JP4347426B2 - Cleaning processing equipment - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は被処理物を洗浄処理したオゾン水を処理するオゾン水処理装置が用いられた洗浄処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
たとえば、液晶製造装置や半導体製造装置などでは、被洗浄物としての液晶用ガラス基板や半導体ウエハを高い清浄度で洗浄することが要求される工程がある。被洗浄物には微粒子が付着しているだけでなく、脂肪などの有機物が付着している場合もある。
【0003】
微粒子を洗浄する場合には、被洗浄物に純水を単に吹き付けたり、純水に超音波振動を付与して吹き付けるなどして除去することができる。しかしながら、有機物の場合、純水では除去できないため、純水に通常はオゾンと酸素の混合ガスであるオゾン含有ガスを封入して溶解させたオゾン水が用いられる。
【0004】
オゾン水は周知のように酸化力が強く、限られた種類の弗素系樹脂以外の材料は腐食するということがある。そのため、使用済みのオゾン水をそのままの状態で廃棄すると、配管などを腐食させるなどのことがあるため、その有害性を低減したり、除去してからでなければ廃棄できないということがあった。
【0005】
従来、使用済みのオゾン水は、純水などで希釈して濃度を下げてから廃棄したり、オゾン分解作用のある薬品や物質を混入して分解してから廃棄するということが行われていた。
【0006】
しかしながら、前者の手段によると、大量の純水を使用するため、純水の製造コストが増大したり、オゾン水を希釈した廃液の処理コストが増大するなどのことがあった。
【0007】
後者の手段によると、オゾン水を分解するために使用する薬品や物質のコストが高くなるばかりか、それらの供給設備が必要となるから、それによってもコスト高を招くことになる。
【0008】
さらに、両者に共通して言えることは、オゾン水からオゾンガス(酸素ガスも含む)を確実に分解できないため、オゾンガスを含む液体を排出することになり、配管や設備などを早期に損傷させるということがあった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来はオゾン水を純水で希釈したり、薬液などで分解してから廃棄していたので、そのためのランニングコストが高くなるということがあった。しかも、オゾン水からオゾンガスを確実に分解することができないため、配管や設備に悪影響を及ぼすことがあった。
【0010】
この発明の目的は、安価なランニングコストでオゾン水からオゾンガスを確実に脱気できるようにしたオゾン水処理装置を用いた洗浄処理装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、回転駆動される被洗浄物にノズル体からオゾン水を噴射して当該被洗浄物を洗浄処理するための洗浄処理装置において、
上記被洗浄物を回転駆動する回転テーブルを有する処理チャンバと、
この処理チャンバから排出されるオゾン水を蓄えるバッファタンクと、
このバッファタンクに蓄えられたオゾン水が第1の制御弁を介して所定量ずつ供給される処理タンクと、
この処理タンク内のオゾン水に、当該処理タンクの底部に設けられ多数のノズル部を有する気体供給管から圧力調整自在の加圧気体を第2の制御弁を介して供給することで前記オゾン水をバブリングしてオゾンガスを脱気させる気体供給手段と、
上記処理タンクから脱気されたオゾンガスを第4の制御弁を介して排出する排気手段と、
上記処理タンクからオゾンガスが脱気された液体を第3の制御弁を介して排出する排液手段と、
上記バッファタンクに溜まるオゾン水の量を検出するセンサと、
このセンサが上記バッファタンクに所定量のオゾン水が溜まったことを検出すると、その検出信号に基いて上記第1の制御弁を所定時間開放させて上記バッファタンク内のオゾン水を上記処理タンクに所定量供給してから、上記第2の制御弁を所定時間開放して上記気体供給手段から上記処理タンクの上記気体供給管へ加圧気体を供給して上記オゾン水からオゾンガスを脱気させ、その脱気後に上記第3の制御弁を開放してオゾンガスが脱気された液体を排出させるとともに、オゾンガスの脱気中若しくは脱気後に上記第4の制御弁を開放してオゾンガスを排出させる制御装置と
を具備したことを特徴とする。
請求項2の発明は、上記排気手段は、オゾンガスを強制的に排出する排気装置を有することを特徴とする。
【0017】
請求項1と請求項2の発明によれば、処理チャンバで被洗浄物を洗浄したオゾン水をバッファタンクに蓄え、所定量ずつ処理タンクに供給し、この処理タンク内でオゾン水に加圧気体を供給することで、そのオゾン水に含まれるオゾンガスが脱気されるから、オゾン水がオゾンガスと液体とに分離される。
