JP4350019B2 - 反射体および液晶表示装置ならびに反射体製造用の圧子 - Google Patents

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Description

本発明は、反射体および液晶表示装置ならびに反射体製造用の圧子に関するものであり、特に、2方向から見た場合であっても反射特性が良好である反射体およびこの反射体を備えた液晶表示装置並びにこの反射体を製造するに好適な圧子に関するものである。
反射型液晶表示装置は、太陽光やフロントライト等の照明光を光源として利用する液晶表示装置であり、低消費電力が要求される携帯情報端末等に多く用いられている。また、別の例である半透過型液晶表示装置は、外光が十分得られない環境においてはバックライトを点灯させて透過モードで動作し、外光が十分得られる場合にはバックライトを点灯させない反射モードで動作するものであり、携帯電話やノート型パーソナルコンピュータ等の携帯電子機器に多く用いられている。反射型液晶表示装置もしくは半透過型液晶表示装置においては、外光若しくはフロントライト光を反射するか、または外光を反射するとともにバックライト光を透過させる反射体が備えられている。従来の反射体としては、例えば、下記特許文献1に記載されたものが知られている。
特許文献1に記載された反射体の斜視図を図29に示す。図29に示すように、従来の反射体730には、例えば平板状の基材728の表面Sに多数の光反射性を有する凹部728b…が互いに隣接して形成されている。また基材728にはAl膜等の反射膜728aが形成されている。凹部728bは、平面図を図30Aに示すように、境界線Eを境に、一の周辺部S1側にある第1曲線728cと、他の周辺部S2側にある第2曲線728dとからなる輪郭線によって区画されている。この凹部728bを平面視したときの輪郭形状は、図30AのG−G線を基準とする対称形状とされている。即ち、G−G線に対応する断面が凹部の対称面になっている。
また、この凹部728bは、図30AのG−G線に対応する断面における断面図を図30Bに示すように、第1曲線728cが一の周辺部Sから最深点Dを通過して境界Eに至っており、また第2曲線728dが、この第1曲線728cに連続して境界Eから他の周辺部Sまでに至っている。このように凹部728bの断面形状は、最深点Dを基準としたときに非対称形状とされている。
また、従来の反射体730においては、上述のように基材728上に複数の凹部728bが隣接して設けられるが、このときの各凹部の728b…の配列方向は、図29AにおけるG−G線が一定の方向を向くように規則的に配列されている。
上記の反射体730の反射特性プロファイルを反射角度と反射率の関係でみると、正反射の角度に反射率のピークを有するガウス分布を示さず、広い反射角度にわたって高い反射率を示す略台形状のプロファイルを示す。すなわち、一方向から反射体に入射した光が、反射体730の凹部728bによって拡散反射され、これにより広い角度にわたって高い反射率を示す。このような拡散反射をする要因は、凹部728bの断面視形状に由来する。
上記の反射体730を例えば携帯電話機のディスプレイとしての液晶表示装置に適用する場合には、ディスプレイに対する携帯電話機の操作者の視線方向を考慮して、高い反射率を示す領域が操作者の視線方向に一致するように反射体を配置するのが好ましいとされている。
特開2002−82213号公報
ところで、最近の携帯電話機にはデジタルカメラを内蔵した機種が増えてきている。この内蔵のデジタルカメラで写真撮影をする場合は、操作者は、携帯電話機のディスプレイをファインダとして使用するとともに、画像鑑賞する際の表示画面としても使用する。また、携帯電話機のディスプレイの形状は一般に縦長であるため、人物像を撮影する場合はディスプレイを縦長の方向で撮影し、風景を撮影する場合は縦長のディスプレイを横にして横長の状態で撮影するといった使用形態がとられる。このように、最近の携帯電話機においては、操作者が縦長のディスプレイを縦方向および横方向の2方向から見るケースが増えている。
しかし、上述のように、従来の液晶表示装置に備えられている反射体は、一方向から見た場合に反射特性プロファイルが最適になるように設計されており、2方向から見た場合を想定していない。従って、縦長のディスプレイを縦方向から見た場合は輝度等の表示特性が良好であるが、ディスプレイを横方向から見た場合は表示特性が著しく低下し、携帯電話機の使い勝手が大幅に低下するといった問題があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、2方向から見た場合でも良好な反射特性を示す反射体およびこの反射体を備えた液晶表示装置ならびにこの反射体を製造するに好適な圧子を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明の反射体は、反射型もしくは半透過型の液晶表示装置に用いられる反射体であり、該反射体に対して第1の方向から入射光を入射させた場合に、その反射特性プロファイルが、入射光の正反射角度に対して非対称の反射率分布を示すとともに反射率の最大値が入射光の正反射角度より小さい反射角度範囲にある非ガウス分布型となり、かつ、前記反射体に対して前記第1の方向と交叉する第2の方向から入射光を入射させた場合にも前記第1の方向の場合と同じ非ガウス分布型の反射特性プロファイルを示し、基板の反射面上に複数の凹部が設けられてなり、前記凹部は、前記第1の方向からの入射光に対して前記の非ガウス分布型の反射特性プロファイルを示す第1凹部と、前記第2の方向からの入射光に対して前記の非ガウス分布型の反射特性プロファイルを示す第2凹部とから構成されており、前記凹部の内面が、該凹部の開口部から少なくとも該凹部の最深点にまで延在する凹曲面と、前記凹曲面に隣接するとともに前記第1の方向と所定の角度で交わる第1平坦面と、前記凹曲面に隣接するとともに前記第2の方向と所定の角度で交わる第2平坦面とから構成されていることを特徴とする。
上記の構成によれば、入射光を2つの方向から入射させた場合でも良好な反射特性を得ることができる。
上記構成によれば、凹部の内面が、凹曲面と第1平坦面と第2平坦面とによって構成されているため、第1平坦面または第2平坦面の各面の面方向から入射光を入射させた場合に、良好な反射特性を得ることができる。
すなわち、第1の方向から入射された入射光は、主に凹曲面と第1平坦面によって拡散反射される。この拡散反射された反射光の反射特性プロファイルは、第1平坦面の面方向を中心とする方向に反射率の高い領域が広がるとともに、ガウス分布よりも分散が広がった非ガウス分布型のプロファイルとなる。この第1平坦面の面方向を液晶表示装置の使用形態に合わせて適宜変更することにより、使用者の視線方向に向けて反射光の輝度を高めることができる。
同様に、第2の方向から入射された入射光は、主に凹曲面と第2平坦面によって拡散反射される。この拡散反射された反射光の反射特性プロファイルは、第2平坦面の面方向を中心とする方向に反射率の高い領域が広がるとともに、ガウス分布よりも分散が広がった非ガウス分布型のプロファイルとなる。この第2平坦面の面方向を液晶表示装置の使用形態に合わせて適宜変更することにより、使用者の視線方向に向けて反射光の輝度を高めることができる。
以上のようにして、本発明の反射体においては、第1平坦面または第2平坦面の各面の面方向から入射光を入射させた場合に、良好な反射特性を得ることができる。
また、第1凹部と第2凹部が備えられているので、入射光を2つの方向から入射させた場合でも良好な反射特性を得ることができる。
また本発明の反射体においては、前記第1平坦面と前記第2平坦面とが隣接していることが好ましい。
また本発明の反射体においては、前記第1平坦面と前記第2平坦面とが離間していることが好ましい。
また本発明の反射体は、先に記載の反射体であって、基板の反射面上に複数の凹部が設けられてなり、前記凹部の開口部形状が円形若しくは楕円形とされるとともに該凹部の内面が凹曲面とされ、該凹曲面には前記最深点の周囲に位置する環状の平坦部が設けられていることを特徴とする。
上記の構成によれば、凹曲面に環状の平坦部が設けられているので、入射光を2つの方向から入射させた場合でも良好な反射特性を得ることができる。
第1凹部と第2凹部が備えられているので、入射光を2つの方向から入射させた場合でも良好な反射特性を得ることができる。
また本発明の反射体は、先に記載の反射体であって、前記第1凹部の内面が、該第1凹部の開口部から少なくとも該第1凹部の最深点にまで延在する凹曲面と、該凹曲面に隣接するとともに前記第1の方向と90°で交わる第1平坦面とから構成され、前記第2凹部の内面が、該第2凹部の開口部から少なくとも該第2凹部の最深点にまで延在する凹曲面と、該凹曲面に隣接するとともに前記第2の方向と90°で交わる第2平坦面とから構成されていることを特徴とする。
上記構成によれば、凹曲面および第1平坦面からなる第1凹部と、凹曲面および第2平坦面からなる第2凹部とが備えられているので、第1平坦面または第2平坦面の各面の面方向から入射光を入射させた場合に、良好な反射特性を得ることができる。
すなわち、第1の方向から入射された入射光は、主に第1凹部の凹曲面と第1平坦面ならびに第2凹部の凹曲面によって拡散反射される。この拡散反射された反射光の反射特性プロファイルは、第1平坦面の面方向を中心とする方向に反射率の高い領域が広がるとともに、ガウス分布よりも分散が広がった非ガウス分布型のプロファイルとなる。この第1平坦面の面方向を液晶表示装置の使用形態に合わせて適宜変更することにより、使用者の視線方向に向けて反射光の輝度を高めることができる。
同様に、第2の方向から入射された入射光は、主に第2凹部の凹曲面と第2平坦面並びに第1凹部の凹曲面によって拡散反射される。この拡散反射された反射光の反射特性プロファイルは、第2平坦面の面方向を中心とする方向に反射率の高い領域が広がるとともに、ガウス分布よりも分散が広がった非ガウス分布型のプロファイルとなる。この第2平坦面の面方向を液晶表示装置の使用形態に合わせて適宜変更することにより、使用者の視線方向に向けて反射光の輝度を高めることができる。
以上のようにして、本発明の反射体においては、第1平坦面または第2平坦面の各面の面方向から入射光を入射させた場合に、良好な反射特性を得ることができる。
また本発明の反射体においては、前記凹曲面による前記開口部の輪郭線が円弧曲線であることが好ましい。
また本発明の反射体においては、前記凹曲面による前記開口部の輪郭線が楕円曲線であることが好ましい。
また本発明の反射体においては、前記第1平坦面が前記開口部まで延在するとともに、該第1平坦面による前記開口部の輪郭線が直線であることが好ましい。
また本発明の反射体においては、前記第2平坦面が前記開口部まで延在するとともに、該第2平坦面による前記開口部の輪郭線が直線であることが好ましい。
また本発明の反射体においては、前記凹曲面が球面であることが好ましい。
また本発明の反射体においては、前記凹曲面が、前記最深点を基準にして非対称形状であることが好ましい。
次に本発明の液晶表示装置は、先のいずれかに記載の反射体が備えられていることを特徴とする。
また本発明の液晶表示装置においては、表示面が縦長の矩形状であり、前記第1の方向が前記表示面の長手方向に一致するとともに、前記第2の方向が前記表示面の短手方向に一致するように前記反射体が配置されていることが好ましい。
上記の構成によれば、入射光を2つの方向から入射させた場合でも良好な反射特性を示す反射体が備えられているので、縦長のディスプレイを縦方向および横方向のいずれの方向から見た場合でも、輝度等の表示特性が良好になり、液晶表示装置の表示特性を向上させることができる。
次に本発明の反射対製造用の圧子は、原板の表面に原型面を形成して原型とし、前記原型面を転写基板に転写して前記原型面に対応する転写面を有する転写型を製造し、前記転写面を基板に転写することにより前記原型面と同一形状の反射面を前記基板に形成する反射体の製造方法において前記原型面の形成に使用される圧子であり、前記圧子は、棒状の圧子本体の先端部分に凹部形成部が設けられてなり、前記凹部形成部は、前記圧子本体の最先端部を含む凸曲面と、前記凸曲面に隣接する第1平坦面と、前記凸曲面に隣接するとともにその面方向が前記第1平坦面の面方向と90°で交わる第2平坦面とにより構成され、前記第1平坦面と前記第2平坦面が前記圧子本体の長手方向に沿って延在していることを特徴とする。
上記の構成によれば、入射光を2つの方向から入射させた場合でも良好な反射特性示す反射体を製造することができる
また本発明の反射対製造用の圧子においては、前記第1平坦面と前記第2平坦面とが隣接していることが好ましい。
また本発明の反射対製造用の圧子においては、前記第1平坦面と前記第2平坦面とが離間していることが好ましい。
また本発明の反射対製造用の圧子は、原板の表面に原型面を形成して原型とし、前記原型面を転写基板に転写して前記原型面に対応する転写面を有する転写型を製造し、前記転写面を基板に転写することにより前記原型面と同一形状の反射面を前記基板に形成する反射体の製造方法において前記原型面の形成に使用される圧子であり、前記圧子は、棒状の圧子本体の先端部分に凹部形成部が設けられてなり、前記凹部形成部は、前記圧子本体の最先端部を含む凸曲面と、前記凸曲面に隣接する平坦面とにより構成され、前記平坦面が前記圧子本体の長手方向に沿って延在していることを特徴とする。
上記の構成によれば、入射光を2つの方向から入射させた場合でも良好な反射特性示す反射体を製造することができる
また本発明の反射対製造用の圧子は、原板の表面に原型面を形成して原型とし、前記原型面を転写基板に転写して前記原型面に対応する転写面を有する転写型を製造し、前記転写面を基板に転写することにより前記原型面と同一形状の反射面を前記基板に形成する反射体の製造方法において前記原型面の形成に使用される圧子であり、前記圧子は、圧子本体の先端部分に凹部形成部が設けられてなり、前記凹部形成部は、前記圧子本体の最先端部を含む凸曲面と、前記最先端部の周囲に位置する環状の平坦部とにより構成され、前記環状の平坦部の外径は1μmないし25μmの範囲とされ、前記環状の平坦部の幅は2μmないし25μmの範囲とされていることを特徴とする。
上記の構成によれば、入射光を2つの方向から入射させた場合でも良好な反射特性示す反射体を製造することができる
また本発明の反射対製造用の圧子においては、前記凸曲面が球面であることが好ましい。
また本発明の反射対製造用の圧子においては、前記凸曲面が、前記最先端部を基準にして非対称形状であることが好ましい。
本発明によれば、2方向から見た場合でも良好な反射特性を示す反射体およびこの反射体を備えた液晶表示装置ならびにこの反射体を製造するに好適な圧子を提供することができる。
(第1の実施形態)
以下、本発明の第1の実施形態を図面を参照して説明する。図1には、本発明の液晶表示装置を備えた携帯機器、たとえば携帯電話機の斜視図を示す。また、図2には本発明に係る液晶表示装置の斜視図を示し、図3には液晶表示装置に備えられた液晶表示パネルの断面模式図を示し、図4には液晶表示パネルの平面模式図を示す。なお、図3は、図4におけるII−II線に対応する断面図である。
図1に示す携帯電話機1は、電話機本体2に表示部としての液晶表示装置3と、操作部としての入力キー4とが備えられて概略構成されている。液晶表示装置3は縦長の矩形状の表示面3aを有している。ここで、本明細書においては、縦長の表示面3aの長手方向を第1の方向Yと定義し、表示面3aの短手方向を第2の方向Xと定義する。
次に液晶表示装置3は、図2に示すように、反射型の液晶表示パネル100と、液晶パネル100の上面側に配されるフロントライト200とにより概略構成されている。
フロントライト200は、液晶表示パネル100に対向して設けられたアクリル系樹脂等の透明部材からなる平板状の導光体220と、この導光体220の側端面に配されたアクリル系樹脂等の透明部材からなる四角柱状の中間導光体212と、この中間導光体212の長手方向の一端面に配されたLED(発光ダイオード)等からなる発光素子211とを備えて構成されている。
この例の中間導光体212は空気層を介して導光体220に略平行に配置されており、この空気層と導光体212との境界面に浅く入射した光を全反射させて導光体212内を伝播させるようになっている。また、導光体212内を伝播した光を導光体220に向けて出射させるために、導光体212の導光体220と反対側の面には図示しない楔形の溝が形成され、この溝にAlやAg等の光反射性の高い金属薄膜が形成されている。
前記導光体220は空気層を介して液晶パネル100の表示面に略平行に配置されており、中間導光体212と対向する側端面が光の入射面220aとされ、液晶パネル100に対向する面(下面)が光の出射面220bとして構成されている。また、この入射面220aから入射した光を出射面220b側に向けて落射させるために、導光体220の上面(液晶パネル100と反対側の面)には、プリズム状の溝221がストライプ状に形成されている。これらの溝221は、緩斜面221aと急斜面221bからなる楔形の形状を有している。
次に、図3に示すように、反射型の液晶表示パネル100は、素子側の基板110と、対向基板140と、基板110、140の間に挟持された光変調層としての液晶層150と、基板110の外側に外側から順に配置された偏光板151、第1の位相差板152、第2の位相差板153を備えて構成されている。また、基板110と基板140は平面視矩形状とされてそれらの周縁部間にシール材が介在され、基板110と基板140とシール材に囲まれた状態でこれらの基板間に液晶層150が挟持されている。
素子側の基板110は、図3に示すようにガラスやプラスチック等からなる基板本体111上に(図4では基板本体111の下面側に、換言すると液晶層側に)、それぞれ図2の行方向(X方向),列方向(Y方向)にそれぞれ複数の走査線126、信号線125が相互に電気的に絶縁状態で形成され、各走査線126、信号線125の交差部近傍にTFT(スイッチング素子)130が形成され、各走査線126、信号線125とで囲まれた領域に対応するように画素電極120が形成されている。以下では、基板110上において、画素電極120が形成された領域,TFT130が形成された領域,走査線126及び信号線125が形成された領域を、それぞれ画素領域、素子領域、配線領域と呼ぶ。
TFT130は逆スタガ型の構造を有し、本体となる基板111の最下層部から順にゲート電極112、ゲート絶縁膜113、半導体層114、115、ソース電極116及びドレイン電極117が形成されている。即ち、走査線126の一部が延出されてゲート電極112が形成され、これを覆ったゲート絶縁層113上にゲート電極112を平面視で跨るようにアイランド状の半導体層114が形成され、この半導体層114の両端側の一方に半導体層115を介してソース電極116が、他方に半導体層115を介してドレイン電極117が形成されている。なお、半導体層114上にアイランド状の絶縁膜118が被覆形成され、この絶縁膜118を介して先のソース電極116の先端部とドレイン電極117の先端部が対向されている。この絶縁膜118は半導体層114を製造する際にエッチングストッパ層として機能し、半導体層114を保護するためのものである。
基板111には、ガラスの他、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート等の合成樹脂類や天然樹脂等の絶縁基板を用いることができる。また、これら以外にもステンレス鋼板等の導電性の基板に絶縁層を設け、この絶縁層の上に各種配線や素子等を形成してもよい。
前記ゲート電極112は、アルミニウム(Al)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)、タンタル(Ta)、チタン(Ti)、銅(Cu)、クロム(Cr)等の金属或いはこれら金属を一種類以上含んだMo−W等の合金からなり、図2に示すように、行方向に配設される走査線125と一体に形成されている。また前記ゲート絶縁層113は酸化シリコン(SiOx)や窒化シリコン(SiNy)等のシリコン系の絶縁膜からなり、走査線126及びゲート電極112を覆うように基板111のほぼ全面に形成されている。
前記半導体層114は、不純物ドープの行なわれていないアモルファスシリコン(a−Si)等からなるi型の半導体層であり、ゲート絶縁層113を介してゲート電極112と対向する領域がチャネル領域として構成される。
前記ソース電極116及びドレイン電極117は、Al、Mo、W、Ta、Ti、Cu、Cr等の金属及びこれら金属を一種類以上含んだ合金からなり、半導体層114上に、チャネル領域を挟むように対向して形成されている。また、ソース電極116は列方向に配設される信号線125から延出されて形成されている。前記半導体層114とソース電極116及びドレイン電極117との間で良好なオーミック接触を得るために、半導体層114と各電極116、117との間には、リン(P)等のV族元素を高濃度にドープしたn型半導体層115が設けられている。
また、前記ドレイン電極117はAlやAg等の高反射率の金属材料画素電極120に接続されている。この画素電極120は、ゲート絶縁層113上にマトリクス状に複数形成され、本実施形態では走査線126と信号線125とによって区画された領域に対応させて一つずつ設けられている。そして、この画素電極120は、その端辺が走査線126及び信号線125に沿うように配されており、TFT130及び走査線126、信号線125を除く領域を画素領域とするようになっている。
そして、上述のように構成された基板111上には絶縁層119を覆うようにラビング等の所定の配向処理が施されたポリイミド等からなる配向膜123が形成されている。
一方、対向基板140はカラーフィルタアレイ基板として構成され、ガラスやプラスチック等からなる基板本体141上に、図3に示す反射体30とカラーフィルタ層142が形成されている。
反射体30は、反射基材31と、反射基材31上に成膜された反射膜32により構成されている。反射基材31は、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ベンゾシクロブテンポリマ(BCB)等の有機絶縁材料からなる。この反射基材31は基板141上に比較的厚く積層され、この反射基材31の表面側(液晶層側)には少なくとも画素領域に対応する位置に、転写型を反射基材31表面に圧着する等して形成された複数の凹部33が設けられ、これらの凹部33上には更にAlやAg等の高反射率の金属材料からなる反射膜32が形成され、反射膜32にも先の凹部33に合致する形状の後述する凹部34が形成されている。この反射体30によって、液晶パネル100に入射した光が一部散乱反射され、より広い観察範囲でより明るい表示が得られるようになっている。
前記カラーフィルタ層142は、図3に示すように、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)の波長の光を透過するカラーフィルタ142R、142G、142Bが周期的に配列された構成となっており、各カラーフィルタ142R、142G、142Bは各画素電極120に対向する位置に設けられている。
前記カラーフィルタ層142上には、ITOやIZO等の透明な対向電極(共通電極)143が形成され、更に、基板140の少なくとも表示領域に対応する位置に、所定の配向処理が施されたポリイミド等からなる配向膜144が形成されている。
上述のように構成された基板110,140は、スペーサ(図示略)によって互いに一定に離間された状態で保持されるとともに、基板周辺部に矩形枠状に塗布された熱硬化性のシール材(図示略)によって接着されている。そして、基板110、140及びシール材によって密閉された空間に液晶が封入されて光変調層としての液晶層150が形成され、液晶表示パネル100が構成されている。
なお、本発明では、図3に示す構成とは異なり、TFT素子を基板141側に形成し、さらにその上に反射体30を積層するとともに、対向基板111側にカラーフィルタを形成してものでも良い。(図示省略)
次に、本実施形態の反射体30について詳細に説明する。図5には反射体30の部分斜視図を示し、図6には反射体30の平面模式図を示し、図7には反射体30に設けられた凹部34の模式図を示す。なお、図7Aは凹部の平面模式図であり、図7Bは図7AのM−M’線に対応する断面模式図であり、図7Cは図7AのN−N’線に対応する断面模式図である。
図5に示すように、反射体30は、反射基材31(基板)と、この反射基材31上に積層された反射膜32とにより概略構成されている。反射膜32には、前述したように複数の凹部34が設けられている。反射膜32に凹部34が設けられることによって凹凸状の反射面35が形成されている。
凹部34は、図6および図7に示すように、円弧曲線34aおよび直線34b,34cによって囲まれた略扇状の開口部34dを有している。また、凹部34の内面は、凹曲面34eと第1,第2平坦面34f,34gにより構成されている。凹曲面34eは、開口部34dを構成する円弧曲線34aから少なくとも凹部の最深点Dにまで延在する球面である。また第1平坦面34fは、凹曲面34eに隣接するとともに第1の方向Yと90°で交わる平面である。更に第2平坦面34gは、凹曲面34eに隣接するとともに第2の方向Xと90°で交わる平面である。また、最深点Dは、凹曲面34eにおいて最も低い位置にある点である。凹曲面34eは球面とされており、これにより凹曲面34eによる開口部34dの輪郭線が円弧曲線34aとなっている。また、第1、第2平坦面34f,34gはそれぞれ開口部34dにまで延在しており、これにより第1,第2平坦面34f,34gによる開口部34dの輪郭線が直線34b,34cとなっている。更に第1平坦面34fと第2平坦面34gは相互に隣接し、90°の角度で直交している。更にまた、第1,第2平坦面34f,34gはそれぞれ凹曲面34eとも隣接しており、隣接部分において凹曲面34eに対してほぼ90°の角度で直交している。
凹曲面34eの曲率半径rは1μmないし100μmの範囲に設定することが望ましい。また、開口部34dの輪郭線である円弧曲線34aの曲率半径rは0.5μmないし25μmの範囲に設定することが望ましい。また、凹曲面34eの最大傾斜角度の絶対値は5°ないし30°の範囲とすることが望ましい。
また、最深点Dと第1平坦面34fとの最短距離dは0μmないし3.5μmの範囲に設定することが望ましく、最深点Dと第2平坦面34gとの最短距離dは0μmないし3.5μmの範囲に設定することが望ましい。更に、最深点Dにおける凹部34の深さdは0.1μmないし3μmの範囲に設定することが望ましい。
なお、反射体30を液晶表示パネル100に取り付ける際には、第1平坦面34fが図1における第1の方向Yと90°で交叉するとともに、第2平坦面34gが第2の方向Xと90°で交叉するように配置することが望ましい。
以上の如く構成された凹部34を備えた液晶パネル100にあっては、基板110の外側から入射された光が基板110の画素電極120部分と液晶層150とを通過して反射膜32にて反射され、再度液晶層150と画素電極120部分を通過して観察者側に戻り、その過程において画素電極120が液晶層150中の液晶分子の配向状態を制御して液晶層150を透過する光の状態を制御し、画素毎に表示、非表示状態あるいは中間調表示状態を制御することができる。
ここで、図8および図9には本実施形態の反射体30の反射特性を示す。図8には、反射体30に対して入射光を第1の方向Yから入射させた場合の反射特性を示す。図8Aに示すように、入射光を第1の方向Yから入射角度30°で反射体30に入射させると、図8Bの実線で示す反射特性プロファイルが得られる。
なお、ここで使用した反射体30の凹部34の形状パラメータについて説明すると、凹曲面34eの曲率半径rは20μmであり、円弧曲線34aの曲率半径rは6.8μmであり、凹曲面34eの最大傾斜角度は20°であり、最深点Dと第1平坦面34fとの最短距離dは3μmであり、最深点Dと第2平坦面34gとの最短距離dは3μmであり、最深点Dにおける凹部34の深さdは1.2μmである。また入射角度および反射角度αは、反射体30の反射面35の法線Hとのなす角度である。
図8Aに示すように、入射光Iを第1の方向Yから入射させた場合、その反射光Iの反射特性プロファイルは、入射光の正反射角度(30°)に対して非対称の反射率分布を示すとともに反射率の最大値が入射光の正反射角度(30°)より小さい反射角度範囲にある非ガウス分布型となる。また反射角度αが0°から30°程度の広い範囲に渡って高い反射率を示す。
