JP4320150B2 - Substrate connecting tape and etching method using the same - Google Patents

Substrate connecting tape and etching method using the same Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリント基板やリードフレーム等に用いられる基板のエッチング方法およびそれに使用される基板接続用テープに関し、特に搬送手段により搬送される複数の基板の上面側を均一にエッチングすることができる方法およびそれに用いられる基板接続用テープに関する。
【0002】
【従来の技術】
多数のプリント基板を連続的に効率よくエッチングする方法として、例えばローラコンベア等の搬送手段によりプリント基板を水平に搬送し、二次元的に配列されたスプレー管群でエッチング液をその表面にスプレーする方法が採用されている。そしてプリント基板の片面をエッチングする場合は、搬送されるプリント基板の上方または下方のいずれかにエッチング液のスプレー管群を配列する。また、両面を同時にエッチングする場合は上方および下方の両方にスプレー管群を二次元的に配列する。
【0003】
このようなエッチング方法において、水平に搬送されるプリント基板の上方におけるスプレー管群の各ノズルよりスプレーされたエッチング液は、プリント基板の上表面を流れて周辺部から下方へ流下するが、その際プリント基板の上表面の中央部は周辺部よりエッチング液の滞留を生じやすいので、スプレーされたエッチング液が反応面に作用しにくいものである。そのためプリント基板の中央部におけるエッチング速度が周辺部より低下し、均一なエッチングを行うことが困難になり、それがプリント基板のファイン化を妨げる大きな原因になっているのである。
【0004】
この問題を解決するため、プリント基板に衝突するエッチング液の接触圧圧力を均一にするのではなく、その搬送方向に対して直角方向の周辺部より中間部に衝突するエッチング液の圧力を高くし、プリント基板の中間部から周辺部へのエッチング液の流れを円滑にする方法が知られている。そしてそれを実現する装置の1例として、プリント基板の搬送方向と直角方向に並んだ各スプレーのノズル長を列の両端側より中間部を大とするように構成し、中間部のスプレー管のノズルをプリント基板の上表面に近づけ、プリント基板の中間部に衝突するエッチング液の接触圧力を周辺部より高くする方法が提案されている。
【0005】
しかしながら、このようなプリント基板の搬送方法に対して直角方向の中間部に衝突するエッチング液の接触圧力を周辺部より大きくするだけでは、プリント基板の搬送方向に直角方向の不均一なエッチング現象はかなり制御できるが、プリント基板の搬送方向に不均一なエッチング現象を解決するまでには至らない。
【0006】
これを解消すべく、搬送方向の両縁部が中心部よりも多くエッチングされ易くするように、特許第3108750号として提案されている。これは、プリント基板の搬送に同期して、搬送方向のスプレー管の噴射量を変化させ、常にプリント基板の中央部の噴射圧力を搬送方向両端部よりも大きく制御するものである。ところが、このような制御はその装置が複雑となると共に、故障を起こしやすいという欠点がある。
【0007】
さらに、エッチング液には溶解せずにレジスト除去液で溶解する帯状の接続用フィルムを用いて、基板の縁部同士を連結し、エッチングおよびレジスト除去をするエッチングの方法が特願2001−019596号に提案されている。この方法によると、プリント基板上面のエッチング液は搬送方向と直角方向のみに流れ落ちるため、エッチング力の違いは幅方向だけとなり、プリント基板の搬送方向に不均一なエッチング現象が明らかに抑制できる。しかし、上記した帯状の接続フィルムでは、アルカリ現像液で溶解してしまうため、アルカリ現像工程とエッチング工程の間で基板を接続する必要があり、このような湿った基板へ接続フィルムを貼り付けることが困難であった。また、搬送中の引っ張り応力が強いエッチング装置を用いた場合においては、工程の途中段階において分離してしまうことがあった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、複数のプリント基板を連結して搬送しながらエッチングする際に、アルカリ現像工程が可能でかつレジスト除去工程に入るまで基板の分離が起きない基板接続用テープを提供し、搬送方向のエッチング不均一現象を解消することを課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決する本発明の基板接続用テープは、少なくともレジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層とレジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有する層が積層されて成る。また、レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層は、アルカリ現像液に溶解しないことで、アルカリ現像手前工程にて基板を連結することが可能となる。そのようなレジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層としては、硬化したレジストフィルムが好適に使用できる。
【0010】
また、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有する層の材料としては、例えばアクリル樹脂であれば設計および合成が容易となり好適に使用でき、また、未硬化のレジストフィルムであれば、粘着性およびレジスト除去性を有するため容易に適用できる。
【0011】
このような基板接続用テープを用いてエッチングする方法は、搬送手段で水平に搬送される複数の基板をエッチングする方法において、上記した基板接続用テープで隣り合う各基板の搬送方向の縁部同士を互いに連結し、その連結された状態の各基板を搬送手段により搬送しながらアルカリ現像およびエッチングを行い、次にレジスト除去を行うことで基板接続用テープを除去して各基板を分離することにおいて、均一なエッチングが達成できた。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図面を使用して、本発明の実施の形態を説明する。なお以下、レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層を「耐エッチング層」と略し、またレジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有する層を「粘着性層」と略す。
【0013】
図1は本発明の基板接続用テープ1の断面図である。また、図2は基板接続用テープ1を基板縁部に貼り付け、基板4を連結した状態の断面図である。図1のように、基板接続用テープ1は、少なくとも耐エッチング層2と粘着性層3が積層されて成る。基板を連結させることができ、搬送中の引っ張り応力等に耐えうる強度を持っている必要がある。基板接続用テープ1の貼り付け方法は、図2に示すように、粘着性層3が基板縁部に接するように貼り付け、基板4同士を互いに連結する。
【0014】
本発明の基板接続用テープ1に於ける耐エッチング層2は、アルカリ現像液とエッチング液に対して溶解または膨潤しない性質を有し、またそれらのスプレー圧に耐えうる強度で、またレジスト除去液に溶解または膨潤する性質をもつ。例えば、レジストフィルムのマイラーフィルムと保護フィルムを剥離した感光層を熱もしくは紫外線照射によって硬化させたレジストフィルム、液状フォトレジストを塗布および乾燥後、熱もしくは紫外線照射によって硬化させたフィルム等が挙げられる。また、カルボン酸基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、スルホンアミド基、スルホンイミド基、ホスホン酸基を有する、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂等からなる強アルカリに溶解するフィルムやポリビニルアルコール等が挙げられる。これらは、基板接続用テープ1で連結した基板4がアルカリ現像もしくはエッチングの負荷が与えられても、連結した状態を保持する役割を担い、エッチングが終了して不要となった際にはレジスト剥離で除去されるため、レジスト除去液に溶解または膨潤する性質を有し、速やかに基板4上から除去される。また、アルカリ現像後エッチング前の工程に基板連結部がある場合には、基板接続用テープ1自体はアルカリ現像処理が行われないため、アルカリ現像液に対して溶解または膨潤しないという性質を持たなくても適用できるため、耐エッチング層2を設計する際容易となる。これら耐エッチング層2の厚みは、薄すぎると強度に劣り厚すぎるとエッチング液流れの堰となるため、1〜200μmが好ましい。上記に記載のように、硬化したレジストフィルムを使用することで、簡易に基板接続用テープ1が作製でき好適である。
【0015】
本発明の基板接続用テープ1に於ける粘着性層3の性質としては、耐エッチング層2と基板4を接着できる粘着性を有し、レジスト除去液に溶解または膨潤して、レジスト除去の際に速やかに基板4から除去できればよい。必要であれば、加熱することで粘着性を増加させてもよい。アルカリ現像部においては、耐エッチング層2が現像液に対するレジストとなっているため、エッジ部分からの極少領域のみしかアルカリ現像液に浸らず、アルカリ現像液に対する溶解性は考慮する必要がない。例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂等を主成分とする粘着樹脂が挙げられる。それらの粘着樹脂には、レジスト除去液に溶解または膨潤する必要があるため、カルボン酸基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、スルホンアミド基、スルホンイミド基、ホスホン酸基を有するモノマーを含有する。粘着樹脂の具体例としては、スチレン/マレイン酸モノアルキルエステル共重合体、メタクリル酸/メタクリル酸エステル共重合体、スチレン/メタクリル酸/メタクリル酸エステル共重合体、アクリル酸/メタクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸/メタクリル酸エステル/アクリル酸エステル共重合体、スチレン/メタクリル酸/アクリル酸エステル共重合体、スチレン/アクリル酸/メタクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸/メタクリル酸エステル共重合体、安息香酸ビニル/アクリル酸/メタクリル酸エステル共重合体等のスチレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、酢酸ビニル、安息香酸ビニル等とカルボン酸含有単量体との共重合体等が挙げられる。また、粘着性を向上させるために、低分子量のポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ジエチルフタレート、o−トルエンスルホン酸アミド、p−トルエンスルホン酸アミド、クエン酸トリブチル、クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル等の可塑剤が含有してもよい。また、視認性を向上させるため、染料や顔料を含有してもよい。
【0016】
また、粘着性層3としては、未硬化のレジストフィルムを使用してもよい。一般的なレジストフィルムとしては例えばデュポンMRCドライフィルム株式会社製のリストン、日立化成工業株式会社のポテック等を使用することができる。この場合は、保護フィルムを剥離して、耐エッチング層2に貼り付けたのちマイラーフィルムを剥離して、基板接続用テープ1を作製する。
【0017】
次に、本発明のエッチング方法を詳細に説明する。図3および図4は本発明のエッチング方法を実施するプロセスフロー図である。なお、この例はプリント基板の表裏に導体パターンの形成を行うものである。
【0018】
図3において、5は基板4に一連の各処理を施すべく基板4を水平方向に搬送する搬送手段、6は搬送される基板4相互をそれらの縁部同士で連結する基板連結部で、露光部7によって露光された後に基板4相互を連結するようにしてある。基板連結部6によって連結された後にアルカリ現像部8で現像処理が行われ、その水洗後に、エッチング部9にてエッチング処理が行われ、その水洗後に、レジスト除去部10によってレジストが除去(剥離)が行われるのである。
【0019】
図4においては、露光部7によって露光されアルカリ現像部8で現像された後に基板4相互を連結するようにしてある。基板連結部6によって連結された後に、エッチング部9にてエッチング処理が行われ、その水洗後に、レジスト除去部10によってレジストが除去(剥離)が行われるのである。
【0020】
エンドレスに構成されたローラコンベア等の搬送手段5は、その上面に複数の基板4を連続的に図3、図4の矢印の方向に向かって水平に且つ一定速度で搬送する。基板4はケーシングで覆われた基板連結部6中に搬送される前または途中において順に押し詰められ、搬送方向に沿う前後の縁部が互いに接した状態で基板連結部6内に装入されて通過するようになっている。そして基板連結部6を通過する間に隣接する基板4の搬送方向で、その突き合わせ状となる前後縁部同士の表裏縁部間に跨って帯状の基板接続用テープ1で互いに連結されて、図2に示したような細長い連続体を形成する。すなわち、上下に配置された一対の転写ローラ11がそれぞれタイミングをとって間歇的に、搬送方向の前後で隣接する基板4の境界部分(搬送方向の縁部間)に押し付けられ、それによって転写ローラ11表面に装着された基板接続用テープ1を基板4における搬送方向縁部に転写されることで境界部分である前後部分に跨って基板4が互いに連結される。
【0021】
なお、接続前の各基板4は露光部7で露光され、アルカリ現像部8で1〜2質量%の炭酸ナトリウム水溶液のような弱アルカリのアルカリ現像液で上下からスプレーされ、例えば非露光部分(未硬化部分)のレジストが除去され、パターン状に硬化したレジスト層が形成される。基板連結部6は、アルカリ現像部8の前工程または後工程のどちらかに設置し、基板を連結する。接続された状態でエッチング部9に搬送され、そこでレジスト層の存在しない部分がエッチング液で除去される。エッチング液は上下に二次元的に配列されたスプレー管群12のノズルから基板4の表裏面にスプレーされ、スプレーされたエッチング液は液溜めに落下し、ポンプを設けた循環配管でスプレー管群12に循環される。なお、液溜めには補給水槽から補給水およびエッチング液槽から塩酸、塩化第二鉄、塩化第二銅などのエッチング液が適宜供給され、その底部からドレンが定期的に抜き出せるようになっている。また、液溜めのエッチング液の温度はヒータおよび冷却管により所定の範囲に調整される。
【0022】
エッチング部9でエッチングされた各基板4は、連続体を形成した状態のまま次のレジスト除去部10に搬送され、そこで2〜3質量%の水酸化ナトリウム水溶液のような強アルカリのレジスト除去液(洗浄液)で上下からスプレーされ、硬化したパターン状のレジスト層が除去されると共に、基板接続用テープ1が除去される。すなわちレジスト除去部10の上下にスプレー管群13が二次元的に配列され、それらのノズルから基板4の表裏面にレジスト除去液がスプレーされる。スプレーされたレジスト除去液は下方に設けられた液溜めに落下し、ポンプを設けた循環配管でスプレー管群13に循環される。
【0023】
次に、基板連結部6について説明する。まず、複数の基板4は搬送手段5の図示しない加速駆動ローラ(送りローラ)により水平に搬送され、基板連結部6のケーシングの開口部から内部に供給される。基板連結部6以降に位置する搬送手段5のローラの搬送速度よりも、その上流側の加速駆動ローラの速度を大きくしているので、各基板4は後続の基板4により押されてそれらの前後縁部が搬送方向に互いに接した突き合わせ状態で搬送される。基板接続用テープ1が外周面に装着されて待機位置にある転写ローラ11は、図示しない制御部からの制御指令を受けた駆動部により上下移動および回転駆動を行う。すなわち互いに接した状態の基板4が搬送手段5により一定速度で基板連結部6を通過すると、各基板4の境界部分(隣接する基板4における搬送方向の縁部分)が光センサーなどの境界検出器で検出され、その検出信号(同期信号)により前記制御部が駆動部に制御信号を出力し、転写ローラ11を上下移動および回転制御させる。
【0024】
例えば、転写ローラ11の内部にはヒーターなどの加熱部が配置され、外周面を所定の温度範囲に制御するようになっている。温度制御は転写ローラ11の内部に設けられた温度センサーの信号を受けて前記制御部が行う。なお、転写ローラ11の外周面温度は基板接続用テープ1の粘着性層3の粘着性を増加させてその粘着性により基板4の縁部に接着できる範囲に加熱することができる。使用する粘着性層3の軟化温度により適宜設定される。粘着性層3が室温においても基板に貼り付く程度に十分な粘着性を有する場合には、転写ローラ11の内部にヒーターなどを配置する必要はない。転写ローラ11の外周面が基板4の境界部分に押圧されると、基板接続用テープ1は基板4の境界部分に転写され、それによって隣接する基板4の搬送方向の前後の縁部同士がその相互間で基板接続用テープ1で架橋されて互いに連結される。また、基板接続用テープ1を貼り付けたのち、さらにゴムローラにて加圧や加熱等の処理を施して確実に基板を連結させてもよい。
【0025】
このように基板接続用テープ1の転写が完了したら、再び制御部から駆動部に制御信号が出力され、転写ローラ11が基板4から離反する方向に移動して待機位置に復帰する。以下、検出器から検出信号が出力される毎に上記操作が繰り返される。
【0026】
一方、転写ローラ11が待機位置にある短い時間内に基板接続用テープ1が転写ローラ11へ装着される。このタイミングは転写ローラ11が待機位置に復帰したことを位置検出器で検出し、基板接続用テープ1の耐エッチング層2側を転写ローラ外周面に装着する。そのため、基板接続用テープ1の耐エッチング層2と転写ロール11とが接着できる構造にすることが望まれる。具体的には、転写ロール11の外周面に細かい多数の貫通孔を分散して設けた筒状のローラを使用し、内部を真空ポンプなどで減圧すればよい。また、耐エッチング層2もしくは転写ロール11の表面に粘着層を持たせることでも達成できる。
【0027】
本発明に係わる基板4とは、プリント基板またはリードフレーム用基板が挙げられる。プリント基板であれば、フレキシブル基板、リジッド基板に分類され、フレキシブル基板は通常がポリエステルやポリイミドが絶縁材料として用いられ、その他にもアラミド、ポリエステル−エポキシベースが用いられている。フレキシブル基板の絶縁層の厚さは13μm〜125μm程度で、その両面もしくは片面に12〜35μm程度の銅箔が設けられており、非常に可撓性があるためエッチングの際にたわみが多く、本発明のエッチング方法が好適に使用される。また、リジッド基板であったら、紙基材またはガラス基材にエポキシ樹脂またはフェノール樹脂等を浸漬させた絶縁性基板を必要枚数重ね、その片面もしくは両面に金属箔を載せ、加熱、加圧して積層されたものが挙げられる。また、内層配線パターン加工後、プリプレグ、金属箔等を積層して作製する多層用のシールド板、またスルーホールやビアホールを有する多層板も挙げられる。厚さは60μmから3.2mm程度であり、プリント基板としての最終使用形態により、その材質と厚さが選定される。これらプリント基板は、例えば「プリント回路技術便覧−第二版−」((社)プリント回路学会編、日刊工業新聞社発刊)や「多層プリント回路ハンドブック」(J.A.スカーレット編、(株)近代化学社発刊)に記載されているものを使用することができる。
【0028】
【実施例】
以下本発明を実施例により詳説するが、本発明はその主旨を超えない限り、下記実施例に限定されるものではない。
【0029】
実施例1
レジストフィルム(旭化成製サンフォート、25μm厚)に紫外線を全面照射して硬化させたレジストフィルムの保護フィルムを剥離した。一方、別途紫外線等を照射しない未硬化のレジストフィルムの保護フィルムを剥離した。硬化したレジストフィルムと未硬化のレジストフィルムをお互い保護フィルムを剥離した面が接するようにして貼り付け、15mm×510mmの帯状に切断したのち両側のマイラーフィルムを剥離して、基板接続用テープを作製した。
【0030】
次に、10枚の両面銅張積層板(面積340mm×510mm、銅箔厚18μm、基材厚み0.2mm)にレジストフィルムをラミネートし、75μmのラインアンドスペースを有する画像が3×4の12面づけの構成のマスクフィルムを用いて、露光を実施した。次に、マイラーフィルムを剥離したのち、各基板を510mm側が隣り合うように隣接して、縁部に上記基板接続用テープを未硬化のレジストフィルムが接するように貼り付け、縁部同士を連結させた。
【0031】
次に、510mm側を搬送方向に向け画像面を上にして流すようにし、1.0重量%炭酸ナトリウム水溶液(液温30℃)をスプレーすることでアルカリ現像処理を行いレジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄溶液(40℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)でエッチング処理を行った。エッチング処理を終了しても、基板接続用テープの切断、基板のジャムはみられなかった。次に、レジスト除去(40℃、3質量%の水酸化ナトリウム水溶液)を施した。
【0032】
レジスト除去が終了した各基板には、基板接続用テープの残存物が確認されず、基板接続用テープはすべて除去されており、分離した各基板がすべてジャムなく受け取り部まで到達した。
【0033】
このようにエッチングを終了した基板について、マスク上で75μmに相当する画線の線幅を、各基板の各面ごとに12カ所測定した結果、線幅の誤差(最大線幅−最小線幅)は最大で7.0μmであった。
【0034】
実施例2
レジストフィルム(旭化成製サンフォート、25μm厚)に紫外線を全面照射して硬化させたレジストフィルムの保護フィルムを剥離した。一方、2−エチルへキシルアクリレート/メタアクリル酸共重合体(質量比:8/2、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶剤、固形分35質量%)をPETフィルム上に塗布および乾燥を行い粘着性層を作製した。上記硬化したレジストフィルムの保護フィルムを剥離した面が粘着性層と接するように貼り付け、15mm×510mmの帯状に切断したのち両側のPETフィルムおよびマイラーフィルムを剥離して、基板接続用テープを作製した。
【0035】
次に、10枚の両面銅張積層板(面積340mm×510mm、銅箔厚18μm、基材厚み0.2mm)にレジストフィルムをラミネートし、75μmのラインアンドスペースを有する画像が3×4の12面づけの構成のマスクフィルムを用いて、露光を実施した。次に、マイラーフィルムを剥離したのち、各基板を510mm側が隣り合うように隣接して、縁部に上記基板接続用テープを粘着性層が接するように貼り付け、縁部同士を連結させた。
【0036】
次に、510mm側を搬送方向に向け画像面を上にして流すようにし、1.0重量%炭酸ナトリウム水溶液(液温30℃)をスプレーすることでアルカリ現像処理を行いレジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄溶液(40℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)でエッチング処理を行った。エッチング処理を終了しても、基板接続用テープの切断、基板のジャムはみられなかった。次に、レジスト除去(40℃、3質量%の水酸化ナトリウム水溶液)を施した。
【0037】
レジスト除去が終了した各基板には、基板接続用テープの残存物が確認されず、基板接続用テープはすべて除去されており、分離した各基板がすべてジャムなく受け取り部まで到達した。
【0038】
このようにエッチングを終了した基板について、マスク上で75μmに相当する画線の線幅を、各基板の各面ごとに12カ所測定した結果、線幅の誤差(最大線幅−最小線幅)は最大で7.0μmであった。
【0039】
比較例1
10枚の両面銅張積層板(面積340mm×510mm、銅箔厚18μm、基材厚み0.2mm)にドライフィルムをラミネートし、75μmのラインアンドスペースを有する画像が3×4の12面づけの構成のマスクフィルムを用いて、露光を実施した。次に、マイラーフィルムを剥離したのち、510mm側を搬送方向に向け画像面を上にして流すようにし、1.0重量%炭酸ナトリウム水溶液(液温30℃)をスプレーすることでアルカリ現像処理を行いレジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄溶液(40℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)でエッチング処理を行った。次に、レジスト除去(40℃、3質量%の水酸化ナトリウム水溶液)を施した。なお、基板接続用テープは使用しなかった。
【0040】
このようにエッチングを終了した基板について、マスク上で75μmに相当する画線の線幅を、各基板の各面ごとに12カ所測定した結果、線幅の誤差(最大線幅−最小線幅)は最大で15.0μmであった。
【0041】
比較例2
レジストフィルム(旭化成製サンフォート、25μm厚)を15mm×510mmの帯状に切断し、保護フィルムおよびマイラーフィルムを剥離したのち未硬化のレジストフィルムのみで接続用フィルムを作製した。
【0042】
次に、10枚の両面銅張積層板(面積340mm×510mm、銅箔厚18μm、基材厚み0.2mm)にレジストフィルムをラミネートし、75μmのラインアンドスペースを有する画像が3×4の12面づけの構成のマスクフィルムを用いて、露光を実施した。次に、マイラーフィルムを剥離したのち、510mm側を搬送方向に向け画像面を上にして流すようにし、1.0重量%炭酸ナトリウム水溶液(液温30℃)をスプレーすることでアルカリ現像処理を行いレジストパターンを形成した。
【0043】
レジストパターンまで形成したのち十分な乾燥を行い、各基板を510mm側の縁部が隣り合うように隣接して、縁部に上記接続用フィルムを貼り付け、縁部同士を連結させた。次に、塩化第二鉄溶液(40℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)でエッチング処理を行った。エッチング処理が終了したところ、一部上記接続用フィルムが切断し基板が分離し基板のジャムが発生した。結果、良好なプリント配線板は得られなかった。
【0044】
【発明の効果】
以上説明したごとく、本発明の基板接続用テープおよびそれを用いたエッチング方法によって、複数のプリント基板を連結して搬送しながらエッチングする際に、アルカリ現像工程が可能でエッチング工程で基板の分離が起きず高精度なエッチングが提供できた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基板接続用テープ1の断面図。
【図2】基板接続用テープを基板縁部に貼り付け、基板を連結した状態の断面図。
【図3】本発明のエッチング方法を実施するプロセスフロー図。
【図4】本発明のエッチング方法を実施するプロセスフロー図。
【符号の説明】
1 基板接続用テープ
2 レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層(耐エッチング層)
3 レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有する層(粘着性層)
4 基板
5 搬送手段
6 基板連結部
7 露光部
8 アルカリ現像部
9 エッチング部
10 レジスト除去部
11 転写ローラ
12、13 スプレー管群
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for etching a substrate used for a printed circuit board, a lead frame, and the like and a substrate connecting tape used therefor, and more particularly, a method capable of uniformly etching the upper surface side of a plurality of substrates conveyed by a conveying means. The present invention also relates to a substrate connecting tape used therefor.
[0002]
[Prior art]
As a method for etching a large number of printed circuit boards continuously and efficiently, the printed circuit board is transported horizontally by a transport means such as a roller conveyor, and an etching solution is sprayed on the surface by a two-dimensionally arranged spray tube group. The method is adopted. When etching one side of the printed circuit board, an etching solution spray tube group is arranged either above or below the printed circuit board being conveyed. When etching both surfaces simultaneously, spray tube groups are arranged two-dimensionally both above and below.
[0003]
In such an etching method, the etchant sprayed from each nozzle of the spray tube group above the horizontally conveyed printed circuit board flows on the upper surface of the printed circuit board and flows downward from the peripheral portion. Since the central portion of the upper surface of the printed board is more likely to retain the etchant than the peripheral portion, the sprayed etchant hardly acts on the reaction surface. Therefore, the etching rate in the central part of the printed circuit board is lower than that in the peripheral part, making it difficult to perform uniform etching, which is a major cause of hindering the fineness of the printed circuit board.
[0004]
In order to solve this problem, the pressure of the etchant that collides with the printed circuit board is not made uniform, but the pressure of the etchant that collides with the intermediate part is higher than the peripheral part perpendicular to the transport direction. A method of smoothing the flow of the etching solution from the intermediate portion to the peripheral portion of the printed board is known. As an example of an apparatus for realizing this, the nozzle lengths of the sprays arranged in the direction perpendicular to the conveyance direction of the printed circuit board are configured so that the middle portion is larger than the both end sides of the row. A method has been proposed in which the nozzle is brought closer to the upper surface of the printed circuit board, and the contact pressure of the etching solution colliding with the intermediate part of the printed circuit board is made higher than that in the peripheral area.
[0005]
However, if the contact pressure of the etchant impinging on the middle part in the direction perpendicular to the printed board transport method is set higher than that in the peripheral part, the non-uniform etching phenomenon in the direction perpendicular to the printed board transport direction is Although it can be controlled considerably, it does not lead to solving an etching phenomenon that is not uniform in the direction of conveyance of the printed circuit board.
[0006]
In order to solve this problem, Japanese Patent No. 3108750 proposes that both edges in the transport direction are more easily etched than the center. In this method, the spray amount of the spray pipe in the transport direction is changed in synchronization with the transport of the printed circuit board, and the spray pressure at the central portion of the printed circuit board is always controlled to be larger than both ends in the transport direction. However, such control has the disadvantages that the apparatus becomes complicated and that it is liable to cause a failure.
[0007]
Further, Japanese Patent Application No. 2001-019596 discloses an etching method in which edges of substrates are connected to each other using a strip-shaped connecting film that is not dissolved in an etching solution but dissolved in a resist removal solution, and etching and resist removal are performed. Has been proposed. According to this method, since the etching solution on the upper surface of the printed circuit board flows only in the direction perpendicular to the transport direction, the difference in etching force is only in the width direction, and the etching phenomenon that is not uniform in the transport direction of the printed circuit board can be clearly suppressed. However, since the strip-shaped connection film described above is dissolved in an alkali developer, it is necessary to connect the substrate between the alkali development step and the etching step, and the connection film is applied to such a wet substrate. It was difficult. Further, when an etching apparatus having a high tensile stress during conveyance is used, separation may occur in the middle of the process.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention provides a substrate connecting tape that enables an alkali development process and does not cause separation of a substrate until entering a resist removal process when etching while connecting and transporting a plurality of printed boards. An object is to eliminate the etching non-uniformity phenomenon.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The substrate connecting tape of the present invention that solves the above-described problems is formed by laminating at least a layer that dissolves in a resist removing solution and has etching resistance and a layer that dissolves in the resist removing solution and has adhesiveness. In addition, the layer that is dissolved in the resist removing solution and has etching resistance does not dissolve in the alkaline developer, so that the substrates can be connected in a step prior to the alkaline development. As a layer which dissolves in such a resist removing solution and has etching resistance, a cured resist film can be suitably used.
[0010]
In addition, as a material of the layer that is dissolved in the resist removing solution and has adhesiveness, for example, an acrylic resin can be suitably used because it is easy to design and synthesize, and if it is an uncured resist film, the adhesive and Since it has resist removability, it can be easily applied.
[0011]
The method of etching using such a substrate connecting tape is the method of etching a plurality of substrates that are transported horizontally by the transport means. Are connected to each other, and alkali development and etching are performed while each substrate in the connected state is conveyed by a conveying means, and then the substrate connecting tape is removed by removing the resist to separate each substrate. Uniform etching was achieved.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Hereinafter, a layer that dissolves in the resist removing solution and has etching resistance is abbreviated as “etching resistant layer”, and a layer that dissolves in the resist removing solution and has tackiness is abbreviated as “adhesive layer”.
[0013]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a substrate connecting tape 1 of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view of the state in which the substrate connecting tape 1 is attached to the edge of the substrate and the substrate 4 is connected. As shown in FIG. 1, the substrate connecting tape 1 is formed by laminating at least an etching resistant layer 2 and an adhesive layer 3. It is necessary to be able to connect the substrates and to have strength that can withstand tensile stresses during transportation. As shown in FIG. 2, the substrate connecting tape 1 is attached so that the adhesive layer 3 is in contact with the edge of the substrate, and the substrates 4 are connected to each other.
[0014]
The etching resistant layer 2 in the substrate connecting tape 1 of the present invention has a property that it does not dissolve or swell in an alkali developer and an etching solution, and has a strength that can withstand their spray pressure, and a resist removing solution. It has the property of dissolving or swelling. Examples thereof include a resist film obtained by curing a photosensitive layer from which a mylar film and a protective film of a resist film are peeled off by heat or ultraviolet irradiation, a film obtained by applying and drying a liquid photoresist, and then hardening by heat or ultraviolet irradiation. In addition, films and polyvinyls having a carboxylic acid group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonic acid group, a sulfonamide group, a sulfonimide group, and a phosphonic acid group, which are soluble in a strong alkali made of acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, etc. Alcohol etc. are mentioned. These serve to maintain the connected state even when the substrate 4 connected with the substrate connecting tape 1 is subjected to an alkali development or etching load, and the resist is removed when etching is no longer necessary. Therefore, it is dissolved or swollen in the resist removing solution, and is quickly removed from the substrate 4. Further, when there is a substrate connecting part in the process after etching after alkali development and before etching, the substrate connecting tape 1 itself is not subjected to alkali development treatment, and therefore does not have the property of not dissolving or swelling in the alkali developer. However, it is easy to design the etching resistant layer 2. If the thickness of the etching resistant layer 2 is too thin, the strength is inferior and if it is too thick, it becomes a weir for the flow of the etching solution. As described above, by using a cured resist film, it is preferable that the substrate connecting tape 1 can be easily produced.
[0015]
The adhesive layer 3 in the substrate connecting tape 1 of the present invention has an adhesive property that allows the etching resistant layer 2 and the substrate 4 to adhere to each other, and dissolves or swells in a resist removing solution. It suffices if it can be quickly removed from the substrate 4. If necessary, the adhesiveness may be increased by heating. In the alkali developing portion, since the etching resistant layer 2 is a resist for the developing solution, only a very small area from the edge portion is immersed in the alkaline developing solution, and it is not necessary to consider the solubility in the alkaline developing solution. For example, the adhesive resin which has an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, a phenol resin etc. as a main component is mentioned. These adhesive resins contain a monomer having a carboxylic acid group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonic acid group, a sulfonamide group, a sulfonimide group, or a phosphonic acid group because they need to be dissolved or swelled in the resist removing solution. Specific examples of the adhesive resin include styrene / maleic acid monoalkyl ester copolymer, methacrylic acid / methacrylic acid ester copolymer, styrene / methacrylic acid / methacrylic acid ester copolymer, acrylic acid / methacrylic acid ester copolymer. , Methacrylic acid / methacrylic acid ester / acrylic acid ester copolymer, styrene / methacrylic acid / acrylic acid ester copolymer, styrene / acrylic acid / methacrylic acid ester copolymer, vinyl acetate / crotonic acid copolymer, vinyl acetate Styrene, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, vinyl acetate, vinyl benzoate, etc., and carboxylic acid-containing monomers such as / crotonic acid / methacrylic acid ester copolymer, vinyl benzoate / acrylic acid / methacrylic acid ester copolymer And a copolymer thereof. Moreover, in order to improve adhesiveness, low molecular weight polyethylene glycol, polypropylene glycol, diethyl phthalate, o-toluenesulfonic acid amide, p-toluenesulfonic acid amide, tributyl citrate, triethyl citrate, triethyl acetylcitrate, etc. A plasticizer may be contained. Moreover, in order to improve visibility, you may contain dye and a pigment.
[0016]
Further, as the adhesive layer 3, an uncured resist film may be used. As a general resist film, for example, Liston manufactured by DuPont MRC Dry Film Co., Ltd., Potex manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., or the like can be used. In this case, the protective film is peeled off and attached to the etching resistant layer 2, and then the mylar film is peeled off to produce the substrate connecting tape 1.
[0017]
Next, the etching method of the present invention will be described in detail. 3 and 4 are process flow diagrams for carrying out the etching method of the present invention. In this example, a conductor pattern is formed on the front and back of a printed circuit board.
[0018]
In FIG. 3, 5 is a transport means for transporting the substrate 4 in the horizontal direction so as to perform a series of processes on the substrate 4, and 6 is a substrate connecting portion for connecting the transported substrates 4 to each other at their edges. After the exposure by the unit 7, the substrates 4 are connected to each other. After being connected by the substrate connecting portion 6, development processing is performed in the alkali developing portion 8, and after washing with water, etching processing is performed in the etching portion 9. After the washing with water, the resist is removed (peeled) by the resist removing portion 10. Is done.
[0019]
In FIG. 4, the substrates 4 are connected to each other after being exposed by the exposure unit 7 and developed by the alkali developing unit 8. After being connected by the substrate connecting part 6, an etching process is performed in the etching part 9, and after the water washing, the resist is removed (peeled) by the resist removing part 10.
[0020]
Conveying means 5 such as a roller conveyor configured endlessly conveys a plurality of substrates 4 continuously on the upper surface thereof in the direction of the arrows in FIGS. 3 and 4 at a constant speed. The substrate 4 is squeezed in order before or in the middle of the substrate coupling portion 6 covered with the casing, and is inserted into the substrate coupling portion 6 with the front and rear edges along the conveyance direction being in contact with each other. It has come to pass. And while passing the board | substrate connection part 6, in the conveyance direction of the board | substrate 4 which adjoins, it is mutually connected by the strip | belt-shaped board | substrate connecting tape 1 straddling between the front and back edge parts of the front-and-back edge parts which become abutting shape, An elongated continuous body as shown in Fig. 2 is formed. In other words, the pair of transfer rollers 11 arranged above and below are intermittently pressed against the boundary portion (between edges in the transport direction) of the adjacent substrates 4 before and after in the transport direction, thereby transferring the transfer rollers. 11 The substrate connection tape 1 mounted on the surface is transferred to the edge of the substrate 4 in the transport direction, so that the substrates 4 are connected to each other across the front and rear portions which are boundary portions.
[0021]
In addition, each board | substrate 4 before a connection is exposed by the exposure part 7, and is sprayed from the upper and lower sides with the weak alkali alkaline developing solution like 1-2 mass% sodium carbonate aqueous solution in the alkali image development part 8, for example, an unexposed part ( The resist in the uncured part) is removed, and a resist layer cured in a pattern is formed. The substrate connecting unit 6 is installed in either the pre-process or the post-process of the alkali developing unit 8 to connect the substrates. It is conveyed to the etching part 9 in the connected state, and the part where the resist layer does not exist is removed with an etching solution. The etching solution is sprayed on the front and back surfaces of the substrate 4 from the nozzles of the spray tube group 12 arranged two-dimensionally up and down, and the sprayed etching solution falls into the liquid reservoir, and the spray tube group is provided by a circulation pipe provided with a pump. 12 is circulated. It should be noted that the liquid reservoir is appropriately supplied with replenishing water from the replenishing water tank and etching liquid such as hydrochloric acid, ferric chloride, cupric chloride from the etching liquid tank, and drainage can be periodically extracted from the bottom. Yes. The temperature of the etching solution in the liquid reservoir is adjusted to a predetermined range by a heater and a cooling pipe.
