JP4370529B2 - 成膜装置、原料の導入方法、及び成膜方法 - Google Patents
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Description
成膜チャンバと、
前記固体原料を超臨界二酸化炭素に溶解させた固体原料溶液を調製する調合器と、
前記調合器内に超臨界二酸化炭素を供給する第一の超臨界二酸化炭素供給ラインと、
前記固体原料溶液における固体原料の濃度をモニタリングする検出器と、
前記検出器で得られた固体原料の濃度をフィードバックして、前記成膜チャンバ内に導入される固体原料の導入速度が一定になるように、前記調合器から排出される固体原料溶液の流速を制御する流速調整手段と、
前記調合器から排出される固体原料溶液を前記成膜チャンバ内に導入する固体原料導入ラインと、
前記調合器から排出される固体原料溶液に他の物質を混合する混合器と、
前記混合器内に超臨界二酸化炭素を供給する第二の超臨界二酸化炭素供給ラインと
を有することを特徴とする。
(a)調合器内で前記固体原料を超臨界二酸化炭素に溶解させた固体原料溶液を調製する工程と、
(b)前記固体原料溶液における固体原料の濃度をモニタリングする工程と、
(c)前記モニタリングにより得られた固体原料の濃度をフィードバックして、前記成膜チャンバ内に導入される固体原料の導入速度が一定になるように、前記調合器から排出される固体原料溶液の流速を制御する工程と、
(d)前記調合器から排出される固体原料溶液を前記成膜チャンバ内に導入する工程と、
(e)前記調合器から排出される固体原料溶液に超臨界二酸化炭素を追加混合する工程と
を有することを特徴とする。
(f)前記成膜チャンバ内に導入される超臨界二酸化炭素の流速が一定になるように、前記追加混合される超臨界二酸化炭素の供給速度を制御する工程と、
をさらに有することが好ましい。
複数種の固体原料に対しそれぞれ前記工程(a)〜(c)を行い、
(g)前記調合器の複数から排出される固体原料溶液の複数を混合する工程、
をさらに有する構成とすれば良い。
(h)前記調合器から排出される固体原料溶液と液体原料とを混合する工程と、
(i)前記混合される液体原料の導入速度を制御する工程と、
をさらに有する構成とすれば良い。
(j)気体原料を成膜チャンバ内に導入する工程と、
(k)前記導入される気体原料の導入速度を制御する工程と、
をさらに有する構成とすれば良い。
(1)原料を導入する際に高温で揮発させる必要がないために、揮発過程でしばしば生じる原料の熱分解について注意する必要がない。
(2)原料の揮発性や状態(気体、液体、固体)に関係なく、超臨界二酸化炭素に溶解するものであれば使用することができるため、原料の選択範囲が格段に広がる。超臨界二酸化炭素の溶解度は、一般的なアルカン系の溶媒と類似していると考えられており、多くの有機金属錯体を溶解することができる。
(3)複数の原料を用いる場合、その原料に大きな蒸気圧の差がある場合でも、任意の導入量比で原料を成膜チャンバ内へ導入することができ、結果として、任意の組成比をもつ複合材料膜を形成することができる。
(4)固体、液体、気体のそれぞれの原料について独立した導入手段を有しており、経時変化がなく、定常的に、任意の流量で原料をフロー導入することができる。
図1及び2には、本発明に係る成膜装置の一実施形態の概略構成を示す。
本発明に係る原料の導入方法は、少なくとも固体原料を成膜チャンバ内に導入する方法であり、具体的には、以下のように行う。
本発明に係る成膜方法は、少なくとも固体原料を用いて膜を形成する方法であり、前記の原料の導入方法により固体原料を含む各種原料を成膜チャンバ内に導入することで行う。また、上記成膜方法は、少なくとも固体原料を含む複数種の原料を用いて複合材料膜を形成する方法とすることもできる。この場合、前記の複数種の固体原料を成膜チャンバに導入する方法により、固体原料を含む各種原料を成膜チャンバ内に導入することで行う。
1c 超臨界二酸化炭素用ポンプ(II)
2a,2b 固体原料溶解チャンバ
3a,3b 攪拌機能付きホットプレート
4a,4b 検出部
5a,5b 検出器
6 マスフローコントローラー
7 混合用チャンバ
8 成膜チャンバ
9 背圧調整器
10 液体原料貯蔵容器
11 液体ポンプ
21a,21b 第一の超臨界二酸化炭素供給ライン
22a,22b 固体原料導入ライン
23 第二の超臨界二酸化炭素供給ライン
24 気体原料導入ライン
