JP4385767B2 - Anisotropic conductive connector, manufacturing method thereof, and circuit device inspection apparatus - Google Patents

Anisotropic conductive connector, manufacturing method thereof, and circuit device inspection apparatus Download PDF

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Description

本発明は、例えば半導体集積回路などの回路装置の検査に用いられる異方導電性コネクターおよびその製造方法並びにこの異方導電性コネクターを具えた回路装置の検査装置に関し、更に詳しくはハンダボール電極などの突起状電極を有する半導体集積回路などの回路装置の検査に好適に用いることができる異方導電性コネクターおよびその製造方法並びに回路装置の検査装置に関する。   The present invention relates to an anisotropic conductive connector used for inspecting a circuit device such as a semiconductor integrated circuit, a method for manufacturing the same, and an inspection device for a circuit device including the anisotropic conductive connector. The present invention relates to an anisotropic conductive connector that can be suitably used for inspecting a circuit device such as a semiconductor integrated circuit having a protruding electrode, a manufacturing method thereof, and a circuit device inspection device.

異方導電性シートは、厚み方向にのみ導電性を示すもの、または厚み方向に押圧されたときに厚み方向にのみ導電性を示す加圧導電性導電部を有するものであり、ハンダ付けあるいは機械的嵌合などの手段を用いずにコンパクトな電気的接続を達成することが可能であること、機械的な衝撃やひずみを吸収してソフトな接続が可能であることなどの特長を有するため、このような特長を利用して、例えば電子計算機、電子式デジタル時計、電子カメラ、コンピューターキーボードなどの分野において、回路装置相互間の電気的接続、例えばプリント回路基板と、リードレスチップキャリアー、液晶パネルなどとの電気的接続を達成するためのコネクターとして広く用いられている。   An anisotropic conductive sheet has conductivity only in the thickness direction, or has a pressure conductive area that shows conductivity only in the thickness direction when pressed in the thickness direction. Because it has features such as being able to achieve a compact electrical connection without using means such as mechanical fitting, and being able to make a soft connection by absorbing mechanical shocks and strains, Utilizing such features, for example, in the fields of electronic computers, electronic digital watches, electronic cameras, computer keyboards, etc., electrical connections between circuit devices, such as printed circuit boards, leadless chip carriers, liquid crystal panels, etc. It is widely used as a connector for achieving electrical connection with the like.

また、プリント回路基板や半導体集積回路などの回路装置の電気的検査においては、例えば検査対象である回路装置の一面に形成された被検査電極と、検査用回路基板の表面に形成された検査用電極との電気的な接続を達成するために、回路装置の電極領域と、検査用回路基板の検査用電極領域との間にコネクターとして異方導電性シートを介在させることが行われている。   In the electrical inspection of circuit devices such as printed circuit boards and semiconductor integrated circuits, for example, electrodes to be inspected formed on one surface of the circuit device to be inspected and for inspection formed on the surface of the circuit substrate for inspection In order to achieve electrical connection with the electrodes, an anisotropic conductive sheet is interposed as a connector between the electrode region of the circuit device and the inspection electrode region of the circuit board for inspection.

従来、このような異方導電性シートとしては、金属粒子をエラストマー中に均一に分散して得られるもの(例えば特許文献1参照)、導電性磁性金属をエラストマー中に不均一に分散させることにより、厚み方向に伸びる多数の導電路形成部と、これらを相互に絶縁する絶縁部とが形成されてなるもの(例えば特許文献2参照)、導電路形成部の表面と絶縁部との間に段差が形成されたもの(例えば特許文献3参照)など、種々の構造のものが知られている。   Conventionally, such an anisotropic conductive sheet is obtained by uniformly dispersing metal particles in an elastomer (see, for example, Patent Document 1), by dispersing a conductive magnetic metal in an elastomer nonuniformly. A plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction and insulating portions that insulate them from each other (see, for example, Patent Document 2), a step between the surface of the conductive path forming portion and the insulating portion There are various types of structures such as those formed with (for example, see Patent Document 3).

これらの異方導電性シートにおいては、絶縁性の弾性高分子物質中に導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されており、多数の導電性粒子の連鎖によって導電路が形成されている。
このような異方導電性シートは、例えば硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質形成材料中に磁性を示す導電性粒子が含有されてなる成形材料を、金型の成形空間内に注入して成形材料層を形成し、これに磁場を作用させて硬化処理することにより製造することができる。
In these anisotropic conductive sheets, the conductive elastic particles are contained in an insulating elastic polymer substance so that the conductive particles are aligned in the thickness direction, and a conductive path is formed by a chain of a large number of conductive particles. ing.
Such an anisotropic conductive sheet is made by, for example, injecting a molding material containing conductive particles exhibiting magnetism into a polymer material forming material that is cured to become an elastic polymer material into a molding space of a mold. Thus, a molding material layer can be formed, and a magnetic field can be applied to the molding material layer for curing treatment.

しかしながら、例えばハンダボール電極などの半田合金よりなる突起状電極を有する回路装置の電気的検査において、従来の異方導電性シートをコネクターとして用いる場合には、以下のような問題がある。
すなわち、多数の回路装置について連続して電気的検査を行うときには、検査対象である回路装置の被検査電極である突起状電極を異方導電性シートの表面に圧接する動作が多数回にわたって繰り返されることとなるが、これにより、当該異方導電性シートの表面には、突起状電極の圧接による永久的な変形や、磨耗による変形が生じるため、当該異方導電性シートにおける導電路形成部の電気抵抗値が増加し、各々の導電路形成部の電気抵抗値がばらつくことにより、後続の回路装置の検査が困難となる、という問題がある。
また、導電路形成部を構成するための導電性粒子としては、良好な導電性を得るために、通常、金よりなる被覆層が形成されてなるものが用いられているが、多数の回路装置の電気的検査を連続して行うことにより、回路装置における被検査電極を構成する電極物質(半田合金)が、異方導電性シートにおける導電性粒子の被覆層に移行し、これにより、当該被覆層が変質する結果、導電路形成部の導電性が低下する、という問題がある。
However, in the electrical inspection of a circuit device having a protruding electrode made of a solder alloy such as a solder ball electrode, there are the following problems when a conventional anisotropic conductive sheet is used as a connector.
That is, when electrical inspection is continuously performed for a large number of circuit devices, the operation of pressing the protruding electrodes, which are the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected, against the surface of the anisotropic conductive sheet is repeated many times. As a result, the surface of the anisotropic conductive sheet is subject to permanent deformation due to pressure contact of the protruding electrodes, or deformation due to wear. As the electrical resistance value increases and the electrical resistance value of each conductive path forming portion varies, there is a problem that it becomes difficult to inspect the subsequent circuit device.
In addition, as the conductive particles for constituting the conductive path forming portion, in order to obtain good conductivity, those usually formed with a coating layer made of gold are used. By conducting the electrical inspection continuously, the electrode material (solder alloy) constituting the electrode to be inspected in the circuit device moves to the coating layer of the conductive particles in the anisotropic conductive sheet. As a result of the alteration of the layer, there is a problem that the conductivity of the conductive path forming portion is lowered.

上記の問題を解決するため、回路装置の検査においては、異方導電性シートと、樹脂材料よりなる柔軟な絶縁性シートにその厚み方向に貫通して伸びる複数の金属電極体が配列されてなるシート状コネクターとにより回路装置検査用治具を構成し、この回路装置検査用治具におけるシート状コネクターの金属電極体に被検査電極を接触させて押圧することにより、検査対象である回路装置との電気的接続を達成することが行われている(例えば特許文献4参照)。   In order to solve the above problem, in the inspection of a circuit device, a plurality of metal electrode bodies extending in the thickness direction are arranged on an anisotropic conductive sheet and a flexible insulating sheet made of a resin material. A circuit device inspection jig is constituted by the sheet-like connector, and the circuit device to be inspected is brought into contact with the metal electrode body of the sheet-like connector in the circuit device inspection jig and pressed. (See, for example, Patent Document 4).

しかながら、上記の回路装置検査用治具においては、検査対象である回路装置の被検査電極のピッチが小さい場合すなわちシート状コネクターにおける金属電極体のピッチが小さい場合には、当該回路装置に対する所要の電気的接続を達成することが困難である。具体的に説明すると、金属電極体のピッチが小さいシート状コネクターにおいては、隣接する金属電極体同士が相互に干渉することにより、隣接する金属電極体間のフレキシブル性が低下する。そのため、検査対象である回路装置が、その基体の面精度が低いもの、基体の厚みの均一性が低いもの、或いは被検査電極の高さのバラツキが大きいものである場合には、当該回路装置における全ての被検査電極に対してシート状コネクターにおける金属電極体を確実に接触させることができず、その結果、当該回路装置に対する良好な電気的接続が得られない。
また、全ての被検査電極に対して良好な電気的接続状態を達成することが可能であっても、金属電極体を被検査電極に相当に大きい押圧力で圧接させることが必要となるため、被検査電極に圧接させるための押圧機構を含む検査装置全体が大型のものとなり、また、検査装置全体の製造コストが高くなり、更には、異方導電性シートに相当に大きい押圧力が加わることにより、異方導電性シートの使用寿命が短くなる、という問題がある。
However, in the circuit device inspection jig described above, when the pitch of the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected is small, that is, when the pitch of the metal electrode body in the sheet-like connector is small, the required for the circuit device It is difficult to achieve electrical connection. More specifically, in a sheet-like connector in which the pitch of the metal electrode bodies is small, the adjacent metal electrode bodies interfere with each other, so that the flexibility between the adjacent metal electrode bodies decreases. Therefore, if the circuit device to be inspected has a low surface accuracy of the substrate, a substrate having a low thickness uniformity, or a device having a large variation in the height of the electrode to be inspected, the circuit device The metal electrode body in the sheet-like connector cannot be reliably brought into contact with all the electrodes to be inspected, and as a result, good electrical connection to the circuit device cannot be obtained.
Further, even if it is possible to achieve a good electrical connection state for all the electrodes to be inspected, it is necessary to press the metal electrode body with a considerably large pressing force to the electrodes to be inspected. The entire inspection apparatus including the pressing mechanism for press-contacting the electrode to be inspected becomes large, the manufacturing cost of the entire inspection apparatus increases, and a considerably large pressing force is applied to the anisotropic conductive sheet. Therefore, there is a problem that the service life of the anisotropic conductive sheet is shortened.

また、回路装置の検査を高温環境下において行う試験例えばバーンイン試験においては、異方導電性シートを形成する弾性高分子物質の熱膨張率とシート状コネクターにおける絶縁性シートを形成する樹脂材料の熱膨張率との差に起因して、異方導電性シートの導電路形成部とシート状コネクターの金属電極体との間に位置ずれが生じる結果、良好な電気的接続状態を安定に維持することが困難である。
また、回路装置検査用治具を構成する場合には、異方導電性シートを製造することの他にシート状コネクターを製造することが必要であり、更に、これらを位置合わせした状態で固定することが必要であるため、検査に必要な装置全体の製造コストが高くなる。
Further, in a test in which a circuit device is inspected in a high temperature environment, such as a burn-in test, the thermal expansion coefficient of the elastic polymer material forming the anisotropic conductive sheet and the heat of the resin material forming the insulating sheet in the sheet-like connector As a result of displacement between the conductive path forming portion of the anisotropic conductive sheet and the metal electrode body of the sheet-like connector due to the difference from the expansion coefficient, a good electrical connection state can be stably maintained. Is difficult.
Further, in the case of configuring a circuit device inspection jig, it is necessary to manufacture a sheet-like connector in addition to manufacturing an anisotropic conductive sheet, and further, fix these in an aligned state. Therefore, the manufacturing cost of the entire apparatus required for inspection increases.

更に、従来の異方導電性シートにおいては、以下のような問題がある。
すなわち、異方導電性シートを形成する弾性高分子物質例えばシリコーンゴムは高い温度で接着性を帯びるものであるため、このような弾性高分子物質により形成された異方導電性シートは、高温環境下において回路装置によって加圧された状態で長時間放置されると、当該回路装置に接着しやすくなる。そして、異方導電性シートにおける導電路形成部に、突起状電極が圧接することによって永久的な変形が生じて当該導電路形成部の弾性力が低下すると、異方導電性シートから回路装置が容易に剥離せず、そのため、検査が終了した回路装置を未検査の回路装置に交換する作業を円滑に行なうことができず、その結果、回路装置の検査効率が低下する。特に、異方導電性シートが大きい強度で回路装置に接着した場合には、異方導電性シートを損傷させることなしに当該異方導電性シートから回路装置を剥離することが困難となるため、当該異方導電性シートをその後の検査に供することができない。
Furthermore, the conventional anisotropic conductive sheet has the following problems.
That is, since the elastic polymer material that forms the anisotropic conductive sheet, such as silicone rubber, has adhesiveness at a high temperature, the anisotropic conductive sheet formed of such an elastic polymer material has a high temperature environment. If the circuit device is left under pressure for a long time under the circuit device, it is easy to adhere to the circuit device. Then, when the projecting electrode is brought into pressure contact with the conductive path forming portion in the anisotropic conductive sheet and the elastic force of the conductive path forming portion is reduced, the circuit device is removed from the anisotropic conductive sheet. The circuit device is not easily peeled off, and therefore, it is not possible to smoothly replace the circuit device that has been inspected with an uninspected circuit device. As a result, the inspection efficiency of the circuit device is lowered. In particular, when the anisotropic conductive sheet adheres to the circuit device with high strength, it becomes difficult to peel the circuit device from the anisotropic conductive sheet without damaging the anisotropic conductive sheet. The anisotropic conductive sheet cannot be used for subsequent inspection.

特開昭51−93393号公報JP 51-93393 A 特開昭53−147772号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 53-147772 特開昭61−250906号公報JP-A-61-250906 特開平7−231019号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-231019

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その第1の目的は、接続対象電極が突起状のものであっても、当該接続対象電極の圧接による永久的な変形や、磨耗による変形が生じることが抑制され、繰り返して押圧されても、長期間にわたって安定した導電性が得られ、しかも、接続対象体が接着することを防止または抑制することができる異方導電性コネクターを提供することにある。
本発明の第2の目的は、回路装置の電気的検査に好適に用いられる異方導電性コネクターであって、回路装置における被検査電極が突起状のものであっても、当該被検査電極の圧接による永久的な変形や、磨耗による変形が生じることが抑制され、繰り返して押圧されても、長期間にわたって安定した導電性が得られる異方導電性コネクターを提供することにある。
本発明の第3の目的は、上記の第2の目的に加えて、被検査電極の電極物質が導電性粒子に移行することが防止または抑制され、長期間にわたって安定した導電性が得られ、しかも、高温環境下において回路装置に圧接された状態で使用した場合にも、当該回路装置に接着することを防止または抑制することができる異方導電性コネクターを提供することにある。
本発明の第4の目的は、上記の異方導電性コネクターを有利に製造することができる方法を提供することにある。
本発明の第5の目的は、上記の異方導電性コネクターを具えた回路装置の検査装置を提供することにある。
The present invention has been made based on the circumstances as described above, and the first object thereof is to permanently deform the connection target electrode by pressure contact even if the connection target electrode has a protruding shape. Further, anisotropic conductivity that suppresses deformation due to wear and can provide stable conductivity over a long period of time even when repeatedly pressed, and can prevent or suppress adhesion of the connection object. Is to provide a sex connector.
A second object of the present invention is an anisotropic conductive connector that is preferably used for electrical inspection of a circuit device, and even if the electrode to be inspected in the circuit device has a protruding shape, An object of the present invention is to provide an anisotropic conductive connector in which permanent deformation due to pressure contact and deformation due to wear are suppressed and stable conductivity can be obtained over a long period of time even when repeatedly pressed.
In addition to the second object described above, the third object of the present invention is to prevent or suppress the migration of the electrode material of the electrode to be inspected into conductive particles, and to obtain stable conductivity over a long period of time. Moreover, it is an object of the present invention to provide an anisotropic conductive connector capable of preventing or suppressing adhesion to a circuit device even when used in a state of being pressed against the circuit device in a high temperature environment.
A fourth object of the present invention is to provide a method capable of advantageously manufacturing the anisotropic conductive connector.
A fifth object of the present invention is to provide an inspection device for a circuit device including the anisotropic conductive connector.

本発明の異方導電性コネクターは、各々厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が絶縁部によって相互に絶縁された状態で配設されてなる異方導電膜を有する異方導電性コネクターであって、
前記異方導電膜は、絶縁性の弾性高分子物質により形成され、その導電路形成部には、磁性を示す導電性粒子が含有されており、当該異方導電膜における一面側の表層部分には、絶縁性のメッシュ若しくは不織布よりなる補強材が含有されていることを特徴とする。
An anisotropic conductive connector according to the present invention is an anisotropic conductive connector having an anisotropic conductive film in which a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction are arranged in a state of being insulated from each other by an insulating portion. And
The anisotropic conductive film is formed of an insulating elastic polymer material, and the conductive path forming portion contains conductive particles exhibiting magnetism. The anisotropic conductive film has a surface layer portion on one side of the anisotropic conductive film. Is characterized by containing a reinforcing material made of an insulating mesh or non-woven fabric.

本発明の異方導電性コネクターにおいては、補強材がメッシュよりなり、当該メッシュの開口径をr1とし、導電性粒子の平均粒子径をr2としたとき、比r1/r2が1.5〜13.6であり、かつ、当該メッシュの開口径が500μm以下であることが好ましい。
In the anisotropic conductive connector of the present invention, the reinforcing material is made of a mesh, and the ratio r1 / r2 is 1.5 to 13 when the opening diameter of the mesh is r1 and the average particle diameter of the conductive particles is r2. And the opening diameter of the mesh is preferably 500 μm or less.

また、本発明の異方導電性コネクターにおいては、異方導電膜の周縁部を支持する支持体が設けられていることが好ましい。   Moreover, in the anisotropic conductive connector of this invention, it is preferable that the support body which supports the peripheral part of an anisotropic conductive film is provided.

本発明の異方導電性コネクターは、検査対象である回路装置と、検査用回路基板との間に介在されて当該回路装置の被検査電極と当該回路基板の検査電極との電気的接続を行なうための異方導電性コネクターとして好適であり、このような異方導電性コネクターにおいては、異方導電膜における回路装置に接触する一面側の表層部分に、絶縁性のメッシュ若しくは不繊布よりなる補強材が含有されていることが好ましい。   The anisotropic conductive connector of the present invention is interposed between a circuit device to be inspected and a circuit board for inspection, and performs electrical connection between the electrode to be inspected of the circuit device and the inspection electrode of the circuit board. In such an anisotropic conductive connector, a reinforcing layer made of an insulating mesh or non-woven cloth is provided on the surface layer portion of the anisotropic conductive film that contacts the circuit device. It is preferable that the material is contained.

また、上記の異方導電性コネクターにおいては、異方導電膜における回路装置に接触する一面側の表層部分に、導電性および磁性を示さない粒子が含有されていることが好ましく、この導電性および磁性を示さない粒子が、ダイヤモンドパウダーであることがより好ましい。
また、上記の異方導電性コネクターにおいては、異方導電膜には、検査対象である回路装置の被検査電極に電気的に接続される導電路形成部の他に、被検査電極に電気的に接続されない導電路形成部が形成されていてもよく、検査対象である回路装置の被検査電極に電気的に接続されない導電路形成部が,少なくとも支持体によって支持された異方導電膜の周縁部に形成されていてもよい。
また、上記の異方導電性コネクターにおいては、導電路形成部が、一定のピッチで配置されていてもよい。
Further, in the above anisotropic conductive connector, it is preferable that the surface layer portion on one side contacting the circuit device in the anisotropic conductive film contains particles that do not exhibit conductivity and magnetism. More preferably, the particles that do not exhibit magnetism are diamond powder.
In the anisotropic conductive connector described above, the anisotropic conductive film is electrically connected to the electrode to be inspected in addition to the conductive path forming portion electrically connected to the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected. The conductive path forming portion that is not connected to the electrode may be formed, and the conductive path forming portion that is not electrically connected to the inspected electrode of the circuit device to be inspected is at least the periphery of the anisotropic conductive film supported by the support It may be formed in the part.
In the anisotropic conductive connector, the conductive path forming portions may be arranged at a constant pitch.

