JP4370903B2 - カーボンナノチューブ設置基板 - Google Patents
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Description
仮に境界を規定したとしても連続な面である必要は無く、基材表面から開放空間に向かうカーボンナノチューブ付着物の厚さ方向に、カーボンナノチューブの形態が変化しており、あたかも積層されているかの如く観察されることより、概ね層状の表現を用いている。
以上の様に作製した電極の、第1の領域であるカーボンナノチューブ表面を電子顕微鏡で観察した結果を図4に示す。表面に5〜20μmの細かな凹凸が確認され、また、凸部特に頂点部のカーボンナノチューブは開放空間側に配向されたものが多いことが確認された。また、カーボンナノチューブの集合密度も形態のものとは異なり、フワっとした疎な集合状態であることが確認できた。本実施例の場合、第2の領域については表面から観察することはできないが、例えば、電極基材をITO(錫ドープ酸化インジウム)をコーティングしたガラスに本実施例と同様の手法にてカーボンナノチューブを取り付けた電極を、電極基材側から観察するとカーボンナノチューブが圧縮された状態で密かに集合して、さらに、概電極基材と平行に配向されていることが確認できることからも、第2の領域が存在していることを確認できた。また、この際、カーボンナノチューブと電極基材との接触は、各カーボンナノチューブの側面が線接触していることが確認され、接触面積が大きく取られていることが確認された。
本実施例に用いたテープ状カーボンナノチューブ集合体を、燃焼法にて炭素含有量を測定したところ、99%の炭素からなる集合体であることが確認できた。本実施例では、カーボンナノチューブの電極基材への取り付けにおいて、バインダ、接着剤、ろう材のような金属を用いておらず、取付工程にてカーボンナノチューブ集合体の純度が変化する要因は存在しない。このため、第1の領域、第2の領域共、純度95%の炭素から構成されていることが確認された。念のため、カーボンナノチューブ取付後の電極表面を蛍光X線分析にて元素分析を行ったところ、インサート材として用いた高分子は検出されず、97%以上が炭素から構成されていることを確認した。燃焼法と炭素含有量が異なるのは、水分や酸素、窒素等の吸着ガスによる影響と測定誤差によるものと考えている。いずれにせよ、第1の領域、第2の領域共、95%以上が炭素から構成されていることは確認できた。
また前記電極の、カーボンナノチューブ付着厚さを波長670nm、スポット径φ2μmの半導体レーザを用い、共焦点方式にて計測するレーザ変位計を用い測定したところ、図4に示すように、最大付着厚さは約120μm、凹凸差は約20μmであった。この、付着厚さおよび凹凸差は取り付け時における加圧条件と、使用するカーボンナノチューブ集合体の厚み、構成する各カーボンナノチューブの長さより種々選択できる。例えば、構成するカーボンナノチューブ繊維が短めのテープ状カーボンナノチューブ集合体を用い、同様に作られた別の電極のカーボンナノチューブ付着厚さを同様にして測定したところ、最大付着厚さ約50μm、凹凸差5μmのものも見られた。また、厚さの厚いテープ状カーボンナノチューブ集合体を用い、同様に作られた別の電極のカーボンナノチューブ付着厚さを同様にして測定したところ、最大付着厚さ約190μm、凹凸差20μmのものも見られた。このように種々テープ状カーボンナノチューブ集合体を用い、種々取付、特に押し付け条件を検討した結果、全体の付着厚さは10〜200μm、凹凸差は3〜80μm程度まで種々選ぶことが可能であった。
前述電極の電子放出特性を計測するために、10-7Pa台の高真空に排気した真空容器内にて、前述電極とこれに対向して配置された平板電極間に電界を印加して、この電界強度と電子放出電圧の関係を測定した。結果は図5に示すように、およそ2V/μmにて、10mA/cm2となり、50mA/cm2の電界密度にて使用することが充分可能であった。図6は、従来法による、カーボンナノチューブ粉末を有機バインダに混練したものを、電極基材表面に塗りつけた後に焼成した電子放出電極と、本発明の耐久性を比較したものであり、同一電流密度を得るために必要な平均電界強度の時間変化を示したものである。電極試用開始直後は、双方の電極ともほぼ同じ特性を示すが、時間が経過するに従い、従来法の電極のほうがより高い電界強度が必要となり、寿命が短いことが判る。さらに、従来法における必要電界強度が概ね二次関数的に上昇しているのに対し、本発明の電極は緩やかな直線的に上昇している。同一電流密度にて、各々の方法にて作られたカーボンナノチューブ設置電極共、表面のカーボンナノチューブにおいては同様な損傷、例えばイオン衝突によるスパッタリンを受けるはずであり、にもかかわらず、本発明の電極の方がより高い耐久性を示すのは、電子放出に寄与する第1の領域の損傷と同時に、第2の領域が第1の領域に変化する再生作用があるためと考えられる。
図8は上記の従来法において製作されたカーボンナノチューブ設置電極基板の模式図を示したものである。この電極は、予めカーボンナノチューブ粉末を有機バインダに混練しておき、スクリーン印刷にて電極基材カーボンナノチューブ取付面に塗布したものを、約550度の焼成炉を用いバインダに炭化させたものである。有機バインダには溶剤等の蒸発部分が多く含まれているため、焼成に伴い体積が減少する。このため、塗布されたときに有機バインダに満たされた領域は有機バインダの炭化に伴い、空隙へと変化する。結果としてカーボンナノチューブは海綿状の、内部に微小な空隙を多く含んだ形態となって電極基材表面に付着していることとなる。なお、焼成された有機バインダは、一部カーボンナノチューブに付着し、多くは基材表面へ付着した状態で残留する。
図7はカーボンナノチューブ設置電極作製に関する、本発明の別の形態を示したものである。まず、前述のごとく、カーボンナノチューブ設置基板電極を製作する。この際、インサート材表面をより平滑にし、カーボンナノチューブ表面の凹凸が大きくならないようにする。次に、インサート材のカーボンナノチューブ接触面を予め機械加工やエッチングなどにより凹凸、開口などの微細なパターンを設けておき、再びカーボンナノチューブ押し付け手段を用い、押し付ける。これにより、カーボンナノチューブ表面は制御された微細なパターン形状を有する。この微細パターンを設ける方法としては、カーボンナノチューブ取付後に、電子銃などにいる電子照射、レーザ照射等によるパターン作製も使用できる。
Claims (13)
- カーボンナノチューブを含む概ね炭素にて構成され、個々のカーボンナノチューブの配向が概ね開放空間に向いている第1の領域と、個々のカーボンナノチューブの配向が無秩序もしくは基板のカーボンナノチューブ取付面に概ね平行な第2の領域を備え、前記2つの領域が概ね層状に積層され、開放空間側に前記第1の領域が、そして、カーボンナノチューブ被取付基板側に前記第2の領域が配置され、取り付けられているカーボンナノチューブ設置基板であって、カーボンナノチューブ集合体を基板に載せて、その上からカーボンナノチューブ押し付け手段により加圧し、次いでカーボンナノチューブ押し付け手段を基板から引離すことによって得られるカーボンナノチューブ設置基板
- カーボナノチューブを含む概ね炭素にて構成され、カーボンナノチューブの体積密度が低い第1の領域と、カーボンナノチューブの体積密度が高い第2の領域を備え、前記2つの領域が概ね層状に積層され、開放空間側に前記第1の領域がカーボンナノチューブ設置基板であって、カーボンナノチューブ集合体を基板に載せて、その上からカーボンナノチューブ押し付け手段により加圧し、次いでカーボンナノチューブ押し付け手段を基板から引離すことによって得られるカーボンナノチューブ設置基板
- カーボンナノチューブを含む概ね炭素にて構成され、個々のカーボンナノチューブの配向が概ね開放空間に向いておりかつカーボンナノチューブの体積密度が低い第1の領域と、個々のカーボンナノチューブの配向が無秩序もしくは基板のカーボンナノチューブ取付面に概ね平行でかつカーボンナノチューブの体積密度が高い第2の領域を備え、前記2つの領域が概ね層状に積層され、開放空間側に前記第1の領域が、そして、カーボンナノチューブ被取付基板側に前記第2の領域が配置され、取り付けられているカーボンナノチューブ設置基板であって、カーボンナノチューブ集合体を基板に載せて、その上からカーボンナノチューブ押し付け手段により加圧し、次いでカーボンナノチューブ押し付け手段を基板から引離すことによって得られるカーボンナノチューブ設置基板
- 第1の領域が表面の凹凸形成に寄与し、第2の領域が凹凸形成に寄与しない請求項1及至3のいずれかに記載のカーボンナノチューブ設置基板
- 第2の領域が第1の領域と基板とを接着する役割を果たしている請求項1及至4のいずれかに記載のカーボンナノチューブ設置基板
- 第1の領域および第2の領域の化学成分の90%以上が炭素である請求項1及至5のいずれかに記載のカーボンナノチューブ設置基板
- 第1の領域および第2の構成の50%以上がカーボンナノチューブである請求項1及至6のいずれかに記載のカーボンナノチューブ設置基板
- 第1の領域と第2の領域において、これらを構成する材料の化学成分比およびカーボンナノチューブの構成比が概ね一様であることを特徴とする請求項1及至7のいずれかに記載のカーボンナノチューブ設置基板
- 第1の領域と第2の領域を加えた厚さが10〜200μmであることを特徴とする請求項1及至8のいずれかに記載のカーボンナノチューブ設置基板
- 第1の領域の厚さが5μm以上であること特徴とする請求項1及至9のいずれかに記載のカーボンナノチューブ設置基板
- 前記第1の領域と前記第2の領域を有する部分と前記第2の領域のみからなる部分を、平面的に微細パターン状もしくは微細に分散させたことを特徴とする請求項1及至10のいずれかに記載のカーボンナノチューブ設置基板
- 前記請求項1及至11のいずれかに記載のカーボンナノチューブ設置基板を用いたことを特徴とする電界放出型電子源
- 前記請求項12に記載の電界放出電子源を用いた電子機器および装置
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