JP4342260B2 - ウエハー処理装置 - Google Patents

ウエハー処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4342260B2
JP4342260B2 JP2003341121A JP2003341121A JP4342260B2 JP 4342260 B2 JP4342260 B2 JP 4342260B2 JP 2003341121 A JP2003341121 A JP 2003341121A JP 2003341121 A JP2003341121 A JP 2003341121A JP 4342260 B2 JP4342260 B2 JP 4342260B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
slit
nozzle
ring
back surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003341121A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005109177A (ja
Inventor
孝則 都甲
泰男 前田
忠和 上田
肇 塚本
光一 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takada Corp
Original Assignee
Takada Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Takada Corp filed Critical Takada Corp
Priority to JP2003341121A priority Critical patent/JP4342260B2/ja
Publication of JP2005109177A publication Critical patent/JP2005109177A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4342260B2 publication Critical patent/JP4342260B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Description

本発明は、処理液がウエハーの裏面に廻り込むのを防止するウエハー処理装置に関する。
従来、ウエハーの表面を薬液で洗浄処理する場合には、ウエハーの裏面をバキュームホースに接続されたテーブル状のバキュームチャックの上面に載置して吸着固定し、このバキュームチャックを高速回転させることにより、ウエハーを回転させ、回転されるウエハーの表面に薬液を吐液して所定の処理をした後、ウエハーの回転を停止し、ウエハーの裏面外周部に付着している薬液の残部に純水を吹き付けて洗い落とし、その後ウエハーの裏面外周部に空気を噴出させてウエハーの乾燥を行っている(例えば、特許文献1参照)。
特開2002−170805号公報(図1〜図3)
しかしながら、前記従来のウエハーの面を薬液で洗浄処理する方法においては、未だ解決すべき以下のような問題があった。
薬液の吐液、ウエハーの回転停止、純水の吹き付け及び空気の噴出等、処理工程が多くなって、生産性が悪かった。そこで、処理工程を少なくするために、ウエハーの裏面外周部に薬液が付着しないようにすることが考えられる。
ウエハーを高速回転(例えば、3000rpm)させた場合には、ウエハーの表面(上面)に落とされた薬液は大きな遠心力によりウエハーの外端から外側に飛ばされるので、ウエハーの外端を伝わってウエハーの裏面(下面)に廻り込むことは無いが、ウエハーを低速回転(例えば、500rpm)させた場合には、薬液には小さな遠心力しか働かないので、薬液は表面張力の影響によりウエハーの外端を伝わってウエハーの裏面に廻り込み、その結果、ウエハーの裏面を汚染したり、また、必要に応じて、後工程で汚れた裏面を洗浄する必要があった。また、場合によっては、バキュームチャックの中まで汚染していた。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、ウエハーを低速回転させた場合でも、ウエハーの裏面への処理液の廻り込みを完全に防止することができ、これにより、処理液がウエハーの裏面を汚染することがなく、また、ウエハーの裏面の洗浄を不要にできるウエハー処理装置を提供することを目的とする。
前記目的に沿う請求項1記載のウエハー処理装置は、バキュームチャックによりウエハーを保持し、該ウエハーを回転させながら該ウエハーの表面に処理液をかけて所定の処理を行ない、しかも、前記ウエハーの裏面のエッジ部全周に半径方向内側から外側に向けて均一に気体を吹き付けるリング状のスリットを有するリングブローノズルを備え、前記処理液が前記ウエハーの裏面に廻り込むのを防止するウエハー処理装置において、
前記スリットの幅は0.01〜0.1mmとし、前記ウエハーの裏面と前記スリットの噴出口の上端との隙間は3mm以下とし、前記スリットの前記ウエハーの裏面に対する噴射角度は15〜35°とし、前記スリットから噴射される気体の吹き出し速度を10〜40m/秒とし、
かつ、前記リングブローノズルのノズル側壁面は前記ウエハーの外端より1〜5mm内側に位置すると共に、前記スリットはオリフラ部又はノッチの下端を指向し、
前記スリットの噴出口の外端を水平に対して30〜60°の角度で面落とし、
更に、前記リングブローノズルには、気体の溜り部が設けられている。
ここで、スリットの幅を0.01〜0.1mmとしたのは、0.01mm未満では適切な気体の吹き出し速度や流量が得られず、一方、0.1mmを超えると気体の吹き出し速度が比較的小さくなり、全周にわたって均一な吹き出し速度が得られないためである。
ウエハーの裏面とスリットの噴出口の上端との隙間を3mm以下としたのは、3mmを超えると気体の吹き出し速度が小さくなるためである。
