JP4344938B2 - エキシマ光照射装置 - Google Patents
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Description
さらに、石英ガラスは、エキシマ光の照射により酸素を放出する。酸素はエキシマ光を強く吸収するため、エキシマ放電ランプの光出力が、ランプ点灯時間の経過とともに低下するという問題もある。
このエキシマ光照射装置は、ステンレス筐体1の内部に、誘電体で被覆された棒状金属電極(内側電極)2と、その外側に設けられた筒状金属電極(外側電極)3からなる電極対ユニット4が複数配置されている。筐体1内のエキシマ光生成ガスは、ガス吸入口5から導入され、ガス排出口6から排気されることにより置換される。内側電極2と外側電極3に高周波電源8から高周波高電圧を印加することにより、電極間に放電を発生させ、電極対ユニット4の鉛直方向の筐体1に設けられた透過窓7からエキシマ光を放射するものである。このエキシマ光照射装置は、電極対ユニット4を複数配置することにより大面積化が可能である。
この成膜装置において、101は成膜室、102は光源室であり、光源室102には先に示したエキシマランプやエキシマ光照射装置が設置される。103は透過窓、104は原料ガス導入口であり、膜の原料となるガスが導入される。105は原料ガス排出口、106はウエハ、107はウエハ106を支持するステージである。このような構造の成膜装置では、透過窓103から照射されるエキシマ光を効率よくウエハ106上に照射させるために、ウエハ106を透過窓103に近づけて設置する場合がある。しかし、ウエハ106と透過窓103の間の空間が狭いと、ウエハ106上の原料ガスの濃度が均一になりにくく、ウエハ106の中心部で原料ガスの濃度が高くなる。この結果、生成される膜厚が、中心部で大きく、外周部で小さくなるという問題が発生する。
解決法1では、遮光マスクによりエキシマ光の照度を弱めてしまうことになるので好ましくない。解決法2、3、4、5、8では、成膜室内に新たに部材を置くことになる。エキシマ光を用いたCVD法では、原料ガスに接しているウエハ以外の部分にも膜が生成されるため、成膜処理を繰り返す中で、成膜室内の洗浄をたびたび行う必要がある。このため、成膜室内に部材を置くと、洗浄箇所が増えるので処理効率が悪くなる。解決法6では、透過窓に設置したヒーターにより原料ガス濃度を完全に制御するためには、ヒーターの数を増やす必要があるが、これによりエキシマ光が遮られるので好ましくない。また、ヒーターを成膜室内に設置する方法も先に述べた理由と同じように洗浄箇所が増えるので処理効率が悪くなる。解決法7では、原料ガス濃度を完全に制御できるわけではなく、さらに透過窓を厚くすることはエキシマ光の透過率を減少させてしまうので好ましくない。従って、ウエハ上のガス濃度が不均一な場合において、透過窓表面や成膜室内に部材を設置することなく、均一な膜を生成することが望ましい。そのためには、エキシマ光の照度分布を制御する必要がある。
第1の手段は、エキシマ放電ガスが封入された放電室内に、垂直方向に等間隔で複数の貫通穴が形成された厚板状の一方の電極と前記各貫通穴に挿通した他方の電極、または、筒状に構成された一方の電極と前記一方の電極に挿通した他方の電極のうち、少なくともいずれかの一方の電極表面または電極表面近傍が誘電体で覆われ、前記一方の電極と前記他方の電極とで構成される電極対ユニットが複数並置され、各電極対ユニットの一方の電極と他方の電極間に高周波電圧を印加することにより、前記各電極対ユニット下方に配置された光放射窓からエキシマ光を放射するエキシマ光照射装置において、放射するエキシマ光の被照射面でのエキシマ光分布を制御する手段として、所定の電極対ユニットの電極長をその他の電極対ユニットの電極長より長く構成することを特徴とするエキシマ光照射装置である。
図1は、本実施形態の発明に係るエキシマ光照射装置の正面断面図、図2は、エキシマ光照射装置のエキシマ光透過窓側から見た電極対ユニットの全体構成を示す図、図3は、エキシマ光照射装置のガスシャワーヘッド10に設けられた穴の位置を示す図である。
図4(a)に示すように、誘電体9は内側電極2と外側電極3間に介在し、内側電極2の表面を覆うように配置される。また図4(b)に示すように、誘電体9は内側電極2と外側電極3間に介在し、外側電極3の表面を覆うように配置することも可能である。また図4(c)に示すように、誘電体9は内側電極2と外側電極3間に介在し、内側電極2及び外側電極3のそれぞれの表面を覆うように配置することも可能である。また図4(d)に示すように、誘電体9は内側電極2と外側電極3間に介在し、内側電極2の表面近傍に配置することも可能である。なお、これらの電極構造は、後述する他の実施形態の発明に係るエキシマランプ点灯装置においても適用可能であることはいうまでもない。
図11は、本実施形態の発明に係るエキシマ光照射装置の正面断面図である。
同図において、外側電極3の側面部に、例えば、外径6.35mm、肉厚1mmの銅チューブ30を8mmのピッチで埋め込み固定する。なお、その他の構成は第1の実施形態及び従来技術に示した同符号の構成に対応するので、説明を省略する。
図14は、本実施形態の発明に係るエキシマ光照射装置の正面断面図である。
同図において、外周側の電極対ユニット4は、外側電極3の長さを伸ばすために、例えば、内径17mm、長さ20mmのステンレス製の筒40を取り付ける。なお、その他の構成は第1の実施形態及び従来技術に示した同符号の構成に対応するので、説明を省略する。
2 内側電極
3 外側電極
4 電極対ユニット
5 ガス吸入口
6 ガス排出口
7 透過窓
8 高周波電源
9 誘電体
10 ガスシャワーヘッド
11 ガラスチューブ
12,13,22,23 開口部
14,15 ガス導入口
17 内側電極である金属電極のシャワーヘッドへの接続箇所
18 支持部材
30 銅チューブ
40,41,42 筒
43 アルミニウム板
44 突起部
Claims (3)
- エキシマ放電ガスが封入された放電室内に、垂直方向に等間隔で複数の貫通穴が形成された厚板状の一方の電極と前記各貫通穴に挿通した他方の電極、または、筒状に構成された一方の電極と前記一方の電極に挿通した他方の電極のうち、少なくともいずれかの一方の電極表面または電極表面近傍が誘電体で覆われ、前記一方の電極と前記他方の電極とで構成される電極対ユニットが複数並置され、各電極対ユニットの一方の電極と他方の電極間に高周波電圧を印加することにより、前記各電極対ユニット下方に配置された光放射窓からエキシマ光を放射するエキシマ光照射装置において、
放射するエキシマ光の被照射面でのエキシマ光分布を制御する手段として、所定の電極対ユニットの電極長をその他の電極対ユニットの電極長より長く構成することを特徴とするエキシマ光照射装置。 - エキシマ放電ガスが封入された放電室内に、垂直方向に等間隔で複数の貫通穴が形成された厚板状の一方の電極と前記各貫通穴に挿通した他方の電極、または、筒状に構成された一方の電極と前記一方の電極に挿通した他方の電極のうち、少なくともいずれかの一方の電極表面または電極表面近傍が誘電体で覆われ、前記一方の電極と前記他方の電極とで構成される電極対ユニットが複数並置され、各電極対ユニットの一方の電極と他方の電極間に高周波電圧を印加することにより、前記各電極対ユニット下方に配置された光放射窓からエキシマ光を放射するエキシマ光照射装置において、
放射するエキシマ光の被照射面でのエキシマ光分布を制御する手段として、前記電極対ユニットへのエキシマ放電ガスの流量が異なる流路が複数路設けられていることを特徴とするエキシマ光照射装置。 - エキシマ放電ガスが封入された放電室内に、垂直方向に等間隔で複数の貫通穴が形成された厚板状の一方の電極と前記各貫通穴に挿通した他方の電極、または、筒状に構成された一方の電極と前記一方の電極に挿通した他方の電極のうち、少なくともいずれかの一方の電極表面または電極表面近傍が誘電体で覆われ、前記一方の電極と前記他方の電極とで構成される電極対ユニットが複数並置され、各電極対ユニットの一方の電極と他方の電極間に高周波電圧を印加することにより、前記各電極対ユニット下方に配置された光放射窓からエキシマ光を放射するエキシマ光照射装置において、
放射するエキシマ光の被照射面でのエキシマ光分布を制御する手段として、被照射面でのエキシマ光の分布を均一に制御するために、外周域に配置される電極対ユニットの電極を冷却することを特徴とするエキシマ光照射装置。
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