本発明の異方導電性コネクターの製造方法は、各々厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が絶縁部によって相互に絶縁された状態で配設されてなる異方導電膜を有する異方導電性コネクターを製造する方法であって、
一対の型によって成形空間が形成される異方導電膜成形用の金型を用意し、
一方の型の成形面上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に、絶縁性のメッシュ若しくは不織布よりなる補強材および磁性を示す導電性粒子が含有されてなる成形材料層を形成すると共に、他方の型の成形面上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に導電性粒子が含有されてなる成形材料層を形成し、
前記一方の型の成形面に形成された成形材料層と、前記他方の型の成形面に形成された成形材料層とを積重し、その後、各成形材料層の厚み方向に、強度分布を有する磁場を作用させると共に、各成形材料層を硬化処理することにより、異方導電膜を形成する工程を有することを特徴とする。
The method for manufacturing an anisotropic conductive connector according to the present invention includes an anisotropic conductive film having an anisotropic conductive film in which a plurality of conductive path forming portions each extending in the thickness direction are disposed in a state of being insulated from each other by an insulating portion. A method of manufacturing a connector comprising:
Prepare a mold for forming an anisotropic conductive film in which a molding space is formed by a pair of molds,
On the molding surface of one mold, a reinforcing material made of an insulating mesh or non-woven fabric and conductive particles showing magnetism are contained in a liquid polymer material-forming material that is cured to become an elastic polymer material. Forming a molding material layer, and forming a molding material layer containing conductive particles in a liquid polymer substance forming material which is cured to become an elastic polymer substance on the molding surface of the other mold;
The molding material layer formed on the molding surface of the one mold and the molding material layer formed on the molding surface of the other mold are stacked, and then the strength distribution is increased in the thickness direction of each molding material layer. The method has a step of forming an anisotropic conductive film by applying a magnetic field to the molding material and curing the molding material layers.

本発明の回路装置の検査装置は、検査対象である回路装置の被検査電極に対応して配置された検査用電極を有する検査用回路基板と、
この検査用回路基板上に配置された上記の異方導電性コネクターと
を具えてなることを特徴とする。
An inspection apparatus for a circuit device according to the present invention includes an inspection circuit board having an inspection electrode arranged corresponding to an inspection target electrode of a circuit device to be inspected,
It comprises the above-mentioned anisotropic conductive connector disposed on the circuit board for inspection.

本発明の回路装置の検査装置においては、異方導電性コネクターの異方導電膜に対する被検査電極の加圧力を緩和する加圧力緩和フレームが、検査対象である回路装置と異方導電性コネクターとの間に配置されていることが好ましく、この加圧力緩和フレームが、バネ弾性またはゴム弾性を有するものであることが好ましい。   In the inspection apparatus for a circuit device according to the present invention, the pressure relief frame for relaxing the pressure applied to the electrode to be inspected against the anisotropic conductive film of the anisotropic conductive connector includes the circuit device to be inspected and the anisotropic conductive connector. It is preferable that the pressure-relieving frame is one having spring elasticity or rubber elasticity.

本発明の異方導電性コネクターによれば、異方導電膜における一面側の表層部分には、絶縁性のメッシュ若しくは不織布よりなる補強材が含有されているため、接続対象電極が突起状のものであっても、当該接続対象電極の圧接による永久的な変形や、磨耗による変形が生じることを抑制することができる。しかも、異方導電膜における一面側の表層部分以外の部分においては、前記補強材が存在しないため、導電路形成部が加圧されたときには、当該異方導電膜を形成する弾性高分子物質それ自体が有する弾性が十分に発揮される結果、所要の導電性を確実に得ることができる。従って、接続対象電極によって繰り返して押圧されても、長期間にわたって安定した導電性を得ることができる。
また、導電路形成部における接続対象電極の圧接による永久的な変形が小さく、その弾性力が長期間にわたって安定に維持されるため、接続対象体が接着することを確実に防止または抑制することができる。
According to the anisotropic conductive connector of the present invention, the surface layer portion on one side of the anisotropic conductive film contains a reinforcing material made of an insulating mesh or non-woven fabric, so that the connection target electrode has a protruding shape. Even so, it is possible to suppress the permanent deformation due to the pressure contact of the connection target electrode and the deformation due to wear. Moreover, since the reinforcing material is not present in the portion other than the surface layer portion on the one surface side in the anisotropic conductive film, the elastic polymer material that forms the anisotropic conductive film when the conductive path forming portion is pressurized. As a result of sufficiently exhibiting its own elasticity, the required conductivity can be reliably obtained. Therefore, even when repeatedly pressed by the connection target electrode, stable conductivity can be obtained over a long period of time.
Further, since the permanent deformation due to the pressure contact of the connection target electrode in the conductive path forming portion is small and the elastic force is stably maintained for a long period of time, it is possible to reliably prevent or suppress the connection target body from adhering. it can.

また、前記一面側表層部分に導電性および磁性を示さない粒子が含有されることにより、当該一面側表層部分の硬度が増加するため、接続対象電極の圧接による永久的な変形や、磨耗による変形が生じることを一層抑制することができ、また、電極物質が異方導電膜における導電性粒子に移行することが防止または抑制されるため、長期間にわたって一層安定した導電性を得ることができ、しかも、回路装置の電気的検査において、高温環境下において回路装置に圧接された状態で使用した場合にも、当該回路装置に接着することを一層確実に防止または抑制することができる。   In addition, the inclusion of particles that do not exhibit conductivity and magnetism in the surface layer portion of the one surface increases the hardness of the surface layer portion of the one surface side. Therefore, permanent deformation due to pressure contact of the connection target electrode, deformation due to wear Can be further suppressed, and since it is prevented or suppressed that the electrode material migrates to the conductive particles in the anisotropic conductive film, more stable conductivity can be obtained over a long period of time, In addition, in the electrical inspection of a circuit device, even when used in a state of being pressed against the circuit device in a high temperature environment, it is possible to more reliably prevent or suppress adhesion to the circuit device.

本発明の異方導電性コネクターの製造方法によれば,一方の型の成形面に形成された、補強材を含有する成形材料層と、他方の型の成形面に形成された成形材料層とを積重し、この状態で各成形材料層を硬化処理するため、一面側の表層部分のみに補強材が含有された異方導電膜を有する異方導電性コネクターを有利にかつ確実に製造することができる。   According to the anisotropic conductive connector manufacturing method of the present invention, a molding material layer containing a reinforcing material formed on the molding surface of one mold, and a molding material layer formed on the molding surface of the other mold, In order to cure each molding material layer in this state, an anisotropic conductive connector having an anisotropic conductive film containing a reinforcing material only in the surface layer portion on one side is advantageously and reliably manufactured. be able to.

本発明の回路装置の検査装置によれば、上記の異方導電性コネクターを具えてなるため、被検査電極が突起状のものであっても、当該被検査電極の圧接による永久的な変形や、磨耗による変形が生じることが抑制されるので、多数の回路装置について連続して検査を行なった場合でも、長期間にわたって安定した導電性を得ることができると共に、異方導電性コネクターに回路装置が接着することを確実に防止または抑制することができる。
また、本発明の回路装置の検査装置によれば、上記の異方導電性コネクターの他に、シート状コネクターを用いることが不要となるので、異方導電性コネクターとシート状コネクターとの位置合わせが不要であり、温度変化によるシート状コネクターと異方導電性コネクターとの位置ずれの問題を回避することができ、しかも、検査装置の構成が容易である。
また、検査対象である回路装置と異方導電性コネクターとの間に加圧力緩和フレームを設けることにより、異方導電性コネクターの異方導電膜に対する被検査電極の加圧力が緩和されるので、より長期間にわたって安定した導電性を得ることができる。
また、加圧力緩和フレームとして、バネ弾性またはゴム弾性を有するものを用いることにより、被検査電極によって異方導電膜に加わる衝撃の大きさを低下させることができるので、異方導電膜の破損またはその他の故障を防止または抑制することができると共に、異方導電膜に対する加圧力が解除されたときには、当該加圧力緩和フレームのバネ弾性によって、回路装置が異方導電性膜から容易に離脱するので、検査が終了した回路装置を未検査の回路装置に交換する作業を円滑に行なうことができ、その結果、回路装置の検査効率の向上を図ることができる。
According to the circuit device inspection apparatus of the present invention, since the anisotropic conductive connector is provided, even if the electrode to be inspected is a protrusion, permanent deformation due to the pressure contact of the electrode to be inspected or Since deformation due to wear is suppressed, even when a large number of circuit devices are continuously inspected, stable conductivity can be obtained over a long period of time, and the anisotropic conductive connector has a circuit device. Can be reliably prevented or suppressed.
Further, according to the inspection apparatus for a circuit device of the present invention, it is not necessary to use a sheet-like connector in addition to the anisotropic conductive connector described above, so that the alignment between the anisotropic conductive connector and the sheet-like connector is achieved. Can be avoided, the problem of misalignment between the sheet-like connector and the anisotropic conductive connector due to temperature change can be avoided, and the configuration of the inspection apparatus is easy.
In addition, by providing a pressure relief frame between the circuit device to be inspected and the anisotropic conductive connector, the pressure of the electrode to be inspected against the anisotropic conductive film of the anisotropic conductive connector is relaxed. Stable conductivity can be obtained over a longer period.
Moreover, since the magnitude of the impact applied to the anisotropic conductive film by the electrode to be inspected can be reduced by using a spring pressure or rubber elasticity as the pressure relief frame, the anisotropic conductive film can be damaged or Other failures can be prevented or suppressed, and when the applied pressure to the anisotropic conductive film is released, the circuit device is easily detached from the anisotropic conductive film by the spring elasticity of the applied pressure relaxation frame. Therefore, it is possible to smoothly replace the circuit device that has been inspected with an uninspected circuit device. As a result, the inspection efficiency of the circuit device can be improved.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図1、図2および図3は、本発明の異方導電性コネクターの一例における構成を示す説明図であり、図1は平面図、図2は図1のA−A断面図、図3は部分拡大断面図である。この異方導電性コネクター10は、矩形の異方導電膜10Aと、この異方導電膜10Aを支持する矩形の板状の支持体71とにより構成され、全体としてシート状に形成されている。
図4および図5にも示すように、支持体71の中央位置には、異方導電膜10Aより小さい寸法の矩形の開口部73が形成され、四隅の位置の各々には、位置決め穴72が形成されている。そして、異方導電膜10Aは、支持体71の開口部73に配置され、当該異方導電膜10Aの周縁部が支持体71に固定されることにより、当該支持体71に支持されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
1, 2, and 3 are explanatory views showing the configuration of an example of the anisotropic conductive connector according to the present invention, FIG. 1 is a plan view, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. It is a partial expanded sectional view. The anisotropic conductive connector 10 includes a rectangular anisotropic conductive film 10A and a rectangular plate-like support 71 that supports the anisotropic conductive film 10A, and is formed in a sheet shape as a whole.
As shown in FIGS. 4 and 5, a rectangular opening 73 having a size smaller than the anisotropic conductive film 10 </ b> A is formed at the center position of the support 71, and positioning holes 72 are formed at the four corner positions. Is formed. The anisotropic conductive film 10 </ b> A is disposed in the opening 73 of the support 71, and the peripheral edge of the anisotropic conductive film 10 </ b> A is fixed to the support 71, thereby being supported by the support 71.

この異方導電性コネクター10における異方導電膜10Aは、それぞれ厚み方向に伸びる複数の円柱状の導電路形成部11と、これらの導電路形成部11を相互に絶縁する絶縁部15とにより構成されている。
また、異方導電膜10Aは、全体が絶縁性の弾性高分子物質により形成され、その導電路形成部11には、磁性を示す導電性粒子(図示省略)が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されている。これに対し、絶縁部15は、導電性粒子が全く或いは殆ど含有されていないものである。
また、異方導電膜10Aにおける一面側(図において上面側)の表層部分(以下、「一面側表層部分」という。)10Bには、絶縁性のメッシュ若しくは不織布よりなる補強材(図示省略)が含有されている。これに対し、異方導電膜10Aにおける一面側表層部分10B以外の部分(以下、「他の層部分」ともいう。)10Cは、前記補強材が存在しないものである。
An anisotropic conductive film 10A in the anisotropic conductive connector 10 includes a plurality of columnar conductive path forming portions 11 extending in the thickness direction and insulating portions 15 that insulate the conductive path forming portions 11 from each other. Has been.
Further, the anisotropic conductive film 10A is entirely formed of an insulating elastic polymer material, and the conductive path forming portion 11 is oriented such that magnetic conductive particles (not shown) are aligned in the thickness direction. It is contained in. On the other hand, the insulating part 15 contains no or almost no conductive particles.
Further, a reinforcing material (not shown) made of an insulating mesh or non-woven fabric is provided on a surface layer portion (hereinafter referred to as “one surface side surface layer portion”) 10B on one side (upper surface side in the drawing) of the anisotropic conductive film 10A. Contained. On the other hand, a portion (hereinafter also referred to as “another layer portion”) 10C other than the one-surface-side surface portion 10B in the anisotropic conductive film 10A has no reinforcing material.

図示の例では、複数の導電路形成部11のうち当該異方導電膜10Aにおける周縁部以外の領域に形成されたものが、接続対象電極、例えば検査対象である回路装置1における被検査電極に電気的に接続される有効導電路形成部12とされ、当該異方導電部10Aにおける周縁部に形成されたものが、接続対象電極に電気的に接続されない無効導電路形成部13とされており、有効導電路形成部12は、接続対象電極のパターンに対応するパターンに従って配置されている。
一方、絶縁部15は、個々の導電路形成部11の周囲を取り囲むよう一体的に形成されており、これにより、全ての導電路形成部11は、絶縁部15によって相互に絶縁された状態とされている。
In the illustrated example, among the plurality of conductive path forming portions 11, those formed in regions other than the peripheral portion in the anisotropic conductive film 10 </ b> A serve as connection target electrodes, for example, inspection target electrodes in the circuit device 1 to be inspected. The effective conductive path forming unit 12 is electrically connected, and the one formed on the peripheral edge of the anisotropic conductive unit 10A is the invalid conductive path forming unit 13 that is not electrically connected to the connection target electrode. The effective conductive path forming portion 12 is arranged according to a pattern corresponding to the pattern of the connection target electrode.
On the other hand, the insulating part 15 is integrally formed so as to surround the periphery of each conductive path forming part 11, whereby all the conductive path forming parts 11 are insulated from each other by the insulating part 15. Has been.

この例の異方導電性コネクター10においては、異方導電膜10Aにおける一面すなわち一面側表層部分10Bの表面は平面とされており、一方、異方導電膜10Aの他面においては、導電路形成部11の表面が絶縁部15の表面から突出する突出部分11aが形成されている。
また、異方導電膜10Aにおける一面側表層部分10Bには、磁性および導電性を示さない粒子(以下、「非磁性絶縁性粒子」という。)が含有されている。
In the anisotropic conductive connector 10 of this example, one surface of the anisotropic conductive film 10A, that is, the surface of the one surface side surface layer portion 10B is a flat surface, while a conductive path is formed on the other surface of the anisotropic conductive film 10A. A protruding portion 11 a is formed in which the surface of the portion 11 protrudes from the surface of the insulating portion 15.
Further, the one surface side surface layer portion 10B of the anisotropic conductive film 10A contains particles that do not exhibit magnetism and conductivity (hereinafter referred to as “nonmagnetic insulating particles”).

異方導電膜10Aを形成する弾性高分子物質は、そのデュロメーターA硬さが15〜70であることが好ましく、より好ましくは25〜65である。このデュロメーターA硬さが過小である場合には、高い繰り返し耐久性が得られないことがある。一方、このデュロメーターA硬さが過大である場合には、高い導電性を有する導電路形成部が得られないことがある。   The elastic polymer material forming the anisotropic conductive film 10A preferably has a durometer A hardness of 15 to 70, more preferably 25 to 65. When the durometer A hardness is too small, high repetition durability may not be obtained. On the other hand, when the durometer A hardness is excessive, a conductive path forming part having high conductivity may not be obtained.

異方導電膜10Aを形成する弾性高分子物質としては、架橋構造を有する高分子物質が好ましい。このような弾性高分子物質を得るために用いることのできる硬化性の高分子物質形成材料としては、種々のものを用いることができ、その具体例としては、ポリブタジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴムなどの共役ジエン系ゴムおよびこれらの水素添加物、スチレン−ブタジエン−ジエンブロック共重合体ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体などのブロック共重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、クロロプレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エピクロルヒドリンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プロピレン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴムなどが挙げられる。 以上において、得られる異方導電性コネクター10に耐候性が要求される場合には、共役ジエン系ゴム以外のものを用いることが好ましく、特に、成形加工性および電気特性の観点から、シリコーンゴムを用いることが好ましい。   As the elastic polymer material forming the anisotropic conductive film 10A, a polymer material having a crosslinked structure is preferable. Various materials can be used as the curable polymer substance-forming material that can be used to obtain such an elastic polymer substance. Specific examples thereof include polybutadiene rubber, natural rubber, and polyisoprene rubber. , Conjugated diene rubbers such as styrene-butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-butadiene copolymer rubber and hydrogenated products thereof, blocks such as styrene-butadiene-diene block copolymer rubber, styrene-isoprene block copolymer, etc. Examples thereof include copolymer rubber and hydrogenated products thereof, chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, and ethylene-propylene-diene copolymer rubber. In the above, when weather resistance is required for the anisotropically conductive connector 10 to be obtained, it is preferable to use one other than the conjugated diene rubber, and in particular, from the viewpoint of molding processability and electrical characteristics, silicone rubber is preferably used. It is preferable to use it.

シリコーンゴムとしては、液状シリコーンゴムを架橋または縮合したものが好ましい。液状シリコーンゴムは、その粘度が歪速度10-1secで105 ポアズ以下のものが好ましく、縮合型のもの、付加型のもの、ビニル基やヒドロキシル基を含有するものなどのいずれであってもよい。具体的には、ジメチルシリコーン生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メチルフェニルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げることができる。
また、シリコーンゴムは、その分子量Mw(標準ポリスチレン換算重量平均分子量をいう。以下同じ。)が10,000〜40,000のものであることが好ましい。また、得られる導電路形成部11に良好な耐熱性が得られることから、分子量分布指数(標準ポリスチレン換算重量平均分子量Mwと標準ポリスチレン換算数平均分子量Mnとの比Mw/Mnの値をいう。以下同じ。)が2以下のものが好ましい。
As the silicone rubber, those obtained by crosslinking or condensing liquid silicone rubber are preferable. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a strain rate of 10 −1 sec, and may be any of a condensation type, an addition type, a vinyl group or a hydroxyl group. Good. Specific examples include dimethyl silicone raw rubber, methyl vinyl silicone raw rubber, methyl phenyl vinyl silicone raw rubber, and the like.
The silicone rubber preferably has a molecular weight Mw (referred to as a standard polystyrene-converted weight average molecular weight; the same shall apply hereinafter) of 10,000 to 40,000. Moreover, since favorable heat resistance is acquired in the obtained conductive path formation part 11, it says the value of molecular weight distribution index (ratio Mw / Mn of standard polystyrene conversion weight average molecular weight Mw and standard polystyrene conversion number average molecular weight Mn). The same shall apply hereinafter) is preferably 2 or less.

異方導電膜10Aにおける導電路形成部11に含有される導電性粒子としては、後述する方法により当該粒子を容易に配向させることができることから、磁性を示す導電性粒子が用いられる。このような導電性粒子の具体例としては、鉄、コバルト、ニッケルなどの磁性を有する金属の粒子若しくはこれらの合金の粒子またはこれらの金属を含有する粒子、またはこれらの粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に金、銀、パラジウム、ロジウムなどの導電性の良好な金属のメッキを施したもの、あるいは非磁性金属粒子若しくはガラスビーズなどの無機物質粒子またはポリマー粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に、ニッケル、コバルトなどの導電性磁性金属のメッキを施したものなどが挙げられる。
これらの中では、ニッケル粒子を芯粒子とし、その表面に導電性の良好な金のメッキを施したものを用いることが好ましい。
芯粒子の表面に導電性金属を被覆する手段としては、特に限定されるものではないが、例えば化学メッキまたは電解メッキ法、スパッタリング法、蒸着法などが用いられている。
As the conductive particles contained in the conductive path forming part 11 in the anisotropic conductive film 10A, conductive particles exhibiting magnetism are used because the particles can be easily oriented by a method described later. Specific examples of such conductive particles include particles of metal having magnetism such as iron, cobalt, nickel, particles of these alloys, particles containing these metals, or these particles as core particles, The core particles are formed by plating the surface of the core particles with a metal having good conductivity such as gold, silver, palladium, rhodium, or non-magnetic metal particles or inorganic particles such as glass beads or polymer particles. The surface of the particles may be plated with a conductive magnetic metal such as nickel or cobalt.
Among these, it is preferable to use nickel particles as core particles and the surfaces thereof plated with gold having good conductivity.
The means for coating the surface of the core particles with the conductive metal is not particularly limited, and for example, chemical plating or electrolytic plating, sputtering, vapor deposition or the like is used.

導電性粒子として、芯粒子の表面に導電性金属が被覆されてなるものを用いる場合には、良好な導電性が得られることから、粒子表面における導電性金属の被覆率(芯粒子の表面積に対する導電性金属の被覆面積の割合)が40%以上であることが好ましく、さらに好ましくは45%以上、特に好ましくは47〜95%である。
また、導電性金属の被覆量は、芯粒子の0.5〜50質量%であることが好ましく、より好ましくは2〜30質量%、さらに好ましくは3〜25質量%、特に好ましくは4〜20質量%である。被覆される導電性金属が金である場合には、その被覆量は、芯粒子の0.5〜30質量%であることが好ましく、より好ましくは2〜20質量%、さらに好ましくは3〜15質量%である。
When using conductive particles whose core particles are coated with a conductive metal, good conductivity can be obtained, so that the conductive metal coverage on the particle surface (relative to the surface area of the core particles). The ratio of the conductive metal coating area) is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%.
Further, the coating amount of the conductive metal is preferably 0.5 to 50% by mass of the core particle, more preferably 2 to 30% by mass, further preferably 3 to 25% by mass, and particularly preferably 4 to 20%. % By mass. When the conductive metal to be coated is gold, the coating amount is preferably 0.5 to 30% by mass of the core particles, more preferably 2 to 20% by mass, and further preferably 3 to 15%. % By mass.

また、導電性粒子の粒子径は、1〜100μmであることが好ましく、より好ましくは2〜50μm、さらに好ましくは3〜30μm、特に好ましくは4〜20μmである。
また、導電性粒子の粒子径分布(Dw/Dn)は、1〜10であることが好ましく、より好ましくは1.01〜7、さらに好ましくは1.05〜5、特に好ましくは1.1〜4である。
このような条件を満足する導電性粒子を用いることにより、得られる導電路形成部11は、加圧変形が容易なものとなり、また、当該導電路形成部11において導電性粒子間に十分な電気的接触が得られる。
また、導電性粒子の形状は、特に限定されるものではないが、高分子物質形成材料中に容易に分散させることができる点で、球状のもの、星形状のものあるいはこれらが凝集した2次粒子であることが好ましい。
また、導電性粒子の表面がシランカップリング剤などのカップリング剤、潤滑剤で処理されたものを適宜用いることができる。カップリング剤や潤滑剤で粒子表面を処理することにより、異方導電性性コネクターの耐久性が向上する。
Moreover, it is preferable that the particle diameter of electroconductive particle is 1-100 micrometers, More preferably, it is 2-50 micrometers, More preferably, it is 3-30 micrometers, Most preferably, it is 4-20 micrometers.
Moreover, it is preferable that the particle diameter distribution (Dw / Dn) of electroconductive particle is 1-10, More preferably, it is 1.01-7, More preferably, it is 1.05-5, Most preferably, it is 1.1- 4.
By using the conductive particles satisfying such conditions, the obtained conductive path forming portion 11 is easily deformed under pressure, and sufficient electric power is provided between the conductive particles in the conductive path forming portion 11. Contact is obtained.
The shape of the conductive particles is not particularly limited, but is spherical, star-shaped, or secondary in which they are aggregated in that they can be easily dispersed in the polymer material-forming material. Particles are preferred.
In addition, a conductive particle whose surface is treated with a coupling agent such as a silane coupling agent or a lubricant can be appropriately used. By treating the particle surface with a coupling agent or a lubricant, the durability of the anisotropically conductive connector is improved.

このような導電性粒子は、高分子物質形成材料に対して体積分率で5〜60%、好ましくは7〜50%となる割合で用いられることが好ましい。この割合が5%未満の場合には、十分に電気抵抗値の小さい導電路形成部11が得られないことがある。一方、この割合が60%を超える場合には、得られる導電路形成部11は脆弱なものとなりやすく、導電路形成部11として必要な弾性が得られないことがある。   Such conductive particles are preferably used at a volume ratio of 5 to 60%, preferably 7 to 50%, based on the polymer substance-forming material. When this ratio is less than 5%, the conductive path forming portion 11 having a sufficiently small electric resistance value may not be obtained. On the other hand, when this ratio exceeds 60%, the obtained conductive path forming part 11 tends to be fragile, and the elasticity required for the conductive path forming part 11 may not be obtained.

導電路形成部11に用いられる導電性粒子としては、金によって被覆された表面を有するものが好ましいが、接続対象電極、例えば検査対象である回路装置の被検査電極が、鉛を含むハンダ合金よりなるものである場合には、当該ハンダ合金よりなる被検査電極に接触する一面側表層部分10Bに含有される導電性粒子は、ロジウム、パラジウム、ルテニウム、タングステン、モリブデン、白金、イリジウム、銀およびこれらを含む合金から選ばれる耐拡散性金属によって被覆されていることが好ましく、これにより、導電性粒子における被覆層に対して鉛成分が拡散することを防止することができる。   As the conductive particles used for the conductive path forming portion 11, those having a surface covered with gold are preferable. However, the connection target electrode, for example, the inspection target electrode of the circuit device to be inspected is made of a lead alloy containing lead. The conductive particles contained in the one surface side surface layer portion 10B in contact with the electrode to be inspected made of the solder alloy are rhodium, palladium, ruthenium, tungsten, molybdenum, platinum, iridium, silver and the like. It is preferable that it is coated with a diffusion-resistant metal selected from an alloy containing, thereby preventing the lead component from diffusing into the coating layer of the conductive particles.

耐拡散性金属が被覆された表面を有する導電性粒子は、例えばニッケル、鉄、コバルト若しくはこれらの合金などよりなる芯粒子の表面に対して、例えば化学メッキまたは電解メッキ法、スパッタリング法、蒸着法などにより耐拡散性金属を被覆させることにより形成することができる。
また、耐拡散性金属の被覆量は、導電性粒子に対して質量分率で5〜40%、好ましくは10〜30%となる割合であることが好ましい。
The conductive particles having a surface coated with a diffusion-resistant metal are, for example, a chemical plating or electrolytic plating method, a sputtering method, a vapor deposition method on the surface of a core particle made of nickel, iron, cobalt, or an alloy thereof. For example, it can be formed by coating a diffusion-resistant metal.
Moreover, it is preferable that the coating amount of a diffusion-resistant metal is a ratio of 5 to 40%, preferably 10 to 30% by mass fraction with respect to the conductive particles.

異方導電膜10Aにおける一面側表層部分10Bに含有される補強材を構成するメッシュ若しくは不織布としては、有機繊維により形成されたものを好ましく用いることができる。
かかる有機繊維としては、ポリテトラフルオロエチレン繊維などのフッ素樹脂繊維、アラミド繊維、ポリエチレン繊維、ポリアリレート繊維、ナイロン繊維、ポリエステル繊維などを挙げることができる。
また、有機繊維として、線熱膨張係数が接続対象体を形成する材料の線熱膨張係数と同等若しくは近似したもの、具体的には、線熱膨張係数が30×10-6〜−5×10-6/K、特に10×10-6〜−3×10-6/Kであるものを用いることにより、当該異方導電膜10Aの熱膨張が抑制されため、温度変化による熱履歴を受けた場合にも、接続対象体に対する良好な電気的接続状態を安定に維持することができる。
また、有機繊維としては、その径が10〜200μmのものを用いることが好ましい。
As the mesh or the nonwoven fabric constituting the reinforcing material contained in the one-surface-side surface layer portion 10B in the anisotropic conductive film 10A, those formed of organic fibers can be preferably used.
Examples of such organic fibers include fluorine resin fibers such as polytetrafluoroethylene fibers, aramid fibers, polyethylene fibers, polyarylate fibers, nylon fibers, and polyester fibers.
Moreover, as an organic fiber, the linear thermal expansion coefficient is equal to or close to the linear thermal expansion coefficient of the material forming the connection object, specifically, the linear thermal expansion coefficient is 30 × 10 −6 to −5 × 10. -6 / K, especially 10 × 10 −6 to −3 × 10 −6 / K, the thermal expansion of the anisotropic conductive film 10A is suppressed, and the thermal history due to the temperature change was received. Even in this case, a good electrical connection state with respect to the connection object can be stably maintained.
Moreover, as an organic fiber, it is preferable to use the thing whose diameter is 10-200 micrometers.

補強材を構成するメッシュとしては、当該メッシュの開口径をr1とし、用いられる導電性粒子の平均粒子径をr2としたとき、比r1/r2が1.5以上であることが好ましく、より好ましくは2以上、更に好ましくは3以上、特に好ましくは4以上である。この比r1/r2が過小である場合には、後述する製造方法において、導電性粒子が厚み方向に配向しにくくなるため、電気抵抗値の小さい導電路形成部を得ることが困難となることがある。
また、メッシュの開口径r1は、500μm以下であることが好ましく、より好ましくは400μm以下、特に好ましくは300μm以下である。開口径r1が過大である場合には、高い耐久性を有する異方導電コネクターを得ることが困難となることがある。
補強材を構成する不織布としては、上記有機繊維の短繊維を原料として湿式抄造技術によって製造された、内部に空隙を有するものを用いることが好ましい。
また、補強材の厚みは、形成すべき異方導電膜10Aの厚みの10〜70%であることが好ましく、具体的には、厚みが50〜500μmであることが好ましく、より好ましくは80〜400μmである。ここで、補強材の厚みは、マイクロメータにより測定された値である。
また、補強材は、後述する液状の高分子物質形成材料の含浸し易さ、柔軟性と寸法安定性とのバランスなどを考慮して適宜選択されるが、その開口率(空隙率)が25〜75%のものを用いることが好ましく、より好ましくは30〜60%である。
As the mesh constituting the reinforcing material, the ratio r1 / r2 is preferably 1.5 or more, more preferably when the opening diameter of the mesh is r1 and the average particle diameter of the conductive particles used is r2. Is 2 or more, more preferably 3 or more, and particularly preferably 4 or more. When this ratio r1 / r2 is too small, in the manufacturing method described later, the conductive particles are difficult to be oriented in the thickness direction, so that it may be difficult to obtain a conductive path forming portion having a small electric resistance value. is there.
The mesh opening diameter r1 is preferably 500 μm or less, more preferably 400 μm or less, and particularly preferably 300 μm or less. If the opening diameter r1 is excessive, it may be difficult to obtain an anisotropic conductive connector having high durability.
As the non-woven fabric constituting the reinforcing material, it is preferable to use a non-woven fabric produced by a wet papermaking technique using the short fibers of the organic fibers as a raw material.
Further, the thickness of the reinforcing material is preferably 10 to 70% of the thickness of the anisotropic conductive film 10A to be formed, specifically, the thickness is preferably 50 to 500 μm, more preferably 80 to 400 μm. Here, the thickness of the reinforcing material is a value measured by a micrometer.
Further, the reinforcing material is appropriately selected in consideration of easiness of impregnation with a liquid polymer material forming material, which will be described later, and the balance between flexibility and dimensional stability. The opening ratio (void ratio) is 25. It is preferable to use ˜75%, more preferably 30 to 60%.

異方導電膜10Aにおける一面側表層部分10Bに含有される非磁性絶縁性粒子としては、ダイヤモンドパウダー、ガラス粉末、セラミック粉末、通常のシリカ粉、コロイダルシリカ、エアロゲルシリカ、アルミナなどを用いることができ、これらの中では、ダイヤモンドパウダーが好ましい。
このような非磁性絶縁性粒子を一面側表層部分10Bに含有させることにより、当該一面側表層部分10Bの硬度が一層高くなり、高い繰り返し耐久性が得られると共に、被検査電極を構成する鉛成分が導電性粒子における被覆層に対して拡散することを抑制することができ、更に、検査対象である回路装置に対する異方導電膜10Aの接着を抑制することができる。
As the nonmagnetic insulating particles contained in the one surface side surface layer portion 10B in the anisotropic conductive film 10A, diamond powder, glass powder, ceramic powder, ordinary silica powder, colloidal silica, airgel silica, alumina, or the like can be used. Of these, diamond powder is preferred.
By including such non-magnetic insulating particles in the one-surface-side surface layer portion 10B, the hardness of the one-surface-side surface layer portion 10B is further increased, high repetition durability is obtained, and a lead component constituting the electrode to be inspected Can be prevented from diffusing with respect to the coating layer in the conductive particles, and further, the adhesion of the anisotropic conductive film 10A to the circuit device to be inspected can be suppressed.

非磁性絶縁性粒子の粒子径は、0.1〜50μmであることが好ましく、より好ましくは0.5〜40μm、さらに好ましくは1〜30μmである。この粒子径が過小である場合には、得られる一面側表層部分10Bに対して、永久的な変形や磨耗による変形を抑制する効果を十分に付与することが困難となる。また、粒子径が過小である非磁性絶縁性粒子を多量に用いると、当該一面側表層部分10Bを得るための成形材料の流動性が低下するため、当該成形材料中の導電性粒子を磁場によって配向させることが困難となることがある。
一方、この粒子径が過大である場合には、当該非磁性絶縁性粒子が導電路形成部11に存在することにより、電気抵抗値が低い導電路形成部11を得ることが困難となることがある。
The particle diameter of the nonmagnetic insulating particles is preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 0.5 to 40 μm, and still more preferably 1 to 30 μm. When this particle diameter is too small, it is difficult to sufficiently impart an effect of suppressing permanent deformation or deformation due to wear to the obtained one-surface-side surface layer portion 10B. In addition, if a large amount of non-magnetic insulating particles having an excessively small particle diameter is used, the fluidity of the molding material for obtaining the one-surface-side surface layer portion 10B is lowered. It may be difficult to align.
On the other hand, when the particle diameter is excessive, it is difficult to obtain the conductive path forming portion 11 having a low electric resistance value because the nonmagnetic insulating particles are present in the conductive path forming portion 11. is there.

非磁性絶縁性粒子の使用量は、特に限定されるものではないが、使用量が少ないと、一面側表層部分10Bの硬度を高めることができないため、好ましくなく、使用量が多いと、後述する製造方法において、磁場による導電性粒子の配向を十分に達成することができなくなるため、好ましくない。非磁性絶縁性粒子の実用的な使用量は、一面側表層部分10Bを構成する弾性高分子物質100重量部に対して5〜90重量部である。   The amount of the non-magnetic insulating particles used is not particularly limited, but if the amount used is small, the hardness of the one surface side surface layer portion 10B cannot be increased. In the manufacturing method, the orientation of the conductive particles by the magnetic field cannot be sufficiently achieved, which is not preferable. The practical use amount of the nonmagnetic insulating particles is 5 to 90 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the elastic polymer material constituting the one surface side surface layer part 10B.

支持体71を構成する材料としては、線熱膨張係数が3×10-5/K以下のものを用いることが好ましく、より好ましくは2×10-5〜1×10-6/K、特に好ましくは6×10-6〜1×10-6/Kである。
このような材料としては、金属材料や非金属材料を用いることができる。
金属材料としては、金、銀、銅、鉄、ニッケル、コバルト若しくはこれらの合金などを用いることができる。
非金属材料としては、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアラミド樹脂、ポリアミド樹脂等の機械的強度の高い樹脂材料、ガラス繊維補強型エポキシ樹脂、ガラス繊維補強型ポリエステル樹脂、ガラス繊維補強型ポリイミド樹脂等の繊維補強型樹脂材料、エポキシ樹脂等にシリカ、アルミナ、ボロンナイトライド等の無機材料をフィラーとして混入した複合樹脂材料などを用いることができるが、熱膨張係数が小さい点で、ポリイミド樹脂、ガラス繊維補強型エポキシ樹脂等の繊維補強型樹脂材料、ボロンナイトライドをフィラーとして混入したエポキシ樹脂等の複合樹脂材料が好ましい。
As a material constituting the support 71, a material having a linear thermal expansion coefficient of 3 × 10 −5 / K or less is preferably used, more preferably 2 × 10 −5 to 1 × 10 −6 / K, particularly preferably. Is 6 × 10 −6 to 1 × 10 −6 / K.
As such a material, a metal material or a non-metal material can be used.
As the metal material, gold, silver, copper, iron, nickel, cobalt, or an alloy thereof can be used.
Nonmetallic materials include resin materials with high mechanical strength such as polyimide resin, polyester resin, polyaramid resin, polyamide resin, fibers such as glass fiber reinforced epoxy resin, glass fiber reinforced polyester resin, glass fiber reinforced polyimide resin, etc. Composite resin materials such as reinforced resin materials, epoxy resins, etc. mixed with inorganic materials such as silica, alumina, and boron nitride as fillers can be used. A fiber reinforced resin material such as an epoxy resin and a composite resin material such as an epoxy resin mixed with boron nitride as a filler are preferable.

上記の異方導電性コネクター10によれば、異方導電膜10Aにおける一面側表層部分10Bには、絶縁性のメッシュ若しくは不織布よりなる補強材が含有されているため、接続対象電極が突起状のものであっても、当該接続対象電極の圧接による永久的な変形や、磨耗による変形が生じることを抑制することができる。しかも、異方導電膜10Aにおける他の層部分10Cにおいては、前記補強材が存在しないため、導電路形成部11が加圧されたときには、当該異方導電膜10Aを形成する弾性高分子物質それ自体が有する弾性が十分に発揮される結果、所要の導電性が確実に得られる。従って、接続対象電極によって繰り返して押圧されても、長期間にわたって安定した導電性が得られる。
また、導電路形成部11における接続対象電極の圧接による永久的な変形が小さく、その弾性力が長期間にわたって安定に維持されるため、接続対象体が接着することを確実に防止または抑制することができる。
According to the anisotropic conductive connector 10 described above, the surface layer portion 10B on the one surface side of the anisotropic conductive film 10A contains the reinforcing material made of an insulating mesh or a nonwoven fabric. Even if it is a thing, it can suppress that the permanent deformation | transformation by the press-contact of the said connection object electrode and the deformation | transformation by abrasion arise. Moreover, in the other layer portion 10C of the anisotropic conductive film 10A, since the reinforcing material does not exist, the elastic polymer material that forms the anisotropic conductive film 10A when the conductive path forming portion 11 is pressurized. As a result of sufficiently exhibiting its own elasticity, the required conductivity can be reliably obtained. Therefore, even when repeatedly pressed by the connection target electrode, stable conductivity can be obtained over a long period of time.
Further, since the permanent deformation due to the pressure contact of the connection target electrode in the conductive path forming portion 11 is small and the elastic force is stably maintained over a long period of time, it is possible to reliably prevent or suppress the connection target body from adhering. Can do.

また、異方導電膜10Aにおける一面側表層部分10Bには、非磁性絶縁性粒子が含有されているため、当該一面側表層部分10Bの硬度が増加することにより、接続対象電極の圧接による永久的な変形や、磨耗による変形が生じることを一層抑制することができ、更に、電極物質が導電性粒子に移行することが防止または抑制されるため、長期間にわたって一層安定した導電性が得られ、しかも、回路装置の電気的検査において、高温環境下において回路装置に圧接された状態で使用した場合にも、当該回路装置に接着することを一層確実に防止または抑制することができる。   Further, since the one surface side surface layer portion 10B of the anisotropic conductive film 10A contains non-magnetic insulating particles, the hardness of the one surface side surface layer portion 10B increases, so that the surface of the anisotropic conductive film 10B becomes permanent due to the pressure contact of the connection target electrode. Further deformation, and deformation due to wear can be further suppressed, and further, since the electrode material is prevented or suppressed from being transferred to the conductive particles, more stable conductivity can be obtained over a long period of time. In addition, in the electrical inspection of a circuit device, even when used in a state of being pressed against the circuit device in a high temperature environment, it is possible to more reliably prevent or suppress adhesion to the circuit device.