次に、図9Aに示すように、入射光を第2の方向Xから入射角度30°で反射体30に入射させると、図9Bの実線で示す反射特性プロファイルが得られる。入射光を第2の方向Xから入射させた場合、その反射特性プロファイルは図9Bに示すように、入射光の正反射角度(30°)に対して非対称の反射率分布を示すとともに反射率の最大値が入射光の正反射角度(30°)より小さい反射角度範囲にある非ガウス分布型となる。また反射角度αが0°から30°程度の広い範囲に渡って高い反射率を示す。この図9Bに示す反射特性プロファイルは、図8Bに示す反射特性プロファイルとほぼ同じプロファイルになる。
なお、図8Bおよび図9Bの示す破線の反射特性プロファイルは比較例のものである。すなわち比較例として、開口部形状が円形であり、凹曲面の曲率半径rが20μmであり、開口部の曲率半径rが6.8μmであり、凹曲面の最大傾斜角度の絶対値が20°であり、最深点Dにおける凹部34の深さdが1.2μmである凹部が設けられた反射体を使用して測定したプロファイルである。この比較例では、正反射角度(30°)に対して対称の非ガウス分布を示している。反射角度0−30°の反射率が実施例よりも低く、表示特性に劣るものとなっている。
本実施形態の反射体30においては、第1の方向Yから入射された入射光は、主に凹曲面34dと第1平坦面34fによって拡散反射される。この拡散反射された反射光の反射特性プロファイルは第1平坦面34fの面方向を中心とする方向に反射率の高い領域が広がり、ガウス分布よりも分散が広がった非ガウス分布型のプロファイルとなる。この第1平坦面34fの面方向を液晶表示装置の使用形態に合わせて適宜変更することにより、使用者の視線方向に向けて反射光の輝度を高めることができる。
同様に、第2の方向Xから入射された入射光は、主に凹曲面34dと第2平坦面34gによって拡散反射される。この拡散反射された反射光の反射特性プロファイルは第2平坦面34gの面方向を中心とする方向に反射率の高い領域が広がり、ガウス分布よりも分散が広がった非ガウス分布型のプロファイルとなる。この第2平坦面34gの面方向を液晶表示装置の使用形態に合わせて適宜変更することにより、使用者の視線方向に向けて反射光の輝度を高めることができる。
以上のようにして、本実施形態の反射体30においては、第1平坦面34fまたは第2平坦面34gの各面の面方向から入射光を入射させた場合に、良好な反射特性を得ることができる。従って、図1に示す携帯電話機1において、電話本体2をそのままにして表示面3aを縦長の状態で見た場合、電話本体2を90°傾けて表示面3aを横長の状態で見た場合のいずれにおいても、良好な表示特性が得られる。
なお、本実施形態の反射体においては、第1平坦面34fと第2平坦面34gとが隣接している場合を示したが、第1平坦面34fと第2平坦面34gとが離間していてもよい。また、第1平坦面34fと第2平坦面34gの交わる角度は90°に限らず、液晶表示装置の使用形態に合わせて適宜変更してもよい。また凹曲面34dは球面に限られず、最深点Dを境に曲率半径を変化させて非対称形状としてもよい。
次に、上記の反射体30の製造方法について説明する。図10には反射体30の製造工程を示す。
まず図10Aに示すように、例えば黄銅、ステンレス、工具鋼等からなる表面が平坦な平板状の原板77を転造装置のテーブル上に固定する。そして、先端が所定の形状のダイヤモンド圧子78(反射体製造用の圧子)で原板77の表面を押圧し、原板77を水平方向に移動させては圧子78を上下動させて押圧するという操作を多数回繰り返すことにより、多数の凹部77aからなる原型面77bを原板77の表面に転造し、図10Bに示すような原型79とする。
その後、図10Cに示すように、原型79を箱形容器80に収納、配置し、容器80に例えばシリコーンなどの樹脂材料81を流し込んで、常温にて放置、硬化させ、この硬化した樹脂製品を容器80から取り出して不要な部分を切除し、図10Dに示すように、原型79の原型面79bをなす多数の凹部と逆の凹凸形状である多数の凸部を持つ転写面82aを有する転写型82を作成する。
次に、ガラス基板の上面に、アクリル系レジスト、ポリスチレン系レジスト、アジドゴム系レジスト、イミド系レジスト等の感光性樹脂液をスピンコート法、スクリーン印刷法、吹き付け法等の塗布法により塗布する。そして、塗布終了後、加熱炉またはホットプレート等の加熱装置を用いて基板上の感光性樹脂液を例えば80〜100℃の温度範囲で1分以上加熱するプリベークを行って基板上に感光性樹脂層を形成する。ただし、用いる感光性樹脂の種類によってプリベーク条件は異なるため、上記範囲外の温度と時間で処理してもよいことは勿論である。なお、ここで形成する感光性樹脂層の膜厚は2〜5μmの範囲とすることが好ましい。
その後、図10Eに示すように、図10Dに示した転写型82を用い、この転写型82の転写面82aをガラス基板上の感光性樹脂層73(反射基材31)に一定時間押し付けた後、転写型82を感光性樹脂層73から外す。このようにして、図10Fに示すように、感光性樹脂層73の表面に転写面82aの凸部を転写して多数の凹部34を形成する。また、型押し時のプレス圧は用いる感光性樹脂の種類にあった値を選択することが好ましく、例えば30ないし50kg/cm程度の圧力とするのがよい。プレス時間についても用いる感光性樹脂の種類にあった値を選択することが好ましく、例えば30秒ないし10分程度の時間とする。
その後、透明なガラス基板の裏面側から感光性樹脂層73を硬化させるための紫外線(g、h、i線)等の光線を照射し、感光性樹脂層73を硬化させる。そして、プリベークで用いたのと同様の加熱炉、ホットプレート等の加熱装置を用いてガラス基板上の感光性樹脂層73を例えば240℃程度で1分以上加熱するポストベークを行ってガラス基板上の感光性樹脂層73を焼成する。
最後に、感光性樹脂層73の表面に例えばアルミニウムをエレクトロンビーム蒸着等によって成膜して凹部34の表面に沿って反射膜32を形成することにより、本実施の形態の反射体30が完成する。
図11には上記の製造工程で使用されるダイヤモンド圧子78(反射対製造用の圧子)の模式図を示す。図11Aはダイヤモンド圧子を一方向から見た側面図であり、図11Bはダイヤモンド圧子を別の方向からみた側面図であり、図11Cはダイヤモンド圧子を更に別の方向からみた側面図であり、図11Dはダイヤモンド圧子の底面図である。
図11に示すように、ダイヤモンド圧子78は、棒状の圧子本体90の先端部分に凹部形成部91が設けられて構成されている。凹部形成部91は、圧子本体90の最先端部90aを含む凸曲面90bと、凸曲面90bに隣接する第1平坦面90cと、前記凸曲面90bに隣接するとともにその面方向が前記第1平坦面90cの面方向と90°で交わる第2平坦面90dとにより概略構成されている。
凹部形成部91を構成する凸曲面90bは凸球面とされ、ダイヤモンド圧子78の底面に位置している。また、第1,第2平坦面90c,90dは相互に隣接しており、圧子本体90の長手方向に沿って延在している。このように凹部形成部91は反射体30の凹部34の形状に対応した形状を有している。
上記のダイヤモンド圧子78によれば、入射光を2つの方向から入射させた場合でも良好な反射特性を示す反射体を容易に製造することができる。
なお、上記のダイヤモンド圧子においては、前記凸曲面が、前記最先端部を基準にして非対称形状であってもよく、前記第1平坦面と前記第2平坦面とが離間していてもよい。
(第2の実施形態)
次に、図面を参照して第2の実施形態の反射体について説明する。図12には本実施形態の反射体の部分平面模式図を示し、図13には反射体に設けられた凹部の模式図を示す。なお、図13Aは凹部の平面模式図であり、図13Bは図13AのM−M’線に対応する断面模式図であり、図13Cは図13AのN−N’線に対応する断面模式図である。
本実施形態の反射体230は、第1の実施形態の反射体と同様に、反射基材(基板)と反射膜とにより概略構成されている。反射膜には、複数の凹部234が設けられている。反射膜に凹部234が設けられることによって凹凸状の反射面が形成されている。
凹部234は、図12および図13に示すように、楕円曲線234aおよび直線234b,234cによって囲まれた変形扇状の開口部234dを有している。また、凹部234の内面は、凹曲面234eと第1,第2平坦面234f,234gにより構成されている。凹曲面234eは、開口部234dを構成する楕円曲線234aから少なくとも凹部の最深点Dにまで延在する楕円体面である。また第1平坦面234fは、凹曲面234eに隣接するとともに第1の方向Yと90°で交わる平面である。更に第2平坦面234gは、凹曲面234eに隣接するとともに第2の方向Xと90°で交わる平面である。また、最深点Dは、凹曲面234eにおいて最も低い位置にある点である。また、第1、第2平坦面234f,234gはそれぞれ開口部234dにまで延在しており、これにより第1,第2平坦面234f,234gによる開口部234dの輪郭線が直線234b,234cとなっている。更に第1平坦面234fと第2平坦面234gは相互に隣接しており、90°の角度で直交している。更にまた、第1,第2平坦面234f,234gはそれぞれ凹曲面234eとも隣接しており、隣接部分において凹曲面234eに対してほぼ90°の角度で直交している。
楕円体面である凹曲面234eの長軸方向の長径rは10μmないし100μmの範囲に設定することが望ましく、短軸方向の曲短径rは1μmないし90μmの範囲に設定することが望ましい。また、開口部234dの輪郭線である楕円曲線234aの長径rは0.5μmないし25μmの範囲に設定することが望ましく、楕円曲線234aの短径rは0.5μmないし25μmの範囲に設定することが望ましい。また、凹曲面234eの長軸方向の最大傾斜角度の絶対値は5°ないし25°の範囲とし、短軸方向の最大傾斜角度の絶対値は15°ないし28°の範囲とすることが望ましい。
また、最深点Dと第1平坦面234fとの最短距離dは0μmないし3.5μmの範囲に設定することが望ましく、最深点Dと第2平坦面234gとの最短距離dは0μmないし3.5μmの範囲に設定することが望ましい。更に、最深点Dにおける凹部234の深さdは0.1μmないし3μmの範囲に設定することが望ましい。
なお、反射体230を液晶表示パネルに取り付ける際には、第1の実施形態と同様に、第1平坦面234fが図1における第1の方向Yと90°で交叉するとともに、第2平坦面234gが第2の方向Xと90°で交叉するように配置することが望ましい。
ここで、図14および図15には本実施形態の反射体230の反射特性を示す。図14には、反射体230に対して入射光を第1の方向Yから入射させた場合の反射特性を示す。また図15には、反射体230に対して入射光を第2の方向Xから入射させた場合の反射特性を示す。
なお、ここで使用した反射体230の凹部234の形状パラメータについて説明すると、凹曲面234eの長径rは38.2μmであり、凹曲面234eの短径rは20μmであり、楕円曲線234aの長径rは11.8μmであり、短径rは8.44μmであり、凹曲面234eの長軸方向の最大傾斜角度は18°であり、凹曲面234eの短軸方向の最大傾斜角度は25°であり、最深点Dと第1平坦面234fとの最短距離dは3μmであり、最深点Dと第2平坦面234gとの最短距離dは3μmであり、最深点Dにおける凹部234の深さdは1.87μmである。
図14に示すように、入射光を、第1の方向から入射角度30°で反射体230に入射させた場合、その反射光の反射特性プロファイルは、図14の実線で示すように、入射光の正反射角度(30°)に対して非対称の反射率分布を示すとともに反射率の最大値が入射光の正反射角度(30°)より小さい反射角度範囲にある非ガウス分布型となる。また反射角度αが0°から30°程度の広い範囲に渡って高い反射率を示す。
また、図15に示すように、入射光を第2の方向Xから入射角度30°で反射体30に入射させた場合、その反射特性プロファイルは、入射光の正反射角度(30°)に対して非対称の反射率分布を示すとともに反射率の最大値が入射光の正反射角度(30°)より小さい反射角度範囲にある非ガウス分布型となる。また反射角度αが10°から30°程度の広い範囲に渡って高い反射率を示す。この図15に示す反射特性プロファイルは、図14に示す反射特性プロファイルと比べて、反射率の高い領域がやや狭いプロファイルになる。これは、凹曲面234dの短径r5が長径rより小さいためである
なお、図14および図15に示す破線の反射特性プロファイルは、第1の実施形態における比較例のものである。
本実施形態の反射体230においては、第1の方向Yから入射された入射光は、主に凹曲面234dと第1平坦面234fによって拡散反射される。この拡散反射された反射光の反射特性プロファイルは第1平坦面234fの面方向を中心とする方向に反射率の高い領域が広がり、ガウス分布よりも分散が広がった非ガウス分布型のプロファイルとなる。この第1平坦面234fの面方向を液晶表示装置の使用形態に合わせて適宜変更することにより、使用者の視線方向に向けて反射光の輝度を高めることができる。
同様に、第2の方向Xから入射された入射光は、主に凹曲面234dと第2平坦面234gによって拡散反射される。この拡散反射された反射光の反射特性プロファイルは第2平坦面234gの面方向を中心とする方向に反射率の高い領域が広がり、ガウス分布よりも分散が広がった非ガウス分布型のプロファイルとなる。この第2平坦面234gの面方向を液晶表示装置の使用形態に合わせて適宜変更することにより、使用者の視線方向に向けて反射光の輝度を高めることができる。
以上のようにして、本実施形態の反射体230においては、第1の実施形態の反射体と同様の効果が得られる。
なお、本実施形態の反射体においては、第1平坦面と第2平坦面とが相互に離間していてもよい。また、第1平坦面と第2平坦面の交わる角度は90°に限らず、液晶表示装置の使用形態に合わせて適宜変更してもよい。
図16には上記の反射体の製造に使用されるダイヤモンド圧子278(反射対製造用の圧子)の模式図を示す。図16Aはダイヤモンド圧子を一方向から見た側面図であり、図16Bはダイヤモンド圧子を別の方向からみた側面図であり、図16Cはダイヤモンド圧子の底面図である。
図16に示すように、ダイヤモンド圧子278は、棒状の圧子本体290の先端部分に凹部形成部291が設けられて構成されている。凹部形成部291は、圧子本体290の最先端部290aを含む凸曲面290bと、凸曲面290bに隣接する第1平坦面290cと、前記凸曲面290bに隣接するとともにその面方向が前記第1平坦面290cの面方向と90°で交わる第2平坦面290dとにより概略構成されている。
凹部形成部291を構成する凸曲面290bは凸状の楕円体面とされ、ダイヤモンド圧子278の底面に位置している。また、第1,第2平坦面290c,290dは相互に隣接しており、圧子本体290の長手方向に沿って延在している。このように凹部形成部291は反射体230の凹部234の形状に対応した形状を有している。
上記のダイヤモンド圧子278によれば、入射光を2つの方向から入射させた場合でも良好な反射特性を示す反射体を容易に製造することができる。
なお、上記のダイヤモンド圧子においては、前記第1平坦面と前記第2平坦面とが離間していてもよい。
(第3の実施形態)
次に、図面を参照して第3の実施形態の反射体について説明する。図17には本実施形態の反射体の部分平面模式図を示し、図18には反射体に設けられた凹部の模式図を示す。なお、図18Aは凹部の平面模式図であり、図18Bは図18AのM−M’線に対応する断面模式図であり、図18Cは図18AのN−N’線に対応する断面模式図である。
本実施形態の反射体330は、第1の実施形態の反射体と同様に、反射基材(基板)と反射膜とにより概略構成されている。反射膜には、複数の凹部334が設けられている。反射膜に凹部334が設けられることによって凹凸状の反射面が形成されている。
図18に示すように、本実施形態の凹部334は、円弧曲線234aおよび直線234bによって囲まれた略半円形状の開口部334dを有している。また、凹部334の内面は、凹曲面334eと平坦面334f(第1、第2平坦面)により構成されている。凹曲面334eは、開口部334dを構成する円弧曲線334aから少なくとも凹部の最深点Dにまで延在する球面である。また平坦面334fは、凹曲面334eに隣接する平面である。また、最深点Dは、凹曲面334eにおいて最も低い位置にある点である。また、平坦面334fは開口部334dにまで延在しており、これにより平坦面334fによる開口部334dの輪郭線が直線334bとなっている。また、平坦面334fは凹曲面334eに隣接し、隣接部分において凹曲面334eに対してほぼ90°の角度で直交している。
球面である凹曲面334eの曲率半径rは1μmないし100μmの範囲に設定することが望ましい。また、開口部334dの輪郭線である円弧曲線334aの曲率半径rは0.5μmないし25μmの範囲に設定することが望ましい。また、凹曲面334eの最大傾斜角度の絶対値は5°ないし30°の範囲とすることが望ましい。
また、最深点Dと平坦面334fとの最短距離dは0μmないし3.5μmの範囲に設定することが望ましく、最深点Dにおける凹部334の深さdは0.1μmないし
3μmの範囲に設定することが望ましい。
次に、図17に示すように、前記の凹部334は反射基材上において、2つの方向に向きを変えて配列されている。すなわち、平坦面334fが第1の方向Yと90°で交わる方向に配列された第1凹部334Aと、平坦面334fが第2の方向Xと90°で交わる方向に配列された第2凹部334Bとにより凹部334が構成されている。ここで、説明の便宜上、第1凹部334Aの平坦面334fを第1平坦面とし、第2凹部334Bの平坦面334fを第2平坦面とする。第1平面と第2平面の比率を変えることにより、第1の方向と第2の方向の反射率を調整することが可能である。第1、第2平坦面は、その配列方向が異なる点を除いて、いずれも凹部334を構成する点において同一構成の面である。
なお、反射体330を液晶表示パネルに取り付ける際には、第1の実施形態と同様に、第1凹部334Aの平坦面が図1における第1の方向Yと90°で交叉するとともに、第2凹部434Bの平坦面が第2の方向Xと90°で交叉するように配置することが望ましい。
上記の反射体330によれば、第1凹部334Aと第2凹部334Bとが備えられているので、第1、第2平坦面334fの各面の面方向から入射光を入射させた場合に、良好な反射特性を得ることができる。
すなわち、第1の方向Yから入射された入射光は、主に第1凹部334Aの凹曲面334eと第1平坦面334fならびに第2凹部334Bの凹曲面334eによって拡散反射される。この拡散反射された反射光の反射特性プロファイルは第1平坦面334fの面方向を中心とする方向に反射率の高い領域が広がり、ガウス分布よりも分散が広がった非ガウス分布型のプロファイルとなる。この第1平坦面334fの面方向を液晶表示装置の使用形態に合わせて適宜変更することにより、使用者の視線方向に向けて反射光の輝度を高めることができる。
同様に、第2の方向Xから入射された入射光は、主に第2凹部334Bの凹曲面334eと第2平坦面334f並びに第1凹部334Bの凹曲面334eによって拡散反射される。この拡散反射された反射光の反射特性プロファイルは第2平坦面334fの面方向を中心とする方向に反射率の高い領域が広がり、ガウス分布よりも分散が広がった非ガウス分布型のプロファイルとなる。この第2平坦面334fの面方向を液晶表示装置の使用形態に合わせて適宜変更することにより、使用者の視線方向に向けて反射光の輝度を高めることができる。
このように、本実施形態の反射体330には、第1の方向Yからの入射光に対して非ガウス分布型の反射特性プロファイルを示す第1凹部334Aと、第2の方向Xからの入射光に対して非ガウス分布型の反射特性プロファイルを示す第2凹部334Bとが備えられているので、各方向から入射光を入射させた場合に、良好な反射特性を得ることができる。
ここで、図19および図20には本実施形態の反射体330の反射特性を示す。図19には、反射体330に対して入射光を第1の方向Yから入射させた場合の反射特性を示す。また図20には、反射体330に対して入射光を第2の方向Xから入射させた場合の反射特性を示す。
なお、ここで使用した反射体330の凹部334の形状パラメータについて説明すると、凹曲面334eの曲率半径rは20μmであり、円弧曲線334aの曲率半径rは6.8μmであり、凹曲面334eの最大傾斜角度は20°であり、最深点Dと平坦面334fとの最短距離dは3μmであり、最深点Dにおける凹部334の深さdは1.2μmである。また、第1平坦面と第2平坦面の比率を1:1にしている。
図19に示すように、入射光を、第1の方向から入射角度30°で反射体330に入射させた場合、その反射光の反射特性プロファイルは、図19の実線で示すように、入射光の正反射角度(30°)に対して非対称の反射率分布を示すとともに反射率の最大値が入射光の正反射角度(30°)より小さい反射角度範囲にある非ガウス分布型となる。また反射角度αが0°から30°程度の広い範囲に渡って高い反射率を示す。
また、図20に示すように、入射光を第2の方向Xから入射角度30°で反射体30に入射させた場合の反射特性プロファイルは、図19の場合とほぼ同様になる。
なお、図19および図20に示す破線の反射特性プロファイルは、第1の実施形態における比較例のものである。
以上のようにして、本実施形態の反射体330においては、第1の実施形態の反射体と同様の反射特性が得られる。
図21には上記の反射体の製造に使用されるダイヤモンド圧子378(反射対製造用の圧子)の模式図を示す。図21Aはダイヤモンド圧子を一方向から見た側面図であり、図21Bはダイヤモンド圧子を別の方向からみた側面図であり、図21Cはダイヤモンド圧子の底面図である。
図21に示すように、ダイヤモンド圧子378は、棒状の圧子本体390の先端部分に凹部形成部391が設けられて構成されている。凹部形成部391は、圧子本体390の最先端部390aを含む凸曲面390bと、凸曲面390bに隣接する平坦面390cとにより概略構成されている。凹部形成部391を構成する凸曲面390bは凸球面とされ、ダイヤモンド圧子378の底面に位置している。また、平坦面390cは圧子本体390の長手方向に沿って延在している。このように凹部形成部391は反射体330の凹部334の形状に対応した形状を有している。
上記のダイヤモンド圧子378を用いて反射体330を製造するには、圧子を原板に押し当てて凹部を形成し、次に圧子を時計回り方向に90°回転させてから圧子を原板に押し当てて凹部を形成し、次に圧子を半時計回り方向に90°回転させて元の向きに戻してから原板に押し当てて凹部を形成する。この動作を何度も繰り返すことで、平坦面の方向が90°異なる複数の凹部を備えた原型が得られる。この原型を用いて転写型を製造し、更にこの転写型を用いることで本実施形態の反射体が得られる。
上記のダイヤモンド圧子378によれば、入射光を2つの方向から入射させた場合でも良好な反射特性を示す反射体を容易に製造することができる。
(第4の実施形態)
次に、図面を参照して第3の実施形態の反射体について説明する。図22には本実施形態の反射体の部分平面模式図を示し、図23には反射体に設けられた凹部の模式図を示す。なお、図23Aは凹部の平面模式図であり、図23Bは図23AのM−M’線に対応する断面模式図であり、図23Cは図23AのN−N’線に対応する断面模式図である。
本実施形態の反射体430は、第1の実施形態の反射体と同様に、反射基材(基板)と反射膜とにより概略構成されている。反射膜には、複数の凹部434が設けられている。反射膜に凹部434が設けられることによって凹凸状の反射面が形成されている。
図23に示すように、本実施形態の凹部434は、楕円曲線434aおよび直線434bによって囲まれた略半楕円形状の開口部434dを有している。また、凹部434の内面は、凹曲面434eと平坦面434f(第1、第2平坦面)により構成されている。凹曲面434eは、開口部434dを構成する楕円曲線434aから少なくとも凹部の最深点Dにまで延在する楕円体面である。また平坦面434fは、凹曲面434eに隣接する平面である。また、最深点Dは、凹曲面434eにおいて最も低い位置にある点である。また、平坦面434fは開口部434dにまで延在しており、これにより平坦面434fによる開口部434dの輪郭線が直線434bとなっている。また、平坦面434fは凹曲面434eに隣接し、隣接部分において凹曲面434eに対してほぼ90°の角度で直交している。
楕円体面である凹曲面434eの長径rは10μmないし100μmの範囲に設定することが望ましく、径r10は1μmないし90μmの範囲に設定することが望ましい。また、開口部434dの輪郭線である円弧曲線334aの径r11は0.5μmないし
25μmの範囲に設定することが望ましく、径r12は0.5μmないし25μmの範囲に設定することが望ましい。また、凹曲面434eの長軸方向の最大傾斜角度の絶対値は5°ないし25°の範囲とすることが望ましく、短軸方向の最大傾斜角度の絶対値は15°ないし28°の範囲とすることが望ましい。
また、最深点Dと平坦面434fとの最短距離dは0μmないし3.5μmの範囲に設定することが望ましく、最深点Dにおける凹部434の深さd10は0.1μmないし
3μmの範囲に設定することが望ましい。
次に、図22に示すように、前記の凹部434は反射基材上において、2つの方向に向きを変えて配列されている。すなわち、平坦面434fが第1の方向Yと90°で交わる方向に配列された第1凹部434Aと、平坦面434fが第2の方向Xと90°で交わる方向に配列された第2凹部434Bとにより凹部434が構成されている。ここで、説明の便宜上、第1凹部434Aの平坦面434fを第1平坦面とし、第2凹部434Bの平坦面434fを第2平坦面とする。第1平面と第2平面の比率を変えることにより、第1の方向と第2の方向の反射率を調整することが可能である。第1、第2平坦面は、その配列方向が異なる点を除いて、いずれも凹部434を構成する点において同一構成の面である。
反射体430を液晶表示パネルに取り付ける際には、第1の実施形態と同様に、第1凹部434Aの平坦面が図1における第1の方向Yと90°で交叉するとともに、第2凹部434Bの平坦面が第2の方向Xと90°で交叉するように配置することが望ましい。
上記の反射体430によれば、第3の実施形態の場合と同様に、第1の方向Yからの入射光に対して非ガウス分布型の反射特性プロファイルを示す第1凹部434Aと、第2の方向Xからの入射光に対して非ガウス分布型の反射特性プロファイルを示す第2凹部434Bとが備えられているので、各方向から入射光を入射させた場合に、良好な反射特性を得ることができる。
ここで、図24および図25には本実施形態の反射体430の反射特性を示す。図24には、反射体430に対して入射光を第1の方向Yから入射させた場合の反射特性を示す。また図25には、反射体430に対して入射光を第2の方向Xから入射させた場合の反射特性を示す。
なお、ここで使用した反射体430の凹部434の形状パラメータについて説明すると、凹曲面434eの長径r11は38.2μmであり、短径r12は20μmであり、円弧曲線334aの長径rは11.8μmであり、短径r10は8.44μmであり、凹曲面334eの長軸方向の最大傾斜角度は18°であり、短軸方向の最大傾斜角度は20°であり、最深点Dと平坦面334fとの最短距離dは3μmであり、最深点Dにおける凹部334の深さdは1.87μmである。また、第1平坦面と第2平坦面の比率を1:1にしている。
図24に示すように、入射光を、第1の方向から入射角度30°で反射体330に入射させた場合、その反射光の反射特性プロファイルは、図24の実線で示すように、入射光の正反射角度(30°)に対して非対称の反射率分布を示すとともに反射率の最大値が入射光の正反射角度(30°)より小さい反射角度範囲にある非ガウス分布型となる。また反射角度αが0°から30°程度の広い範囲に渡って高い反射率を示す。
また、図25に示すように、入射光を第2の方向Xから入射角度30°で反射体30に入射させた場合の反射特性プロファイルは、図24の場合とほぼ同様になる。
なお、図24および図25に示す破線の反射特性プロファイルは、第1の実施形態における比較例のものである。
以上のようにして、本実施形態の反射体430においては、第1の実施形態の反射体と同様の反射特性が得られる。
図26には上記の反射体の製造に使用されるダイヤモンド圧子478(反射対製造用の圧子)の模式図を示す。図26Aはダイヤモンド圧子を一方向から見た側面図であり、図26Bはダイヤモンド圧子を別の方向からみた側面図であり、図26Cはダイヤモンド圧子の底面図である。
図26に示すように、ダイヤモンド圧子478は、棒状の圧子本体490の先端部分に凹部形成部491が設けられて構成されている。凹部形成部491は、圧子本体490の最先端部490aを含む凸曲面490bと、凸曲面490bに隣接する平坦面490cとにより概略構成されている。凹部形成部491を構成する凸曲面490bは楕円体面とされ、ダイヤモンド圧子478の底面に位置している。また、平坦面490cは圧子本体490の長手方向に沿って延在している。このように凹部形成部491は反射体430の凹部434の形状に対応した形状を有している。
上記のダイヤモンド圧子478を用いて反射体430を製造するには、第3の実施形態と同様に、圧子を原板に押し当てて凹部を形成し、次に圧子を時計回り方向に90°回転させてから圧子を原板に押し当てて凹部を形成する。この動作を何度も繰り返すことで、平坦面の方向が90°異なる複数の凹部を備えた原型が得られる。この原型を用いて転写型を製造し、更にこの転写型を用いることで本実施形態の反射体が得られる。
上記のダイヤモンド圧子478によれば、入射光を2つの方向から入射させた場合でも良好な反射特性を示す反射体を容易に製造することができる。
(第5の実施形態)
次に、第5の実施形態の反射体について説明する。
図27には、本実施形態の反射体に設けられる凹部の模式図を示す。図27Aは凹部の平面模式図であり、図27Bは図27AのL−L’線に対応する断面模式図である。
図27に示す凹部534は、円弧曲線534aによって囲まれた円形状の開口部534dを有している。また、凹部534の内面は、凹曲面534eにより構成されている。凹曲面534eは、開口部534dを構成する円弧曲線534aから少なくとも凹部の最深点Dにまで延在する球面である。また凹曲面534eには、最深点Dの周囲に位置する環状の平坦部534fが設けられている。平坦部534fは開口部534aに対して同心円状に形成されている。また、この平坦部534fによって凹曲面534eが最深点Dを含む中心部534eと、平坦部534fの外側にある外周部534eとに分断されている。なお、最深点Dは、L−L’線上に位置しており、円弧曲線534aの中心となる点である。凹曲面534eは球面とされており、これにより凹曲面534eによる開口部534dの輪郭線が円弧曲線534aとなっている。
凹曲面534eの曲率半径r13は1μmないし100μmの範囲に設定することが望ましい。また、開口部534dの輪郭線である円弧曲線534aの曲率半径r14は、最深点Dを中心としたときに0.5μmないし25μmの範囲に設定することが望ましい。また、凹曲面534eの最大傾斜角度の絶対値は5°ないし30°の範囲とすることが望ましい。
また、最深点Dを中心としたときの環状の平坦部534fの外径r15は1μmないし25μmの範囲に設定することが望ましく、平坦部534fの幅は2μmないし25μmの範囲に設定することが望ましい。更に、最深点Dにおける凹部534の深さd11は0.1μmないし3μmの範囲に設定することが望ましい。
以上の如く構成された凹部534が設けられた反射体によれば、平坦部534fが最深点Dを中心とする環状に形成されているので、反射体に対して入射光をどの方向から入射させても、第1の実施形態と同様の反射特性が得られる。
従って、本実施形態の反射体を液晶表示パネル100に取り付ける際には、反射体の取り付け方向に特に制限はない。すなわち、平坦部534fの向きを気にすることなく、反射体を液晶表示パネルに取り付けることができる。
なお、上記の凹部534において、開口部の形状は円形に限らず楕円形でもよい。また凹曲面は球面に限らず楕円体面でもよい。更に、平坦部によって分断された凹曲面の中心部と外周部の曲率半径は同一でもよく、異なる値でもよい。また最深点Dを基準としたときの凹曲面の断面視形状が非対称形状であってもよい。
また、本実施形態の反射体を製造するために用いられるダイヤモンド圧子は、凹部形成部として、上記の凹部534の形状に対応する形状を有するものであればよい。
(第6の実施形態)
次に、第6の実施形態の反射体について説明する。
図28には、本実施形態の反射体に設けられる凹部の模式図を示す。図28Aは凹部の平面模式図であり、図28Bは図28AのL−L’線に対応する断面模式図である。
図28に示す凹部634は、円弧曲線634aによって囲まれた円形状の開口部634dを有している。また、凹部634の内面は、凹曲面634eにより構成されている。凹曲面634eは、開口部634dを構成する円弧曲線634aから少なくとも凹部の最深点Dにまで延在する球面である。この凹曲面には、第1,第2平坦面634f,634gが設けられている。第1平坦面634fは、凹曲面634eに隣接するとともに第1の方向Yと90°で交わる平面である。また第2平坦面634gは、凹曲面634eに隣接するとともに第2の方向Xと90°で交わる平面である。凹曲面634eは球面とされており、これにより凹曲面634eによる開口部634dの輪郭線が円弧曲線634aとなっている。また、第1、第2平坦面634f,634gは開口部634dまで延在することなく、凹曲面634eにより囲まれている。更に第1平坦面634fと第2平坦面634gは相互に離間しており、これらの面の方向はは90°の角度で交叉している。
凹曲面634eの曲率半径r16は1μmないし100μmの範囲に設定することが望ましい。また、開口部634dの輪郭線である円弧曲線634aの曲率半径r17は、最深点Dを中心としたときに0.5μmないし25μmの範囲に設定することが望ましい。また、凹曲面634eの最大傾斜角度の絶対値は5°ないし30°の範囲とすることが望ましい。更に、最深点Dにおける凹部634の深さd12は0.1μmないし3μmの範囲に設定することが望ましい。
また、第1、第2平坦面634f,634gの大きさは、凹曲面634eの面積に対して、それぞれ1%ないし80%程度にすることが望ましい。
以上の如く構成された凹部634が設けられた反射体によれば、第1の実施形態と同様の反射特性が得られる。
なお、上記の凹部634において、開口部の形状は円形に限らず楕円形でもよい。また凹曲面は球面に限らず楕円体面でもよい。また最深点Dを基準としたときの凹曲面の断面視形状が非対称形状であってもよい。
また、本実施形態の反射体を製造するために用いられるダイヤモンド圧子は、凹部形成部として、上記の凹部634の形状に対応する形状を有するものであればよい。
図1は、本発明の液晶表示装置を備えた携帯電話機を示す斜視図である。 図2は、本発明に係る液晶表示装置を示す斜視図である。 図3は、本発明に係る液晶表示装置に備えられた液晶表示パネルの断面模式図である。 図4は、図3に示す液晶表示パネルの平面模式図である。 図5は、第1の実施形態の反射体を示す部分斜視図である。 図6は、第1の実施形態の反射体を示す平面模式図である。 図7は、第1の実施形態の反射体に設けられた凹部の模式図であって、Aは凹部の平面模式図であり、BはAのM−M’線に対応する断面模式図であり、CはAのN−N’線に対応する断面模式図である。 図8は、第1の実施形態の反射体の反射特性を示す図であって、Aは、反射体に対して入射光を第1の方向Yから入射させた状態を示す模式図であり、Bは、そのときの反射光の反射特性プロファイルを反射角度と反射率の関係で示すグラフである。 図9は、第1の実施形態の反射体の反射特性を示す図であって、Aは、反射体に対して入射光を第2の方向Xから入射させた状態を示す模式図であり、Bは、そのときの反射光の反射特性プロファイルを反射角度と反射率の関係で示すグラフである。 図10は、第1の実施形態の反射体の製造方法を説明するための工程図である。 図11は、第1の実施形態の反射体製造用の圧子を示す模式図であって、Aは圧子を一方向から見た側面図であり、Bは圧子を別の方向からみた側面図であり、Cは圧子を更に別の方向からみた側面図であり、Dは圧子の底面図である。 図12は、第2の実施形態の反射体を示す平面模式図である。 図13は、第2の実施形態の反射体に設けられた凹部の模式図であって、Aは凹部の平面模式図であり、BはAのM−M’線に対応する断面模式図であり、CはAのN−N’線に対応する断面模式図である。 図14は、第2の実施形態の反射体の反射特性を示す図であって、入射光を第1の方向Yから入射させたときの反射光の反射特性プロファイルを反射角度と反射率の関係で示すグラフである。 図15は、第2の実施形態の反射体の反射特性を示す図であって、入射光を第2の方向Xから入射させたときの反射光の反射特性プロファイルを反射角度と反射率の関係で示すグラフである。 図16は、第2の実施形態の反射体製造用の圧子を示す模式図であって、Aは圧子を一方向から見た側面図であり、Bは圧子を別の方向からみた側面図であり、Cは圧子の底面図である。 図17は、第3の実施形態の反射体を示す平面模式図である。 図18は、第3の実施形態の反射体に設けられた凹部の模式図であって、Aは凹部の平面模式図であり、BはAのM−M’線に対応する断面模式図であり、CはAのN−N’線に対応する断面模式図である。 図19は、第3の実施形態の反射体の反射特性を示す図であって、入射光を第1の方向Yから入射させたときの反射光の反射特性プロファイルを反射角度と反射率の関係で示すグラフである。 図20は、第3の実施形態の反射体の反射特性を示す図であって、入射光を第2の方向Xから入射させたときの反射光の反射特性プロファイルを反射角度と反射率の関係で示すグラフである。 図21は、第3の実施形態の反射体製造用の圧子を示す模式図であって、Aは圧子を一方向から見た側面図であり、Bは圧子を別の方向からみた側面図であり、Cは圧子の底面図である。 