25 液体原料導入ライン
Claims (15)
- 少なくとも固体原料を用いて膜を形成する成膜装置であって、
成膜チャンバと、
前記固体原料を超臨界二酸化炭素に溶解させた固体原料溶液を調製する調合器と、
前記調合器内に超臨界二酸化炭素を供給する第一の超臨界二酸化炭素供給ラインと、
前記固体原料溶液における固体原料の濃度をモニタリングする検出器と、
前記検出器で得られた固体原料の濃度をフィードバックして、前記成膜チャンバ内に導入される固体原料の導入速度が一定になるように、前記調合器から排出される固体原料溶液の流速を制御する流速調整手段と、
前記調合器から排出される固体原料溶液を前記成膜チャンバ内に導入する固体原料導入ラインと、
前記調合器から排出される固体原料溶液に他の物質を混合する混合器と、
前記混合器内に超臨界二酸化炭素を供給する第二の超臨界二酸化炭素供給ラインと
を有することを特徴とする成膜装置。 - 前記検出器が、UV−Vis測定器またはFT−IR測定器である請求項1に記載の成膜装置。
- 前記調合器、前記第一の超臨界二酸化炭素供給ライン、前記検出器、前記流速調整手段、及び前記固体原料導入ラインを複数有し、該調合器の複数から排出される固体原料溶液の複数を前記混合器内で混合する請求項1または2に記載の成膜装置。
- 前記混合器内に液体原料を導入する液体原料導入ラインをさらに有する請求項1〜3のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記成膜チャンバ内に気体原料を導入する気体原料導入ラインをさらに有する請求項1〜4のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の成膜装置を具備する半導体装置の製造装置。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の成膜装置において、少なくとも固体原料を成膜チャンバ内に導入する原料の導入方法であって、
(a)調合器内で前記固体原料を超臨界二酸化炭素に溶解させた固体原料溶液を調製する工程と、
(b)前記固体原料溶液における固体原料の濃度をモニタリングする工程と、
(c)前記モニタリングにより得られた固体原料の濃度をフィードバックして、前記成膜チャンバ内に導入される固体原料の導入速度が一定になるように、前記調合器から排出される固体原料溶液の流速を制御する工程と、
(d)前記調合器から排出される固体原料溶液を前記成膜チャンバ内に導入する工程と、
(e)前記調合器から排出される固体原料溶液に超臨界二酸化炭素を追加混合する工程と
を有することを特徴とする原料の導入方法。 - 前記工程(c)におけるモニタリングを、UV−Vis測定またはFT−IR測定により行う請求項7に記載の原料の導入方法。
- (f)前記成膜チャンバ内に導入される超臨界二酸化炭素の流速が一定になるように、前記追加混合される超臨界二酸化炭素の供給速度を制御する工程と、
をさらに有する請求項7または8に記載の原料の導入方法。 - 複数種の固体原料に対しそれぞれ前記工程(a)〜(c)を行い、
(g)前記調合器の複数から排出される固体原料溶液の複数を混合する工程、
をさらに有する請求項7〜9のいずれか1項に記載の原料の導入方法。 - (h)前記調合器から排出される固体原料溶液と液体原料とを混合する工程と、
(i)前記混合される液体原料の導入速度を制御する工程と、
をさらに有する請求項7〜10のいずれか1項に記載の原料の導入方法。 - (j)気体原料を成膜チャンバ内に導入する工程と、
(k)前記導入される気体原料の導入速度を制御する工程と、
をさらに有する請求項7〜11のいずれか1項に記載の原料の導入方法。 - 少なくとも固体原料を用いて膜を形成する成膜方法であって、
請求項7〜12のいずれか1項に記載の原料の導入方法により前記固体原料を前記成膜チャンバ内に導入することを特徴とする成膜方法。 - 少なくとも固体原料を含む複数種の原料を用いて複合材料膜を形成する成膜方法であって、
請求項10〜12のいずれか1項に記載の原料の導入方法により前記複数種の原料を前記成膜チャンバ内に導入することを特徴とする成膜方法。 - 請求項13または14に記載の成膜方法により、基板上に膜を形成する工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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