このような異方導電性コネクター10は、例えば次のようにして製造することができる。
図6は、本発明の異方導電性コネクターを製造するために用いられる金型の一例における構成を示す説明用断面図である。この金型は、上型50およびこれと対となる下型55が、互いに対向するよう配置されて構成され、上型50の成形面(図6において下面)と下型55の成形面(図6において上面)との間に成形空間59が形成されている。
上型50においては、強磁性体基板51の表面(図6において下面)に、目的とする異方導電性コネクター10における導電路形成部11のパターンに対応する配置パターンに従って強磁性体層52が形成され、この強磁性体層52以外の個所には、当該強磁性体層52の厚みと実質的に同一の厚みを有する部分53b(以下、単に「部分53b」という。)と当該強磁性体層52の厚みより大きい厚みを有する部分53a(以下、単に「部分53a」という。)とりよなる非磁性体層53が形成されており、非磁性体層53における部分53aと部分53bとの間に段差が形成されることにより、当該上型50の表面には凹部60が形成されている。
Such an anisotropic conductive connector 10 can be manufactured as follows, for example.
FIG. 6 is an explanatory cross-sectional view showing the configuration of an example of a mold used for manufacturing the anisotropic conductive connector of the present invention. This mold is configured such that an upper mold 50 and a lower mold 55 paired with the upper mold 50 are arranged so as to face each other, and a molding surface (lower surface in FIG. 6) of the upper mold 50 and a molding surface of the lower mold 55 (FIG. 6, a molding space 59 is formed between the upper surface and the upper surface.
In the upper mold 50, the ferromagnetic layer 52 is formed on the surface (lower surface in FIG. 6) of the ferromagnetic substrate 51 according to the arrangement pattern corresponding to the pattern of the conductive path forming portion 11 in the target anisotropic conductive connector 10. At portions other than the ferromagnetic layer 52 formed, a portion 53b (hereinafter simply referred to as “portion 53b”) having a thickness substantially the same as the thickness of the ferromagnetic layer 52 and the ferromagnetic material are provided. A nonmagnetic layer 53 is formed which has a portion 53a (hereinafter simply referred to as “portion 53a”) having a thickness larger than the thickness of the layer 52, and between the portion 53a and the portion 53b in the nonmagnetic layer 53. A recess 60 is formed on the surface of the upper mold 50 due to the formation of the step.

一方、下型55においては、強磁性体基板56の表面(図6において上面)に、目的とする異方導電性コネクター10における導電路形成部11のパターンに対応するパターンに従って強磁性体層57が形成され、この強磁性体層57以外の個所には、当該強磁性体層57の厚みより大きい厚みを有する非磁性体層58が形成されており、非磁性体層58と強磁性体層57との間に段差が形成されることにより、当該下型55の成形面には、異方導電膜10Aにおける突出部分11aを形成するための凹部57aが形成されている。   On the other hand, in the lower die 55, the ferromagnetic layer 57 is formed on the surface of the ferromagnetic substrate 56 (upper surface in FIG. 6) according to a pattern corresponding to the pattern of the conductive path forming portion 11 in the target anisotropic conductive connector 10. And a nonmagnetic layer 58 having a thickness larger than the thickness of the ferromagnetic layer 57 is formed at locations other than the ferromagnetic layer 57. The nonmagnetic layer 58 and the ferromagnetic layer Since a step is formed between the lower mold 55 and the lower mold 55, a recess 57a for forming the protruding portion 11a of the anisotropic conductive film 10A is formed on the molding surface of the lower mold 55.

上型50および下型55の各々における強磁性体基板51、56を構成する材料としては、鉄、鉄−ニッケル合金、鉄−コバルト合金、ニッケル、コバルトなどの強磁性金属を用いることができる。この強磁性体基板51、56は、その厚みが0.1〜50mmであることが好ましく、表面が平滑で、化学的に脱脂処理され、また、機械的に研磨処理されたものであることが好ましい。   Ferromagnetic metals such as iron, iron-nickel alloy, iron-cobalt alloy, nickel, and cobalt can be used as materials constituting the ferromagnetic substrates 51 and 56 in each of the upper mold 50 and the lower mold 55. The ferromagnetic substrates 51 and 56 preferably have a thickness of 0.1 to 50 mm, have a smooth surface, are chemically degreased, and are mechanically polished. preferable.

また、上型50および下型55の各々における強磁性体層52,57を構成する材料としては、鉄、鉄−ニッケル合金、鉄−コバルト合金、ニッケル、コバルトなどの強磁性金属を用いることができる。この強磁性体層52、57は、その厚みが10μm以上であることが好ましい。この厚みが10μm未満である場合には、金型内に形成される成形材料層に対して、十分な強度分布を有する磁場を作用させることが困難となり、この結果、当該成形材料層における導電路形成部11となるべき部分に導電性粒子を高い密度で集合させることが困難となるため、良好な異方導電性コネクターが得られないことがある。   In addition, as a material constituting the ferromagnetic layers 52 and 57 in each of the upper mold 50 and the lower mold 55, a ferromagnetic metal such as iron, iron-nickel alloy, iron-cobalt alloy, nickel, or cobalt is used. it can. The ferromagnetic layers 52 and 57 preferably have a thickness of 10 μm or more. When this thickness is less than 10 μm, it becomes difficult to cause a magnetic field having a sufficient strength distribution to act on the molding material layer formed in the mold, and as a result, a conductive path in the molding material layer. Since it becomes difficult to gather the conductive particles at a high density in the portion to be the formation portion 11, a good anisotropic conductive connector may not be obtained.

また、上型50および下型55の各々における非磁性体層53,58を構成する材料としては、銅などの非磁性金属、耐熱性を有する高分子物質などを用いることができるが、フォトリソグラフィーの手法により容易に非磁性体層53,58を形成することができる点で、放射線によって硬化された高分子物質を用いることが好ましく、その材料としては、例えばアクリル系のドライフィルムレジスト、エポキシ系の液状レジスト、ポリイミド系の液状レジストなどのフォトレジストを用いることができる。
また、下型55における非磁性体層58の厚みは、形成すべき突出部分11aの突出高さおよび強磁性体層57の厚みに応じて設定される。
In addition, as the material constituting the nonmagnetic layers 53 and 58 in each of the upper mold 50 and the lower mold 55, a nonmagnetic metal such as copper, a heat-resistant polymer substance, or the like can be used. It is preferable to use a polymer material cured by radiation in that the nonmagnetic layers 53 and 58 can be easily formed by the above method. Examples of the material include acrylic dry film resists and epoxy-based materials. A photoresist such as a liquid resist or a polyimide liquid resist can be used.
In addition, the thickness of the nonmagnetic layer 58 in the lower die 55 is set according to the protruding height of the protruding portion 11 a to be formed and the thickness of the ferromagnetic layer 57.

上記の金型を用い、例えば、次のようにして異方導電性コネクター10が製造される。 先ず、図4および図5に示すように、中央位置に開口部を有する枠状のスペーサー54a,54bと、開口部73および位置決め穴72を有する支持体71とを用意し、この支持体71を、図7に示すように、枠状のスペーサー54bを介して下型55の所定の位置に固定して配置し、更に支持体71上に枠状のスペーサー54aを配置する。
一方、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に、磁性を示す導電性粒子および非磁性絶縁性粒子を分散させることにより、一面側表層部分10Bを形成するためのペースト状の第1の成形材料を調製すると共に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質形成材料中に、磁性を示す導電性粒子を分散させることにより、他の層部分10Cを形成するためのペースト状の第2の成形材料を調製する。
次いで、図8に示すように、上型50の成形面上の凹部60(図6参照)内に絶縁性のメッシュ若しくは不織布よりなるシート状の補強材Hを配置し、更に、当該凹部60内に第1の成形材料を充填することにより、図9に示すように、高分子物質形成材料中に磁性を示す導電性粒子、非磁性絶縁性粒子および補強材が含有されてなる第1の成形材料層61aを形成し、一方、第2の成形材料を、下型55、スペーサー54a,54bおよび支持体71によって形成される空間内に充填することにより、高分子物質形成材料中に磁性を示す導電性粒子が含有されてなる第2の成形材料層61bを形成する。
そして、図10に示すように、上型50をスペーサー54a上に位置合わせして配置することにより、第2の成形材料層61b上に第1の成形材料層61aを積重する。
Using the above mold, for example, the anisotropic conductive connector 10 is manufactured as follows. First, as shown in FIGS. 4 and 5, frame-like spacers 54a and 54b having an opening at the center position, and a support 71 having an opening 73 and a positioning hole 72 are prepared. As shown in FIG. 7, the frame-shaped spacer 54 a is fixedly disposed at a predetermined position of the lower mold 55 via the frame-shaped spacer 54 b, and the frame-shaped spacer 54 a is further disposed on the support 71.
On the other hand, a paste for forming the one-surface-side surface layer portion 10B by dispersing conductive particles and nonmagnetic insulating particles exhibiting magnetism in a liquid polymer material-forming material that is cured to become an elastic polymer material. In order to form the other layer portion 10C by preparing a first molding material in the form of a magnetic material and dispersing conductive particles exhibiting magnetism in a polymer material-forming material that is cured to become an elastic polymer material A paste-like second molding material is prepared.
Next, as shown in FIG. 8, a sheet-like reinforcing material H made of an insulating mesh or nonwoven fabric is disposed in a recess 60 (see FIG. 6) on the molding surface of the upper mold 50, and further, in the recess 60. As shown in FIG. 9, the first molding material is filled with conductive particles showing magnetism, nonmagnetic insulating particles, and a reinforcing material, as shown in FIG. The material layer 61a is formed, while the second molding material is filled in the space formed by the lower mold 55, the spacers 54a and 54b, and the support 71, thereby exhibiting magnetism in the polymer material forming material. A second molding material layer 61b containing conductive particles is formed.
And as shown in FIG. 10, the 1st molding material layer 61a is stacked on the 2nd molding material layer 61b by aligning and arrange | positioning the upper mold | type 50 on the spacer 54a.

次いで、上型50における強磁性体基板51の上面および下型55における強磁性体基板56の下面に配置された電磁石(図示せず)を作動させることにより、強度分布を有する平行磁場、すなわち上型50の強磁性体層52とこれに対応する下型55の強磁性体層57との間において大きい強度を有する平行磁場を第1の成形材料層61aおよび第2の成形材料層61bの厚み方向に作用させる。その結果、第1の成形材料層61aおよび第2の成形材料層61bにおいては、各成形材料層中に分散されていた導電性粒子が、上型50の各々の強磁性体層52とこれに対応する下型55の強磁性体層57との間に位置する導電路形成部11となるべき部分に集合すると共に、各成形材料層の厚み方向に並ぶよう配向する。   Next, by operating electromagnets (not shown) disposed on the upper surface of the ferromagnetic substrate 51 in the upper mold 50 and the lower surface of the ferromagnetic substrate 56 in the lower mold 55, a parallel magnetic field having an intensity distribution, that is, the upper A parallel magnetic field having a high strength is applied between the ferromagnetic layer 52 of the mold 50 and the ferromagnetic layer 57 of the lower mold 55 corresponding to the thickness of the first molding material layer 61a and the second molding material layer 61b. Act in the direction. As a result, in the first molding material layer 61a and the second molding material layer 61b, the conductive particles dispersed in each molding material layer are transferred to each ferromagnetic layer 52 of the upper mold 50 and the same. They are gathered at the portion to be the conductive path forming portion 11 located between the corresponding lower layer 55 and the ferromagnetic layer 57, and are aligned so as to be aligned in the thickness direction of each molding material layer.

そして、この状態において、各成形材料層を硬化処理することにより、図11に示すように、弾性高分子物質中に導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で密に充填された導電路形成部11と、これらの導電路形成部11の周囲を包囲するよう形成された、導電性粒子が全くあるいは殆ど存在しない絶縁性の弾性高分子物質よりなる絶縁部15とを有し、一面側表層部分10Bに補強材および非磁性絶縁性粒子が含有された異方導電膜10Aが形成され、以て、図1乃至図3に示す構成の異方導電性コネクター10が製造される。   In this state, by curing each molding material layer, as shown in FIG. 11, the conductive path is densely packed in a state in which the conductive particles are aligned in the thickness direction in the elastic polymer substance. Forming part 11 and insulating part 15 made of an insulating elastic polymer material formed so as to surround the periphery of conductive path forming part 11 and having no or almost no conductive particles. An anisotropic conductive film 10A containing a reinforcing material and nonmagnetic insulating particles is formed on the surface layer portion 10B, whereby the anisotropic conductive connector 10 having the configuration shown in FIGS. 1 to 3 is manufactured.

以上において、各成形材料層の硬化処理は、平行磁場を作用させたままの状態で行うこともできるが、平行磁場の作用を停止させた後に行うこともできる。
各成形材料層に作用される平行磁場の強度は、平均で20,000〜1,000,000μTとなる大きさが好ましい。
また、各成形材料層に平行磁場を作用させる手段としては、電磁石の代わりに永久磁石を用いることもできる。永久磁石としては、上記の範囲の平行磁場の強度が得られる点で、アルニコ(Fe−Al−Ni−Co系合金)、フェライトなどよりなるものが好ましい。
各成形材料層の硬化処理は、使用される材料によって適宜選定されるが、通常、加熱処理によって行われる。具体的な加熱温度および加熱時間は、成形材料層を構成する高分子物質形成材料などの種類、導電性粒子の移動に要する時間などを考慮して適宜選定される。
In the above, the curing treatment of each molding material layer can be performed in a state where the parallel magnetic field is applied, but can also be performed after the operation of the parallel magnetic field is stopped.
The intensity of the parallel magnetic field applied to each molding material layer is preferably such that the average is 20,000 to 1,000,000 μT.
Further, as a means for applying a parallel magnetic field to each molding material layer, a permanent magnet can be used instead of an electromagnet. The permanent magnet is preferably made of alnico (Fe—Al—Ni—Co alloy), ferrite, or the like in that a parallel magnetic field strength in the above range can be obtained.
The curing treatment of each molding material layer is appropriately selected depending on the material used, but is usually performed by heat treatment. The specific heating temperature and heating time are appropriately selected in consideration of the type of polymer substance forming material constituting the molding material layer, the time required to move the conductive particles, and the like.

このような製造方法によれば、上型50の成形面に形成された、補強材を含有する第1の成形材料層61aと、下型55の成形面に形成された第2の成形材料層61bとを積重し、この状態で各成形材料層を硬化処理するため、一面側表層部分10Bのみに補強材が含有された異方導電膜10Aを有する異方導電性コネクター10を有利にかつ確実に製造することができる。
According to such a manufacturing method, the first molding material layer 61a containing the reinforcing material formed on the molding surface of the upper mold 50 and the second molding material layer formed on the molding surface of the lower mold 55 are formed. In order to cure each molding material layer in this state, the anisotropic conductive connector 10 having the anisotropic conductive film 10A in which the reinforcing material is contained only in the surface layer portion 10B is advantageously and It can be manufactured reliably.

図12は、本発明に係る回路装置の検査装置の一例における構成の概略を示す説明図である。
この回路装置の検査装置は、ガイドピン9を有する検査用回路基板5が設けられている。この検査用回路基板9の表面(図1において上面)には、検査対象である回路装置1における半球状のハンダボール電極2のパターンに対応するパターンに従って検査用電極6が形成されている。
検査用回路基板5の表面上には、図1乃至図3に示す構成の異方導電性コネクター10が配置されている。具体的には、異方導電性コネクター10における支持体71に形成された位置決め穴72(図1乃至図3参照)にガイドピン9が挿入されることにより、異方導電膜10Aにおける導電路形成部11が検査用電極6上に位置するよう位置決めされた状態で、当該異方導電性コネクター10が検査用回路基板5の表面上に固定されている。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing an outline of the configuration of an example of the circuit device inspection apparatus according to the present invention.
This circuit device inspection apparatus is provided with an inspection circuit board 5 having guide pins 9. On the surface of the inspection circuit board 9 (upper surface in FIG. 1), the inspection electrode 6 is formed according to a pattern corresponding to the pattern of the hemispherical solder ball electrode 2 in the circuit device 1 to be inspected.
An anisotropic conductive connector 10 having the configuration shown in FIGS. 1 to 3 is disposed on the surface of the inspection circuit board 5. Specifically, the conductive path is formed in the anisotropic conductive film 10A by inserting the guide pins 9 into the positioning holes 72 (see FIGS. 1 to 3) formed in the support 71 in the anisotropic conductive connector 10. The anisotropic conductive connector 10 is fixed on the surface of the inspection circuit board 5 with the portion 11 positioned so as to be positioned on the inspection electrode 6.

このような回路装置の検査装置においては、異方導電性コネクター10上に、ハンダボール電極2が導電路形成部11上に位置されるよう回路装置1が配置され、この状態で、例えば回路装置1を検査用回路基板5に接近する方向に押圧することにより、異方導電性コネクター10における導電路形成部11の各々が、ハンダボール電極2と検査用電極6とにより挟圧された状態となり、その結果、回路装置1の各ハンダボール電極2と検査用回路基板5の各検査用電極6との間の電気的接続が達成され、この検査状態で回路装置1の検査が行われる。   In such a circuit device inspection device, the circuit device 1 is disposed on the anisotropic conductive connector 10 so that the solder ball electrode 2 is positioned on the conductive path forming portion 11, and in this state, for example, the circuit device By pressing 1 in the direction approaching the inspection circuit board 5, each of the conductive path forming portions 11 in the anisotropic conductive connector 10 is sandwiched between the solder ball electrode 2 and the inspection electrode 6. As a result, electrical connection between each solder ball electrode 2 of the circuit device 1 and each inspection electrode 6 of the circuit board 5 for inspection is achieved, and the circuit device 1 is inspected in this inspection state.

上記の回路装置の検査装置によれば、上記の異方導電性コネクター10を具えてなるため、被検査電極が突起状のハンダボール電極2であっても、当該被検査電極の圧接によって、異方導電膜10Aに、永久的な変形や、磨耗による変形が生じることが抑制されるので、多数の回路装置1について連続して検査を行なった場合でも、長期間にわたって安定した導電性を得ることができると共に、異方導電膜10Aに回路装置1が接着することを確実に防止または抑制することができる。
また、異方導電性コネクター10の異方導電膜10Aにおける回路装置1に接触する一面側表層部分10Bに、非磁性絶縁性粒子が含有されていることにより、被検査電極2の電極物質が導電性粒子に移行することが防止または抑制されるため、長期間にわたって一層安定した導電性が得られ、しかも、高温環境下において回路装置1に圧接された状態で使用した場合にも、当該回路装置1が異方導電膜10Aに接着することを一層確実に防止または抑制することができる。
また、異方導電性コネクター10の他に、シート状コネクターを用いることが不要となるので、異方導電性コネクター10とシート状コネクターとの位置合わせが不要であり、温度変化によるシート状コネクターと異方導電性コネクター10との位置ずれの問題を回避することができ、しかも、検査装置の構成が容易である。
According to the circuit device inspection apparatus described above, since the anisotropic conductive connector 10 is provided, even if the electrode to be inspected is a protruding solder ball electrode 2, the difference is caused by the pressure contact of the electrode to be inspected. Since permanent deformation or deformation due to wear is suppressed in the conductive film 10A, even when a large number of circuit devices 1 are continuously inspected, stable conductivity can be obtained over a long period of time. In addition, the circuit device 1 can be reliably prevented or suppressed from adhering to the anisotropic conductive film 10A.
Further, the non-magnetic insulating particles are contained in the surface layer portion 10B of the anisotropic conductive film 10A of the anisotropic conductive connector 10 that contacts the circuit device 1, so that the electrode material of the electrode 2 to be inspected is conductive. Therefore, even when used in a state of being pressed against the circuit device 1 in a high temperature environment, the circuit device can be obtained. It is possible to more reliably prevent or suppress the adhesion of 1 to the anisotropic conductive film 10A.
Further, since it is not necessary to use a sheet-like connector in addition to the anisotropic conductive connector 10, there is no need to align the anisotropic conductive connector 10 and the sheet-like connector. The problem of misalignment with the anisotropic conductive connector 10 can be avoided, and the configuration of the inspection apparatus is easy.