噴射角度を15〜35°としたのは、15°未満では気体の垂直方向の速度成分が小さくなり、一方、35°を超えると気体の水平方向の速度成分が小さくなるためである。
気体の吹き出し速度は処理液の流量、ウエハーサイズ及びウエハー回転数に依存するが、ここで、気体の吹き出し速度を10〜40m/秒としたのは、10m/秒未満ではウエハーの裏面への処理液の廻り込みを完全に防止することができず、一方、40m/秒を超えると気体の使用量が急激に増加するためである。
ノズル側壁面をウエハーの外端より内側に位置したのは、リングブローノズルの側壁面に付着した液滴が表面張力で成長し、ウエハーの表面から流れ落ちてくる液流とくっついてウエハーの裏面へ入り込むのを防ぐためであり、かつ、スリットの噴出口の外端を水平に対して面落とししたのは、ブロー流が下方へ偏向するのを防止し、リングブローノズルの側壁面に付着した液滴を傾斜により流れ落とすためである。
請求項記載のウエハー処理装置は、請求項記載のウエハー処理装置において、前記リングブローノズルは、円周部に上スリット部が形成されたリング状の上側ノズル分割体と、該上側ノズル分割体の上スリット部に対向する下スリット部が形成された下側ノズル分割体とを組み立てて構成される。
請求項1、2記載のウエハー処理装置においては、バキュームチャックにより保持されたウエハーを回転させながらウエハーの表面に処理液をかけて所定の処理を行なう際、リングブローノズルのリング状のスリットからウエハーの裏面のエッジ部全周に半径方向内側から外側に向けて気体を吹き付けるので、例えば、回転速度が遅い場合に、ウエハーの表面の処理液が遠心力に抗して表面張力及び自重によりウエハーの裏面に廻り込もうとしても、気体の運動エネルギーにより、処理液を吹き飛ばすことができ、リングブローノズルの側壁に付着した処理液が表面張力で成長し、ウエハーとリングブローノズルとの間に入り込むのを完全に防止することができる。この結果、ウエハーの裏面を汚染することがなく、ウエハーの裏面の洗浄工程を不要にでき、洗浄液の使用量の削減及び処理時間の削減が可能となる。また、ウエハーの表面のみの洗浄等の処理が可能となる。さらに、低速回転域における処理液の廻り込みが防止できるため、洗浄液とウエハーとの接触時間を長くとる必要がある処理にも適用できる。
そして、リングブローノズルのスリットの幅、ウエハーの裏面とスリットの噴出口の上端との隙間、スリットのウエハーの裏面に対する噴射角度、及び、リングブローノズルのスリットから噴射される気体の吹き出し速度を所定の大きさに設定するので、処理液がウエハーの裏面に廻り込むのを効果的に防止することができ、この結果、使用する気体が適量となって、経済的であると共に、処理時間が短くて済む。
また、リングブローノズルのノズル側壁面をウエハーの外端より内側に位置し、スリットの噴出口の外端を水平に対して面落とししているので、処理液がウエハーの裏面に廻り込むのをさらに、効果的に防止することができ、この結果、使用する気体がさらに適量となって、経済的であると共に、処理時間がさらに短くて済む。
更に、リングブローノズルには、気体の溜り部が設けられているので、スリットから吹き出される気体の変動を抑えることができる。
請求項記載のウエハー処理装置においては、リングブローノズルは、上側ノズル分割体と、上側ノズル分割体の上スリット部に対向する下スリット部が形成された下側ノズル分割体とを組み立てて構成されるので、精密なノズル構造が可能となり、この結果、全周にわたって均一なブロー流の形成及び効率的な流れを作ることができ、必要な気体の流量を低減することができると共に、製作が簡略化され、安価に製造できる。
続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明を具体化した実施の形態につき説明し、本発明の理解に供する。
ここに、図1は本発明の一実施の形態に係るウエハー処理装置の斜視図、図2は同ウエハー処理装置の要部の斜視図、図3は同ウエハー処理装置のリングブローノズルの断面を示す説明図、図4は同ウエハー処理装置のリングブローノズルの平面図、図5は図4の矢視A−A断面図、図6は図3の要部拡大図、図7は図4の矢視B−B部分断面図、図8はリングブローノズルの構造及びリングブローノズルとウエハーの配置を示す説明図、図9は処理液の液滴とリングブローノズル及びウエハーとの関係を示す説明図である。
図1〜図4に示すように、本発明の一実施の形態に係るウエハー処理装置10は、ウエハー11をバキュームチャック14により保持し、ウエハー11を回転させながらウエハー11の表面12に処理液の一例である洗浄液13をかけて洗浄処理を行なう枚葉式スピン洗浄装置であって、洗浄液13がウエハー11の表面12から裏面15に廻り込むのを防止するために、ウエハー11の裏面15のエッジ部16に気体の一例であるエアー17を均一にブローする(吹き付ける)リング状で組立構造のリングブローノズル18を備えている。
図1及び図2に示すように、ウエハー処理装置10は、所定の処理が施されるウエハー11を載置して吸着するバキュームチャック14と、バキュームチャック14をダイレクトに回転駆動するサーボモータ19と、回転するウエハー11の表面12に洗浄液13を供給する固定ノズル20を備えた洗浄液供給手段21と、ウエハー11の裏面15のエッジ部16にエアー17をブローするリングブローノズル18と、ウエハー11を洗浄する洗浄ノズル22を備えた洗浄手段23と、ブロー後のエアー17及び洗浄液13の液滴や蒸気等をガイドする排気チャンバー24と、洗浄後の洗浄液13を貯留するシンク25とを備えている。
以下、特に、リングブローノズル18について詳しく説明する。
図3、図4及び図8に示すように、リングブローノズル18は、ウエハー11の裏面15のエッジ部16にエアー17をブロー可能なリング状のスリット29を備えた構造となっており、外周部30に半径方向外側に沿って上側に傾斜した上傾斜面(上スリット部)31を備えたリング板状の上側ノズル分割体32と、上側ノズル分割体32の上傾斜面31に対向して僅少の平行な隙間(スリット幅)Sをあけて配置された下傾斜面(下スリット部)33を備えた下側ノズル分割体34とを有している。
図3及び図5に示すように、断面が凹状でリング状の下側ノズル分割体34は、上端部に下傾斜面33を備えた断面がL字形の外ノズル体35と、外ノズル体35の内周部の下部に4本の取付ボルト36を介して着脱可能に取付けられた円筒状の内ノズル体37とを有している。外ノズル体35の内周下部に精度良く形成された段部に、内ノズル体37の下端部が嵌入して設けられており、半径方向及び上下方向の位置決めができるようになっている。
同様に、図3及び図5に示すように、上側ノズル分割体32の内周下端部に精度良く形成された段部に、内ノズル体37の上端部に精度良く形成された凸部が嵌入して設けられており、半径方向及び上下方向の位置決めができるようになっている。内ノズル体37の上端部と上側ノズル分割体32の内周部38とは4本の取付ボルト39を介して着脱可能に固定されている。
かかる構成によって、上側ノズル分割体32と下側ノズル分割体34とを組み立てて構成されるリングブローノズル18のスリット29のスリット幅Sやスリット傾斜角度θが正確に確保されることになる。さらに、リングブローノズル18は4本の固定用シャフト40、固定用シャフト40の上端部に形成された雄ねじに螺合するナット41及び座金42等により、ノズル取付架台(図示せず)に取付けられている。
図3〜図5に示すように、外ノズル体35の底部43の平面視して対向する2個所には貫通孔44が形成されており、貫通孔44の上部は、上側ノズル分割体32及び下側ノズル分割体34の組立により形成される円筒状のエアー溜り部45の上流側に連通され、一方、貫通孔44の下部には、エアー溜り部45の下流側に連通されたスリット29からブローするエアー17を供給する、継手を備えたエアー配管46が接続されている。エアー溜り部45の体積を確保し、これによって、エアー17の供給変動によるスリット29からブローされるエアー17の吹き出し変動を抑えることができる。
図8を参照して、リングブローノズル18の模式的な構造及びリングブローノズル18とウエハー11の配置を説明する。
リングブローノズル18のスリット29のスリット幅Sは、エアー17がウエハー11の裏面15のエッジ部16の全周にわたり均等に噴射されるように、全周にわたり均等な隙間になるように精密加工が施されており、スリット幅Sは、例えば、0.01〜0.1mmとし、スリット29から放射状に噴射されるエアー17の吹き出し速度は10〜40m/秒を確保している。
回転するウエハー11の外端52の下端(ノッチ又はオリフラ部)を狙ってスリット29から噴射されるエアー17のウエハー11の裏面15に対する噴射角度、即ち、スリット傾斜角度θは、15〜35°、好ましくは、20〜30°としており、リングブローされるエアー17の運動エネルギーにより、ウエハー11の表面12の洗浄液13が遠心力に抗して表面張力及び自重により、ウエハー11の裏面15のエッジ部16に廻り込むのを防止することができるように構成されている。
図8に示すように、ウエハー11の裏面15とスリット29の噴出口の上端51との隙間aは3mm以下としている。リングブローノズル18の側壁面(外ノズル体35の外周面48と同じ)はウエハー11の外端52より内側(例えば、距離b=1〜5mm)に、位置している。このように、リングブローノズル18の側壁面をウエハー11の外端52よりも、少し内側に配置する理由は以下による。
図9に示すように、ウエハー11の外端52と同じ位置に側壁面35aを配置した比較例であるリングブローノズル18aの場合には、リングブローノズル18aの側壁面35aに付着した液滴13aが表面張力で成長し、ウエハー11の表面12から流れ落ちてくる液流13bとくっついてウエハー11の裏面15へ入り込み易いが、図8に示すように、リングブローノズル18の場合には、側壁面をウエハー11の外端52よりも少し内側に配置して、ウエハー11の裏面15へ入り込み難くしている。
さらに、スリット29の噴出口の外端53は、リングブローノズル18の側壁面(外ノズル体35の外周面48)から、例えば、距離c(1〜5mm)の水平距離で、しかも、水平に対して30〜60°の面落とし角度αでノズル外端部を面落とししており、これにより、リング状に吹き出されるエアー17はウエハー11の裏面15に沿って直進することができる。もし、この面落としが形成されていない場合には、エアー17は裏面15に沿って直進することができず、下方への偏向流となり、液滴を吹き飛ばす効果が小さくなる。
なお、リングブローノズルによる効果的なエアー17のブローを行なうためには、リングブローノズルの形状、構造、材質(表面処理)、ウエハー11との位置関係、及びブロー気体条件等の諸元を、以下に示すように、理論的考察と実験に基づいて決定する必要がある。
(理論的考察)
回転するウエハーの端面から離脱する液滴が、リングブローノズルから噴出されるエアーブロー流の中で受ける力について、Faxen(ファクセン)の法則を参考にして理論的考察を行なう。
液滴が回転するウエハーの端面から離脱するときの終速度Uは、U=(rω2−μg)Δtであり、ウエハーの半径に対して直交する接線方向となる。ここで、r:ウエハーの半径、ω:ウエハーの角速度、μ:液滴とウエハーの動摩擦係数、Δt:微小時間、g:重力加速度である。
ウエハーの端面から接線方向に終速度Uで離脱した液滴は、エアーブロー流の影響を受け、大気中に浮遊しながら落下することになり、液滴の終速度Uは変化することになる。
リングブローノズルから十分遠くで、流速分布Vを持つエアーブロー流の中に半径Rの球状の液滴があり、液滴が終速度Uで動くとき、液滴に働く力FはFaxenの法則から、次式で表現される。
F=−f(υ、ν)R[V−U+h(υ、ν)ΔV] ・・・・・(1)
ここで、f、h:関数、υ:エアーの粘性率、ν:液滴の粘性率、V:十分遠くの流速分布、ΔV:十分遠くの流速分布範囲である。
式(1)から分かることは、以下の通りである。
液滴の受ける力Fは、液滴の半径に比例し、ウエハーの半径に対して垂直な接線方向の終速度Uと、リングブローノズルから噴出され、ウエハーの半径方向に速度分布を持つエアーの十分遠くの流速分布V及び流速分布範囲ΔVを変数とする関数で与えられる。
次に、本発明のリングブローノズルの作用効果を確認するために行った実施例について説明する。ここで、図10は本発明の実施例に係るウエハー処理装置に使用したリングブローノズルの寸法を示す説明図、図11はウエハー回転数に対する廻り込みを生じさせないためのエアー流量を示す説明図、図12は廻り込み防止に必要な、ウエハー回転数に対する平均エアー吹き出し速度を示す説明図、図13(A)、(B)はそれぞれ、実施例に使用したリングブローノズルのエアー吹き出し測定位置、エアー吹き出し速度を示す説明図である。
(裏面廻り込み防止の確認)
実験条件は、以下の通りの固定パラメータ及び変動パラメータとした。
固定パラメータとして、図10に示すように、3インチウエハーと4インチウエハーの2種類のウエハーで実験した。なお、図10中の括弧内の数値は、3インチのリングブローノズルのものと異なる場合の4インチのリングブローノズルのものについて表している。また、オリフラ(ウエハー外周部の切欠き)までの数値bは、3インチウエハーでは3.93mm、4インチウエハーでは4.2mmとなる。
洗浄液として精製水を使用し、使用量は200mリットル/minとした。
エアーの供給圧は4kg/cm2とした。
変動パラメータとして、テストするウエハーに対応する2種類の3インチのリングブローノズルと4インチのリングブローノズルを製作して実験した。
ウエハーの回転数Nは、30、100、200、300、400、500rpmとした。
エアーの供給流量は20〜80リットル/minとした。
実験方法としては、リングブローノズルに指定量のエアーを送り、ウエハーを回転させながら、ウエハーに精製水を30秒かけた後、ウエハーの裏面への精製水の廻り込みを目視により確認した。
実験結果として、図11には各ウエハーについて、各ウエハー回転数における廻り込みを生じさせないエアー流量を示す。また、図11のエアー流量を平均エアー吹き出し速度に換算したものを図12に示す。
ウエハーの回転数Nが400rpm以下では、エアー流量(平均エアー吹き出し速度)は略一定であるが、500rpm以上では小さくなることが分かる。
(リングブローノズルのブローエアーの流速測定)
図13(A)に示すように、リングブローノズルにエアーを供給し、3インチウエハー及び4インチウエハーにおいて流量別に、スリットの円周方向の8等分の各位置(1〜8)からブローされるエアーの流速(吹き出し速度)を測定した。なお、エアーの供給圧は4kg/cm2、エアーチューブサイズは1/4インチ、実験温度は室温とした。
図13(B)に示すように、周方向でのエアーの吹き出し速度のバラツキは小さく、略均一なブロー流が得られることが分かった。即ち、リングブローノズルは組立構造ではあるが、スリット幅Sが全周にわたって維持されていることが分かる。
本発明は前記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲での変更は可能であり、例えば、前記したそれぞれの実施の形態や変形例の一部又は全部を組み合わせて本発明のウエハー処理装置を構成する場合も本発明の権利範囲に含まれる。
本実施の形態において、ウエハー処理装置を洗浄処理として使用したが、これに限定されず、例えば、レジスト剥離処理、リフトオフ処理、エッチング処理としても使用することができる。
リングブローノズルを、円盤リング状の上側ノズル分割体と、下側ノズル分割体とを組み立てて構成したが、これに限定されず、必要に応じて、一体構造としたり、また、別の組立構造とすることもできる。
ウエハーに吹き出す気体としてエアー(実際には、クリーンエアー)を用いたが、これに限定されず、必要に応じて、クリーンな不活性ガス(例えば、窒素等)を用いることもできる。
処理液として洗浄液を使用したが、これに限定されず、所定の処理の内容に応じて、その他の処理液を使用することもできる。
本発明の一実施の形態に係るウエハー処理装置の斜視図である。 同ウエハー処理装置の要部の斜視図である。 同ウエハー処理装置のリングブローノズルの断面を示す説明図である。 同ウエハー処理装置のリングブローノズルの平面図である。 図4の矢視A−A断面図である。 図3の要部拡大図である。 図4の矢視B−B部分断面図である。 リングブローノズルの構造及びリングブローノズルとウエハーの配置を示す説明図である。 処理液の液滴とリングブローノズル及びウエハーとの関係を示す説明図である。 本発明の実施例に係るウエハー処理装置に使用したリングブローノズルの寸法を示す説明図である。 ウエハー回転数に対する廻り込みを生じさせないためのエアー流量を示す説明図である。 ウエハー回転数に対する廻り込みを生じさせないための平均エアー吹き出し速度を示す説明図である。 (A)、(B)はそれぞれ、実施例に使用したリングブローノズルのエアー吹き出し測定位置、エアー吹き出し速度を示す説明図である。
10:ウエハー処理装置、11:ウエハー、12:表面、13:洗浄液(処理液)、13a:液滴、13b:液流、14:バキュームチャック、15:裏面、16:エッジ部、17:エアー(気体)、18、18a:リングブローノズル、19:サーボモータ、20:固定ノズル、21:洗浄液供給手段、22:洗浄ノズル、23:洗浄手段、24:排気チャンバー、25:シンク、29:スリット、30:外周部、31:上傾斜面、32:上側ノズル分割体、33:下傾斜面、34:下側ノズル分割体、35:外ノズル体、35a:側壁面、36:取付ボルト、37:内ノズル体、38:内周部、39:取付ボルト、40:固定用シャフト、41:ナット、42:座金、43:底部、44:貫通孔、45:エアー溜り部、46:エアー配管、48:外周面、51:噴出口の上端、52:外端、53:噴出口の外端

Claims (2)

  1. バキュームチャックによりウエハーを保持し、該ウエハーを回転させながら該ウエハーの表面に処理液をかけて所定の処理を行ない、しかも、前記ウエハーの裏面のエッジ部全周に半径方向内側から外側に向けて均一に気体を吹き付けるリング状のスリットを有するリングブローノズルを備え、前記処理液が前記ウエハーの裏面に廻り込むのを防止するウエハー処理装置において、
    前記スリットの幅は0.01〜0.1mmとし、前記ウエハーの裏面と前記スリットの噴出口の上端との隙間は3mm以下とし、前記スリットの前記ウエハーの裏面に対する噴射角度は15〜35°とし、前記スリットから噴射される気体の吹き出し速度を10〜40m/秒とし、
    かつ、前記リングブローノズルのノズル側壁面は前記ウエハーの外端より1〜5mm内側に位置すると共に、前記スリットはオリフラ部又はノッチの下端を指向し、
    前記スリットの噴出口の外端を水平に対して30〜60°の角度で面落とし、
    更に、前記リングブローノズルには、気体の溜り部が設けられたことを特徴とするウエハー処理装置。
  2. 請求項記載のウエハー処理装置において、前記リングブローノズルは、円周部に上スリット部が形成されたリング状の上側ノズル分割体と、該上側ノズル分割体の上スリット部に対向する下スリット部が形成された下側ノズル分割体とを組み立てて構成されることを特徴とするウエハー処理装置。
JP2003341121A 2003-09-30 2003-09-30 ウエハー処理装置 Expired - Fee Related JP4342260B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003341121A JP4342260B2 (ja) 2003-09-30 2003-09-30 ウエハー処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003341121A JP4342260B2 (ja) 2003-09-30 2003-09-30 ウエハー処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005109177A JP2005109177A (ja) 2005-04-21
JP4342260B2 true JP4342260B2 (ja) 2009-10-14

Family

ID=34535826

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003341121A Expired - Fee Related JP4342260B2 (ja) 2003-09-30 2003-09-30 ウエハー処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4342260B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008218545A (ja) * 2007-03-01 2008-09-18 Sumco Corp ウェーハの枚葉式エッチング装置
JP5058781B2 (ja) * 2007-12-26 2012-10-24 アピックヤマダ株式会社 吸着搬送装置
JP7437899B2 (ja) 2019-09-20 2024-02-26 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005109177A (ja) 2005-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3990462A (en) Substrate stripping and cleaning apparatus
US7422641B2 (en) Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method
TWI443722B (zh) 基板處理裝置及基板處理方法
US7247209B2 (en) Dual outlet nozzle for the combined edge bead removal and backside wash of spin coated wafers
US6708903B2 (en) Two-fluid cleaning jet nozzle, cleaning equipment and method of fabricating semiconductor device employing the same
JP6305040B2 (ja) 洗浄装置
US20180021821A1 (en) Uniform fluid manifold for acoustic transducer
US7926439B2 (en) Substrate processing apparatus
JP2005294819A (ja) 基板洗浄用2流体ノズル及び基板洗浄装置
JP3573504B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2002158202A (ja) ウエハ洗浄装置
JP4342260B2 (ja) ウエハー処理装置
CN111403323A (zh) 一种用于晶圆与环形玻璃载板的蚀刻装置
CN111370354A (zh) 一种用于晶圆与环形玻璃载板的蚀刻装置
JP4668691B2 (ja) 塗装機洗浄用ホッパー
JP2002143749A (ja) 回転塗布装置
JPH11319456A (ja) エアーフィルター清掃装置
CN211629049U (zh) 一种用于晶圆与环形玻璃载板的蚀刻装置
CN114420598A (zh) 一种气流改善的晶圆清洗系统及其工作方法
JP6738929B1 (ja) バグフィルターの濾布洗浄装置
CN114902379A (zh) 半导体晶片的清洗装置以及半导体晶片的清洗方法
JP2008147364A (ja) 半導体ウエハを洗浄する装置と方法
JPH0778743A (ja) 半導体製造装置
JPS6226175B2 (ja)
CN211879346U (zh) 一种用于晶圆与环形玻璃载板的蚀刻装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060925

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090324

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090407

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090603

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090630

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090707

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120717

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4342260

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120717

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130717

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees