JP4361537B2 - Maintenance method of radiochemical solution synthesizer and radiochemical solution synthesizer with cleaning function - Google Patents
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Description
本発明は、放射性薬液合成装置のメンテナンス方法、及び洗浄機能付放射性薬液合成装置に関する。 The present invention relates to a maintenance method for a radiochemical solution synthesizer and a radiochemical solution synthesizer with a cleaning function.
放射性核種(RI)で標識した化合物を含む放射性薬液を体内に投与し、この標識化合物が体内の特定箇所に集まった様子を専用の装置で撮像することによって、疾病等を診断する核医学診断法が開発されている。この診断法では、比較的短寿命の放射性核種(例えば、ポジトロン放出核種として、18Fは110分の半減期を持つ)で標識された、18F−FDG(フルオロデオキシグルコース)等が放射性薬液として用いられる。 A nuclear medicine diagnostic method for diagnosing diseases and the like by administering a radiopharmaceutical solution containing a compound labeled with a radionuclide (RI) into the body and imaging the state in which the labeled compound is collected at a specific location in the body with a dedicated device. Has been developed. In this diagnostic method, 18 F-FDG (fluorodeoxyglucose) or the like labeled with a relatively short-lived radionuclide (for example, 18 F has a half-life of 110 minutes as a positron emitting nuclide) Used.
このような放射性薬液を合成する装置が、例えば特許文献1に開示されている。この合成装置は、固設モジュールと使い捨てモジュールとを備えている。この合成装置では、1回の合成が終了すると、使い捨てモジュールを新しいものに交換して、次の合成に備える。 An apparatus for synthesizing such a radiochemical solution is disclosed in Patent Document 1, for example. This synthesizer includes a fixed module and a disposable module. In this synthesizing apparatus, when one synthesis is completed, the disposable module is replaced with a new one to prepare for the next synthesis.
ここで、放射性薬液の合成は、放射線シールド内で一日に1回だけ行い、残留放射能が十分に低減された翌日に、放射線シールドを開放して、使い捨てモジュールの交換が行われていた。
近年、このような合成装置には、一日に複数回の合成を行えることが望まれている。しかしながら、放射性薬液の合成直後に放射線シールドを開放し、使い捨てモジュールの交換を行ったのでは、残留放射能のレベルが高く、取扱者の被爆量が高くなるおそれがあった。 In recent years, such a synthesizer is desired to be able to synthesize a plurality of times a day. However, if the radiation shield is opened immediately after the synthesis of the radiopharmaceutical and the disposable module is replaced, the level of residual radioactivity is high, and there is a risk that the exposure amount of the operator will be high.
本発明は、上記した事情に鑑みてなされたものであり、放射性薬液の取扱者の被爆量を低く維持しつつ、放射性薬液の効率的な合成を可能とする放射性薬液合成装置のメンテナンス方法、及び洗浄機能付放射性薬液合成装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and maintains a low exposure amount of the radioactive chemical liquid handler while maintaining a radioactive chemical liquid synthesizing apparatus that enables efficient synthesis of the radioactive chemical liquid, and An object is to provide a radiochemical solution synthesizer with a cleaning function.
発明者は、上記した目的を達成するため鋭意研究した結果、使い捨てモジュールのうち反応容器内の残留放射能のレベルが高く、反応容器内を十分に洗浄することで、使い捨てモジュール全体の残留放射能のレベルを十分に低減可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は、かかる知見に基づくものである。 As a result of earnest research to achieve the above-mentioned object, the inventors have a high level of residual radioactivity in the reaction container among the disposable modules, and the residual radioactivity in the entire disposable module is thoroughly washed. The present inventors have found that the level of can be sufficiently reduced, and have completed the present invention. The present invention is based on such knowledge.
