JP4327804B2 - エッチング装置及びエッチング処理方法 - Google Patents
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- エッチング処理室内に設けられた試料の搭載手段を兼ねた第1の電極と前記第1の電極に対向して設けられ希ガスを含むエッチングガス供給手段を兼ねた第2の電極と、
前記第1の電極と第2の電極間に高周波電力を印加する手段とを備え、
前記高周波電力の印加によって前記電極間に生成したプラズマを用いて前記試料のエッチング処理を行うエッチング装置であって、
前記第2の電極は該電極面に径方向に分かれた円或いはリング状の複数のガス供給領域を有し、
前記複数のガス供給領域から前記エッチング処理室内に供給されるエッチングガスの分圧を径方向に対して補正する手段を有し、
該手段によって供給されるエッチングガス中の前記希ガスは、電離電圧の異なる複数の希ガスであって、
電離電圧の低い希ガスの圧力を前記試料の周辺領域で高めたことを特徴とするエッチング装置。 - エッチング処理室内に設けられた試料の搭載手段を兼ねた第1の電極と前記第1の電極に対向して設けられ希ガスを含むエッチングガス供給手段を兼ねた第2の電極との間に高周波電力を印加しプラズマを発生させて前記試料のエッチング処理を行うエッチング処理方法であって、
前記第2の電極を該電極面の径方向に円或いはリング状の複数のガス供給領域に分け、
前記複数のガス供給領域から前記エッチング処理室内に供給されるエッチングガス中の前記希ガスは、電離電圧の異なる複数の希ガスを用い、
前記複数のガス供給領域から前記エッチング処理室内に供給するエッチングガスの分圧を径方向に対して補正する手段を用いて、電離電圧の低い希ガスの圧力を前記試料の周辺領域で高めて前記試料のエッチング処理を行うことを特徴とするエッチング処理方法。
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