JP4380187B2 - 複合構造物およびその作製方法 - Google Patents
複合構造物およびその作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4380187B2 JP4380187B2 JP2003071489A JP2003071489A JP4380187B2 JP 4380187 B2 JP4380187 B2 JP 4380187B2 JP 2003071489 A JP2003071489 A JP 2003071489A JP 2003071489 A JP2003071489 A JP 2003071489A JP 4380187 B2 JP4380187 B2 JP 4380187B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- substrate
- fine particles
- aerosol
- composite structure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、微粒子を含むエアロゾルを基材に吹き付け、微粒子材料からなる構造物を基材上に形成させることによって、基材と構造物からなる複合構造物を作製する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
基材表面に脆性材料からなる構造物を形成する方法として、微粒子ビーム堆積法あるいはエアロゾルデポジション法と呼ばれる名称のものが認知されている。これは脆性材料の微粒子をガス中に分散させたエアロゾルをノズルから基板に向けて噴射し、基材に脆性材料微粒子を衝突させ、この衝突の衝撃により脆性材料が変形あるいは破砕し、これにより基材上に脆性材料微粒子の構成材料からなる構造物をダイレクトで形成させることを特徴としており、特に加熱手段を必要としない常温で構造物が形成可能なプロセスで、焼成体同等の機械的強度を保有する脆性材料構造物を得ることができる。
【0003】
この技術の改良を目的として、イオン、原子、分子ビームや低温プラズマなどの高エネルギービームを微粒子の流れに照射し、微粒子を活性化させて良好な膜物性と、良好な基板への密着性を確保する工夫がなされている(例えば、特許文献1参照。)。
【0004】
また、微粒子材料の吹きつけの流れの基板表面への入射角度を変化させることで、微粒子材料の膜の接合が十分で組織が緻密であり、表面が平滑であり、密度の均一なものを製造する工夫がなされている(例えば、特許文献2参照。)。
【0005】
更に、脆性材料微粒子に内部歪を印加する工程を行った後に、この脆性材料微粒子を基材表面に衝突させ、この衝突の衝撃によって微粒子同士を再結合せしめることで、基材との境界部にその一部が基材表面に食い込む脆性材料からなるアンカー部を形成し、このアンカー部の上に脆性材料からなる構造物を形成させる複合構造物の形成方法が提案され、構造物の形成速度を向上させる工夫がなされている(例えば、特許文献3参照。)。
【0006】
これらエアロゾルデポジション法で使用される基板としては、金属、ガラス、セラミックス、ある種のプラスチックなどが挙げられる。
【0007】
【特許文献1】
特許第3256741号
【特許文献2】
特許第3338422号
【特許文献3】
特許第3348154号
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
これら構造物の品質を上げる発明がなされる一方、緻密質で強固であり、密着性の良好な構造物を形成すると、構造物内に圧縮残留応力が発生し、それゆえ基材が構造物を上にして凸の形にそる変形を起こすという問題がある。これは微粒子を衝突させるというこの手法の特徴ゆえに、構造物形成時に常に構造物は圧縮性衝撃力の印加にさらされ、内部に応力が蓄積されるとともに、構造物が鍛造されて押し広げられるためと考えられる。従ってこの手法にて形成される複合構造物の用途として、例えばシリコンウェハやガラスを平面度よく吸着させる静電チャックなどを考えたとき、板状の基材を用い、その要求特性に従って板の表面を研削・研磨して必要とされる平面度を確保して準備を進めた場合において、その表面に緻密で高強度の脆性材料の構造物を形成させるためにこの手法を採用すると、もとから確保していた平面度を劣化させ、凸にそった板状複合構造物として、要求品質を満たさないものが得られるという結果となる。
【0009】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、脆性材料の構造物の形成に当たって、その工程中あるいは基材の準備段階あるいは工程後の加工の段階において適当な処置を行うことで、構造物に発生する残留応力による基材の変形を極力抑え、要求される表面形状の設計を容易にする複合構造物の形成方法についての提案である。
【0010】
【課題を解決するための手段】
まず基材の変形についての説明を行う。本件で扱う基材の材質は、金属、セラミックス、ガラス、プラスチックなどが挙げられ、形態としては円盤などを含む板状を基本とし、すなわち板の片面に構造物形成を行った場合、基材が撓む不具合が工業利用上認められる場合を扱う。塊状の基材を用いた場合においても、微少量の変形は免れないため本件は当てはまるものの、重要性においては一歩劣る。また板状の基材の表面に微細なデザインの凹凸が形成されていてもよいし、基材がフィルム状であってもよい。
【0011】
一般的に円盤状の基材のそりと基板上に形成された構造物(膜)の持つ応力との間には次式の関係があるとされている。
Z=3(1−ν)dσl2/(2Et2) ・・・・(1)
ここで、Z:基材のそり
σ:構造物(膜)の応力(プラスの場合引っ張り応力)
E:基材のヤング率
t:基材と構造物(膜)の合計厚み
l:基材の直径
ν:基材のポアソン比
d:構造物(膜)の厚み
【0012】
PVDやめっき法などの場合、膜の残留応力は引っ張りの場合が多いため、基材は凹状にそる。この場合上式のそりや応力は正値をとる。エアロゾルデポジション法によって円盤基材に構造物を形成した場合は、凸状にそるため、Zは負値とし、σを負値に表示して圧縮応力であることを示すと良い。例えば直径200mm、厚み20mm、ポアソン比0.33、ヤング率7200kgf/mm2のアルミ合金基材を用いて、エアロゾルデポジション法にて脆性材料構造物を形成高さ20μmで基材表面に形成した場合において、20μmの凸状そりが発生した場合、残留応力値は72kgf/mm2の値を得る。上述の試算における基材のそりは、エアロゾルデポジション法により酸化アルミニウムの緻密質構造物を形成させた場合に発生するそりとしてほぼ当てはまる値である。このレベルのそりが引き起こす問題としては、例えばひとつの試算として平面度よく研磨したアルミ合金基材の表面に構造物を形成させることにより20μmのそりを持つ8inch用静電チャックを考えた場合、吸着させる8inchウェハがチャック表面になじんで同じく20μmのそりが発生することで、ウェハへの電子ビーム露光や描画の精度に影響を与えることとなり、都合が悪い。
【0019】
そこで、上記のそりを軽減し、平面度に優れる表面を有する複合構造物を得る手法として、基材の表面を、研削加工あるいは研磨加工あるいはダイキャスト加工により緩やかな凹曲面に加工する工程と、次いで脆性材料微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを、前記基材上の凹曲面に向けて噴射して衝突させ、この衝撃によって前記脆性材料微粒子の構成材料からなる脆性材料構造物を、前記基材上に形成させる工程、からなる複合構造物の形成方法を提案する。
【0020】
この手法は実質的に板状の基材に対して構造物形成面を平面度よく得るための手法であり、従って緩やかな凹曲面とは、数〜数十kg/mm2の残留応力をもち、数〜数百μmの形成高さで形成される脆性材料の構造物による(1)式に基づくような基材の変形をもとに、そりZにほぼ対応する深さ分を基材の表面から削って形成される曲面である。すなわち予めエアロゾルデポジション法にて形成させる構造物の形成高さとそれが持つ残留応力値を把握しておき、基材の形状、材質と併せて、そり量を予測することで、この基材の変形量分に応じて基材を凹状に加工することが好適であると考えられる。この凹曲面は球面の一部を構成する曲面を採用することが望ましい。この加工された基材に構造物を形成させることで所望の表面形態、特に平面度に優れる表面を有する複合構造物を得ることができる。
【0023】
また本発明の別の態様として、脆性材料微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを、基材に向けて噴射して衝突させ、この衝撃によって前記脆性材料微粒子の構成材料からなる脆性材料構造物を、基材上に形成させる複合構造物形成方法において、基材に外力を与え、基材を弾性変形させた状態で、エアロゾルを前記基材に衝突させることを特徴とする複合構造物の形成方法を提案する。
【0024】
基板としては弾性変形を起こしやすい板状のもとを使用することが好適であり、エアロゾルデポジション法で形成される構造物が圧縮応力を持つという特徴から、基板の構造物形成面が凹状にそるような、基板の裏面からの外的引っ張り応力に印加や、基板の側面からの外的圧縮応力の印加を行うとよい。この応力値すなわち基板をそらせておく量は、構造物のもつ残留応力と構造物形成高さに応じて適当となるよう設定する。このような状態の基板表面に向けて構造物を形成したのち、基板にかかる外的応力を取り去る。この処置で構造物形成ののちでも複合構造物のそりを緩和することができる。
【0025】
これらの手法は、それひとつでは完全にそりを解消させることが難しい処方もあり、従ってこれらの手法のいくつかを組み合わせて極力そりをなくすことがなお好適である。
【0027】
ここで、本発明を理解する上で重要となる語句の解釈を以下に行う。
(多結晶)
本件では結晶子が接合・集積してなる構造体を指す。結晶子は実質的にそれひとつで結晶を構成しその径は通常5nm以上である。ただし、微粒子が破砕されずに構造物中に取り込まれるなどの場合がまれに生じるが、実質的には多結晶である。
(結晶配向性)
本件では多結晶である構造物中での結晶軸の配向具合を指し、配向性があるかないかは、一般には実質的に配向性のないと考えられる粉末X線回折などによって標準データとされたJCPDS(ASTM)データを指標として判断する。本件では後述する実施例12に示すような見方において、主要なピークのずれが30%以内に収まっている場合を実質的に配向性がないと称する。
(界面)
本件では結晶子同士の境界を構成する領域を指す。
(粒界層)
界面あるいは焼結体でいう粒界に位置するある厚み(通常数nm〜数μm)を持つ層で、通常結晶粒内の結晶構造とは異なるアモルファス構造をとり、また場合によっては不純物の偏析を伴う。
(アンカー部)
本件の場合には、基材と構造物の界面に形成された凹凸を指し、特に、予め基材に凹凸を形成させるのではなく、構造物形成時に、元の基材の表面精度を変化させて形成される凹凸のことを指す。
【0028】
表面に研削・研磨などを施し、平面度を良好にした板状の基材の片側面のみにエアロゾルデポジション法により構造物を形成させた場合には、構造物の持つ残留応力の影響を受けて、得られた複合構造物が構造物を有する表面を上にして凸状にそるという不具合があった。そこでこのような基材を用いて、その両平面に構造物を形成させた複合構造物を得ることにより、これら構造物の残留応力が拮抗して、複合構造物のそりを緩和することができ、すなわち平面度の高い複合構造物を獲得することができ、好適となる。基材の両面の構造物はそれぞれ、形成面積や形成高さがほぼ同一であることが平面度を高める上でよい。構造物形成後にいずれかあるいは両方の面の構造物を研削・研磨して、複合構造物のそりや外観を調整することも好適である。
【0029】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。まず本発明の場となるエアロゾルデポジション法における複合構造物作製装置の一態様について説明する。
【0030】
図1は複合構造物作製装置10を示したものであり、窒素ガスボンベ101の先にガス搬送管102を介してエアロゾル発生器103が設置され、その下流側にエアロゾル搬送管104を介して構造物形成室105内に例えば10mm×0.4mmの噴射開口をもつノズル106が設置されている。エアロゾル発生器103内には脆性材料微粒子例えば酸化アルミニウム微粒子粉体が充填されている。ノズル106の開口の先には基材108が配置され、基材108はXYステージ107に固定されている。構造物形成室105は真空ポンプ109と接続されている。
【0031】
以下にエアロゾルデポジション法に基づく複合構造物作製装置1の作用を述べる。窒素ガスボンベ101を開栓し、ガスをエアロゾル発生器103内に送り込み、同時にエアロゾル発生器103を運転させて脆性材料微粒子と窒素ガスが適当比で混合されたエアロゾルを発生させる。また真空ポンプ109を稼動させ、エアロゾル発生器103と構造物形成室105の間に差圧を生じさせる。このエアロゾルをエアロゾル搬送管104を通して加速させ、ノズル106より基材108に向けて噴射する。基材108はXYステージ107により揺動され、エアロゾル衝突位置を変化させつつ、微粒子の衝突により基材108上に膜状の脆性材料構造物が形成されていく。
【0032】
図2は請求項1に基づく基板を冷却する方法を採用する構造物形成装置20であり、ほぼ図1と同様であるが、基材108とXYステージ107の間に基材冷却ステージ201が設置される。例えば、ペルチェ素子を内蔵した冷却ステージや、液体窒素を通液あるいは液体窒素から発生したコールドガスを通気するパイプを連結した冷却ステージを用いる。また基板表面に熱電対202を取り付けて温度計203により温度管理を行い、基材を所望量体積低下させる。このような状態で上述した方法により構造物の形成を行ってのち、形成された構造物を室温まで温度上昇させることにより、変形を緩和させる。
【0033】
(実施例1)
実施例1は、形成された複合構造物に熱処理を行うことで変形を緩和する方法に関する。図1と同等の従来からの構造物形成装置を用いて、基材にφ30mm、厚み3mmのA5052アルミ合金を使用し、脆性材料微粒子に平均粒径0.6μm、純度99.8%の酸化アルミニウムを使用した。まず基材に熱処理炉にて270℃24時間の熱処理を行い、次いで基材の片側表面に酸化アルミニウムの構造物を形成して複合構造物を得た。続いてこの構造物を、温度を300℃12時間、310℃12時間、と10℃刻みで昇温させ、370℃12時間処理まで酸化アルミニウム構造物の結晶にほとんど影響を与えない温度範囲にて温度変化させながら熱処理炉にて熱処理して、基材にクリープ変形を起こさせた。
【0034】