本発明においては、上記の実施の形態に限定されずに種々の変更を加えることが可能である。
(1)本発明の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、検査対象である回路装置の被検査電極は、半球形状のハンダボール電極に限られず、例えばリード電極や平板状の電極であってもよい。
(2)本発明の異方導電性コネクターにおいて、支持体を設けることは必須ではなく、異方導電膜のみよりなるものであってもよい。
(3)異方導電膜10Aにおける一面側表層部分10Bに非磁性絶縁性粒子を含有させることは必須ではない。
(4)本発明の異方導電性コネクター10を回路装置の電気的検査に用いる場合において、異方導電膜は、検査用回路基板に一体的に接着されていてもよい。このような構成によれば、異方導電膜と検査用回路基板との間の位置ずれを確実に防止することができる。
このような異方導電性コネクターは、異方導電性コネクターを製造するための金型として、成形空間内に検査用回路基板5を配置し得る基板配置用空間領域を有するものを用い、当該金型の成形空間内における基板配置用空間領域に検査用回路基板を配置し、この状態で、例えば成形空間内に成形材料を注入して硬化処理することにより、製造することができる。
(5)本発明の異方導電性コネクターの製造方法においては、導電路形成部を、第1の成形材料層と第2の成形材料層と積重することにより、目的とする異方導電膜の形態に対応した形態の成形材料層を形成するため、第1の成形材料および第2の成形材料として、互いに種類の異なる材料を用いることにより、所望の特性を有する異方導電性コネクターを得ることができる。具体的には、既述のように導電性粒子の種類が異なる層部分を積層させる構成のほか、例えば導電性粒子の粒子径あるいは導電性粒子の含有割合が異なる層部分を積層させた構成により、導電性の程度が制御された導電路形成部を形成することができ、また、弾性高分子物質の種類が異なる層部分を積層させた構成により、弾性特性が制御された導電路形成部を形成することが可能である。
また、特開2003−77962号公報および特開2003−123869号公報に記載されている異方導電性コネクターの製造方法によっても、本発明の異方導電性コネクターを製造することができる。
In the present invention, it is possible to add various changes without being limited to the above embodiment.
(1) When the anisotropic conductive connector 10 of the present invention is used for an electrical inspection of a circuit device, the inspected electrode of the circuit device to be inspected is not limited to a hemispherical solder ball electrode. It may be a flat electrode.
(2) In the anisotropic conductive connector of the present invention, it is not essential to provide a support, and it may be composed only of an anisotropic conductive film.
(3) It is not essential for the one-surface-side surface layer portion 10B of the anisotropic conductive film 10A to contain nonmagnetic insulating particles.
(4) When the anisotropic conductive connector 10 of the present invention is used for electrical inspection of a circuit device, the anisotropic conductive film may be integrally bonded to the inspection circuit board. According to such a configuration, it is possible to reliably prevent the positional deviation between the anisotropic conductive film and the inspection circuit board.
Such an anisotropic conductive connector uses a metal mold for manufacturing the anisotropic conductive connector having a board placement space area in which the circuit board for inspection 5 can be placed in the molding space. The circuit board for inspection is placed in the space area for board placement in the molding space of the mold, and in this state, for example, the molding material is injected into the molding space and cured, so that it can be manufactured.
(5) In the method for manufacturing the anisotropic conductive connector of the present invention, the target anisotropic conductive film is formed by stacking the conductive path forming portion with the first molding material layer and the second molding material layer. In order to form a molding material layer having a shape corresponding to the shape of the first, the anisotropic conductive connector having desired characteristics is obtained by using different types of materials as the first molding material and the second molding material. be able to. Specifically, in addition to the configuration in which layer portions having different types of conductive particles are stacked as described above, for example, the configuration in which layer portions having different particle diameters or conductive particle content rates are stacked is used. A conductive path forming part with a controlled degree of conductivity can be formed, and a conductive path forming part with a controlled elastic property can be formed by laminating layers having different types of elastic polymer materials. It is possible to form.
Further, the anisotropic conductive connector of the present invention can also be manufactured by the method for manufacturing an anisotropic conductive connector described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2003-77962 and 2003-123869.

(6)本発明の異方導電性コネクターは、導電路形成部が一定のピッチで配置され、一部の導電路形成部が被検査電極に電気的に接続される有効導電路形成部とされ、その他の導電路形成部が被検査電極に電気的に接続されない無効導電路形成部とされていてもよい。 具体的に説明すると、図13に示すように、検査対象である回路装置1としては、例えばCSP(Chip Scale Package)やTSOP(Thin Small Outline Package)などのように、一定のピッチの格子点位置のうち一部の位置にのみ被検査電極が配置された構成のものがあり、このような回路装置1を検査するための異方導電性コネクター10においては、導電路形成部11が被検査電極と実質的に同一のピッチの格子点位置に従って配置され、被検査電極に対応する位置にある導電路形成部11が有効導電路形成部とされ、それら以外の導電路形成部11が無効導電路形成部とされていてもよい。
このような構成の異方導電性コネクター10によれば、当該異方導電性コネクター10の製造において、金型の強磁性体層が一定のピッチで配置されることにより、成形材料層に磁場を作用させたときに、導電性粒子を所定の位置に効率よく集合させて配向させることができ、これにより、得られる導電路形成部の各々において、導電性粒子の密度が均一なものとなるので、各導電路形成部の抵抗値の差が小さい異方導電性コネクターを得ることができる。
(6) The anisotropic conductive connector according to the present invention is configured such that the conductive path forming portions are arranged at a constant pitch, and a part of the conductive path forming portions are electrically connected to the electrode to be inspected. Other conductive path forming portions may be ineffective conductive path forming portions that are not electrically connected to the electrode to be inspected. More specifically, as shown in FIG. 13, as the circuit device 1 to be inspected, lattice point positions with a constant pitch, such as CSP (Chip Scale Package) and TSOP (Thin Small Outline Package), are used. Among them, there is a configuration in which the electrodes to be inspected are arranged only at some positions. In the anisotropic conductive connector 10 for inspecting such a circuit device 1, the conductive path forming portion 11 has the electrodes to be inspected. The conductive path forming portion 11 located at a position corresponding to the electrode to be inspected is set as an effective conductive path forming portion, and the other conductive path forming portions 11 are ineffective conductive paths. It may be a forming part.
According to the anisotropic conductive connector 10 having such a configuration, when the anisotropic conductive connector 10 is manufactured, the ferromagnetic layer of the mold is arranged at a constant pitch, so that a magnetic field is applied to the molding material layer. When applied, the conductive particles can be efficiently assembled and oriented at a predetermined position, and thereby, the density of the conductive particles becomes uniform in each of the obtained conductive path forming portions. An anisotropic conductive connector having a small difference in resistance value between the respective conductive path forming portions can be obtained.

(7)異方導電膜の具体的な形状および構造は、種々の変更が可能である。
例えば図14に示すように、異方導電膜10Aは、その中心部において、検査対象である回路装置の被検査電極と接する面に凹部16を有するものであってもよい。
また、図15に示すように、異方導電膜10Aは、その中心部において、貫通孔17を有するものであってもよい。
また、図16に示すように、異方導電膜10Aは、支持体71によって支持される周縁部に導電路形成部11が形成されておらず、当該周縁部以外の領域にのみ導電路形成部11が形成されたものであってもよく、これらの全ての導電路形成部11が有効導電路形成部とされていてもよい
また、図17に示すように、異方導電性膜10Aは、有効導電路形成部12と周縁部との間に無効導電路形成部13が形成されたものであってもよい。
また、図18に示すように、異方導電膜10Aは、他の層部分10Cが、他面側の表層部分(以下、「他面側表層部分」という。)10Dと、当該他面側表層部分10Dと異なる種類の弾性高分子物質により形成された中間層部分10Eとよりなるものであってもよく、或いはそれぞれ異なる種類の弾性高分子物質により形成された複数の中間層部分を有するものであってもよい。
また、図19に示すように、異方導電膜10Aは、その両面が平面とされたものであってもよい。
また、図20に示すように、異方導電膜10Aは、その両面において導電路形成部11の表面が絶縁部15の表面から突出する突出部分11aが形成されたものであってもよい。
(7) The specific shape and structure of the anisotropic conductive film can be variously changed.
For example, as shown in FIG. 14, the anisotropic conductive film 10 </ b> A may have a concave portion 16 on the surface in contact with the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected at the center thereof.
Further, as shown in FIG. 15, the anisotropic conductive film 10 </ b> A may have a through hole 17 at the center thereof.
Further, as shown in FIG. 16, the anisotropic conductive film 10A has no conductive path forming portion 11 formed in the peripheral portion supported by the support 71, and the conductive path forming portion is formed only in a region other than the peripheral portion. may be those 11 are formed, all of these conductive path-forming parts 11 may be effective conducting path forming portion.
As shown in FIG. 17, the anisotropic conductive film 10 </ b> A may be one in which an invalid conductive path forming portion 13 is formed between the effective conductive path forming portion 12 and the peripheral portion.
Further, as shown in FIG. 18, in the anisotropic conductive film 10A, the other layer portion 10C has a surface layer portion on the other surface side (hereinafter referred to as “other surface side surface portion”) 10D and the other surface side surface layer. The portion 10D may be composed of an intermediate layer portion 10E formed of a different type of elastic polymer material, or may have a plurality of intermediate layer portions each formed of a different type of elastic polymer material. There may be.
Further, as shown in FIG. 19, the anisotropic conductive film 10 </ b> A may have a flat both surfaces.
Further, as shown in FIG. 20, the anisotropic conductive film 10 </ b> A may have a protruding portion 11 a where the surface of the conductive path forming portion 11 protrudes from the surface of the insulating portion 15 on both surfaces thereof.

(8)本発明の回路装置の検査装置においては、図21に示すように、異方導電性コネクター10の異方導電膜10Aに対する被検査電極(ハンダボール電極2)の加圧力を緩和する加圧力緩和フレーム65が、検査対象である回路装置1と異方導電性コネクター10との間に配置されていてもよい。
この加圧力緩和フレーム65は、図22にも示すように、全体が矩形の板状であって、その中央部に、検査対象である回路装置1の被検査電極と異方導電性コネクター10の導電路形成部11とを接触するための略矩形の開口部66が形成され、開口部66の4つの周縁の各々には、板バネ部67が当該開口部66の周縁から内方に斜め上方に突出するよう一体に形成されている。図示の例では、加圧力緩和フレーム65は、開口部66の寸法が異方導電性コネクター10における異方導電膜10Aの寸法より大きいものとされ、板バネ部67の先端部分のみが異方導電膜10Aの周縁部の上方位置に位置するよう配置されている。また、板バネ部67の先端の高さは、当該板バネ部67の先端が回路装置1に接触したときに、当該回路装置1の被検査電極が異方導電膜10Aに接触しないよう設定されている。また、加圧力緩和フレーム65の四隅の位置の各々には、検査用回路基板5のガイドピンが挿通される位置決め穴68が形成されている。
(8) In the circuit device inspection apparatus of the present invention, as shown in FIG. 21, the pressure applied to the electrode to be inspected (solder ball electrode 2) against the anisotropic conductive film 10A of the anisotropic conductive connector 10 is relaxed. The pressure relaxation frame 65 may be disposed between the circuit device 1 to be inspected and the anisotropic conductive connector 10.
As shown in FIG. 22, the pressure relief frame 65 has a rectangular plate shape as a whole, and has an inspected electrode of the circuit device 1 to be inspected and an anisotropic conductive connector 10 at the center. A substantially rectangular opening 66 for contacting the conductive path forming portion 11 is formed, and a leaf spring portion 67 is obliquely upward inward from the periphery of the opening 66 at each of the four peripheral edges of the opening 66. Are integrally formed so as to protrude. In the illustrated example, the pressure relief frame 65 has an opening 66 larger in size than the anisotropic conductive film 10 </ b> A in the anisotropic conductive connector 10, and only the tip portion of the leaf spring portion 67 is anisotropically conductive. It arrange | positions so that it may be located in the upper position of the peripheral part of film | membrane 10A. Further, the height of the tip of the leaf spring portion 67 is set so that the electrode to be inspected of the circuit device 1 does not contact the anisotropic conductive film 10A when the tip of the leaf spring portion 67 contacts the circuit device 1. ing. Further, positioning holes 68 through which the guide pins of the circuit board for inspection 5 are inserted are formed at the four corner positions of the pressure relief frame 65.

このような構成の回路装置の検査装置によれば、例えば回路装置1を検査用回路基板5に接近する方向に押圧することにより、加圧力緩和フレーム65の板バネ部67に回路装置1が圧接されると、当該板バネ部67のバネ弾性によって、異方導電性コネクター10の異方導電膜10Aに対する被検査電極の加圧力が緩和される。更に、図23に示すように、加圧力緩和フレーム65の板バネ部67が異方導電性コネクター10の異方導電膜10Aの周縁部に圧接された状態においては、当該異方導電膜10Aのゴム弾性によって、異方導電膜10Aに対する被検査電極の加圧力が一層緩和される。従って、異方導電膜10Aの導電路形成部11には、より長期間にわたって安定した導電性が得られる。
また、加圧力緩和フレーム65の板バネ部67によるバネ弾性によって、被検査電極(ハンダボール電極2)によって異方導電膜10Aに加わる衝撃の大きさを低下させることができるので、異方導電膜10Aの破損またはその他の故障を防止または抑制することができると共に、異方導電膜10Aに対する加圧力が解除されたときには、当該加圧力緩和フレーム65の板バネ部67によるバネ弾性によって、回路装置1が異方導電性膜10Aから容易に離脱するので、検査が終了した回路装置1を未検査の回路装置に交換する作業を円滑に行なうことができ、その結果、回路装置の検査効率の向上を図ることができる。
According to the circuit device inspection apparatus having such a configuration, for example, the circuit device 1 is pressed against the leaf spring portion 67 of the pressure relief frame 65 by pressing the circuit device 1 in a direction approaching the inspection circuit board 5. Then, the applied pressure of the electrode to be inspected against the anisotropic conductive film 10 </ b> A of the anisotropic conductive connector 10 is relieved by the spring elasticity of the leaf spring portion 67. Further, as shown in FIG. 23, in a state where the leaf spring portion 67 of the pressure relief frame 65 is in pressure contact with the peripheral portion of the anisotropic conductive film 10A of the anisotropic conductive connector 10, the anisotropic conductive film 10A Due to the rubber elasticity, the applied pressure of the electrode to be inspected against the anisotropic conductive film 10A is further relaxed. Therefore, the conductive path forming portion 11 of the anisotropic conductive film 10A can obtain stable conductivity over a longer period.
Further, since the elasticity of the leaf spring portion 67 of the pressure relief frame 65 can reduce the magnitude of impact applied to the anisotropic conductive film 10A by the electrode to be inspected (solder ball electrode 2), the anisotropic conductive film. 10A can be prevented or suppressed, and when the applied pressure to the anisotropic conductive film 10A is released, the spring elasticity of the leaf spring portion 67 of the applied pressure relaxation frame 65 causes the circuit device 1. Can be easily separated from the anisotropic conductive film 10A, so that the work of replacing the circuit device 1 that has been inspected with an uninspected circuit device can be smoothly performed, and as a result, the inspection efficiency of the circuit device can be improved. Can be planned.

(9)加圧力緩和フレームとしては、図21に示すものに限定されない。
例えば、図24に示すように、加圧力緩和フレーム65は、開口部66の寸法が異方導電性コネクター10における異方導電膜10Aの寸法より大きいものであってもよい。
また、図25に示すように、加圧力緩和フレーム65は、開口部66の寸法が異方導電性コネクター10における異方導電膜10Aの寸法より大きく、かつ、板バネ部67の先端が支持体71における露出した部分の上方位置に位置するよう配置されるものであってもよく、板バネ部67のバネ弾性のみによって、異方導電性コネクター10の異方導電膜10Aに対する被検査電極(ハンダボール電極2)の加圧力が緩和される。
また、図26に示すように、加圧力緩和フレーム65は、ゴムシートよりなるものであってもよく、このような構成によれば、加圧力緩和フレーム65のゴム弾性によって、異方導電性コネクター10の異方導電膜10Aに対する被検査電極(ハンダボール電極2)の加圧力が緩和される。
また、図27に示すように、加圧力緩和フレーム65は、バネ弾性およびゴム弾性のいずれも有しない板状のものであってもよく、このような構成によれば、加圧力緩和フレーム65として適宜の厚みのものを選択することにより、異方導電性コネクター10の異方導電膜10Aに対する被検査電極(ハンダボール電極2)の加圧力を調整することができる。
(9) The pressure relief frame is not limited to that shown in FIG.
For example, as shown in FIG. 24, the pressure relief frame 65 may have a size of the opening 66 larger than the size of the anisotropic conductive film 10 </ b> A in the anisotropic conductive connector 10.
Further, as shown in FIG. 25, the pressure relief frame 65 has a size of the opening 66 larger than the size of the anisotropic conductive film 10A in the anisotropic conductive connector 10 and the tip of the leaf spring portion 67 is a support body. 71 may be arranged so as to be positioned above the exposed portion of 71, and the electrode to be inspected (solder) for the anisotropic conductive film 10A of the anisotropic conductive connector 10 only by the spring elasticity of the leaf spring portion 67. The applied pressure of the ball electrode 2) is relieved.
Further, as shown in FIG. 26, the pressure relief frame 65 may be made of a rubber sheet. According to such a configuration, the anisotropic conductive connector is formed by the rubber elasticity of the pressure relief frame 65. The applied pressure of the electrode to be inspected (solder ball electrode 2) against the 10 anisotropic conductive films 10A is alleviated.
In addition, as shown in FIG. 27, the pressure relief frame 65 may be a plate-like member having neither spring elasticity nor rubber elasticity. By selecting an appropriate thickness, it is possible to adjust the pressure applied to the electrode to be inspected (solder ball electrode 2) against the anisotropic conductive film 10A of the anisotropic conductive connector 10.

以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, specific examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited to the following examples.

〔付加型液状シリコーンゴム〕
以下の実施例および比較例において、付加型液状シリコーンゴムとしては、A液の粘度が500Pa・s、B液の粘度が500Pa・sである二液型のものであって、硬化物の圧縮永久歪みが6%、デュロメーターA硬さが42、引裂強度が30kN/mのものを使用した。
[Additional liquid silicone rubber]
In the following Examples and Comparative Examples, the addition-type liquid silicone rubber is a two-component type in which the viscosity of the liquid A is 500 Pa · s and the viscosity of the liquid B is 500 Pa · s, A strain having a strain of 6%, a durometer A hardness of 42, and a tear strength of 30 kN / m was used.

また、上記の付加型液状シリコーンゴムの特性は、次のようにして測定したものである。
(1)付加型液状シリコーンゴムの粘度:
B型粘度計により、23±2℃における粘度を測定した。
(2)シリコーンゴム硬化物の圧縮永久歪み:
二液型の付加型液状シリコーンゴムにおけるA液とB液とを等量となる割合で攪拌混合した。次いで、この混合物を金型に流し込み、当該混合物に対して減圧による脱泡処理を行った後、120℃、30分間の条件で硬化処理を行うことにより、厚みが12.7mm、直径が29mmのシリコーンゴム硬化物よりなる円柱体を作製し、この円柱体に対して、200℃、4時間の条件でポストキュアを行った。このようにして得られた円柱体を試験片として用い、JIS K 6249に準拠して150±2℃における圧縮永久歪みを測定した。
(3)シリコーンゴム硬化物の引裂強度:
上記(2)と同様の条件で付加型液状シリコーンゴムの硬化処理およびポストキュアを行うことにより、厚みが2.5mmのシートを作製した。このシートから打ち抜きによってクレセント形の試験片を作製し、JIS K 6249に準拠して23±2℃における引裂強度を測定した。
(4)デュロメーターA硬さ:
上記(3)と同様にして作製されたシートを5枚重ね合わせ、得られた積重体を試験片として用い、JIS K 6249に準拠して23±2℃におけるデュロメーターA硬さを測定した。
The characteristics of the addition type liquid silicone rubber are measured as follows.
(1) Viscosity of addition-type liquid silicone rubber:
The viscosity at 23 ± 2 ° C. was measured with a B-type viscometer.
(2) Compression set of cured silicone rubber:
The liquid A and the liquid B in the two-pack type addition type liquid silicone rubber were stirred and mixed at an equal ratio. Next, after pouring this mixture into a mold and subjecting the mixture to defoaming treatment under reduced pressure, a curing treatment is performed under the conditions of 120 ° C. and 30 minutes, so that the thickness is 12.7 mm and the diameter is 29 mm. A cylindrical body made of a cured silicone rubber was prepared, and post-curing was performed on the cylindrical body at 200 ° C. for 4 hours. The cylindrical body thus obtained was used as a test piece, and compression set at 150 ± 2 ° C. was measured in accordance with JIS K 6249.
(3) Tear strength of cured silicone rubber:
A sheet having a thickness of 2.5 mm was produced by curing the addition-type liquid silicone rubber and post-curing under the same conditions as in (2) above. A crescent-shaped test piece was produced by punching from this sheet, and the tear strength at 23 ± 2 ° C. was measured according to JIS K 6249.
(4) Durometer A hardness:
Five sheets produced in the same manner as in the above (3) were superposed, and the obtained stack was used as a test piece, and the durometer A hardness at 23 ± 2 ° C. was measured according to JIS K 6249.

〈実施例1〉
(a)支持体および金型の作製:
図4に示す構成に従い、下記の仕様の支持体を作製すると共に、図6に示す構成に従い、下記の仕様の異方導電膜成形用の金型を作製した。
〔支持体〕
支持体(71)は、材質がSUS304、厚みが0.1mm、開口部(73)の寸法が17mm×10mmで、四隅に位置決め穴(72)を有する。
〔金型〕
上型(50)および下型(55)の各々の強磁性体基板(51,56)は、材質が鉄で、厚みが6mmである。
上型(50)および下型(55)の各々の強磁性体層(52,57)は、材質がニッケルで、直径が0.45mm(円形),厚みが0.1mm,配置ピッチ(中心間距離)が0.8mm、強磁性体層の数は288個(12個×24個)である。
上型(50)および下型(55)の各々の非磁性体層(53,58)は、材質がドライフィルムレジストを硬化処理したものであり、上型(50)の非磁性体層(53)において、部分(53a)の厚みが0.3mm、部分(53b)の厚みが0.1mm、下型(55)の非磁性体層(58)の厚みが0.15mmである。
金型によって形成される成形空間(59)の縦横の寸法は20mm×13mmである。
<Example 1>
(A) Production of support and mold:
According to the structure shown in FIG. 4, the support body of the following specification was produced, and the metal mold | die for anisotropic conductive film shaping | molding of the following specification was produced according to the structure shown in FIG.
[Support]
The support (71) is made of SUS304, has a thickness of 0.1 mm, the opening (73) has a size of 17 mm × 10 mm, and has positioning holes (72) at four corners.
〔Mold〕
The ferromagnetic substrate (51, 56) of each of the upper die (50) and the lower die (55) is made of iron and has a thickness of 6 mm.
Each of the ferromagnetic layers (52, 57) of the upper die (50) and the lower die (55) is made of nickel, has a diameter of 0.45 mm (circular), a thickness of 0.1 mm, and an arrangement pitch (between the centers). The distance) is 0.8 mm, and the number of ferromagnetic layers is 288 (12 × 24).
The non-magnetic layer (53, 58) of each of the upper mold (50) and the lower mold (55) is formed by curing a dry film resist, and the non-magnetic layer (53) of the upper mold (50). ), The thickness of the portion (53a) is 0.3 mm, the thickness of the portion (53b) is 0.1 mm, and the thickness of the nonmagnetic layer (58) of the lower die (55) is 0.15 mm.
The vertical and horizontal dimensions of the molding space (59) formed by the mold are 20 mm × 13 mm.

(b)成形材料の調製:
付加型液状シリコーンゴム100重量部に、平均粒子径が30μmの導電性粒子60重量部を添加して混合し、その後、減圧による脱泡処理を施すことにより、異方導電膜形成用の成形材料を調製した。以上において、導電性粒子としては、ニッケルよりなる芯粒子に金メッキが施されてなるもの(平均被覆量:芯粒子の重量の20重量%)を用いた。
(B) Preparation of molding material:
A molding material for forming an anisotropic conductive film is obtained by adding 60 parts by weight of conductive particles having an average particle diameter of 30 μm to 100 parts by weight of addition-type liquid silicone rubber, and then performing defoaming treatment under reduced pressure. Was prepared. In the above, as the conductive particles, those obtained by applying gold plating to the core particles made of nickel (average coating amount: 20% by weight of the weight of the core particles) were used.

(c)異方導電膜の形成:
上記の金型の上型(50)の成形面に、ポリテトラフルオロエチレン繊維(繊維径:100μm)により形成されたメッシュ(厚み:0.2mm,開口径:210μm,開口率:46.0%)よりなるシート状の補強材を配置し、更に、調製した成形材料をスクリーン印刷によって塗布することにより、液状付加型シリコーンゴム中に導電性粒子および補強材が含有されてなる、厚みが0.2mmの第1の成形材料層(61a)を形成した。
また、上記の金型の下型(55)の成形面上に、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形の開口部を有する厚みが0.1mmのスペーサー(54b)を位置合わせして配置し、このスペーサー(54b)上に、上記の支持体(71)を位置合わせして配置し、更にこの支持体(71)上に、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形の開口部を有する厚みが0.1mmのスペーサー(54a)を位置合わせして配置し、調製した第3の成形材料をスクリーン印刷によって塗布することにより、下型(55)、スペーサー(54a,54b)および支持体(71)によって形成される空間内に、液状付加型シリコーンゴム中に導電性粒子が含有されてなる、非磁性体層(58)上に位置する部分の厚みが0.3mmの第2の成形材料層(61b)を形成した。
そして、上型(50)に形成された第1の成形材料層(61a)と下型(55)に形成された第2の成形材料層(61b)とを位置合わせして重ね合わせた。
そして、上型(50)と下型(55)との間に形成された各成形材料層に対し、強磁性体層(52,57)の間に位置する部分に、電磁石によって厚み方向に2Tの磁場を作用させながら、100℃、1時間の条件で硬化処理を施すことにより、異方導電膜(10A)を形成した。
以上のようにして、本発明に係る異方導電性コネクター(10)を製造した。得られた異方導電性コネクター(10)における異方導電膜(10A)は、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形で、導電路形成部(11)の厚みが0.55mm、絶縁部(15)の厚みが0.5mmで、288個(12個×24個)の導電路形成部(11)を有し、各導電路形成部(11)の直径が0.45mm、導電路形成部(11)の配置ピッチ(中心間距離)が0.8mmのものである。また、メッシュの開口径と導電性粒子の平均粒子径との比r1/r2は7である。
以下、この異方導電性コネクターを「異方導電性コネクターA1」という。
(C) Formation of anisotropic conductive film:
A mesh (thickness: 0.2 mm, opening diameter: 210 μm, opening ratio: 46.0%) formed of polytetrafluoroethylene fiber (fiber diameter: 100 μm) on the molding surface of the upper mold (50) of the above mold The sheet-shaped reinforcing material is disposed, and the prepared molding material is applied by screen printing, so that the liquid addition type silicone rubber contains the conductive particles and the reinforcing material. A 2 mm first molding material layer (61a) was formed.
Further, on the molding surface of the lower mold (55) of the above-mentioned mold, a spacer (54b) having a thickness of 0.1 mm having a rectangular opening having a vertical and horizontal dimension of 20 mm × 13 mm is aligned and arranged, The support (71) is positioned and arranged on the spacer (54b), and the thickness having a rectangular opening having a vertical and horizontal dimension of 20 mm × 13 mm on the support (71) is 0. By aligning and placing a 1 mm spacer (54a) and applying the prepared third molding material by screen printing, by the lower mold (55), spacers (54a, 54b) and the support (71) In the space to be formed, the second molding material layer (61b) having a thickness of 0.3 mm at the portion located on the non-magnetic layer (58), in which conductive particles are contained in the liquid addition type silicone rubber. ) Formed.
Then, the first molding material layer (61a) formed on the upper mold (50) and the second molding material layer (61b) formed on the lower mold (55) were aligned and overlapped.
Then, with respect to each molding material layer formed between the upper mold (50) and the lower mold (55), 2T is formed in the thickness direction by an electromagnet in a portion located between the ferromagnetic layers (52, 57). An anisotropic conductive film (10A) was formed by applying a curing treatment at 100 ° C. for 1 hour while applying a magnetic field of.
As described above, the anisotropic conductive connector (10) according to the present invention was manufactured. The anisotropic conductive film (10A) in the anisotropic conductive connector (10) thus obtained is a rectangle having a vertical and horizontal dimension of 20 mm × 13 mm, the thickness of the conductive path forming part (11) is 0.55 mm, and the insulating part (15 ) Has a thickness of 0.5 mm, and has 288 (12 × 24) conductive path forming portions (11). Each conductive path forming portion (11) has a diameter of 0.45 mm, a conductive path forming portion ( 11) is an arrangement pitch (center distance) of 0.8 mm. The ratio r1 / r2 between the opening diameter of the mesh and the average particle diameter of the conductive particles is 7.
Hereinafter, this anisotropic conductive connector is referred to as “anisotropic conductive connector A1”.

〈比較例1〉
上型(50)の成形面に補強材を配置しなかったこと以外は、実施例1と同様にして異方導電性コネクターを製造した。得られた異方導電性コネクター(10)における異方導電膜(10A)は、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形で、導電路形成部(11)の厚みが0.55mm、絶縁部(15)の厚みが0.5mmで、288個(12個×24個)の導電路形成部(11)を有し、各導電路形成部(11)の直径が0.45mm、導電路形成部(11)の配置ピッチ(中心間距離)が0.8mmのものである。
以下、この異方導電性コネクターを「異方導電性コネクターB1」という。
<Comparative example 1>
An anisotropic conductive connector was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the reinforcing material was not disposed on the molding surface of the upper mold (50). The anisotropic conductive film (10A) in the anisotropic conductive connector (10) thus obtained is a rectangle having a vertical and horizontal dimension of 20 mm × 13 mm, the thickness of the conductive path forming part (11) is 0.55 mm, and the insulating part (15 ) Has a thickness of 0.5 mm, and has 288 (12 × 24) conductive path forming portions (11). Each conductive path forming portion (11) has a diameter of 0.45 mm, a conductive path forming portion ( 11) is an arrangement pitch (center distance) of 0.8 mm.
Hereinafter, this anisotropic conductive connector is referred to as “anisotropic conductive connector B1”.

〔異方導電性コネクターの評価〕
実施例1に係る異方導電性コネクターA1および比較例1に係る異方導電性コネクターB1について、その性能評価を以下のようにして行った。
実施例1に係る異方導電性コネクターA1および比較例1に係る異方導電性コネクターB1を評価するために、図28および図29に示すようなテスト用の回路装置3を用意した。
このテスト用の回路装置3は、直径が0.4mmで、高さが0.3mmのハンダボール電極2(材質:64半田)を合計で72個有するものであり、それぞれ36個のハンダボール電極2が配置されてなる2つの電極群が形成され、各電極群においては、18個のハンダボール電極2が0.8mmのピッチで直線状に並ぶ列が合計で2列形成されており、これらのハンダボール電極2のうち2個ずつが、回路装置3内の配線8によって互いに電気的接続されている。回路装置3内の配線数は合計で36である。
そして、このようなテスト用の回路装置を用いて、実施例1に係る異方導電性コネクターA1および比較例1に係る異方導電性コネクターB1の評価を、以下のようにして行った。
[Evaluation of anisotropic conductive connector]
The performance evaluation of the anisotropic conductive connector A1 according to Example 1 and the anisotropic conductive connector B1 according to Comparative Example 1 was performed as follows.
In order to evaluate the anisotropic conductive connector A1 according to Example 1 and the anisotropic conductive connector B1 according to Comparative Example 1, a test circuit device 3 as shown in FIGS. 28 and 29 was prepared.
This test circuit device 3 has a total of 72 solder ball electrodes 2 (material: 64 solder) having a diameter of 0.4 mm and a height of 0.3 mm, each having 36 solder ball electrodes. 2 are formed, and in each electrode group, 18 solder ball electrodes 2 are formed in a total of 2 rows arranged in a straight line at a pitch of 0.8 mm. Two of the solder ball electrodes 2 are electrically connected to each other by the wiring 8 in the circuit device 3. The total number of wires in the circuit device 3 is 36.
Then, using such a test circuit device, the anisotropic conductive connector A1 according to Example 1 and the anisotropic conductive connector B1 according to Comparative Example 1 were evaluated as follows.

《繰り返し耐久性》
図30に示すように、異方導電性コネクター10における支持体71の位置決め穴に、検査用回路基板5のガイドピン9を挿通させることにより、当該異方導電性コネクター10を検査用回路基板5上に位置決めして配置し、この異方導電性コネクター10上に、テスト用の回路装置3を配置し、これらを加圧治具(図示せず)によって固定し、この状態で、恒温槽7内に配置した。
次いで、恒温槽7内の温度を100℃に設定し、加圧治具によって、異方導電性コネクター10における異方導電膜10Aの導電路形成部11の歪み率が30%(加圧時における導電路形成部の厚みが0.4mm)となるように、5秒/ストロークの加圧サイクルで加圧を繰り返しながら、異方導電性コネクター10、テスト用の回路装置3並びに検査用回路基板5の検査用電極およびその配線(図示省略)を介して互いに電気的に接続された、検査用回路基板5の外部端子(図示省略)間に、直流電源115および定電流制御装置116によって、10mAの直流電流を常時印加し、電圧計110によって、加圧時における検査用回路基板5の外部端子間の電圧を測定した。
《Repeated durability》
As shown in FIG. 30, the anisotropic conductive connector 10 is inserted into the positioning hole of the support 71 in the anisotropic conductive connector 10 by inserting the guide pin 9 of the inspection circuit board 5 into the inspection circuit board 5. The test circuit device 3 is arranged on the anisotropic conductive connector 10 and fixed by a pressurizing jig (not shown). In this state, the thermostat 7 Placed in.
Next, the temperature in the thermostatic chamber 7 is set to 100 ° C., and the strain rate of the conductive path forming portion 11 of the anisotropic conductive film 10A in the anisotropic conductive connector 10 is 30% (at the time of pressurization) by the pressurizing jig. The anisotropic conductive connector 10, the test circuit device 3, and the test circuit board 5 are repeatedly pressed with a pressurization cycle of 5 seconds / stroke so that the thickness of the conductive path forming portion is 0.4 mm). 10 mA by a DC power supply 115 and a constant current control device 116 between external terminals (not shown) of the circuit board 5 for inspection, which are electrically connected to each other via the inspection electrodes 6 and their wirings (not shown). Was constantly applied, and the voltmeter 110 measured the voltage across the external terminals of the test circuit board 5 during pressurization.

このようにして測定された電圧の値(V)をV1 とし、印加した直流電流をI1 (=0.01A)として、電気抵抗値R1 (Ω)を、式:R1 =V1 /I1 により求めた。
ここで、電気抵抗値R1 には、2つの導電路形成部の電気抵抗値の他に、テスト用の回路装置3の電極間の電気抵抗値および検査用回路基板の外部端子間の電気抵抗値が含まれている。
そして、電気抵抗値R1 が2Ωより大きくなると、実際上、回路装置の電気的検査が困難となることから、電気抵抗値R1 が2Ωより大きくなるまで、電圧の測定を継続した。但し、加圧動作は、合計で10万回行なった。その結果を表1に示す。
The voltage value thus measured (V) is V 1 , the applied direct current is I 1 (= 0.01 A), and the electrical resistance value R 1 (Ω) is expressed by the formula: R 1 = V 1 / I 1 .
Here, in addition to the electrical resistance values of the two conductive path forming portions, the electrical resistance value R 1 includes the electrical resistance value between the electrodes of the test circuit device 3 and the electrical resistance between the external terminals of the test circuit board. Contains a value.
When the electric resistance value R 1 becomes larger than 2Ω, it becomes practically difficult to electrically inspect the circuit device. Therefore, the voltage measurement was continued until the electric resistance value R 1 became larger than 2Ω. However, the pressurizing operation was performed 100,000 times in total. The results are shown in Table 1.

これらの試験が終了した後、各異方導電性コネクターについて、導電路形成部の変形状態および導電性粒子への電極物質の移行状態を、下記の基準により評価した。その結果を表2に示す。
導電路形成部の変形状態:
導電路形成部の表面を目視により観察し、ほとんど変形が生じていない場合を○、微細な変形が認められる場合を△、大きな変形が認められる場合を×として評価した。
導電性粒子への電極物質の移行状態:
導電路形成部中の導電性粒子の色を目視により観察し、変色がほとんどない場合を○、僅かに灰色に変色した場合を△、ほとんど灰色または黒色に変色した場合を×として評価した。
After these tests were completed, the deformation state of the conductive path forming portion and the state of migration of the electrode material to the conductive particles were evaluated for each anisotropic conductive connector according to the following criteria. The results are shown in Table 2.
Deformation state of conductive path forming part:
The surface of the conductive path forming portion was visually observed and evaluated as ◯ when almost no deformation occurred, Δ when fine deformation was recognized, and x when large deformation was recognized.
Transition state of electrode material to conductive particles:
The color of the conductive particles in the conductive path forming part was visually observed and evaluated as ◯ when there was almost no discoloration, Δ when slightly discolored to gray, and x when discolored almost gray or black.

《回路基板への接着性》
実施例1に係る異方導電性コネクターA1および比較例1に係る異方導電性コネクターB1をそれぞれ100個用意し、これらの異方導電性コネクターについて、上記の繰り返し耐久性試験と同様にして加圧試験を行い、その後、テスト用の回路装置に対する異方導電膜の接着状態を調べ、接着したものの数が、30%未満である場合を○、30〜70%の場合を△、70%を超える場合を×として評価した。その結果を表2に示す。
<< Adhesion to circuit board >>
100 anisotropically conductive connectors A1 according to Example 1 and 100 anisotropically conductive connectors B1 according to Comparative Example 1 were prepared, respectively, and these anisotropically conductive connectors were subjected to the same test as in the above repeated durability test. A pressure test is performed, and then the state of adhesion of the anisotropic conductive film to the circuit device for testing is examined. When the number of bonded films is less than 30%, ○, when 30 to 70%, Δ, and 70% When exceeding, it evaluated as x. The results are shown in Table 2.

Figure 0004385767
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Figure 0004385767
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表1および表2の結果から明らかなように、実施例1に係る異方導電性コネクターA1によれば、回路装置によって繰り返して押圧されても、当該回路装置の圧接による永久的な変形や、磨耗による変形が生じることが抑制され、長期間にわたって安定した導電性が得られると共に、回路装置が接着することが確実に防止または抑制されることが確認された。   As is apparent from the results of Tables 1 and 2, according to the anisotropic conductive connector A1 according to Example 1, even when repeatedly pressed by the circuit device, permanent deformation due to the pressure contact of the circuit device, It was confirmed that deformation due to wear was suppressed, stable conductivity was obtained over a long period of time, and adhesion of the circuit device was reliably prevented or suppressed.

〈実施例2〉
(a)支持体および金型の作製:
図4に示す構成に従い、下記の仕様の支持体を作製すると共に、上型の非磁性体層が一様な厚みを有し、当該上型の表面に凹部が形成されていないものであること以外は図6に示す構成に従い、下記の仕様の異方導電膜成形用の金型を作製した。
〔支持体〕
支持体(71)は、材質がSUS304、厚みが0.15mm、開口部(73)の寸法が17mm×10mmで、四隅に位置決め穴(72)を有する。
〔金型〕
上型(50)および下型(55)の各々の強磁性体基板(51,56)は、材質が鉄で、厚みが6mmである。
上型(50)および下型(55)の各々の強磁性体層(52,57)は、材質がニッケルで、直径が0.45mm(円形),厚みが0.1mm,配置ピッチ(中心間距離)が0.8mm、強磁性体層の数は288個(12個×24個)である。
上型(50)および下型(55)の各々の非磁性体層(53,58)は、材質がドライフィルムレジストを硬化処理したものであり、上型(50)の非磁性体層(53)の厚みが0.1mm、下型(55)の非磁性体層(58)の厚みが0.15mmである。
金型によって形成される成形空間(59)の縦横の寸法は20mm×13mmである。
<Example 2>
(A) Production of support and mold:
According to the configuration shown in FIG. 4, a support having the following specifications is manufactured, and the non-magnetic layer of the upper mold has a uniform thickness, and no recess is formed on the surface of the upper mold. Except for the above, a mold for forming an anisotropic conductive film having the following specifications was produced according to the configuration shown in FIG.
[Support]
The support (71) has a material of SUS304, a thickness of 0.15 mm, an opening (73) of 17 mm × 10 mm, and positioning holes (72) at four corners.
〔Mold〕
The ferromagnetic substrate (51, 56) of each of the upper die (50) and the lower die (55) is made of iron and has a thickness of 6 mm.
Each of the ferromagnetic layers (52, 57) of the upper die (50) and the lower die (55) is made of nickel, has a diameter of 0.45 mm (circular), a thickness of 0.1 mm, and an arrangement pitch (between the centers). The distance) is 0.8 mm, and the number of ferromagnetic layers is 288 (12 × 24).
The non-magnetic layer (53, 58) of each of the upper mold (50) and the lower mold (55) is formed by curing a dry film resist, and the non-magnetic layer (53) of the upper mold (50). ) Is 0.1 mm, and the non-magnetic layer (58) of the lower die (55) is 0.15 mm.
The vertical and horizontal dimensions of the molding space (59) formed by the mold are 20 mm × 13 mm.

(b)成形材料の調製:
付加型液状シリコーンゴム100重量部に、平均粒子径が30μmの導電性粒子60重量部を添加して混合し、その後、減圧による脱泡処理を施すことにより、異方導電膜形成用の成形材料を調製した。以上において、導電性粒子としては、ニッケルよりなる芯粒子に金メッキが施されてなるもの(平均被覆量:芯粒子の重量の20重量%)を用いた。
(B) Preparation of molding material:
A molding material for forming an anisotropic conductive film is obtained by adding 60 parts by weight of conductive particles having an average particle diameter of 30 μm to 100 parts by weight of addition-type liquid silicone rubber, and then performing defoaming treatment under reduced pressure. Was prepared. In the above, as the conductive particles, those obtained by applying gold plating to the core particles made of nickel (average coating amount: 20% by weight of the weight of the core particles) were used.

(c)異方導電膜の形成:
上記の金型の上型(50)の成形面に、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形の開口部が形成された厚みが0.2mmのスペーサー(54a)を位置合わせして配置すると共に、当該スペーサー(54a)の開口部内に、ポリアリレート系複合繊維(繊維径:70μm)により形成されたメッシュ(厚み:0.115mm,開口径:184μm,開口率:52%)よりなるシート状の補強材を配置し、更に、調製した成形材料をスクリーン印刷によって塗布することにより、液状付加型シリコーンゴム中に導電性粒子および補強材が含有されてなる、厚みが0.2mmの第1の成形材料層(61a)を形成した。
また、上記の金型の下型(55)の成形面上に、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形の開口部が形成された厚みが0.15mmのスペーサー(54b)を位置合わせして配置し、このスペーサー(54b)上に、上記の支持体(71)を位置合わせして配置し、調製した成形材料をスクリーン印刷によって塗布することにより、下型(55)、スペーサー(54b)および支持体(71)によって形成される空間内に、液状付加型シリコーンゴム中に導電性粒子が含有されてなる、非磁性体層(58)上に位置する部分の厚みが0.3mmの第2の成形材料層(61b)を形成した。
そして、上型(50)に形成された第1の成形材料層(61a)と下型(55)に形成された第2の成形材料層(61b)とを位置合わせして重ね合わせた。
そして、上型(50)と下型(55)との間に形成された各成形材料層に対し、強磁性体層(52,57)の間に位置する部分に、電磁石によって厚み方向に2Tの磁場を作用させながら、100℃、1時間の条件で硬化処理を施すことにより、異方導電膜(10A)を形成した。
以上のようにして、本発明に係る異方導電性コネクター(10)を製造した。得られた異方導電性コネクター(10)における異方導電膜(10A)は、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形で、導電路形成部(11)の厚みが0.55mm、絶縁部(12)の厚みが0.5mmで、288個(12個×24個)の導電路形成部(11)を有し、各導電路形成部(11)の直径が0.45mm、導電路形成部(11)の配置ピッチ(中心間距離)が0.8mmのものである。また、メッシュの開口径と導電性粒子の平均粒子径との比r1/r2は6.13である。
以下、この異方導電性コネクターを「異方導電性コネクターC1」という。
(C) Formation of anisotropic conductive film:
A spacer (54a) having a thickness of 0.2 mm in which a rectangular opening having a vertical and horizontal dimension of 20 mm × 13 mm is formed on the molding surface of the upper mold (50) of the above mold is positioned and arranged, Sheet-like reinforcement made of mesh (thickness: 0.115 mm, opening diameter: 184 μm, opening ratio: 52%) formed of polyarylate-based composite fibers (fiber diameter: 70 μm) in the opening of the spacer (54a) A first molding material having a thickness of 0.2 mm, in which conductive particles and a reinforcing material are contained in the liquid addition-type silicone rubber by arranging the material and further applying the prepared molding material by screen printing Layer (61a) was formed.
In addition, a spacer (54b) having a thickness of 0.15 mm in which a rectangular opening having a vertical and horizontal dimension of 20 mm × 13 mm is formed on the molding surface of the lower mold (55) of the above-mentioned mold is aligned and disposed. Then, the support (71) is positioned and arranged on the spacer (54b), and the prepared molding material is applied by screen printing, whereby the lower die (55), the spacer (54b) and the support are arranged. In a space formed by the body (71), a second portion having a thickness of 0.3 mm in a portion located on the nonmagnetic layer (58), in which conductive particles are contained in the liquid addition type silicone rubber. A molding material layer (61b) was formed.
Then, the first molding material layer (61a) formed on the upper mold (50) and the second molding material layer (61b) formed on the lower mold (55) were aligned and overlapped.
Then, with respect to each molding material layer formed between the upper mold (50) and the lower mold (55), 2T is formed in the thickness direction by an electromagnet in a portion located between the ferromagnetic layers (52, 57). An anisotropic conductive film (10A) was formed by applying a curing treatment at 100 ° C. for 1 hour while applying a magnetic field of.
As described above, the anisotropic conductive connector (10) according to the present invention was manufactured. The anisotropic conductive film (10A) in the anisotropic conductive connector (10) thus obtained is a rectangle having a vertical and horizontal dimension of 20 mm × 13 mm, the thickness of the conductive path forming part (11) is 0.55 mm, and the insulating part (12 ) Has a thickness of 0.5 mm, and has 288 (12 × 24) conductive path forming portions (11). Each conductive path forming portion (11) has a diameter of 0.45 mm, a conductive path forming portion ( 11) is an arrangement pitch (center distance) of 0.8 mm. The ratio r1 / r2 between the opening diameter of the mesh and the average particle diameter of the conductive particles is 6.13.
Hereinafter, this anisotropic conductive connector is referred to as “anisotropic conductive connector C1”.

〈実施例3〉
上型(50)の成形面上に配置するスペーサー(54a)を厚みが0.1mmのものに変更し、下型(55)の成形面上に配置するスペーサー(54b)を厚みが0.1mmのものに変更したこと以外は実施例2と同様にして、本発明に係る異方導電性コネクター(10)を製造した。得られた異方導電性コネクター(10)における異方導電膜(10A)は、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形で、導電路形成部(11)の厚みが0.40mm、絶縁部(12)の厚みが0.35mmで、288個(12個×24個)の導電路形成部(11)を有し、各導電路形成部(11)の直径が0.45mm、導電路形成部(11)の配置ピッチ(中心間距離)が0.8mmのものである。また、メッシュの開口径と導電性粒子の平均粒子径との比r1/r2は6.13である。
以下、この異方導電性コネクターを「異方導電性コネクターC2」という。
<Example 3>
The spacer (54a) disposed on the molding surface of the upper mold (50) is changed to a thickness of 0.1 mm, and the spacer (54b) disposed on the molding surface of the lower mold (55) is 0.1 mm in thickness. An anisotropic conductive connector (10) according to the present invention was produced in the same manner as in Example 2 except that the anisotropic conductive connector (10) was changed. The anisotropic conductive film (10A) in the anisotropic conductive connector (10) thus obtained is a rectangle having a vertical and horizontal dimension of 20 mm × 13 mm, the thickness of the conductive path forming part (11) is 0.40 mm, and the insulating part (12 ) Has a thickness of 0.35 mm, and has 288 (12 × 24) conductive path forming portions (11). Each conductive path forming portion (11) has a diameter of 0.45 mm, a conductive path forming portion ( 11) is an arrangement pitch (center distance) of 0.8 mm. The ratio r1 / r2 between the opening diameter of the mesh and the average particle diameter of the conductive particles is 6.13.
Hereinafter, this anisotropic conductive connector is referred to as “anisotropic conductive connector C2”.

〈実施例4〉
補強材を、ポリアリレート系複合繊維(繊維径:100μm)により形成されたメッシュ(厚み:0.19mm,開口径:408μm,開口率:65%)よりなるシート状のものに変更したこと以外は実施例2と同様にして、本発明に係る異方導電性コネクター(10)を製造した。得られた異方導電性コネクター(10)における異方導電膜(10A)は、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形で、導電路形成部(11)の厚みが0.55mm、絶縁部(12)の厚みが0.40mmで、288個(12個×24個)の導電路形成部(11)を有し、各導電路形成部(11)の直径が0.45mm、導電路形成部(11)の配置ピッチ(中心間距離)が0.8mmのものである。また、メッシュの開口径と導電性粒子の平均粒子径との比r1/r2は13.6である。
以下、この異方導電性コネクターを「異方導電性コネクターC3」という。
<Example 4>
Except that the reinforcing material was changed to a sheet-like material made of a mesh (thickness: 0.19 mm, opening diameter: 408 μm, opening ratio: 65%) formed of polyarylate-based composite fibers (fiber diameter: 100 μm). In the same manner as in Example 2, an anisotropic conductive connector (10) according to the present invention was produced. The anisotropic conductive film (10A) in the anisotropic conductive connector (10) thus obtained is a rectangle having a vertical and horizontal dimension of 20 mm × 13 mm, the thickness of the conductive path forming part (11) is 0.55 mm, and the insulating part (12 ) Having a thickness of 0.40 mm, 288 (12 × 24) conductive path forming portions (11), each conductive path forming portion (11) having a diameter of 0.45 mm, 11) is an arrangement pitch (center distance) of 0.8 mm. The ratio r1 / r2 between the opening diameter of the mesh and the average particle diameter of the conductive particles is 13.6.
Hereinafter, this anisotropic conductive connector is referred to as “anisotropic conductive connector C3”.

〈比較例2〉
上型(50)の成形面に補強材を配置しなかったこと以外は、実施例2と同様にして異方導電性コネクターを製造した。得られた異方導電性コネクターにおける異方導電膜は、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形で、導電路形成部の厚みが0.55mm、絶縁部の厚みが0.50mmで、288個(12個×24個)の導電路形成部を有し、各導電路形成部の直径が0.45mm、導電路形成部の配置ピッチ(中心間距離)が0.8mmのものである。
以下、この異方導電性コネクターを「異方導電性コネクターD1」という。
<Comparative example 2>
An anisotropic conductive connector was manufactured in the same manner as in Example 2 except that no reinforcing material was disposed on the molding surface of the upper mold (50). The anisotropic conductive film in the obtained anisotropic conductive connector has a rectangular shape with vertical and horizontal dimensions of 20 mm × 13 mm, a conductive path forming portion thickness of 0.55 mm, and an insulating portion thickness of 0.50 mm, and 288 pieces ( 12 × 24) conductive path forming portions, each conductive path forming portion has a diameter of 0.45 mm, and the conductive path forming portions are disposed at a pitch (center distance) of 0.8 mm.
Hereinafter, this anisotropic conductive connector is referred to as “anisotropic conductive connector D1”.

〈比較例3〉
上型(50)の成形面に補強材を配置しなかったこと以外は、実施例3と同様にして異方導電性コネクターを製造した。得られた異方導電性コネクターにおける異方導電膜は、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形で、導電路形成部の厚みが0.40mm、絶縁部の厚みが0.35mmで、288個(12個×24個)の導電路形成部を有し、各導電路形成部の直径が0.45mm、導電路形成部の配置ピッチ(中心間距離)が0.8mmのものである。
以下、この異方導電性コネクターを「異方導電性コネクターD2」という。
<Comparative Example 3>
An anisotropic conductive connector was manufactured in the same manner as in Example 3 except that no reinforcing material was disposed on the molding surface of the upper mold (50). The anisotropic conductive film in the obtained anisotropic conductive connector has a rectangular shape with a vertical and horizontal dimension of 20 mm × 13 mm, a conductive path forming portion thickness of 0.40 mm, an insulating portion thickness of 0.35 mm, and 288 pieces ( 12 × 24) conductive path forming portions, each conductive path forming portion has a diameter of 0.45 mm, and the conductive path forming portions are disposed at a pitch (center distance) of 0.8 mm.
Hereinafter, this anisotropic conductive connector is referred to as “anisotropic conductive connector D2”.

〔異方導電性コネクターの評価〕
実施例2〜4に係る異方導電性コネクターC1〜C3および比較例2〜3に係る異方導電性コネクターD1〜D2について、その性能評価を以下のようにして行った。
実施例2〜4に係る異方導電性コネクターC1〜C3および比較例2〜3に係る異方導電性コネクターD1〜D2を評価するために、図28および図29に示すようなテスト用の回路装置3を用意した。
このテスト用の回路装置3は、直径が0.4mmで、高さが0.3mmのハンダボール電極2(材質:64半田)を合計で72個有するものであり、それぞれ36個のハンダボール電極2が配置されてなる2つの電極群が形成され、各電極群においては、18個のハンダボール電極2が0.8mmのピッチで直線状に並ぶ列が合計で2列形成されており、これらのハンダボール電極のうち2個ずつが、回路装置3内の配線8によって互いに電気的接続されている。回路装置3内の配線数は合計で36である。
そして、このようなテスト用の回路装置を用いて、実施例2〜4に係る異方導電性コネクターC1〜C3および比較例2〜3に係る異方導電性コネクターD1〜D2の評価を、以下のようにして行った。
[Evaluation of anisotropic conductive connector]
The anisotropic conductive connectors C1 to C3 according to Examples 2 to 4 and the anisotropic conductive connectors D1 to D2 according to Comparative Examples 2 to 3 were evaluated as follows.
In order to evaluate the anisotropic conductive connectors C1 to C3 according to Examples 2 to 4 and the anisotropic conductive connectors D1 to D2 according to Comparative Examples 2 to 3, a test circuit as shown in FIGS. 28 and 29 is used. Apparatus 3 was prepared.
This test circuit device 3 has a total of 72 solder ball electrodes 2 (material: 64 solder) having a diameter of 0.4 mm and a height of 0.3 mm, each having 36 solder ball electrodes. 2 are formed, and in each electrode group, 18 solder ball electrodes 2 are formed in a total of 2 rows arranged in a straight line at a pitch of 0.8 mm. Two of the solder ball electrodes are electrically connected to each other by the wiring 8 in the circuit device 3. The total number of wires in the circuit device 3 is 36.
And evaluation of the anisotropically conductive connectors D1 to D2 according to Examples 2 to 4 and the anisotropically conductive connectors D1 to D2 according to Comparative Examples 2 to 3 using the test circuit device is as follows. I went as follows.

《初期特性》
図30に示すように、異方導電性コネクター10における支持体71の位置決め穴に、検査用回路基板5のガイドピン9を挿通させることにより、当該異方導電性コネクター10を検査用回路基板5上に位置決めして配置し、この異方導電性コネクター10上に、テスト用の回路装置3を配置し、室温において、これらを加圧治具(図示せず)によって、4.5kgの荷重(導電路形成部1個当たり約60gの荷重)で加圧して固定した。そして、異方導電性コネクター10、テスト用の回路装置3並びに検査用回路基板5の検査用電極およびその配線(図示省略)を介して互いに電気的に接続された、検査用回路基板5の外部端子(図示省略)間に、直流電源115および定電流制御装置116によって、10mAの直流電流を常時印加し、電圧計110によって、加圧時における検査用回路基板5の外部端子間の電圧を測定した。
このようにして測定された電圧の値(V)をV1 とし、印加した直流電流をI1 (=0.01A)として、電気抵抗値R1 (Ω)を、式:R1 =V1 /I1 により求めた。その結果を表3に示す。
<Initial characteristics>
As shown in FIG. 30, the anisotropic conductive connector 10 is inserted into the positioning hole of the support 71 in the anisotropic conductive connector 10 by inserting the guide pin 9 of the inspection circuit board 5 into the inspection circuit board 5. The test circuit device 3 is placed on the anisotropic conductive connector 10 and is placed at a room temperature at room temperature using a pressure jig (not shown). The pressure was fixed with a load of about 60 g per conductive path forming portion. Then, the anisotropic conductive connector 10, the test circuit device 3, the test electrode 6 of the test circuit board 5, and the test circuit board 5 electrically connected to each other via the wiring (not shown) thereof. A 10 mA DC current is constantly applied between external terminals (not shown) by the DC power supply 115 and the constant current control device 116, and the voltage between the external terminals of the circuit board 5 for inspection during pressurization is applied by the voltmeter 110. It was measured.
The voltage value thus measured (V) is V 1 , the applied direct current is I 1 (= 0.01 A), and the electrical resistance value R 1 (Ω) is expressed by the formula: R 1 = V 1 / I 1 . The results are shown in Table 3.

Figure 0004385767
Figure 0004385767

表3の結果から明らかなように、実施例2〜4に係る異方導電性コネクターC1〜C3は、異方導電膜に補強材が含有されていない比較例2〜3に係る異方導電性コネクターD1〜D2と同等の良好な導電性を有することが確認された。   As is clear from the results in Table 3, the anisotropic conductive connectors C1 to C3 according to Examples 2 to 4 are anisotropic conductive according to Comparative Examples 2 to 3 in which no reinforcing material is contained in the anisotropic conductive film. It was confirmed to have good conductivity equivalent to the connectors D1 to D2.

《繰り返し耐久性》
図30に示すように、異方導電性コネクター10における支持体71の位置決め穴に、検査用回路基板5のガイドピン9を挿通させることにより、当該異方導電性コネクター10を検査用回路基板5上に位置決めして配置し、この異方導電性コネクター10上に、テスト用の回路装置3を配置し、これらを加圧治具(図示せず)によって固定し、この状態で、恒温槽7内に配置した。
次いで、恒温槽7内の温度を125℃に設定し、加圧治具によって、加圧サイクルが5秒/ストローク、実施例2、実施例4および比較例2に係る異方導電性コネクターについては荷重が4.5kg(導電路形成部1個当たりの荷重が約60g)、実施例3および比較例3に係る異方導電性コネクターについては荷重が3.0kg(導電路形成部1個当たりの荷重が約40g)の条件で加圧を繰り返しながら、異方導電性コネクター10、テスト用の回路装置3並びに検査用回路基板5の検査用電極およびその配線(図示省略)を介して互いに電気的に接続された、検査用回路基板5の外部端子(図示省略)間に、直流電源115および定電流制御装置116によって、10mAの直流電流を常時印加し、電圧計110によって、加圧時における検査用回路基板5の外部端子間の電圧を測定した。
《Repeated durability》
As shown in FIG. 30, the anisotropic conductive connector 10 is inserted into the positioning hole of the support 71 in the anisotropic conductive connector 10 by inserting the guide pin 9 of the inspection circuit board 5 into the inspection circuit board 5. The test circuit device 3 is arranged on the anisotropic conductive connector 10 and fixed by a pressurizing jig (not shown). In this state, the thermostat 7 Placed in.
Next, for the anisotropic conductive connector according to Example 2, Example 4 and Comparative Example 2, the temperature in the thermostatic chamber 7 is set to 125 ° C., and the pressurizing cycle is 5 seconds / stroke by the pressurizing jig. The load is 4.5 kg (the load per conductive path forming portion is about 60 g), and the anisotropic conductive connector according to Example 3 and Comparative Example 3 is a load of 3.0 kg (per conductive path forming portion). While repeating the pressurization under the condition of a load of about 40 g), it is electrically connected to each other through the anisotropic conductive connector 10, the test circuit device 3, the test electrode 6 of the test circuit board 5, and the wiring (not shown). A 10 mA DC current is always applied between externally connected external terminals (not shown) of the inspection circuit board 5 by a DC power source 115 and a constant current control device 116, and a voltmeter 110 is used for pressurization. The voltage between the external terminals of the testing circuit board 5 which delivers measured.

このようにして測定された電圧の値(V)をV1 とし、印加した直流電流をI1 (=0.01A)として、電気抵抗値R1 (Ω)を、式:R1 =V1 /I1 により求めた。
ここで、電気抵抗値R1 には、2つの導電路形成部の電気抵抗値の他に、テスト用の回路装置3の電極間の電気抵抗値および検査用回路基板の外部端子間の電気抵抗値が含まれている。
そして、電気抵抗値R1 が1Ωを超えるまでの加圧回数を測定した。その結果を表4に示す。
The voltage value thus measured (V) is V 1 , the applied direct current is I 1 (= 0.01 A), and the electrical resistance value R 1 (Ω) is expressed by the formula: R 1 = V 1 / I 1 .
Here, in addition to the electrical resistance values of the two conductive path forming portions, the electrical resistance value R 1 includes the electrical resistance value between the electrodes of the test circuit device 3 and the electrical resistance between the external terminals of the test circuit board. Contains a value.
And the frequency | count of pressurization until electrical resistance value R1 exceeded 1 ohm was measured. The results are shown in Table 4.