図22は、第4の実施形態の反射体を示す平面模式図である。 図23は、第4の実施形態の反射体に設けられた凹部の模式図であって、Aは凹部の平面模式図であり、BはAのM−M’線に対応する断面模式図であり、CはAのN−N’線に対応する断面模式図である。 図24は、第4の実施形態の反射体の反射特性を示す図であって、入射光を第1の方向Yから入射させたときの反射光の反射特性プロファイルを反射角度と反射率の関係で示すグラフである。 図25は、第4の実施形態の反射体の反射特性を示す図であって、入射光を第2の方向Xから入射させたときの反射光の反射特性プロファイルを反射角度と反射率の関係で示すグラフである。 図26は、第4の実施形態の反射体製造用の圧子を示す模式図であって、Aは圧子を一方向から見た側面図であり、Bは圧子を別の方向からみた側面図であり、Cは圧子の底面図である。 図27は、第5の実施形態の反射体に設けられた凹部の模式図であって、Aは凹部の平面模式図であり、BはAのL−L’線に対応する断面模式図である。 図28は、第6の実施形態の反射体に設けられた凹部の模式図であって、Aは凹部の平面模式図であり、BはAのL−L’線に対応する断面模式図である。 図29は、従来の反射体を示す斜視図である。 図30は、従来の反射体の設けられた凹部を示す模式図であって、Aは凹部の平面模式図であり、BはAのG−G線に対応する断面模式図である。
符号の説明
3…液晶表示装置、3a…表示面、30、230、330,430…反射体、31…反射基材(基板)、34,234,334,434,534,634…凹部、34a,234a、334a…凹曲面による開口部の輪郭線、234b…第1平坦面による開口部の輪郭線、34c,234c…第2平坦面による開口部の輪郭線、34d,234d,334d,534d,634d…開口部、34e,234e,334e,534e,634e…凹曲面、34f,234f…第1平坦面、34g,234g…第2平坦面、73…基板、77…原板、77b…原型面、78,278,378,478…圧子(ダイヤモンド圧子)、79…原型、82…転写型、82a…転写面、90,290,390,490…圧子本体、90a,290a,390a,490a…最先端部、90b,290b,390b,490b…凸曲面、90c,290c…第1平坦面、90d,290d…第2平坦面、91,291,391,491…凹部形成部、334A、434A…第1凹部、334B、434B…第2凹部、390c、634f…環状の平坦部、D…最深点、X…第2の方向、Y…第1の方向

Claims (21)

  1. 反射型もしくは半透過型の液晶表示装置に用いられる反射体であり、
    該反射体に対して第1の方向から入射光を入射させた場合に、その反射特性プロファイルが、入射光の正反射角度に対して非対称の反射率分布を示すとともに反射率の最大値が入射光の正反射角度より小さい反射角度範囲にある非ガウス分布型となり、かつ、前記反射体に対して前記第1の方向と交叉する第2の方向から入射光を入射させた場合にも前記第1の方向の場合と同じ非ガウス分布型の反射特性プロファイルを示し、
    基板の反射面上に複数の凹部が設けられてなり、前記凹部は、前記第1の方向からの入射光に対して前記の非ガウス分布型の反射特性プロファイルを示す第1凹部と、前記第2の方向からの入射光に対して前記の非ガウス分布型の反射特性プロファイルを示す第2凹部とから構成されており、
    前記凹部の内面が、該凹部の開口部から少なくとも該凹部の最深点にまで延在する凹曲面と、前記凹曲面に隣接するとともに前記第1の方向と所定の角度で交わる第1平坦面と、前記凹曲面に隣接するとともに前記第2の方向と所定の角度で交わる第2平坦面とから構成されていることを特徴とする反射体。
  2. 前記所定の角度が90°であることを特徴とする請求項1に記載の反射体。
  3. 前記第1平坦面と前記第2平坦面とが隣接していることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の反射体。
  4. 前記第1平坦面と前記第2平坦面とが離間していることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の反射体。
  5. 基板の反射面上に複数の凹部が設けられてなり、前記凹部の開口部形状が円形若しくは楕円形とされるとともに該凹部の内面が凹曲面とされ、該凹曲面には前記最深点の周囲に位置する環状の平坦部が設けられていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の反射体。
  6. 前記第1の凹部の内面が、該第1凹部の開口部から少なくとも該第1凹部の最深点にまで延在する凹曲面と、該凹曲面に隣接するとともに前記第1の方向と90°で交わる第1平坦面とから構成され、前記第2の凹部の内面が、該第2凹部の開口部から少なくとも該第2凹部の最深点にまで延在する凹曲面と、該凹曲面に隣接するとともに前記第2の方向と90°で交わる第2平坦面とから構成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の反射体。
  7. 前記凹曲面による前記開口部の輪郭線が円弧曲線であることを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の反射体。
  8. 前記凹曲面による前記開口部の輪郭線が楕円曲線であることを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の反射体。
  9. 前記第1平坦面が前記開口部まで延在するとともに、該第1平坦面による前記開口部の輪郭線が直線であることを特徴とする請求項1〜4、6〜8のいずれかに記載の反射体。
  10. 前記第2平坦面が前記開口部まで延在するとともに、該第2平坦面による前記開口部の輪郭線が直線であることを特徴とする請求項1〜4、6〜9のいずれかに記載の反射体。
  11. 前記凹曲面が球面であることを特徴とする請求項1〜7、9、10のいずれかに記載の反射体。
  12. 前記凹曲面が、前記最深点を基準にして非対称形状であることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の反射体。
  13. 請求項1ないし請求項12のいずれかに記載の反射体が備えられていることを特徴とする液晶表示装置。
  14. 表示面が縦長の矩形状であり、前記第1の方向が前記表示面の長手方向に一致するとともに、前記第2の方向が前記表示面の短手方向に一致するように前記反射体が配置されていることを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置。
  15. 原板の表面に原型面を形成して原型とし、前記原型面を転写基板に転写して前記原型面に対応する転写面を有する転写型を製造し、前記転写面を基板に転写することにより前記原型面と同一形状の反射面を前記基板に形成する反射体の製造方法において前記原型面の形成に使用される圧子であり、
    前記圧子は、棒状の圧子本体の先端部分に凹部形成部が設けられてなり、前記凹部形成部は、前記圧子本体の最先端部を含む凸曲面と、前記凸曲面に隣接する第1平坦面と、前記凸曲面に隣接するとともにその面方向が前記第1平坦面の面方向と90°で交わる第2平坦面とにより構成され
    前記第1平坦面と前記第2平坦面が前記圧子本体の長手方向に沿って延在していることを特徴とする反射体製造用の圧子。
  16. 前記第1平坦面と前記第2平坦面とが隣接していることを特徴とする請求項15に記載の反射体製造用の圧子。
  17. 前記第1平坦面と前記第2平坦面とが離間していることを特徴とする請求項15に記載の反射体製造用の圧子。
  18. 原板の表面に原型面を形成して原型とし、前記原型面を転写基板に転写して前記原型面に対応する転写面を有する転写型を製造し、前記転写面を基板に転写することにより前記原型面と同一形状の反射面を前記基板に形成する反射体の製造方法において前記原型面の形成に使用される圧子であり、
    前記圧子は、棒状の圧子本体の先端部分に凹部形成部が設けられてなり、前記凹部形成部は、前記圧子本体の最先端部を含む凸曲面と、前記凸曲面に隣接する平坦面とにより構成され
    前記平坦面が前記圧子本体の長手方向に沿って延在していることを特徴とする反射体製造用の圧子。
  19. 原板の表面に原型面を形成して原型とし、前記原型面を転写基板に転写して前記原型面に対応する転写面を有する転写型を製造し、前記転写面を基板に転写することにより前記原型面と同一形状の反射面を前記基板に形成する反射体の製造方法において前記原型面の形成に使用される圧子であり、
    前記圧子は、圧子本体の先端部分に凹部形成部が設けられてなり、前記凹部形成部は、前記圧子本体の最先端部を含む凸曲面と、前記最先端部の周囲に位置する環状の平坦部とにより構成され
    前記環状の平坦部の外径は1μmないし25μmの範囲とされ、前記環状の平坦部の幅は2μmないし25μmの範囲とされていることを特徴とする反射体製造用の圧子。
  20. 前記凸曲面が球面であることを特徴とする請求項15ないし請求項19のいずれかに記載の反射体製造用の圧子。
  21. 前記凸曲面が、前記最先端部を基準にして非対称形状であることを特徴とする請求項15ないし請求項19のいずれかに記載の反射体製造用の圧子。
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