そりの状態の把握としては、まず構造物形成前の基材の表面に中心から直径20mmの円をもうけ、これを十字に分割し、X方向とY方向として設定して、X方向20mm、Y方向20mmにつき、表面プロファイルを日本真空技術株式会社製触針式表面形状測定装置Dektak3030を用いて測定した。次いで270℃の基材の熱処理後に同じ領域の表面プロファイルを測定した。次いで構造物形成後に構造物形成によるそりを同じようにして評価した。続いて各熱処理を経る毎に基材を熱処理炉から取り出して室温まで冷却し、同じく測定した。その結果を表1に示す。値は負値が凸状のそりであり、正値が凹状のそりである。360℃の熱処理でほぼそりが解消されていることがわかる。また370℃12時間の処理を行った後のサンプルのY方向のプロファイルにおいて、距離2mmにおける表面粗さRaを、日本真空技術株式会社製触針式表面形状測定装置Dektak3030を用いて測定したところ、0.2μmの値を得た。
【0035】
【表1】
【0036】
(実施例2)
実施例2は、板の両面への構造物形成の例である。図1と同等の従来からの構造物形成装置を用いて、縦15mm、横15mm、厚さ0.7mmのソーダライムガラス基材上へ、まず片面(おもて面)に形成高さ6.3μmで酸化アルミニウムの構造物の形成を全面に亘って行った。この基材のおもて面の表面プロファイルを日本真空技術株式会社製触針式表面形状測定装置Dektak3030を用いて、縦方向10mmの幅で測定したところ、6.4μmの凸状のそりが観察された。この後、基材の裏面に同様の操作にて形成高さ4.6μmの酸化アルミニウム構造物を全面に亘って形成した。この基材のおもて面の表面プロファイルを同様に測定したところ、1.25μmのそりが観察された。従って、両面への構造物形成により、基材の破損なく基材のそりをある程度解消させることができた。
【0037】
(実施例3)
実施例3は、基板に応力を印加しつつ構造物形成を行った例である。図3に示すように、縦30mm、横50mm、厚さ3mm、平面度5μm程度のSUS304ステンレス鋼基板301の中心に片側からネジ穴を空け、40mmの間隔で突起を形成した基板ホルダ302に設置し、基板ホルダ302の裏面からボルト303を挿入して基板301を固定し、さらにボルトを締めることにより、基板表面横方向でそりが生じるように基板301下面から引っ張り応力を与えた。図4はこのときの表面形状を日本真空技術株式会社製触針式表面形状測定装置Dektak3030にて計測した基板の表面プロファイルである。基板表面方向40mmにおいて、約100μm凹状にそっていることがわかる。この状態の基板ホルダを図1と同等の構造物形成装置のXYステージ107に設置し、構造物形成用粉体として、平均粒径0.6μmの酸化アルミニウム微粒子を用いてエアロゾルデポジション法により基板表面に40mm×30mmの面積、約20μmの形成高さで構造物形成を行った。このようにして作製した複合構造物を基板ホルダ302から取り外し、図4で計測した位置とほぼ同じ領域で表面プロファイルを計測した。この結果を図5に示す。ほぼフラットな表面を持つ構造物が形成されたことがわかる。このときの複合構造物表面の表面粗さを日本真空技術株式会社製触針式表面形状測定装置Dektak3030にて距離2mmで測定したところ、1μmの値を得た。
【0038】
(比較例)
この比較例は実施例2に対するものである。縦30mm、横50mm、厚さ3mm、平面度5μm程度のSUS304ステンレス鋼基板を応力を印加せずに図1と同等の構造物形成装置のXYステージ107に設置し、構造物形成用粉体として、平均粒径0.6μmの酸化アルミニウム微粒子を用いてエアロゾルデポジション法により基板表面に40mm×30mmの面積、約15μmの形成高さで構造物形成を行った。このようにして作製した複合構造物の横方向の表面プロファイルを日本真空技術株式会社製触針式表面形状測定装置Dektak3030にて計測した。この結果が図6である。フラットであった基板が構造物形成により、構造物の持つ圧縮残留応力の影響を受けて、凸状にそっていることがわかる。またこのときの複合構造物表面の表面粗さを日本真空技術株式会社製触針式表面形状測定装置Dektak3030にて距離2mmで測定したところ、2.4μmの値を得た。
【0039】
(実施例4)
この実施例は結晶配向性について行ったものである。
平均粒径0.4μmの酸化アルミニウム微粒子を用いて本発明の超微粒子ビーム堆積法によりステンレス基板上に厚さ20μmの酸化アルミニウム構造物を形成した。この構造物の結晶配向性をX線回折法(マックサイエンス社製MXP−18)により測定した。この結果を表2に示す。
【0040】
表2では代表的な面形のピーク4点の積分強度計算結果を{hkl}={113}を100とした強度比で示す。左から原料微粒子を薄膜光学系で測定した結果、構造物を薄膜光学系で測定した結果、JCPDSカード74−1081コランダム酸化アルミニウムデータ、原料微粒子を集中光学系で測定した結果を記載する。
【0041】
原料微粒子の集中光学系と薄膜光学系の結果がほぼ等しい為、原料粉体の薄膜光学系の結果を無配向状態と基準し、このときの構造物の強度比のずれを百分率表示したものを表3に示す。{113}を基準として、他の3ピークのずれは11%以内に収まっており、実質上構造物は結晶配向性がないと言える。
【0042】
【表2】
【0043】
【表3】
【0044】
(実施例5)
次に構造物形成に伴って形成されたアンカー部について、図7に示す。尚、図7において、上部は製膜前の基板表面の凹凸を測定した結果を示し、下部は製膜後に脆性材料の膜を剥がした後の基板の表面すなわちアンカー部の凹凸を測定した結果を示す。
【0045】
図1に示したものと同等の装置で、純度99.8%以上、サブミクロン粒径の酸化アルミニウム微粒子を窒素ガスと混合させてエアロゾルを発生させ、表面を鏡面に仕上げた真鍮基板に向けて、ガス流量7L/minの条件で噴射し、酸化アルミニウム膜を膜厚10μm程度で形成させた後、膜に引張り応力を与えて膜を基板より引き剥がしてアンカー部をむき出しにし、基板の表面粗さとアンカー部を日本真空技術株式会社製触針式表面形状測定器Dektak3030を用いて計測した。図7の上のプロファイルが構造物形成前の真鍮基板の表面プロファイルであり、下がアンカー部のプロファイルである。図より微粒子の衝突によりアンカー部が形成されている様子がわかる。また同表面形状測定器によりこれらの表面粗さRaは、スイープ距離200μmにおいて、基板表面が7.7nm、アンカー層が73.8nmであった。
【0046】
【発明の効果】
以上に説明したように本発明によれば、エアロゾルデポジション法によって複合構造物を形成させる工程において、緩やかな凹曲面に加工した基材にエアロゾルを噴射して衝突させる、あるいは基材を弾性変形させた状態でエアロゾルを基材に噴射衝突させる処置により、複合構造物が形成された構造物の持つ残留応力によって変形するという不具合を解消することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 エアロゾルデポジション法で用いる構造物作製装置を示す模式図
【図2】 エアロゾルデポジション法で用いる基材冷却ステージを有する構造物作製装置を示す模式図
【図3】 基材に引っ張り応力を与える基材ホルダの模式図
【図4】 引っ張り応力を与えて基材の表面プロファイル
【図5】 基材に引っ張り応力を与えて形成した複合構造物の表面プロファイル
【図6】 基材に引っ張り応力を与えず形成した複合構造物の表面プロファイル
【図7】 アンカー層を示す図
【符号の説明】
10・・・複合構造物作製装置
101・・・窒素ガスボンベ
102・・・ガス搬送管
103・・・エアロゾル発生器
104・・・エアロゾル搬送管
105・・・構造物形成室
106・・・ノズル
107・・・XYステージ
108・・・基材
109・・・真空ポンプ
20・・・構造物形成装置
201・・・基材冷却ステージ
202・・・熱電対
203・・・温度計
Claims (2)
- 基材の表面を、研削加工あるいは研磨加工あるいはダイキャスト加工により緩やかな凹曲面に加工する工程と、次いで脆性材料微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを、前記基材上の凹曲面に向けて噴射して衝突させ、この衝撃によって前記脆性材料微粒子の構成材料からなる脆性材料構造物を、前記基材上に形成させる工程、からなる複合構造物の形成方法。
- 脆性材料微粒子をガス中に分散させたエアロゾルを、基材に向けて噴射して衝突させ、この衝撃によって前記脆性材料微粒子の構成材料からなる脆性材料構造物を、前記基材上に形成させる複合構造物形成方法において、前記基材に外力を与え、前記基材を弾性変形させた状態で、前記エアロゾルを前記基材に衝突させることを特徴とする複合構造物の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003071489A JP4380187B2 (ja) | 2003-03-17 | 2003-03-17 | 複合構造物およびその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003071489A JP4380187B2 (ja) | 2003-03-17 | 2003-03-17 | 複合構造物およびその作製方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008245357A Division JP4711242B2 (ja) | 2008-09-25 | 2008-09-25 | 複合構造物およびその作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004275900A JP2004275900A (ja) | 2004-10-07 |
JP4380187B2 true JP4380187B2 (ja) | 2009-12-09 |
Family
ID=33287918
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003071489A Expired - Fee Related JP4380187B2 (ja) | 2003-03-17 | 2003-03-17 | 複合構造物およびその作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4380187B2 (ja) |
-
2003
- 2003-03-17 JP JP2003071489A patent/JP4380187B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004275900A (ja) | 2004-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5968479B2 (ja) | スパッタリングターゲットを形成する方法 | |
US20110303535A1 (en) | Sputtering targets and methods of forming the same | |
JP4006535B2 (ja) | 半導体または液晶製造装置部材およびその製造方法 | |
TW201320219A (zh) | 半導體製造裝置用構件 | |
JP3697543B2 (ja) | セラミックスの表面強靱化方法及びセラミックス製品 | |
EP1741688A1 (en) | Method of surface modification for thermal shock resistance and member thereof | |
CN113548909A (zh) | 一种金刚石-金属界面结构、复合材料及制备方法 | |
EP3425087A1 (en) | Ceramic laminate | |
JP4711242B2 (ja) | 複合構造物およびその作製方法 | |
JP4380187B2 (ja) | 複合構造物およびその作製方法 | |
JP3716913B2 (ja) | 脆性材料複合構造物及びその作製方法 | |
KR102084426B1 (ko) | 에어로졸 증착법을 이용하여 제조된 세라믹 후막 및 이의 제조방법 | |
KR101543891B1 (ko) | 초음속 진공유동 적층을 통한 나노구조의 금속 박막 코팅방법 | |
JP7035726B2 (ja) | セラミックス積層体 | |
CN213447263U (zh) | 钛部件 | |
Song et al. | Nanoparticle deposition of Al2O3 powders on various substrates | |
Borchers et al. | Deformation microstructure of cold gas sprayed coatings | |
JP2006083429A (ja) | 複合構造物 | |
King et al. | Microstructural development in cold sprayed copper | |
Kovar et al. | Pressure-assisted sintering of nanocrystalline silver lines produced by laser ablation of microparticle aerosols |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050916 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060313 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080724 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080804 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080925 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080930 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090901 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090914 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121002 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4380187 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131002 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |