JP4324205B2 - プラズマ生成装置およびプラズマ成膜装置 - Google Patents
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Description
前記アンテナアレイの各アンテナ素子に給電する高周波信号を生成する高周波電源と、
前記アンテナ素子へ前記高周波信号を給電する給電線と接続された、インピーダンス整合のための特性パラメータが可変なインピーダンス整合部材と、
前記インピーダンス整合部材に対応して設けられ、前記インピーダンス整合部材と少なくとも2つ以上のアンテナ素子とを接続する、板状の導体からなる分配配線と、
前記インピーダンス整合部材の前記特性パラメータを変化させて、前記分配配線を介して前記インピーダンス整合部材と接続された少なくとも2つ以上の前記アンテナ素子のインピーダンス整合状態を同時に変化させる制御部と、を有し、
前記分配配線は、前記インピーダンス整合部材と前記アンテナ素子との間に少なくとも1つ以上の分岐部を有し、この分岐部において前記高周波信号を2方向に分配し、
前記板状の導体は、前記分岐部から前記アンテナ素子側では、前記インピーダンス整合部材から前記アンテナ素子に向かう前記高周波信号の進行方向に略垂直方向の幅を、前記分岐部から前記インピーダンス整合部材側の幅の1/2倍にすることにより、特性インピーダンスを一定にし、かつ、前記板状の導体の前記幅の長さ方向が、前記アンテナ素子の配列によって形成される平面に対して垂直であることを特徴とするプラズマ生成装置を提供する。
基板台16は、処理基板12がアンテナ素子22に対向するように、処理基板12を載置する台であり、基板台16の内部には処理基板12を加熱する図示されない発熱体が設けられ、接地された図示されない電極板がさらに設けられている。この電極板はバイアス電源に接続されて、バイアス電圧が印加されてもよい。
排気口20は、反応容器14内を所定の圧力に減圧した原料ガスの雰囲気とするために、図示されない真空ポンプと接続した排気管21に接続されている。
制御器30は、後述する第1電流・電圧センサ32及び第2電流・電圧センサ34の検知信号に応じて、高周波電源28の発振周波数の変更及びインピーダンス整合部材26の調整を行う制御部分である。高周波発信回路の発振周波数は、基板に対して行なうプロセスの違いに応じて、例えば10MHz〜130MHzで変更することができる。また、後述する各種インピーダンスの整合動作においては、インピーダンス整合状態を微調整するために、高周波発信回路の発振周波数を微調整してもよい。なお、発振周波数の変更や微調整の必要がないプロセスに用いる場合など、高周波電源28の発信周波数は、可変でなくともよい。
12 処理基板
14 反応容器
16 基板台
18 導入口
19 供給管
20 排気口
22 アンテナ素子
23 原料ガス分散室
24 ガス放射板
25 反応室
26 インピーダンス整合部材
26a 第1の容量素子
26b 第2の容量素子
27 給電線
28 高周波電源
29 スタブ
30 制御器
32 第1電流・電圧センサ
34 第2電流・電圧センサ
40 分配配線
42 分岐部
52 第1の筐体
54 第2の筐体
Claims (5)
- 誘電体で表面が覆われた棒状の導体で構成したアンテナ素子が平面状に複数配列されてなるアンテナアレイを用いたプラズマ生成装置であって、
前記アンテナアレイの各アンテナ素子に給電する高周波信号を生成する高周波電源と、
前記アンテナ素子へ前記高周波信号を給電する給電線と接続された、インピーダンス整合のための特性パラメータが可変なインピーダンス整合部材と、
前記インピーダンス整合部材に対応して設けられ、前記インピーダンス整合部材と少なくとも2つ以上のアンテナ素子とを接続する、板状の導体からなる分配配線と、
前記インピーダンス整合部材の前記特性パラメータを変化させて、前記分配配線を介して前記インピーダンス整合部材と接続された少なくとも2つ以上の前記アンテナ素子のインピーダンス整合状態を同時に変化させる制御部と、を有し、
前記分配配線は、前記インピーダンス整合部材と前記アンテナ素子との間に少なくとも1つ以上の分岐部を有し、この分岐部において前記高周波信号を2方向に分配し、
前記板状の導体は、前記分岐部から前記アンテナ素子側では、前記インピーダンス整合部材から前記アンテナ素子に向かう前記高周波信号の進行方向に略垂直方向の幅を、前記分岐部から前記インピーダンス整合部材側の幅の1/2倍にすることにより、特性インピーダンスを一定にし、かつ、前記板状の導体の前記幅の長さ方向が、前記アンテナ素子の配列によって形成される平面に対して垂直であることを特徴とするプラズマ生成装置。 - さらに、前記高周波電源が生成した高周波信号を、複数の前記給電線に分配する分配器を有し、
前記インピーダンス整合部材は、複数の前記給電線それぞれに対応して設けられていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ生成装置。 - 前記分配配線において、前記インピーダンス整合部材から各アンテナ素子に至るまでの前記高周波信号の経路長それぞれは、いずれも、前記高周波信号の波長の1/10以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマ生成装置。
- 前記特性パラメータは、インピーダンス整合のための容量パラメータであり、
前記インピーダンス整合部材は、前記容量パラメータが可変な容量素子を有して構成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のプラズマ生成装置。 - 請求項1〜4のいずれかに記載のプラズマ生成装置が内部に配置されたチャンバと、
前記チャンバ内に原料ガスおよび反応ガスを供給する手段と、を有し、
前記原料ガスまたは前記反応ガスの少なくともいずれか一方が、前記プラズマ生成装置によって生成したプラズマに供給されて、前記チャンバ内に配置した所定の基板表面に成膜処理を施すことを特徴とするプラズマ成膜装置。
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