すなわち、本発明に係る放射性薬液合成装置のメンテナンス方法は、放射性薬液の合成を行う反応容器を含む取り外しモジュールと、取り外しモジュールが設置される固設モジュールと、を備えた放射性薬液合成装置のメンテナンス方法である。この方法は、反応容器から合成した放射性薬液を排出した後、固設モジュールに取り外しモジュールを設置したままで、反応容器内に洗浄液を導入し、導入した洗浄液により反応容器内を洗浄し、反応容器から洗浄液を排出した後、取り外しモジュールを交換する、ことを特徴とする。 That is, a maintenance method for a radiochemical solution synthesizer according to the present invention is a maintenance method for a radiochemical solution synthesizer comprising a removal module including a reaction vessel for synthesizing a radiochemical solution, and a fixed module in which the removal module is installed. It is. In this method, after the synthesized radiochemical solution is discharged from the reaction vessel, the cleaning solution is introduced into the reaction vessel while the module is removed from the fixed module, and the reaction vessel is washed with the introduced washing solution. After the cleaning liquid is discharged from, the removal module is replaced.
この方法では、反応容器内を洗浄し洗浄液を排出した後で取り外しモジュールを交換するため、残留放射能のレベルが低い状態で取り外しモジュールを交換することができ、取扱者の被爆量を低く維持することができる。そして、残留放射能のレベルが十分に低下するのを待つことなく次の合成に移ることができるため、放射性薬液を効率的に合成することができる。 In this method, the removal module is replaced after the reaction vessel is cleaned and the cleaning liquid is discharged. Therefore, the removal module can be replaced with a low level of residual radioactivity, and the exposure amount of the operator is kept low. be able to. And since it can move to the next synthesis | combination without waiting for the level of residual radioactivity fully falling, a radioactive chemical | medical solution can be synthesize | combined efficiently.
洗浄液により反応容器内を洗浄するときに、不活性ガスにより洗浄液をバブリングすると好ましい。このようにすれば、反応容器内に残留する放射性薬液の洗浄効果を高めることができる。 When cleaning the inside of the reaction vessel with the cleaning liquid, it is preferable to bubble the cleaning liquid with an inert gas. In this way, the cleaning effect of the radioactive chemical remaining in the reaction container can be enhanced.
洗浄液により反応容器内を洗浄するときに、洗浄液を煮沸すると好ましい。このようにすれば、反応容器内に残留する放射性薬液の洗浄効果を高めることができる。 When washing the inside of the reaction vessel with the washing liquid, it is preferable to boil the washing liquid. In this way, the cleaning effect of the radioactive chemical remaining in the reaction container can be enhanced.
取り外しモジュールは、反応容器内から放射性薬液を排出するのに用いる水を反応容器内に導入する水導入路を備えていると好ましい。そして、水導入路を通して、反応容器内に洗浄液を導入すると好ましい。このようにすれば、水の導入と洗浄液の導入とに水導入路を兼用することができ、合成装置の構成の複雑化を避けることができる。 The removal module preferably includes a water introduction path for introducing water used for discharging the radioactive chemical liquid from the reaction vessel into the reaction vessel. And it is preferable to introduce | transduce a washing | cleaning liquid in a reaction container through a water introduction path. In this way, the water introduction path can be used both for the introduction of water and the introduction of the cleaning liquid, and the complication of the configuration of the synthesizer can be avoided.
本発明に係る洗浄機能付放射性薬液合成装置は、放射性薬液の合成を行う反応容器を含む取り外しモジュールが設置される固設モジュールと、反応容器内を洗浄する洗浄液を貯留する洗浄液貯留部と、洗浄液を反応容器に導入する洗浄液導入路と、反応容器から洗浄液を排出する洗浄液排出路と、を備えることを特徴とする。 A radiochemical solution synthesizing apparatus with a cleaning function according to the present invention includes a fixed module in which a removal module including a reaction vessel that synthesizes a radiochemical solution is installed, a cleaning solution storage unit that stores a cleaning solution that cleans the inside of the reaction vessel, and a cleaning solution And a cleaning liquid introduction path for discharging the cleaning liquid from the reaction container.
本発明によれば、放射性薬液の取扱者の被爆量を低く維持しつつ、放射性薬液の効率的な合成を可能とする放射性薬液合成装置のメンテナンス方法、及び洗浄機能付放射性薬液合成装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the maintenance method of the radioactive chemical | medical-solution synthesis | combination apparatus which enables efficient synthesis | combination of a radioactive chemical | medical solution, and the radioactive chemical | medical-solution synthesis | combination apparatus with a washing | cleaning function which enable the efficient synthesis | combination of a radioactive chemical | medical solution are possible, maintaining the exposure amount of the handler of a radioactive chemical solution low. be able to.
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。なお、以下の説明においては、同一の要素には同一の符号を用いることとし、重複する説明は省略する。また、本実施形態では、放射性薬液として18F−FDG(フルオロデオキシグルコース)を合成する場合について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the same reference numerals are used for the same elements, and duplicate descriptions are omitted. Moreover, this embodiment demonstrates the case where 18 F-FDG (fluorodeoxyglucose) is synthesize | combined as a radioactive chemical | medical solution.
図1は、本実施形態に係る洗浄機能付放射性薬液合成装置の構成を示す斜視図である。また図2は、図1の合成装置が備える取り外しモジュールの構成を示す正面図である。図1及び図2に示すように、合成装置10は、取り外しモジュール12と固設モジュール14とを備えている。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a radioactive chemical solution synthesizing apparatus with a cleaning function according to the present embodiment. FIG. 2 is a front view showing a configuration of a removal module provided in the synthesizing apparatus of FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the
取り外しモジュール12は、ターゲット回収バイアル15と、反応バイアル(反応容器)16と、流体を流すため複数のラインL1-L15と、複数のラインL1-L15を位置決めして支持するプレート18と、を有している。複数のラインL1-L15は、シリコーンチューブなどから形成されている。
The
ターゲット回収バイアル15は、図示しないサイクロトロンで加速した高エネルギー陽子をH2 18Oに照射し、核反応で生成される18Fイオン(放射性フッ素)を含むターゲット水を回収する。このターゲット回収バイアル15は、容量が7cc程度であって底がV字型をなし、回収したターゲット水を後段へ排出し易くなっている。ターゲット回収バイアル15には、ターゲット水を回収するための回収ラインL1と、バイアル15内を真空引きする真空ラインL2と、不活性ガスとしてN2ガスを導入するためのガス導入ラインL3と、回収したターゲット水を排出する排出ラインL4とが接続されている。排出ラインL4の基端部は、V字型の底の最下点まで延びている。
The
この排出ラインL4の終端部は、炭酸カリウム(K2CO3)溶液及びクリプトフィックス222(K222)溶液を導入する導入ラインL5の途中に接続されている。この導入ラインL5の終端部は、18Fイオンを捕捉するための陰イオン交換樹脂カートリッジ20の一端に接続される。そして、この陰イオン交換樹脂カートリッジ20の他端には、18Fイオン捕捉後のターゲット水を回収するための回収ラインL6が接続されている。なお、この陰イオン交換樹脂カートリッジ20は取り外しモジュール12には含まれないため、破線で示している。
The end of this discharge line L4 is connected to the middle of an introduction line L5 for introducing a potassium carbonate (K 2 CO 3 ) solution and a cryptofix 222 (K222) solution. The end portion of the introduction line L5 is connected to one end of the anion
反応バイアル16は、原料を反応させて放射性薬液の合成を行うためのバイアルである。この反応バイアル16は、容量が7cc程度であって底が平らであり、反応性が高められている。反応バイアル16には、不活性ガスとしてN2ガスを導入する等のための第1多目的ラインL7と、第1多目的ラインL7から分岐し終端部が反応バイアル16の平底まで延びる第2多目的ラインL8と、バイアル16内を真空引きする真空ラインL9とが接続されている
The
第1多目的ラインL7と回収ラインL6とは、接続ラインL10により接続されている。そして、この接続ラインL10の途中に、アセトニトリルを導入するための導入ラインL11が接続されている。なお、この導入ラインL11を通して導入されるアセトニトリルは、ライン内の溶液を流すために用いられる。 The first multipurpose line L7 and the recovery line L6 are connected by a connection line L10. An introduction line L11 for introducing acetonitrile is connected to the connection line L10. Acetonitrile introduced through the introduction line L11 is used for flowing the solution in the line.
また、第1多目的ラインL7上であって、第2多目的ラインL8の分岐点と接続ラインL10の接続点との間には、アセトニトリルに溶かしたマンノーストリフレートを導入するための導入ラインL12が接続されている。 An introduction line L12 for introducing mannose triflate dissolved in acetonitrile is connected on the first multipurpose line L7 between the branch point of the second multipurpose line L8 and the connection point of the connection line L10. Has been.
また、第2多目的ラインL8の途中からは、合成した放射性薬液を排出するための排液ラインL15が分岐されている。そして、この排液ラインL15の途中には、反応バイアル16内から放射性薬液を排出するのに用いる水を反応バイアル16内に導入するための水導入ライン(水導入路)L13が接続されている。水導入ラインL13の基端部寄りには、導入する5cc程度の水を貯留する水貯留部22が接続されている。更に、水導入ラインL13の基端部寄りであって水貯留部22よりも上流側には、反応バイアル16を洗浄するための5cc程度の洗浄液を貯留する洗浄液貯留部24が接続されている。そして、この水導入ラインL13の途中に、加水分解のための水酸化ナトリウム溶液を導入するための導入ラインL14が接続されている。
Further, a drainage line L15 for discharging the synthesized radiopharmaceutical is branched from the middle of the second multipurpose line L8. In the middle of the drainage line L15, a water introduction line (water introduction path) L13 for introducing water used for discharging the radioactive drug solution from the
プレート18は、例えばポリプロピレンなどの樹脂材料から矩形に形成されており、複数の爪部26により上記した複数のラインL1-L15を所定の位置に位置決めして支持する。このプレート18の所定位置には、後述するピストン28との間でラインL1-L15を押し潰すための背板13が設けられている。
The
固設モジュール14は、外形略立方体状の部材であり、本体部32と扉部34とを有している。本体部32の前面には、取り外しモジュール12のプレート18を取り付ける取付部36が設けられている。また、本体部32の上面には、ターゲット回収バイアル15を収容する収容孔38が設けられている。更に、本体部32の段部32a上面には、反応バイアル16を収容する収容孔40が設けられている。この収容孔40の周りには、反応バイアル16を加熱するための図示しないヒータが設けられている。
The fixed
扉部34は、本体部32の段部32a側面に設けられたヒンジを介して、矢印Aの方向に90度開閉可能に設けられている。この扉部34は、摘み42を回転しフック44を本体部32の係合孔46に係合させ、また係合解除させることで、本体部32に対して開閉することができる。この扉部34の内側の所定位置には、複数のピストン28が設けられている。これら複数のピストン28は、エアの力で前後動する。エアは、本体部32から延びるエアチューブ48を介して、個々のピストン28に供給される。このように、ピストン28を前後動させ、略円形の背板13との間でラインL1-L15を押し潰したり戻したりすることで、開閉弁として機能させることができる。なお、説明の便宜上、図2の背板13に13−1から13−13の符号を附し、ピストン28との間で構成される開閉弁13−1から13−13を区別する。
The
このような洗浄機能付放射性薬液合成装置10において、排液ラインL15には放射性薬液を精製するための精製カラム50が接続されている。そして、この精製カラム50から図示しない製品バイアルに向かって、精製した薬液を供給する製品供給ラインL16が延びている。なお精製カラム50は、放射線を遮蔽するシールド材により被覆されている。
In such a
次に、上記した洗浄機能付放射性薬液合成装置10のメンテナンス方法について、放射性薬液の合成方法も含めて説明する。
Next, the maintenance method of the above-described radiochemical
放射性薬液として18F−FDGを合成する場合は、まず、図示しないサイクロトロンで加速した高エネルギー陽子をH2 18Oに照射し、核反応で生成される18Fイオン(放射性フッ素)を含む2cc程度のターゲット水を、回収ラインL1を通してターゲット回収バイアル15に回収する。このとき、真空ラインL2を通して真空引きをすると、ターゲット回収バイアル15内にターゲット水を導入し易く、且つ閉じ込め易くなるため好ましい。
When synthesizing 18 F-FDG as a radiochemical solution, first, H 2 18 O is irradiated with high-energy protons accelerated by a cyclotron (not shown), and about 2 cc containing 18 F ions (radioactive fluorine) generated by a nuclear reaction. The target water is recovered in the
次に、ガス導入ラインL3を通してターゲット回収バイアル15内にN2ガスを導入し、排出ラインL4を通してターゲット水を全量排出する。このとき、開閉弁13−1,13−4を閉じ、開閉弁13−2,13−3を開いておくことで、ターゲット水を陰イオン交換樹脂カートリッジ20に通し、18Fイオンを捕捉する。そして、残りのターゲット水を回収ラインL6を通して回収する。
Next, N 2 gas is introduced into the
次に、導入ラインL5を通して炭酸カリウム溶液を陰イオン交換樹脂カートリッジ20に通し、18Fイオンを溶出して反応バイアル16内に導入する。これに併せて、クリプトフィックス溶液を反応バイアル16内に導入する。このとき、開閉弁13−2,13−3,13−5,13−6,13−7を閉じ、開閉弁13−1,13−4,13−12を開いておく。この状態では、反応バイアル16内には0.9cc程度の原料が収容されている。
Next, the potassium carbonate solution is passed through the anion
次に、真空ラインL9を通して反応バイアル16内を真空引きすると共に、図示しないヒータにより反応バイアル16を加熱することで、18Fイオン、炭酸カリウム溶液、及びクリプトフィックス溶液を蒸発乾固させ、水分を除去する。
Next, the
次に、導入ラインL12及び第1多目的ラインL7を通して、アセトニトリルに溶かしたマンノーストリフレートを反応バイアル16内に導入する。このとき、開閉弁13−4,13−5,13−7を閉じ、開閉弁13−12を開いておく。そして、反応バイアル16を密封した状態で、図示しないヒータにより設定温度100℃で5分間加熱する。これにより、マンノーストリフレートのフッ素化を行う。この状態では、反応バイアル16内には1.3cc程度の原料が収容されている。
Next, mannose triflate dissolved in acetonitrile is introduced into the
次に、真空ラインL9を通して反応バイアル16内を真空引きすると共に、図示しないヒータにより反応バイアル16を加熱して内部の液体を沸騰させることで、人体に有害になるアセトニトリルを除去する。このときの図示しないヒータの設定温度は、80℃程度である。
Next, the
次に、導入ラインL14を通して4cc程度の水酸化ナトリウムを反応バイアル16に導入する。このとき、開閉弁13−8,13−10,13−11を閉じ、開閉弁13−9,13−13を開いておく。そして、図示しないヒータの設定温度を100℃とし、密封状態で加熱して加水分解を行う。このとき、開閉弁13−7,13−9,13−10,13−11を閉じると共に開閉弁13−8,13−13を開いて、第1多目的ラインL7及び第2多目的ラインL8を通して反応バイアル16内にN2ガスを導入し、バブリングすると好ましい。このようにすれば、内部の液体が攪拌され、加水分解が促進される。このようにして、反応バイアル16内で18F−FDGを合成する。
Next, about 4 cc of sodium hydroxide is introduced into the
そして、第1多目的ラインL7を通して反応バイアル16内にN2ガスを導入し、第2多目的ラインL8及び排液ラインL15を通して18F−FDGを排出する。このとき、開閉弁13−4,13−5,13−6,13−8,13−9,13−10を閉じ、開閉弁13−7,13−11,13−12,13−13を開いておく。そして、精製カラム50を通して不純物を除去し、純粋な18F−FDGを取出して製品供給ラインL16を通して製品バイアルに供給する。
Then, N 2 gas is introduced into the
その後、水導入ラインL13を通して反応バイアル16内に水貯留部22から5cc程度の水を導入する。このとき、開閉弁13−8,13−9,13−11を閉じ、開閉弁13−10,13−13を開いておく。そして、第1多目的ラインL7を通して反応バイアル16内にN2ガスを導入し、第2多目的ラインL8及び排液ラインL15を通して、反応バイアル16内に残留していた18F−FDGを導入した水と共に排出する。このとき、開閉弁13−4,13−5,13−6,13−8,13−9,13−10を閉じ、開閉弁13−7,13−11,13−12,13−13を開いておく。そして、精製カラム50を通して不純物を除去し、純粋な18F−FDGを取出して製品供給ラインL16を通して製品バイアルに供給する。
Thereafter, about 5 cc of water is introduced from the
上記した洗浄機能付放射性薬液合成装置10による18F−FDGの合成は、図示しない放射線シールド(ホットセル)内で行う。そして、1回の合成が終了した後、取り外しモジュール12の交換を行う。
Synthesis of 18 F-FDG by the above-described radioactive
取り外しモジュール12の交換では、図示しない放射線シールドを開くことなく、よって固設モジュール14に取り外しモジュール12を設置したままで、水導入ラインL13を通して反応バイアル16内に洗浄液貯留部24から5cc程度の洗浄液を導入する。このとき、開閉弁13−8,13−9,13−11を閉じ、開閉弁13−10,13−13を開いておく。洗浄液としては、水の他、アセトニトリル、有機溶媒などを用いることができる。
When replacing the
次に、開閉弁13−7,13−9,13−10,13−11を閉じると共に開閉弁13−8,13−13を開いて、第1多目的ラインL7及び第2多目的ラインL8を通して反応バイアル16内にN2ガスを導入し、洗浄液をバブリングする。また、図示しないヒータにより反応バイアル16を加熱し、洗浄液を煮沸する。これにより、反応バイアル16内にこびりついた18F−FDGを溶かし込み、反応バイアル16内を洗浄する。これにより、反応バイアル16内の放射能レベルを5mSv/年以下に低減する。
Next, the on-off valves 13-7, 13-9, 13-10, 13-11 are closed and the on-off valves 13-8, 13-13 are opened, and the reaction vials are passed through the first multipurpose line L7 and the second multipurpose line L8. N 2 gas is introduced into 16 and the cleaning liquid is bubbled. Further, the
そして、第1多目的ラインL7を通して反応バイアル16内にN2ガスを導入し、第2多目的ラインL8及び排液ラインL15を通して、反応バイアル16から洗浄液を排出する。
Then, N 2 gas is introduced into the
その後、図示しない放射線シールドを開き、洗浄機能付放射性薬液合成装置10の扉部34を開いて、使用済みの取り外しモジュール12を固設モジュール14の本体部32から取り外し、新しいものと交換する。
Thereafter, the radiation shield (not shown) is opened, the
以上詳述したように、本実施形態に係る放射性薬液合成装置10のメンテナンス方法では、反応バイアル16内を洗浄し洗浄液を排出した後で取り外しモジュール12を交換するため、残留放射能のレベルが低い状態で取り外しモジュール12を交換することができ、取扱者の被爆量を低く維持することができる。また、放射性物質の一部は精製カラム50に残留するが、精製カラム50をシールド材で遮蔽しているため、取扱者の被爆量を一層低く維持することができる。そして、残留放射能のレベルが十分に低下するのを待つことなく次の合成に移ることができるため、放射性薬液を効率的に合成することができる。なお、本発明者の試算によれば、1日2回で300日の合成を行う条件では、反応バイアル16を洗浄し且つ精製カラム50をシールドした場合と、洗浄なし及び精製カラム50のシールドなしの場合とでは、取扱者の年間被爆量を1/6から1/7程度にまで低減することができる。
As described above in detail, in the maintenance method of the radioactive
また、洗浄液により反応バイアル16内を洗浄するときに、N2ガスにより洗浄液をバブリングするため、反応バイアル16内に残留する放射性薬液の洗浄効果を高めることができる。
In addition, since the cleaning liquid is bubbled with N 2 gas when the inside of the
また、洗浄液により反応バイアル16内を洗浄するときに、洗浄液を煮沸するため、反応バイアル16内に残留する放射性薬液の洗浄効果を一層高めることができる。
Further, since the cleaning liquid is boiled when the
また、水導入ラインL13を通して、反応バイアル16内に洗浄液を導入することで、水の導入と洗浄液の導入とに水導入ラインL13を兼用することができ、放射性薬液合成装置10の構成の複雑化を避けることができる。
Further, by introducing the washing liquid into the
なお、本発明は上記した実施形態に限定されることなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では加水分解のために水酸化ナトリウムを反応バイアル16に導入したが、塩酸を導入してもよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made. For example, in the above embodiment, sodium hydroxide is introduced into the
また、上記実施形態では放射性薬液として18F−FDGを合成する場合について説明したが、他の放射性薬液を合成してもよい。 Moreover, although the said embodiment demonstrated the case where 18 F-FDG was synthesize | combined as a radioactive chemical | medical solution, you may synthesize | combine another radioactive chemical | medical solution.
10…洗浄機能付放射性薬液合成装置、12…取り外しモジュール、14…固設モジュール、15…ターゲット回収バイアル、16…反応バイアル、18…プレート、24…洗浄液貯留部、32…本体部、34…扉部、L13…水導入ライン、L15…排液ライン、L1-L16…ライン。
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記反応容器から合成した放射性薬液を排出した後、前記固設モジュールに前記取り外しモジュールを設置したままで、該反応容器内に洗浄液を導入し、
導入した洗浄液により前記反応容器内を洗浄し、
前記反応容器から洗浄液を排出した後、前記取り外しモジュールを交換する、
ことを特徴とする放射性薬液合成装置のメンテナンス方法。 A removal method including a reaction vessel for synthesizing a radiochemical solution, and a fixed module on which the removal module is installed, and a maintenance method for a radiochemical solution synthesizer comprising:
After discharging the synthesized radiochemical solution from the reaction vessel, the cleaning solution is introduced into the reaction vessel while the removal module is installed in the fixed module.
The inside of the reaction vessel is washed with the introduced washing liquid,
After removing the cleaning liquid from the reaction vessel, the removal module is replaced.
The maintenance method of the radioactive chemical | medical solution synthesizer characterized by the above-mentioned.
前記水導入路を通して、前記反応容器内に前記洗浄液を導入する、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の放射性薬液合成装置のメンテナンス方法。 The removal module includes a water introduction path for introducing water used for discharging the radioactive chemical liquid from the reaction vessel into the reaction vessel,
The maintenance method for a radioactive chemical solution synthesizer according to any one of claims 1 to 3, wherein the cleaning liquid is introduced into the reaction vessel through the water introduction path.
前記反応容器内を洗浄する洗浄液を貯留する洗浄液貯留部と、
前記洗浄液を前記反応容器に導入する洗浄液導入路と、
前記反応容器から前記洗浄液を排出する洗浄液排出路と、
を備えることを特徴とする洗浄機能付放射性薬液合成装置。 A fixed module on which a removal module including a reaction vessel for synthesizing a radiochemical solution is installed;
A cleaning liquid reservoir for storing a cleaning liquid for cleaning the inside of the reaction vessel;
A cleaning liquid introduction path for introducing the cleaning liquid into the reaction vessel;
A cleaning liquid discharge passage for discharging the cleaning liquid from the reaction vessel;
An apparatus for synthesizing radioactive chemicals with a cleaning function.
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