【0018】
【発明の実施形態】
以下、この発明の一実施形態を図面を参照して説明する。
図1に示す洗浄処理装置は処理チャンバ1を有する。この処理チャンバ1内には液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの被洗浄物2が駆動源3によって回転駆動される回転テ−ブル4によって着脱自在に保持されている。
【0019】
上記被洗浄物2の上方にはノズル体5が配置されている。このノズル体5はオゾン水の供給源6に連通されていて、上記被洗浄物2に向けてオゾン水を噴射できるようになっている。それによって、上記被洗浄物2は、とくにその板面に付着した有機物を分解洗浄できるようになっている。
【0020】
上記処理チャンバ1の底部には排液管7の一端が接続されている。この排液管7の他端はバッファタンク8に連通していて、上記処理チャンバ1からのオゾン水を蓄えることができるようになっている。このバッファタンク8にはここに蓄えられるオゾン水の量を検出するセンサ10が設けられている。
【0021】
上記バッファタンク8の底部には供給管9の一端が接続されている。この供給管9の中途部には第1の制御弁11が接続され、他端はオゾン水の処理装置を構成する気密構造の処理タンク12に接続されている。
【0022】
上記処理タンク12の底部には一端側に多数のノズル部13aを有する気体供給管13が配設されている。この気体供給管13の他端は処理タンク12から気密に導出され、第2の制御弁14を介して加圧気体の供給源15に接続されている。したがって、制御弁14の開閉によって気体供給管13から処理タンク12内のオゾン水へ供給される気体によってオゾン水をバブリングできるようになっている。処理タンク12内へ供給する気体としてはドライエア−あるいは窒素などの不活性ガスなどがよい。
【0023】
上記処理タンク12の底部には、排液管16の一端が接続され、上部には排ガス管17の一端が接続されている。上記排液管16は、第3の制御弁18の一端に接続され、この制御弁18の他端は図示しない下水道などに連通される。上記排ガス管17には第4の制御弁19を介してオゾン分解器21の接続されている。
【0024】
なお、第4の制御弁19とオゾン分解器21の間には、たとえば送風機等からなる排気装置20を介在させ、加圧気体の供給源15からのアエ圧と排気装置20の排気量とを設定することで、最適の処理時間にすることが可能である。
【0025】
上記第1乃至第4の制御弁11、14、18、19は、制御装置22によって図2に示すタイムチャ−トに基づき開閉制御されるようになっている。つまり、制御装置22は、上記バッファタンク8に設けられたセンサ10がこのタンク8内にオゾン水が所定量以上たまったことを検知すると、その検知信号で上記各制御弁を上記タイムチャ−トにしたがって開閉制御し、被洗浄物2を洗浄処理したオゾン水を後述するように脱気処理するようになっている。
【0026】
図3と図4は実験結果を示す。
図3は処理方法の違いがオゾン水分解速度に及ぼす影響を実験したもので、横軸は経過時間(分)で、縦軸は溶存オゾンガス濃度(ppm)である。図中直線Aはバブリングだけで脱気する場合で、直線Bはバブリングと強制排気とを組み合わせた場合である。また、直線Cは排気だけであり、直線Dは放置した場合である。
【0027】
この図から分かるように、本願発明のようにバブリングあるいはバブリングと強制排気を組み合わせると、他の処理方法に比べて溶存オゾンガス濃度を短時間で低下せることができる。つまり、脱気速度を速めることができる。
【0028】
図4はバブリング圧力がオゾン分解処理速度に及ぼす影響を実験したもので、横軸は経過時間(分)を示し、縦軸は溶存オゾンガス濃度(ppm)を示す。図中直線Eはバブリングせずに放置した場合であり、直線Fはバブリング圧力1Kg/cm2 の場合であり、直線Gは2.5 Kg/cm2 、直線Hは5.0 Kg/cm2 の場合である。
【0029】
この図から分かるように、バブリング圧力を高くすると、溶存オゾンガス濃度を短時間で低下せることができる。つまり、脱気速度を速めることができる。
以上のことから、オゾン水のバブリング、処理タンク12で発生するオゾンの強制排気およびバブリング時の圧力設定を組み合わせることで、オゾン水からのオゾンの脱気を効率よく確実に行えることが判明した。
【0030】
たとえば、密閉したタンク12内にオゾン水を放置した場合、オゾン水の溶存オゾン濃度を5ppmから0.2ppmまで下げるのに要した時間は54分であったが、バブリングの圧力がKg/cm2 のときには22分であり、5.0Kg/cm2 のときには3.6分であった。
【0031】
さらに、強制排気を併用すると、分解速度をより一層向上させることができ、たとえばバブリングの圧力が5.0 Kg/cm2 のときに、排気を100pa (処理タンク12内は300pa の陽圧)の条件では、約2.5分となり、放置した場合の約20分の1に処理時間を短縮できた。
【0032】
つぎに、上記構成の装置の動作について説明する。
処理チャンバ1内の回転テ−ブル4に被洗浄物2を保持したならば、この回転テ−ブル4を回転駆動するとともに、ノズル体5からオゾン水を上記被洗浄物2に向けて噴射する。それによって、オゾン水は被洗浄物2に付着した有機物を分解洗浄する。
【0033】
被洗浄物2を洗浄したオゾン水は処理チャンバ1から排液管7を通りバッファタンク8に流入する。バッファタンク8に所定量のオゾン水がたまり、そのことが上記バッファタンク8に設けられたセンサ10によって検出されると、第1乃至第4の制御弁11,14、18、19が図2のタイムチャ−トに基づいて開閉制御される。
【0034】
すなわち、まず、第1の制御弁11が時間T1 から時間T2 の間、開放される。第1の制御弁11が所定時間開放されることで、バッファタンク8内のオゾン水が供給管9を通じて処理タンク12へ所定量供給される。
【0035】
時間T2 では第1の制御弁11が閉じ、第2の制御弁14が開放される。それによって、供給源15から気体供給管13を通じて加圧気体である、加圧エア−が上記処理タンク12内のオゾン水へ供給される。
【0036】
加圧エア−が供給されると、処理タンク12内オゾン水がバブリングされ、オゾン水に含まれたオゾンガスが脱気し、液体と分離される。
上記第2の開閉弁14は時間T3 で閉じられる。ついで、時間T3 では第3の制御弁18と第4の制御弁19とが開放される。第3の制御弁18が開放されることで、オゾンガスが分離された液体が排液管16から排出される。また、第4の制御弁19が開放されることでオゾン水から脱気されたオゾンガスが排ガス管17を通ってオゾン分解器21に供給される。
【0037】
排ガス管17を通って供給されたオゾンガスはオゾン分解器21で分解されて酸素などになってから大気中に排出されるから、無害であり、また排液管16から排出される液体中には、オゾンガスがほとんど含まれていないから、その液体も無害である。つまり、処理タンク12内にたとえばエア−などの加圧気体を供給することで、オゾン水からオゾンガスを確実に脱気することができるから、純水で希釈したり、薬液などを用いる場合などに比べてそのランニングコストを低減することができる。
【0038】
また、上述した実施形態では第3の制御弁18と第4の制御弁19を同時に開放するようにしたが、処理タンク12内のオゾン水へ加圧エア−を供給中(第2の制御弁14を開放中)、第4の制御弁19を開放してもよい。また、処理タンク12内のオゾン水からのオゾンの脱気を速めるため、処理タンク12内に回転駆動される撹拌翼を設け、オゾン水を撹拌したり、ヒ−タなどの加熱器を設け、加熱するようにしてもよく、これらの方法を併用することで脱気速度を向上させることが可能である。
【0041】
【発明の効果】
この発明によれば、処理容器で被処理物を洗浄したオゾン水をバッファタンクに蓄え、所定量ずつ処理タンクに供給し、ここで加圧気体を供給することで、そのオゾン水に含まれるオゾンガスおよび酸素ガスを分離するようにした。
【0042】
すなわち、処理チャンバと処理タンクとの間にバッファタンクを設けたことで、処理チャンバから排出されるオゾン水の量に左右されることなく、常に一定量のオゾン水を処理タンクで処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態を示す洗浄処理装置の全体構成図。
【図2】同じく第1乃至第4の制御弁の動作を説明するためのタイムチャ−ト。
【図3】同じくオゾン水にバブリングを与えたり、脱気されたオゾンガスを強制排気するなどした場合に、オゾン水の溶存オゾンガス濃度の変化を測定したグラフ。
【図4】同じくバブリング時の圧力を変えたときに、オゾン水の溶存オゾンガス濃度の変化を測定したグラフ。
【符号の説明】
1…処理チャンバ
6…オゾン水の供給源
8…バッファタンク
12…処理タンク
13…気体供給管
14…第1の制御弁
15…加圧気体の供給源
16…排液管
17…排ガス管
18…第3の制御弁
19…第4の制御弁
20…排気装置
21…オゾン分解器
22…制御装置[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
This invention relates to cleaning apparatus in which the processing was washed treated Luo Zon water treatment apparatus to process ozone water was used.
[0002]
[Prior art]
For example, in a liquid crystal manufacturing apparatus, a semiconductor manufacturing apparatus, or the like, there is a process that requires cleaning a glass substrate for liquid crystal or a semiconductor wafer as an object to be cleaned with high cleanliness. In addition to fine particles adhering to the object to be cleaned, organic substances such as fat may be attached.
[0003]
When cleaning the fine particles, pure water can be removed by simply spraying the object to be cleaned or by applying ultrasonic vibration to the pure water. However, in the case of an organic substance, since it cannot be removed with pure water, ozone water in which ozone-containing gas that is a mixed gas of ozone and oxygen is usually sealed in pure water is used.
[0004]
As is well known, ozone water has a strong oxidizing power, and materials other than a limited kind of fluorine-based resin may corrode. For this reason, if the used ozone water is discarded as it is, pipes and the like may be corroded. Therefore, the harmfulness may be reduced or removed before it can be discarded.
[0005]
Conventionally, used ozone water has been diluted with pure water to reduce its concentration, or discarded after mixing with chemicals or substances that have an ozone decomposing action. .
[0006]
However, according to the former means, since a large amount of pure water is used, the production cost of pure water is increased, and the treatment cost of waste liquid diluted with ozone water is increased.
[0007]
According to the latter means, not only the cost of chemicals and substances used for decomposing ozone water is increased, but also a supply facility thereof is required, which also increases the cost.
[0008]
Furthermore, what can be said in common to both is that ozone gas (including oxygen gas) cannot be reliably decomposed from ozone water, so that liquid containing ozone gas will be discharged, resulting in early damage to piping and equipment. was there.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, conventionally, ozone water is diluted with pure water or decomposed with a chemical solution or the like and then discarded, which increases the running cost. Moreover, since ozone gas cannot be reliably decomposed from ozone water, it may adversely affect piping and equipment.
[0010]
The purpose of the invention is to provide a cleaning apparatus which had use of ozone water treatment apparatus which can reliably degas the ozone gas from the ozone water at low running costs.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
The invention of claim 1 is a cleaning processing apparatus for cleaning the object to be cleaned by injecting ozone water from the nozzle body to the object to be rotated .
A processing chamber having a rotary table for rotating the object to be cleaned ;
A buffer tank for storing ozone water discharged from the processing chamber;
A treatment tank in which the ozone water stored in the buffer tank is supplied by a predetermined amount via the first control valve;
The ozone water in the processing tank, the ozone water by supplying pressure adjustable pressurized gas from the gas supply pipe having a plurality of nozzle disposed at the bottom of the processing tank via a second control valve Gas supply means for degassing ozone gas by bubbling
Exhaust means for discharging ozone gas degassed from the treatment tank through a fourth control valve;
Drainage means for discharging the liquid from which the ozone gas has been degassed from the processing tank via a third control valve;
A sensor for detecting the amount of ozone water accumulated in the buffer tank;
When the sensor detects that a predetermined amount of ozone water has accumulated in the buffer tank, the first control valve is opened for a predetermined time based on the detection signal, and the ozone water in the buffer tank is supplied to the processing tank. After supplying a predetermined amount, the second control valve is opened for a predetermined time to supply pressurized gas from the gas supply means to the gas supply pipe of the processing tank to degas ozone gas from the ozone water, After the deaeration, the third control valve is opened to discharge the liquid from which the ozone gas has been degassed, and the fourth control valve is opened to discharge the ozone gas during or after degassing the ozone gas. And a device.
The invention of
[0017]
According to the first and second aspects of the present invention, the ozone water that has been cleaned in the processing chamber is stored in the buffer tank, supplied to the processing tank by a predetermined amount, and the pressurized water is added to the ozone water in the processing tank. Since the ozone gas contained in the ozone water is degassed by supplying the ozone water, the ozone water is separated into ozone gas and liquid.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
The cleaning processing apparatus shown in FIG. 1 has a processing chamber 1. In the processing chamber 1, an object to be cleaned 2 such as a liquid crystal glass substrate or a semiconductor wafer is detachably held by a rotating table 4 that is rotated by a driving source 3.
[0019]
A
[0020]
One end of a
[0021]
One end of a supply pipe 9 is connected to the bottom of the
[0022]
A
[0023]
One end of a
[0024]
An
[0025]
The first to
[0026]
3 and 4 show the experimental results.
FIG. 3 is an experiment of the effect of the difference in the treatment method on the ozone water decomposition rate. The horizontal axis represents elapsed time (minutes), and the vertical axis represents dissolved ozone gas concentration (ppm). In the figure, straight line A is a case where degassing is performed only by bubbling, and straight line B is a case where bubbling and forced exhaust are combined. Further, the straight line C is only the exhaust, and the straight line D is when left unattended.
[0027]
As can be seen from this figure, when bubbling or bubbling and forced exhaust are combined as in the present invention, the dissolved ozone gas concentration can be reduced in a shorter time than other processing methods. That is, the deaeration speed can be increased.
[0028]
FIG. 4 is an experiment of the effect of bubbling pressure on the ozonolysis rate, with the horizontal axis indicating elapsed time (minutes) and the vertical axis indicating dissolved ozone gas concentration (ppm). Drawing a straight line E shows the case was allowed to stand without bubbling, straight F is the case of the bubbling pressure 1Kg / cm 2, linear G is 2.5 Kg / cm 2, linear H is the case of 5.0 Kg / cm 2 .
[0029]
As can be seen from this figure, when the bubbling pressure is increased, the dissolved ozone gas concentration can be reduced in a short time. That is, the deaeration speed can be increased.
From the above, it has been found that ozone degassing from ozone water can be performed efficiently and reliably by combining bubbling of ozone water, forced exhaust of ozone generated in the
[0030]
For example, when ozone water is left in the sealed
[0031]
In addition, when the forced exhaust is used together, the decomposition rate can be further improved. For example, when the bubbling pressure is 5.0 kg / cm 2 , the exhaust is 100 pa (a positive pressure of 300 pa in the processing tank 12). The processing time can be shortened to about 1/20 of that of about 2.5 minutes when left unattended.
[0032]
Next, the operation of the apparatus having the above configuration will be described.
If the object to be cleaned 2 is held on the rotating table 4 in the processing chamber 1, the rotating table 4 is driven to rotate and ozone water is jetted from the
[0033]
The ozone water that has cleaned the object to be cleaned 2 flows from the processing chamber 1 through the
[0034]
That is, first, the first control valve 11 is opened from time T 1 to time T 2 . By opening the first control valve 11 for a predetermined time, ozone water in the
[0035]
The first control valve 11 at time T 2 is closed, the second control valve 14 is opened. Thereby, pressurized air, which is a pressurized gas, is supplied from the
[0036]
When pressurized air is supplied, the ozone water in the
The second on-off valve 14 is closed at time T 3. Next, at time T 3 , the
[0037]
Since the ozone gas supplied through the exhaust gas pipe 17 is decomposed by the
[0038]
In the above-described embodiment, the
[0041]
【The invention's effect】
According to the present invention , ozone water that has been processed in a processing container is stored in a buffer tank, and is supplied to the processing tank by a predetermined amount. By supplying pressurized gas here, ozone gas contained in the ozone water And oxygen gas were separated.
[0042]
That is, by providing a buffer tank between the processing chamber and the processing tank, it is possible to always process a certain amount of ozone water in the processing tank regardless of the amount of ozone water discharged from the processing chamber. it can.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a cleaning processing apparatus showing an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a time chart for explaining the operation of the first to fourth control valves.
FIG. 3 is a graph showing changes in the concentration of dissolved ozone gas in ozone water when bubbling is applied to ozone water or when degassed ozone gas is forcibly exhausted.
FIG. 4 is a graph obtained by measuring changes in the dissolved ozone gas concentration of ozone water when the pressure during bubbling is changed.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...
Claims (2)
上記被洗浄物を回転駆動する回転テーブルを有する処理チャンバと、
この処理チャンバから排出されるオゾン水を蓄えるバッファタンクと、
このバッファタンクに蓄えられたオゾン水が第1の制御弁を介して所定量ずつ供給される処理タンクと、
この処理タンク内のオゾン水に、当該処理タンクの底部に設けられ多数のノズル部を有する気体供給管から圧力調整自在の加圧気体を第2の制御弁を介して供給することで前記オゾン水をバブリングしてオゾンガスを脱気させる気体供給手段と、
上記処理タンクから脱気されたオゾンガスを第4の制御弁を介して排出する排気手段と、
上記処理タンクからオゾンガスが脱気された液体を第3の制御弁を介して排出する排液手段と、
上記バッファタンクに溜まるオゾン水の量を検出するセンサと、
このセンサが上記バッファタンクに所定量のオゾン水が溜まったことを検出すると、その検出信号に基いて上記第1の制御弁を所定時間開放させて上記バッファタンク内のオゾン水を上記処理タンクに所定量供給してから、上記第2の制御弁を所定時間開放して上記気体供給手段から上記処理タンクの上記気体供給管へ加圧気体を供給して上記オゾン水からオゾンガスを脱気させ、その脱気後に上記第3の制御弁を開放してオゾンガスが脱気された液体を排出させるとともに、オゾンガスの脱気中若しくは脱気後に上記第4の制御弁を開放してオゾンガスを排出させる制御装置と
を具備したことを特徴とする洗浄処理装置。 In the cleaning processing apparatus for cleaning the object to be cleaned by spraying ozone water from the nozzle body to the object to be rotated ,
A processing chamber having a rotary table for rotating the object to be cleaned ;
A buffer tank for storing ozone water discharged from the processing chamber;
A treatment tank in which the ozone water stored in the buffer tank is supplied by a predetermined amount via the first control valve;
The ozone water in the processing tank, the ozone water by supplying pressure adjustable pressurized gas from the gas supply pipe having a plurality of nozzle disposed at the bottom of the processing tank via a second control valve Gas supply means for degassing ozone gas by bubbling
Exhaust means for discharging ozone gas degassed from the treatment tank through a fourth control valve;
Drainage means for discharging the liquid from which the ozone gas has been degassed from the processing tank via a third control valve;
A sensor for detecting the amount of ozone water accumulated in the buffer tank;
When this sensor detects that a predetermined amount of ozone water has accumulated in the buffer tank, the first control valve is opened for a predetermined time based on the detection signal, and the ozone water in the buffer tank is supplied to the processing tank. After supplying a predetermined amount, the second control valve is opened for a predetermined time to supply pressurized gas from the gas supply means to the gas supply pipe of the processing tank to degas ozone gas from the ozone water, After the deaeration, the third control valve is opened to discharge the liquid from which the ozone gas has been degassed, and the fourth control valve is opened to discharge the ozone gas during or after degassing the ozone gas. A cleaning processing apparatus comprising the apparatus.
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Families Citing this family (9)
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US20090025753A1 (en) * | 2007-07-24 | 2009-01-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic Apparatus And Contamination Removal Or Prevention Method |
US7916269B2 (en) | 2007-07-24 | 2011-03-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and contamination removal or prevention method |
JP5675175B2 (en) * | 2009-06-23 | 2015-02-25 | 大陽日酸株式会社 | Ozone supply device |
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KR101933080B1 (en) * | 2016-10-26 | 2018-12-28 | 세메스 주식회사 | Substrate treating apparatus, process fluid treating apparatus and ozone decomposition method |
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