itself can be easily performed. That is, when the distance (S) is less than 2.5 μm, the voltage applied to the wiring adversely affects the alignment of the liquid crystal molecules on the second electrode, which is a pixel electrode, and causes alignment failure. This is because there are cases. On the other hand, when the distance (S) exceeds 7 μm, the orientation of the liquid crystal molecules is less adversely affected, but the area of the pixel electrode is relatively reduced, making it difficult to recognize image information. This is because there are cases.
Therefore, the distance (S) between the wiring (data line) on the second substrate and the second electrode (pixel electrode) is more preferably set to a value in the range of 3 to 6 μm. More preferably, the value is in the range of ˜5 μm.

(5)配向膜(第2の配向膜)
また、図3に示すように、画素電極20上には、第1の基板12における第1の配向膜と同様のポリイミド樹脂等からなる第2の配向膜224が形成されていることが好ましい。
そして、第2の配向膜においても、第1の配向膜と同様に、配向規制手段としての凸部あるいは凹部を設けることが好ましい。
(5) Alignment film (second alignment film)
Further, as shown in FIG. 3, it is preferable that a second alignment film 224 made of the same polyimide resin or the like as the first alignment film on the first substrate 12 is formed on the pixel electrode 20.
And also in the 2nd alignment film, it is preferable to provide the convex part or recessed part as an orientation control means similarly to the 1st alignment film.

4.ノーマリーブラックモード
第1実施形態の電気光学装置は、電圧非印加状態で黒表示を示す、いわゆるノーマリーブラックモードの電気光学装置(液晶表示装置)であることが好ましい。すなわち、このような電気光学装置であれば、画素領域以外の領域を容易に光不透過状態とすることができるためである。また、それぞれの画素面積を拡大させた場合であっても、隣接する画素間での混色を容易に防止することができるためである。したがって、第2の基板における配線に沿った位置等の、リーク電流が発生する恐れのある箇所以外において、遮光層を形成することなく、明るく、コントラストに優れた画像表示を得ることができるためである。
4). Normally Black Mode The electro-optical device of the first embodiment is preferably a so-called normally black mode electro-optical device (liquid crystal display device) that displays black when no voltage is applied. That is, with such an electro-optical device, it is possible to easily make a region other than the pixel region non-transparent. Further, even when the area of each pixel is enlarged, color mixing between adjacent pixels can be easily prevented. Therefore, it is possible to obtain a bright and excellent contrast image display without forming a light-shielding layer at a location other than a portion where leakage current may occur, such as a position along the wiring on the second substrate. is there.

5.製造方法
第1実施形態の電気光学装置の製造方法の一例を、図13〜図16を適宜参照しながら説明する。
5). Manufacturing Method An example of a method for manufacturing the electro-optical device according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 13 to 16 as appropriate.

(1)第1の基板の製造
(1)−1 カラーフィルタの形成
図13(a)に示すように、第1基板上には、画像表示領域に相当する箇所に、反射層212、および黒色遮光層(ブラックマトリクス)18を順次形成することが好ましい。
ここで、開口部212aを備えた反射層212は、蒸着法やスパッタリング法にて金属材料等を基板上に被着させた後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより形成される。また、黒色遮光層(ブラックマトリクス)18は、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって形成する。
また、着色層16についても、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を、反射層212等の上に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによっても形成することができる。
なお、複数の色の着色層16を配列形成する場合には、色毎に上記工程を繰り返すことになる。
(1) Production of First Substrate (1) -1 Formation of Color Filter As shown in FIG. 13A, on the first substrate, a reflective layer 212 and a black color are provided at locations corresponding to image display areas. It is preferable to sequentially form the light shielding layer (black matrix) 18.
Here, the reflective layer 212 provided with the opening 212a is formed by depositing a metal material or the like on the substrate by a vapor deposition method or a sputtering method, and then patterning using a photolithography technique. Further, the black light shielding layer (black matrix) 18 is formed by applying a photosensitive resin made of a transparent resin or the like in which a coloring material such as a pigment or a dye is dispersed, and sequentially performing pattern exposure and development processing thereon.
For the colored layer 16, a photosensitive resin made of a transparent resin or the like in which a coloring material such as a pigment or a dye is dispersed is applied on the reflective layer 212 or the like, and pattern exposure and development processing are sequentially performed thereon. Can also be formed.
In addition, when forming the colored layer 16 of several colors in an array, the said process is repeated for every color.

(1)−2 透光保護層の形成
次いで、図13(b)に示すように、第1基板12上に全面的に透光保護層215Xを形成する。この透光保護層215Xは、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布され、乾燥、光硬化、熱硬化などの適宜の手段で硬化される。塗布方法としては、スピンコート法や印刷法などを用いることができる。
次いで、上記透光保護層215Xに、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングを施し、図13(c)に示すように、画像表示領域に限定された平坦化層215を形成する。この工程によって、透光保護層215Xから画像表示領域以外の領域、すなわち、図3に示すシール材230の外側に配置される領域とほぼ同じ領域上から透光性素材が欠落される。
(1) -2 Formation of Translucent Protection Layer Next, as illustrated in FIG. 13B, a translucent protection layer 215 </ b> X is formed on the entire surface of the first substrate 12. This translucent protective layer 215X can be made of, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, an imide resin, a fluororesin, or the like. These resins are applied onto a substrate in an uncured state having fluidity, and are cured by appropriate means such as drying, photocuring, and thermosetting. As a coating method, a spin coating method, a printing method, or the like can be used.
Next, the light transmitting protective layer 215X is patterned by using a photolithography technique to form a planarization layer 215 limited to the image display region as shown in FIG. By this step, the translucent material is omitted from the translucent protective layer 215X from the area other than the image display area, that is, from the almost same area as the area disposed outside the sealant 230 shown in FIG.

(1)−3 第1の電極の形成
次いで、図13(d)に示すように、平坦化層215上に、全面的にITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体材料からなる透明導電層19Xを形成することが好ましい。この透明導電層19Xは、一例として、スパッタリング法により成膜することができる。
そして、透明導電層19Xに対して、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングを施し、図13(e)に示すように第1の電極19、を形成することが好ましい。このとき、第1の電極19には、それぞれの画素領域に対応させて、1個または複数個の第1のスリットを形成することが好ましい。
以下、透明導電層19Xの形成に関して、配置工程、および絶縁処理工程に分けてそれぞれ説明する。
(1) -3 Formation of First Electrode Next, as shown in FIG. 13 (d), a transparent conductor made entirely of a transparent conductor material such as ITO (indium tin oxide) is formed on the planarizing layer 215. It is preferable to form the layer 19X. The transparent conductive layer 19X can be formed by sputtering, for example.
Then, it is preferable to pattern the transparent conductive layer 19X using a photolithography technique to form the first electrode 19 as shown in FIG. At this time, it is preferable to form one or a plurality of first slits in the first electrode 19 so as to correspond to the respective pixel regions.
Hereinafter, the formation of the transparent conductive layer 19 </ b> X will be described separately for the disposing process and the insulating process.

(1)−4 第1の電極の配置工程
第1の基板における第1の電極を形成するにあたり、第1の基板上に、着色層と、遮光層としてのブラックマトリクスと、第1の電極と、を順次に形成するとともに、第2の基板における素子第1電極の位置を考慮して、それと重ならないように、第1の電極をずらしたり、平行移動させたりすることが好ましい。
すなわち、第1の基板と、第2の基板とを対向配置した場合に、第1の電極と、第2の基板における素子第1電極の端部との間の距離が比較的離れていることから、薄型化が容易な電気光学装置を効率的に製造することができる。
ただし、後述するように、第1の基板における第1の電極については、通常どおり形成し、第2の基板における素子第1電極の形成位置を考慮して、第1の基板と、第2の基板とを対向配置した場合に、第1の当面電極と、第2の基板における素子第1電極のいずれかの端部とが重ならないように配置することがより好ましい。
(1) -4 Arrangement Step of First Electrode In forming the first electrode on the first substrate, a colored layer, a black matrix as a light shielding layer, a first electrode, and the first electrode are formed on the first substrate. Are sequentially formed, and the position of the element first electrode on the second substrate is taken into consideration, and the first electrode is preferably shifted or translated so as not to overlap.
That is, when the first substrate and the second substrate are arranged to face each other, the distance between the first electrode and the end of the element first electrode on the second substrate is relatively large. Thus, an electro-optical device that can be easily reduced in thickness can be efficiently manufactured.
However, as described later, the first electrode on the first substrate is formed as usual, and the first substrate and the second electrode are formed in consideration of the formation position of the element first electrode on the second substrate. In the case where the substrate is disposed to face the substrate, it is more preferable that the first current electrode and the first substrate electrode on the second substrate are disposed so as not to overlap each other.

(1)−5 第1の電極の絶縁処理工程
第1の基板における第1の電極の絶縁処理工程を設けて、対向する第2の基板における素子第1電極の端部と、第1の基板における第1の電極と、の間の絶縁抵抗を所定値以上の値にすることが好ましい。
すなわち、第1の基板における第1の電極を形成した後に、第2の基板における素子第1電極のいずれかの端部位置に対応させて、絶縁処理を施すことが好ましい。
なお、このように実施することにより、第1の基板と、第2の基板とを対向配置した場合に、優れた絶縁特性が得られるとともに、薄型化が容易な電気光学装置を効率的に製造することができる。
(1) -5 Insulating treatment process of first electrode Provided with an insulating treatment process of the first electrode in the first substrate, the end of the element first electrode in the second substrate facing each other, and the first substrate It is preferable to set the insulation resistance between the first electrode and the first electrode to a value equal to or greater than a predetermined value.
That is, it is preferable that after forming the first electrode on the first substrate, an insulating treatment is performed in correspondence with the position of any one end of the element first electrode on the second substrate.
By carrying out in this way, when the first substrate and the second substrate are arranged to face each other, an excellent optical characteristic can be obtained and an electro-optical device that can be easily thinned is efficiently manufactured. can do.

(2)第2の基板の製造
(2)−1 素子第1電極の形成
図14(a)〜図15(b)に示すように、第2の基板のガラス基板27上に、金属膜24を形成する工程である。この金属膜24は、例えば、タンタルから構成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。また、この金属膜24の厚さはTFD素子の用途等に対応して、適宜変更することができるが、通常、100〜500nmの範囲内の値とすることが好ましい。
また、図示しないが、金属膜24の形成前に、第2の基板14のガラス基板27上に、酸化タンタル(Ta25)等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。この理由は、第2の基板14のガラス基板27と、金属膜24との間に、このように絶縁膜を形成することにより、ガラス基板27に対する金属膜24の密着力を著しく向上させることができるとともに、ガラス基板27から金属膜24への不純物の拡散を効率的に抑制することができるためである。
(2) Production of Second Substrate (2) -1 Formation of Element First Electrode As shown in FIGS. 14A to 15B, a metal film 24 is formed on a glass substrate 27 of the second substrate. Is a step of forming. The metal film 24 is made of, for example, tantalum and can be formed using a sputtering method or an electron beam evaporation method. Further, the thickness of the metal film 24 can be changed as appropriate in accordance with the application of the TFD element and the like, but it is usually preferable to set the thickness within a range of 100 to 500 nm.
Although not shown, it is also preferable to form an insulating film made of tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) or the like on the glass substrate 27 of the second substrate 14 before forming the metal film 24. This is because the adhesion of the metal film 24 to the glass substrate 27 is remarkably improved by forming the insulating film between the glass substrate 27 of the second substrate 14 and the metal film 24 in this way. This is because the diffusion of impurities from the glass substrate 27 to the metal film 24 can be efficiently suppressed.

次いで、図15(c)に示すように、第1の金属膜24の表面を陽極酸化法によって酸化させることにより、酸化膜23を形成することが好ましい。より具体的には、第1の金属膜24が形成されたガラス基板27を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、第1の金属膜24との間に所定電圧を印加して、第1の金属膜24の表面を酸化させることが好ましい。
なお、酸化膜23の厚さはTFD素子の用途等に対応して、適宜変更することができるが、通常、10〜50nmの範囲内の値とすることが好ましい。
Next, as shown in FIG. 15C, the oxide film 23 is preferably formed by oxidizing the surface of the first metal film 24 by an anodic oxidation method. More specifically, after immersing the glass substrate 27 on which the first metal film 24 is formed in an electrolyte such as a citric acid solution, a predetermined gap is provided between the electrolyte and the first metal film 24. It is preferable to oxidize the surface of the first metal film 24 by applying a voltage.
The thickness of the oxide film 23 can be appropriately changed according to the use of the TFD element and the like, but it is usually preferable to set the thickness within a range of 10 to 50 nm.

次いで、図16(a)に示すように、酸化膜23が形成された第1の金属膜24を、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングして、その一部を素子第1電極24とすることが好ましい。
なお、素子第1電極24を形成するにあたり、第2の基板における素子第1電極のいずれかの端部と、第1の基板における第1の電極とを鉛直方向に透視した場合に、それぞれが重ならないように配置することが好ましい。すなわち、第1の基板における第1の電極については、通常どおり形成し、第2の基板における素子第1電極の形成位置を考慮することが好ましい。
この理由は、既に上述したように、図1に例示する第1の基板12における第1の電極19と、第2の基板14における素子第1電極24の端部との間の距離を比較的離すことができるためである。したがって、それぞれ近接して対向配置した場合であっても、第1の基板12と、第2の基板14に形成された対向する電極間で、リーク電流の発生を防いで、優れた電気絶縁性を示すことができる。
Next, as shown in FIG. 16A, the first metal film 24 on which the oxide film 23 is formed is patterned by using a photolithography technique, and a part thereof is used as the element first electrode 24. preferable.
In forming the element first electrode 24, when one end of the element first electrode on the second substrate and the first electrode on the first substrate are seen through in the vertical direction, It is preferable to arrange so that they do not overlap. That is, it is preferable to form the first electrode on the first substrate as usual and consider the formation position of the element first electrode on the second substrate.
As described above, the reason is that the distance between the first electrode 19 in the first substrate 12 illustrated in FIG. 1 and the end of the element first electrode 24 in the second substrate 14 is relatively long. This is because they can be separated. Therefore, even when the electrodes are arranged close to each other, leakage current is prevented from being generated between the opposing electrodes formed on the first substrate 12 and the second substrate 14, and excellent electrical insulation is achieved. Can be shown.

(2)−2 素子第2電極の形成
次いで、図示しないが、再び、スパッタリング法等により、素子第1電極としての第1金属膜24上に、全面的に金属膜を形成し、それをフォトリソグラフィ技術を用いて、パターニングすることにより、図16(b)に示すように、素子第2電極としての第2金属膜22、25を形成することが好ましい。
(2) -2 Formation of Element Second Electrode Next, although not shown, a metal film is again formed on the entire surface of the first metal film 24 as the element first electrode by a sputtering method or the like, and this is formed into a photo film. As shown in FIG. 16B, it is preferable to form second metal films 22 and 25 as element second electrodes by patterning using a lithography technique.

(2)−3 第2の電極の形成
次いで、図示しないが、スパッタリング法等により、ITO(インジウムスズ酸化物等)等の透明導電体材料からなる透明導電層を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより、図16(c)に示すように、第2の電極(画素電極)20を形成することが好ましい。また、このとき同時に、第2の電極の端部には、図16(c)に示すように、電気光学物質の配向制御をするための第2のスリットを形成することが好ましい。このような第2のスリットを形成することにより、視角特性に優れた画像表示が得られる電気光学装置を効率的に製造することができる。
(2) -3 Formation of Second Electrode Although not shown, after forming a transparent conductive layer made of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide or the like) by sputtering or the like, photolithography technology is used. It is preferable to form the second electrode (pixel electrode) 20 as shown in FIG. At the same time, it is preferable that a second slit for controlling the orientation of the electro-optic material is formed at the end of the second electrode as shown in FIG. By forming such a second slit, it is possible to efficiently manufacture an electro-optical device that can display an image with excellent viewing angle characteristics.

[第2実施形態]
本発明に係る第2実施形態として、第1実施形態の電気光学装置を備えた電気機器について具体的に説明する。
[Second Embodiment]
As a second embodiment according to the present invention, an electric apparatus including the electro-optical device according to the first embodiment will be specifically described.

図17は、本実施形態の電気機器の全体構成を示す概略構成図である。この電気機器は、液晶パネル200と、これを制御するための制御手段1200とを有している。また、図17中では、液晶パネル200を、パネル構造体200Aと、半導体素子(IC)等で構成される駆動回路200Bと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段1200は、表示情報出力源1210と、表示処理回路1220と、電源回路1230と、タイミングジェネレータ1240とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源1210は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ1240によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路1220に供給するように構成されていることが好ましい。
FIG. 17 is a schematic configuration diagram illustrating the overall configuration of the electrical apparatus according to the present embodiment. This electrical apparatus has a liquid crystal panel 200 and a control means 1200 for controlling the liquid crystal panel 200. In FIG. 17, the liquid crystal panel 200 is conceptually divided into a panel structure 200 </ b> A and a drive circuit 200 </ b> B composed of a semiconductor element (IC) or the like. The control unit 1200 preferably includes a display information output source 1210, a display processing circuit 1220, a power supply circuit 1230, and a timing generator 1240.
The display information output source 1210 includes a memory such as a ROM (Read Only Memory) or a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as a magnetic recording disk or an optical recording disk, and a tuning unit that tunes and outputs digital image signals. It is preferable that the display information is supplied to the display information processing circuit 1220 in the form of an image signal of a predetermined format based on various clock signals generated by the timing generator 1240.

また、表示情報処理回路1220は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKと共に駆動回路200Bへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路200Bは、走査線駆動回路、データ線駆動回路および検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路1230は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電気機器であれば、第2の基板における配線と、第2の電極との距離を所定範囲に制限していることから、適確に配向制御を行うことができ、コントラストが高く、視角特性に優れた画面表示とすることができる。
The display information processing circuit 1220 includes various known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information. It is preferable to supply the image information to the driving circuit 200B together with the clock signal CLK. Further, the driving circuit 200B preferably includes a scanning line driving circuit, a data line driving circuit, and an inspection circuit. The power supply circuit 1230 has a function of supplying a predetermined voltage to each of the above-described components.
And if it is the electric equipment of this embodiment, since the distance of the wiring in the 2nd board | substrate and the 2nd electrode is restrict | limited to the predetermined range, orientation control can be performed appropriately and contrast And a screen display excellent in viewing angle characteristics.

本発明によれば、適確に配向制御を行うことができ、コントラストが高く、視角特性に優れた画像表示を実現できるために、電気光学物質として液晶分子を用いた電気光学装置や電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた電子機器、電子放出素子(FED:Field Emission DisplayやSCEED:Surface-Conduction Electron-Emitter Display)などが挙げられる。   According to the present invention, an orientation control can be performed accurately, and an image display with high contrast and excellent viewing angle characteristics can be realized. Therefore, an electro-optical device or an electronic apparatus using liquid crystal molecules as an electro-optical material, For example, mobile phones and personal computers, liquid crystal televisions, viewfinder type / monitor direct view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electrophoresis devices, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, video phones, Examples include POS terminals, electronic devices equipped with touch panels, and electron-emitting devices (FED: Field Emission Display and SCEED: Surface-Conduction Electron-Emitter Display).

さらに、本発明の電気光学装置および電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネルは単純マトリクス型の構造を備えているが、TFT(薄膜トランジスタ)やTFD(薄膜ダイオード)等のアクティブ素子(能動素子)を用いたアクティブマトリクス方式の電気光学装置にも適用することができる。
また、上記実施形態の液晶パネルは所謂COGタイプの構造を有しているが、半導体素子(ICチップ)を直接実装する構造ではない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線基板やTAB基板を接続するように構成されたものであっても構わない。
Furthermore, the electro-optical device and the electronic apparatus of the present invention are not limited to the above-described illustrated examples, and it is needless to say that various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, the liquid crystal panel shown in each of the above embodiments has a simple matrix type structure, but an active matrix type electro-optical device using an active element (active element) such as a TFT (thin film transistor) or a TFD (thin film diode). It can also be applied to.
Further, the liquid crystal panel of the above embodiment has a so-called COG type structure, but a flexible wiring board or a TAB board is connected to a liquid crystal panel that is not a structure in which a semiconductor element (IC chip) is directly mounted, for example, a liquid crystal panel. It may be configured as described above.

(a)は、第1実施形態に係る対向基板の平面図であり、(b)は、第1実施形態に係る電気光学装置の断面図である。FIG. 4A is a plan view of a counter substrate according to the first embodiment, and FIG. 4B is a cross-sectional view of the electro-optical device according to the first embodiment. 第1実施形態に使用される液晶パネルの斜視図である。It is a perspective view of the liquid crystal panel used for 1st Embodiment. 第1実施形態に使用される液晶パネルの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the liquid crystal panel used for 1st Embodiment. アクティブマトリクス(TFD)の回路図である。It is a circuit diagram of an active matrix (TFD). 第1の基板における第1の電極の配置方法を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the arrangement | positioning method of the 1st electrode in a 1st board | substrate. (a)〜(c)は、それぞれ第1の基板における第1の電極の第1のスリットおよび、第2の基板における第2の電極の第2のスリットを説明するために供する図である。(A)-(c) is a figure provided in order to demonstrate the 1st slit of the 1st electrode in a 1st board | substrate, and the 2nd slit of the 2nd electrode in a 2nd board | substrate, respectively. 配向方向の制御方法について説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the control method of an orientation direction. 第1の基板における第1の電極の絶縁処理方法を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the insulation processing method of the 1st electrode in a 1st board | substrate. (a)は、配向膜の凸部を説明するための断面図であり、(b)は、配向膜の凹部を説明するための断面図である。(A) is sectional drawing for demonstrating the convex part of alignment film, (b) is sectional drawing for demonstrating the recessed part of alignment film. (a)〜(c)は、配向制御の仕組みを説明するために供する図である。(A)-(c) is a figure provided in order to demonstrate the mechanism of orientation control. 二端子型非線形素子の配置方法を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the arrangement | positioning method of a two-terminal type non-linear element. アクティブマトリクス(TFT)の回路図である。It is a circuit diagram of an active matrix (TFT). 第1の基板の製造方法を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the manufacturing method of the 1st board | substrate. 第2の基板の製造方法を説明するために供する図である(その1)。It is a figure provided in order to demonstrate the manufacturing method of the 2nd board | substrate (the 1). 第2の基板の製造方法を説明するために供する図である(その2)。It is a figure provided in order to demonstrate the manufacturing method of the 2nd board | substrate (the 2). 第2の基板の製造方法を説明するために供する図である(その3)。It is a figure provided in order to demonstrate the manufacturing method of the 2nd board | substrate (the 3). 本発明に係る電気機器の実施形態における構成ブロックを示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the structural block in embodiment of the electric equipment which concerns on this invention. 従来の液晶表示装置に使用される液晶パネルを示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the liquid crystal panel used for the conventional liquid crystal display device. 従来の液晶表示装置用基板を示す平面図である。It is a top view which shows the board | substrate for conventional liquid crystal display devices.

符号の説明Explanation of symbols

10:電気光学装置、12:第1の基板、13:第1のガラス基板、14:第2の基板、16:着色層、18:ブラックマトリクス、19:第1の電極(走査線)、20:第2の電極(画素電極)、22・25:素子第2電極(第2の金属膜)、23:絶縁膜、24:素子第1電極(第1の金属膜)、26:配線(データ線)、27:第2のガラス基板、31a:第1のTFD素子、31b:第2のTFD素子、33:絶縁処理部、41:第1のスリット、45:第2のスリット、200:液晶パネル、212:反射層、212a:開口部、212r:反射部、215:保護膜(平坦化層)、217:第1の配向膜、217a:凸部、217b:凹部、224:第2の配向膜 10: electro-optical device, 12: first substrate, 13: first glass substrate, 14: second substrate, 16: colored layer, 18: black matrix, 19: first electrode (scanning line), 20 : Second electrode (pixel electrode), 22/25: element second electrode (second metal film), 23: insulating film, 24: element first electrode (first metal film), 26: wiring (data) Line), 27: second glass substrate, 31a: first TFD element, 31b: second TFD element, 33: insulation processing section, 41: first slit, 45: second slit, 200: liquid crystal Panel 212: Reflective layer 212a: Opening part 212r: Reflecting part 215: Protective film (flattening layer) 217: First alignment film 217a: Convex part 217b: Concave part 224: Second orientation film

Claims (8)

一対の第1の基板と、第2の基板との間に、電気光学物質を封入してなる電気光学装置であって、前記電気光学物質は、前記第1の基板および第2の基板に対して実質的に垂直に配向しており、前記第1の基板は、第1の電極を備え、前記第2の基板は、第2の電極を備えるとともに、当該第2の電極に対応して設けられたスイッチング素子と、当該スイッチング素子を介して、前記第2の電極に信号を供給するための配線とを備え、前記配線の線幅をW(μm)とし、当該配線と、前記第2の電極との間の距離をS(μm)としたときに、前記配線の線幅(W)を0.1〜0.7μmの範囲内の値とし、S/W>1の関係を満足することを特徴とする電気光学装置。 An electro-optical device in which an electro-optical material is sealed between a pair of first substrates and a second substrate, wherein the electro-optical material is in relation to the first substrate and the second substrate. The first substrate includes a first electrode, and the second substrate includes a second electrode and is provided corresponding to the second electrode. And a wiring for supplying a signal to the second electrode through the switching element, the line width of the wiring being W (μm), the wiring, and the second When the distance between the electrodes is S (μm), the line width (W) of the wiring is set to a value within the range of 0.1 to 0.7 μm, and the relationship of S / W> 1 is satisfied. An electro-optical device. 前記距離(S)を2.5〜7μmの範囲内の値とすることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 1, wherein the distance (S) is set to a value in a range of 2.5 to 7 μm. 前記スイッチング素子は、二端子型非線形素子であることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 1, wherein the switching element is a two-terminal nonlinear element. 前記第1の基板および第2の基板の少なくとも一方の基板は、画素領域において前記電気光学物質の配向を規制するための配向規制手段を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の電気光学装置。 4. The device according to claim 1, wherein at least one of the first substrate and the second substrate includes an alignment regulating unit that regulates an alignment of the electro-optical material in a pixel region. The electro-optical device according to Item. 前記配向規制手段は、前記第1の電極および第2の電極の少なくとも一方の電極に設けられたスリットを含むことを特徴とする請求項4に記載の電気光学装置。 The electro-optical device according to claim 4, wherein the orientation regulating unit includes a slit provided in at least one of the first electrode and the second electrode. 前記第1の基板は第1の配向膜を有し、前記第2の基板は第2の配向膜を有するとともに、前記配向規制手段は、前記第1の配向膜および第2の配向膜の少なくとも一方の表面に設けられた凸部を含むことを特徴とする請求項4または5に記載の電気光学装置。 The first substrate has a first alignment film, the second substrate has a second alignment film, and the alignment regulating means includes at least one of the first alignment film and the second alignment film. The electro-optical device according to claim 4, further comprising a convex portion provided on one surface. 前記第1の基板は第1の配向膜を有し、前記第2の基板は第2の配向膜を有するとともに、前記配向規制手段は、前記第1の配向膜および第2の配向膜の少なくとも一方の配向膜の表面に設けられた凹部を含むことを特徴とする請求項4〜6のいずれか一項に記載の電気光学装置。 The first substrate has a first alignment film, the second substrate has a second alignment film, and the alignment regulating means includes at least one of the first alignment film and the second alignment film. The electro-optical device according to claim 4, further comprising a recess provided on a surface of the one alignment film. 請求項1〜7のいずれか一項に記載された電気光学装置を備えることを特徴とする電気機器。 An electric apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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