Figure 0004385767
Figure 0004385767

耐久性試験が終了した後、各異方導電性コネクターの導電路形成部の表面を目視により観察した。
その結果、実施例2〜3に係る異方導電性コネクターC1〜C3については、導電路形成部の変形はほとんど変形しておらず、また、導電路形成部中に導電性粒子が保持されていることが確認された。
また、実施例4に係る異方導電性コネクターC3については、一部の導電路形成部の表層部分に窪みが形成されており、形成された窪みの周囲の絶縁部の表層部分に導電性粒子が存在していた。
また、比較例2〜3に係る異方導電性コネクターD1〜D2については、導電路形成部の表層部分に窪みが形成されており、形成された窪みの周囲の絶縁部の表層部分に導電性粒子が存在していた。これは、突起状電極による加圧が繰り返されることにより、導電路形成部の表層部分が摩耗した結果、当該表層部分に含有されていた導電性粒子が周囲に飛散し、更にテスト用の回路装置によって加圧されることにより、導電性粒子が絶縁部の表層部分に押し込まれたことによるものと推測される。
以上の結果から明らかなように、実施例2〜4に係る異方導電性コネクターC1〜C3によれば、導電路形成部が突起状電極によって繰り返して押圧されても、当該突起状電極の圧接による永久的な変形や、磨耗による変形が生じることが抑制され、長期間にわたって安定した導電性が得られることが確認された。
After the durability test was completed, the surface of the conductive path forming portion of each anisotropic conductive connector was visually observed.
As a result, for the anisotropic conductive connectors C1 to C3 according to Examples 2 to 3, the deformation of the conductive path forming portion is hardly deformed, and the conductive particles are held in the conductive path forming portion. It was confirmed that
Further, in the anisotropic conductive connector C3 according to Example 4, a depression is formed in the surface layer portion of a part of the conductive path forming portion, and conductive particles are formed in the surface layer portion of the insulating portion around the formed depression. Existed.
Moreover, about the anisotropically conductive connectors D1-D2 which concern on Comparative Examples 2-3, the hollow is formed in the surface layer part of the conductive path formation part, and it is electroconductive in the surface layer part of the insulation part around the formed hollow. Particles were present. This is because, as a result of repeated pressurization by the protruding electrodes, the surface layer portion of the conductive path forming portion is worn, and as a result, the conductive particles contained in the surface layer portion are scattered around and the circuit device for testing It is presumed that the conductive particles are pushed into the surface layer portion of the insulating portion by being pressed by the pressure.
As is clear from the above results, according to the anisotropic conductive connectors C1 to C3 according to Examples 2 to 4, even when the conductive path forming portion is repeatedly pressed by the protruding electrode, the pressure contact of the protruding electrode It has been confirmed that permanent deformation due to or deformation due to wear is suppressed, and that stable conductivity can be obtained over a long period of time.

〈参考例1〉
補強材を、ポリアリレート系複合繊維(繊維径:30μm)により形成されたメッシュ(厚み:0.052mm,開口径:72μm,開口率:50%)よりなるシート状のものに変更したこと以外は実施例2と同様にして、本発明に係る異方導電性コネクター(10)を製造した。得られた異方導電性コネクター(10)における異方導電膜(10A)は、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形で、導電路形成部(11)の厚みが0.55mm、絶縁部(12)の厚みが0.40mmで、288個(12個×24個)の導電路形成部(11)を有し、各導電路形成部(11)の直径が0.45mm、導電路形成部(11)の配置ピッチ(中心間距離)が0.8mmのものである。また、メッシュの開口径と導電性粒子の平均粒子径との比r1/r2は2.4である。
この異方導電性コネクターの初期特性を実施例2と同様にして測定したところ、電気抵抗値R1 の最小値が0.20Ω、最大値が2.56Ω、平均値が0.75Ωであった。
<Reference Example 1>
Except that the reinforcing material was changed to a sheet-like material made of a mesh (thickness: 0.052 mm, opening diameter: 72 μm, opening ratio: 50%) formed of polyarylate-based composite fibers (fiber diameter: 30 μm) In the same manner as in Example 2, an anisotropic conductive connector (10) according to the present invention was produced. The anisotropic conductive film (10A) in the anisotropic conductive connector (10) thus obtained is a rectangle having a vertical and horizontal dimension of 20 mm × 13 mm, the thickness of the conductive path forming part (11) is 0.55 mm, and the insulating part (12 ) Has a thickness of 0.40 mm, and has 288 (12 × 24) conductive path forming portions (11). Each conductive path forming portion (11) has a diameter of 0.45 mm, a conductive path forming portion ( 11) is an arrangement pitch (center distance) of 0.8 mm. The ratio r1 / r2 between the mesh opening diameter and the average particle diameter of the conductive particles is 2.4.
The initial characteristics of the anisotropic conductive connector were measured in the same manner as in Example 2. As a result, the minimum value of the electric resistance R 1 was 0.20Ω, the maximum value was 2.56Ω, and the average value was 0.75Ω. .

〈参考例2〉
補強材を、ポリアリレート系複合繊維(繊維径:45μm)により形成されたメッシュ(厚み:0.073mm,開口径:114μm,開口率:51%)よりなるシート状のものに変更したこと以外は実施例2と同様にして、本発明に係る異方導電性コネクター(10)を製造した。得られた異方導電性コネクター(10)における異方導電膜(10A)は、縦横の寸法が20mm×13mmの矩形で、導電路形成部(11)の厚みが0.55mm、絶縁部(12)の厚みが0.40mmで、288個(12個×24個)の導電路形成部(11)を有し、各導電路形成部(11)の直径が0.45mm、導電路形成部(11)の配置ピッチ(中心間距離)が0.8mmのものである。また、メッシュの開口径と導電性粒子の平均粒子径との比r1/r2は3.8である。
この異方導電性コネクターの初期特性を実施例2と同様にして測定したところ、電気抵抗値R1 の最小値が0.15Ω、最大値が3.15Ω、平均値が0.88Ωであった。
<Reference Example 2>
Except that the reinforcing material was changed to a sheet-like material made of a mesh (thickness: 0.073 mm, opening diameter: 114 μm, opening ratio: 51%) formed of polyarylate-based composite fibers (fiber diameter: 45 μm). In the same manner as in Example 2, an anisotropic conductive connector (10) according to the present invention was produced. The anisotropic conductive film (10A) in the anisotropic conductive connector (10) thus obtained is a rectangle having a vertical and horizontal dimension of 20 mm × 13 mm, the thickness of the conductive path forming part (11) is 0.55 mm, and the insulating part (12 ) Having a thickness of 0.40 mm, 288 (12 × 24) conductive path forming portions (11), each conductive path forming portion (11) having a diameter of 0.45 mm, 11) is an arrangement pitch (center distance) of 0.8 mm. The ratio r1 / r2 between the opening diameter of the mesh and the average particle diameter of the conductive particles is 3.8.
The initial characteristics of the anisotropic conductive connector was measured in the same manner as in Example 2, the minimum value of the electric resistance value R 1 is 0.15Omu, the maximum value 3.15Omu, the average value was 0.88Ω .

本発明の異方導電性コネクターの一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the anisotropically conductive connector of this invention. 図1に示す異方導電性コネクターのA−A断面図である。It is AA sectional drawing of the anisotropically conductive connector shown in FIG. 図1に示す異方導電性コネクターの一部を拡大して示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which expands and shows a part of anisotropic conductive connector shown in FIG. 図1に示す異方導電性コネクターにおける支持体の平面図である。It is a top view of the support body in the anisotropically conductive connector shown in FIG. 図4に示す支持体のB−B断面図である。It is BB sectional drawing of the support body shown in FIG. 異方導電膜成形用の金型の一例における構成を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the structure in an example of the metal mold | die for anisotropic conductive film shaping | molding. 下型の成形面上に、スペーサーおよび支持体が配置された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the spacer and the support body are arrange | positioned on the molding surface of a lower mold | type. 上型の成形面に第1の成形材料層が形成され、下型の成形面上に第2の成形材料層が形成された状態を示す説明用断面図である。FIG. 3 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a first molding material layer is formed on a molding surface of an upper mold and a second molding material layer is formed on a molding surface of a lower mold. 上型の成形面に補強材が配置された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the reinforcing material has been arrange | positioned on the molding surface of an upper mold | type. 第1の成形材料層め第2の成形材料層とが積層された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state by which the 1st molding material layer and the 2nd molding material layer were laminated | stacked. 異方導電膜が形成された状態を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the state in which the anisotropic conductive film was formed. 本発明の回路装置の検査装置の一例における構成を回路装置と共に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure in an example of the inspection apparatus of the circuit apparatus of this invention with a circuit apparatus. 本発明の回路装置の検査装置の一例における構成を他の回路装置と共に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure in an example of the inspection apparatus of the circuit apparatus of this invention with another circuit apparatus. 異方導電膜の第1の変形例を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the 1st modification of an anisotropic conductive film. 異方導電膜の第2の変形例を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the 2nd modification of an anisotropic conductive film. 異方導電膜の第3の変形例を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the 3rd modification of an anisotropic conductive film. 異方導電膜の第4の変形例を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the 4th modification of an anisotropic conductive film. 異方導電膜の第5の変形例を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the 5th modification of an anisotropic conductive film. 異方導電膜の第6の変形例を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the 6th modification of an anisotropic conductive film. 異方導電膜の第7の変形例を示す説明用断面図である。It is sectional drawing for description which shows the 7th modification of an anisotropic conductive film. 加圧力緩和フレームを具えた検査装置の第1の例における構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure in the 1st example of the test | inspection apparatus provided with the pressurization pressure relaxation flame | frame. 加圧力緩和フレームを示す説明図であり,(a)は平面図、(b)は側面図である。It is explanatory drawing which shows a pressurization pressure relaxation flame | frame, (a) is a top view, (b) is a side view. 図21に示す検査装置において、回路装置が加圧された状態を示す説明図である。In the inspection apparatus shown in FIG. 21, it is explanatory drawing which shows the state by which the circuit apparatus was pressurized. 加圧力緩和フレームを具えた検査装置の第2の例における構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure in the 2nd example of the test | inspection apparatus provided with the pressurization pressure relaxation flame | frame. 加圧力緩和フレームを具えた検査装置の第3の例における要部の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the principal part in the 3rd example of the test | inspection apparatus provided with the applied pressure relaxation frame. 加圧力緩和フレームを具えた検査装置の第4の例における要部の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the principal part in the 4th example of the test | inspection apparatus provided with the applied pressure relaxation frame. 加圧力緩和フレームを具えた検査装置の第5の例における要部の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the principal part in the 5th example of the test | inspection apparatus provided with the pressurization pressure relaxation flame | frame. 実施例で使用したテスト用の回路装置の平面図である。It is a top view of the circuit apparatus for a test used in the Example. 実施例で使用したテスト用の回路装置の側面図である。It is a side view of the circuit device for a test used in the example. 実施例で使用した繰り返し耐久性の試験装置の概略の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the outline of the testing apparatus of the repetition durability used in the Example.

符号の説明Explanation of symbols

1 回路装置
2 ハンダボール電極
3 テスト用の回路装置
5 検査用回路基板
6 検査用電極
7 恒温槽
8 配線
9 ガイドピン
10 異方導電性コネクター
10A 異方導電膜
10B 一面側表層部分
10C 他の層部分
10D 他面側表層部分
10E 中間層部分
11 導電路形成部
11a 突出部分
12 有効導電路形成部
13 無効導電路形成部
15 絶縁部
16 凹部
17 貫通孔
50 上型
51 強磁性体基板
52 強磁性体層
53 非磁性体層
53a,53b 非磁性体層の部分
54a,54b スペーサー
55 下型
56 強磁性体基板
57 強磁性体層
57a 凹部
58 非磁性体層
59 成形空間
60 凹部
61a 第1の成形材料層
61b 第2の成形材料層
65 加圧力緩和フレーム
66 開口部
67 板バネ部
68 位置決め穴
71 支持体
72 位置決め穴
73 開口部
110 電圧計
115 直流電源
116 定電流制御装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Circuit device 2 Solder ball electrode 3 Test circuit device 5 Inspection circuit board 6 Inspection electrode 7 Thermostatic chamber 8 Wiring 9 Guide pin 10 Anisotropic conductive connector 10A Anisotropic conductive film 10B One side surface layer portion 10C Other layers Portion 10D Other side surface layer portion 10E Intermediate layer portion 11 Conductive path forming portion 11a Protruding portion 12 Effective conductive path forming portion 13 Invalid conductive path forming portion 15 Insulating portion 16 Recess 17 Through hole 50 Upper mold 51 Ferromagnetic substrate 52 Ferromagnetic Body layer 53 Nonmagnetic layers 53a and 53b Nonmagnetic layer portions 54a and 54b Spacer 55 Lower die 56 Ferromagnetic substrate 57 Ferromagnetic layer 57a Recess 58 Nonmagnetic layer 59 Molding space 60 Recess 61a First molding Material layer 61b Second molding material layer 65 Pressure relief frame 66 Opening 67 Leaf spring part 68 Positioning hole 71 Support 72 Positioning hole 73 Opening 1 10 Voltmeter 115 DC power supply 116 Constant current control device

Claims (13)

各々厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が絶縁部によって相互に絶縁された状態で配置されてなる異方導電膜を有する異方導電性コネクターであって、
前記異方導電膜は、絶縁性の弾性高分子物質により形成され、その導電路形成部には、磁性を示す導電性粒子が含有されており、当該異方導電膜における一面側の表層部分には、絶縁性のメッシュ若しくは不織布よりなる補強材が含有されていることを特徴とする異方導電性コネクター。
An anisotropic conductive connector having an anisotropic conductive film arranged in a state where a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction are insulated from each other by an insulating portion,
The anisotropic conductive film is formed of an insulating elastic polymer material, and the conductive path forming portion contains conductive particles exhibiting magnetism. The anisotropic conductive film has a surface layer portion on one side of the anisotropic conductive film. Is an anisotropic conductive connector characterized by containing a reinforcing material made of an insulating mesh or non-woven fabric.
補強材がメッシュよりなり、当該メッシュの開口径をr1とし、導電性粒子の平均粒子径をr2としたとき、比r1/r2が1.5〜13.6であり、かつ、当該メッシュの開口径が500μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の異方導電性コネクター。 When the reinforcing material is made of a mesh, the opening diameter of the mesh is r1, and the average particle diameter of the conductive particles is r2, the ratio r1 / r2 is 1.5 to 13.6, and the mesh is opened. The anisotropic conductive connector according to claim 1, wherein the diameter is 500 μm or less . 異方導電膜の周縁部を支持する支持体が設けられていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の異方導電性コネクター。The anisotropic conductive connector according to claim 1, wherein a support for supporting a peripheral portion of the anisotropic conductive film is provided. 検査対象である回路装置と、検査用回路基板との間に介在されて当該回路装置の被検査電極と当該回路基板の検査電極との電気的接続を行なうための異方導電性コネクターであって、An anisotropic conductive connector interposed between a circuit device to be inspected and a circuit board for inspection to electrically connect an inspected electrode of the circuit device and an inspection electrode of the circuit board. ,
異方導電膜における回路装置に接触する一面側の表層部分に、絶縁性のメッシュ若しくは不繊布よりなる補強材が含有されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一に記載の異方導電性コネクター。4. A reinforcing material made of an insulating mesh or a non-woven cloth is contained in a surface layer portion of one side of the anisotropic conductive film that contacts a circuit device. Anisotropic conductive connector as described.
異方導電膜における回路装置に接触する一面側の表層部分に、導電性および磁性を示さない粒子が含有されていることを特徴とする請求項4に記載の異方導電性コネクター。5. The anisotropic conductive connector according to claim 4, wherein particles that do not exhibit conductivity and magnetism are contained in a surface layer portion on one side of the anisotropic conductive film that contacts the circuit device. 導電性および磁性を示さない粒子が、ダイヤモンドパウダーであることを特徴とする請求項5に記載の異方導電性コネクター。6. The anisotropic conductive connector according to claim 5, wherein the particles that do not exhibit conductivity and magnetism are diamond powder. 異方導電膜には、検査対象である回路装置の被検査電極に電気的に接続される導電路形成部の他に、被検査電極に電気的に接続されない導電路形成部が形成されていることを特徴とする請求項4乃至請求項6のいずれか一に記載の異方導電性コネクター。The anisotropic conductive film has a conductive path forming portion that is not electrically connected to the electrode to be inspected, in addition to a conductive path forming portion that is electrically connected to the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected. The anisotropic conductive connector according to claim 4, wherein the anisotropic conductive connector is provided. 検査対象である回路装置の被検査電極に電気的に接続されない導電路形成部が、少なくとも支持体によって支持された異方導電膜の周縁部に形成されていることを特徴とする請求項7に記載の異方導電性コネクター。8. The conductive path forming portion that is not electrically connected to the electrode to be inspected of the circuit device to be inspected is formed at least on the peripheral portion of the anisotropic conductive film supported by the support. Anisotropic conductive connector as described. 導電路形成部が、一定のピッチで配置されていることを特徴とする請求項7または請求項8に記載の異方導電性コネクター。The anisotropic conductive connector according to claim 7 or 8, wherein the conductive path forming portions are arranged at a constant pitch. 各々厚み方向に伸びる複数の導電路形成部が絶縁部によって相互に絶縁された状態で配設されてなる異方導電膜を有する異方導電性コネクターを製造する方法であって、A method of manufacturing an anisotropic conductive connector having an anisotropic conductive film in which a plurality of conductive path forming portions each extending in the thickness direction are arranged in a state of being insulated from each other by an insulating portion,
一対の型によって成形空間が形成される異方導電膜成形用の金型を用意し、Prepare a mold for forming an anisotropic conductive film in which a molding space is formed by a pair of molds,
一方の型の成形面上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に、絶縁性のメッシュ若しくは不織布よりなる補強材および磁性を示す導電性粒子が含有されてなる成形材料層を形成すると共に、他方の型の成形面上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状の高分子物質形成材料中に導電性粒子が含有されてなる成形材料層を形成し、On the molding surface of one mold, a reinforcing material made of an insulating mesh or non-woven fabric and conductive particles showing magnetism are contained in a liquid polymer material-forming material that is cured to become an elastic polymer material. Forming a molding material layer, and forming a molding material layer containing conductive particles in a liquid polymer substance forming material which is cured to become an elastic polymer substance on the molding surface of the other mold;
前記一方の型の成形面に形成された成形材料層と、前記他方の型の成形面に形成された成形材料層とを積重し、その後、各成形材料層の厚み方向に、強度分布を有する磁場を作用させると共に、各成形材料層を硬化処理することにより、異方導電膜を形成する工程を有することを特徴とする異方導電性コネクターの製造方法。The molding material layer formed on the molding surface of the one mold and the molding material layer formed on the molding surface of the other mold are stacked, and then the strength distribution is increased in the thickness direction of each molding material layer. A method for producing an anisotropic conductive connector, comprising: a step of forming an anisotropic conductive film by applying a magnetic field to the molding material layer and curing each molding material layer.
検査対象である回路装置の被検査電極に対応して配置された検査用電極を有する検査用回路基板と、An inspection circuit board having inspection electrodes arranged corresponding to the electrodes to be inspected of the circuit device to be inspected;
この検査用回路基板上に配置された請求項4乃至請求項9のいずれか一に記載の異方導電性コネクターとAn anisotropic conductive connector according to any one of claims 4 to 9 disposed on the circuit board for inspection;
を具えてなることを特徴とする回路装置の検査装置。An inspection apparatus for circuit devices, comprising:
異方導電性コネクターの異方導電膜に対する被検査電極の加圧力を緩和する加圧力緩和フレームが、検査対象である回路装置と異方導電性コネクターとの間に配置されていることを特徴とする請求項11に記載の回路装置の検査装置。A pressure relief frame that relaxes the pressure of the electrode to be inspected on the anisotropic conductive film of the anisotropic conductive connector is disposed between the circuit device to be inspected and the anisotropic conductive connector. The circuit device inspection device according to claim 11. 加圧力緩和フレームが、バネ弾性またはゴム弾性を有するものであることを特徴とする請求項12に記載の回路装置の検査装置。13. The circuit device inspection apparatus according to claim 12, wherein the pressure relief frame has spring elasticity or rubber elasticity.
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