[0022]
Each substrate 4 etched by the etching unit 9 is transported to the next resist removing unit 10 in a state where a continuous body is formed, and there is a strong alkali resist removing solution such as a 2 to 3 mass% sodium hydroxide aqueous solution. The resist layer in the form of a pattern sprayed from above and below with (cleaning liquid) is removed, and the substrate connecting tape 1 is removed. That is, the spray tube group 13 is two-dimensionally arranged above and below the resist removing unit 10, and the resist removing liquid is sprayed on the front and back surfaces of the substrate 4 from these nozzles. The sprayed resist removal liquid falls into a liquid reservoir provided below, and is circulated to the spray tube group 13 through a circulation pipe provided with a pump.
[0023]
Next, the board | substrate connection part 6 is demonstrated. First, the plurality of substrates 4 are horizontally transported by an acceleration driving roller (feed roller) (not shown) of the transport means 5 and supplied to the inside from the opening portion of the casing of the substrate connecting portion 6. Since the speed of the acceleration driving roller on the upstream side is higher than the speed of transport of the roller of the transport means 5 located after the board connecting portion 6, each board 4 is pushed by the subsequent board 4 and before and after them. The edges are transported in a butted state in contact with each other in the transport direction. The transfer roller 11 in the standby position with the substrate connecting tape 1 mounted on the outer peripheral surface is moved up and down and rotated by a drive unit that receives a control command from a control unit (not shown). That is, when the substrates 4 in contact with each other pass through the substrate connecting portion 6 at a constant speed by the transport means 5, the boundary portions of the substrates 4 (edge portions in the transport direction of the adjacent substrates 4) are boundary detectors such as optical sensors. In response to the detection signal (synchronization signal), the control unit outputs a control signal to the drive unit to control the transfer roller 11 to move up and down and rotate.
[0024]
For example, a heating unit such as a heater is disposed inside the transfer roller 11 so that the outer peripheral surface is controlled within a predetermined temperature range. Temperature control is performed by the control unit in response to a signal from a temperature sensor provided inside the transfer roller 11. In addition, the outer peripheral surface temperature of the transfer roller 11 can be heated to a range in which the adhesiveness of the adhesive layer 3 of the substrate connecting tape 1 is increased and can be adhered to the edge of the substrate 4 by the adhesiveness. It sets suitably by the softening temperature of the adhesive layer 3 to be used. If the adhesive layer 3 has sufficient adhesiveness to stick to the substrate even at room temperature, there is no need to arrange a heater or the like inside the transfer roller 11. When the outer peripheral surface of the transfer roller 11 is pressed against the boundary portion of the substrate 4, the substrate connecting tape 1 is transferred to the boundary portion of the substrate 4. They are cross-linked by the substrate connecting tape 1 and connected to each other. Further, after the substrate connecting tape 1 is affixed, the substrate may be securely connected by applying a treatment such as pressurization or heating with a rubber roller.
[0025]
When the transfer of the substrate connecting tape 1 is completed in this way, a control signal is output again from the control unit to the drive unit, and the transfer roller 11 moves away from the substrate 4 and returns to the standby position. Thereafter, the above operation is repeated each time a detection signal is output from the detector.
[0026]
On the other hand, the substrate connecting tape 1 is mounted on the transfer roller 11 within a short time when the transfer roller 11 is at the standby position. At this timing, the position detector detects that the transfer roller 11 has returned to the standby position, and the etching resistant layer 2 side of the substrate connecting tape 1 is mounted on the outer peripheral surface of the transfer roller. Therefore, it is desired that the etching resistant layer 2 of the substrate connecting tape 1 and the transfer roll 11 be bonded. Specifically, a cylindrical roller having a large number of fine through holes dispersed on the outer peripheral surface of the transfer roll 11 may be used, and the inside may be decompressed with a vacuum pump or the like. It can also be achieved by providing an adhesion layer on the surface of the etching resistant layer 2 or the transfer roll 11.
[0027]
The substrate 4 according to the present invention includes a printed circuit board or a lead frame substrate. If it is a printed circuit board, it will be classified into a flexible circuit board and a rigid circuit board. Polyester and polyimide are usually used as an insulating material for the flexible circuit board, and aramid and polyester-epoxy base are also used. The thickness of the insulating layer of the flexible substrate is about 13 μm to 125 μm, and copper foil of about 12 to 35 μm is provided on both sides or one side, and since it is very flexible, there is a lot of deflection during etching. The inventive etching method is preferably used. Also, if it is a rigid substrate, the necessary number of insulating substrates dipped in epoxy resin or phenolic resin on a paper base material or glass base material are stacked, and metal foil is placed on one or both sides, and heated and pressed to laminate The thing which was done is mentioned. In addition, a multilayer shield plate produced by laminating a prepreg, a metal foil, etc. after the inner layer wiring pattern is processed, and a multilayer plate having through holes and via holes are also included. The thickness is about 60 μm to 3.2 mm, and the material and thickness are selected according to the final use form as a printed circuit board. These printed circuit boards include, for example, “Printed Circuit Technology Handbook-Second Edition” (edited by the Printed Circuit Society of Japan, published by Nikkan Kogyo Shimbun) and “Multilayer Printed Circuit Handbook” (JA Scarlet, edited by Co., Ltd.). What is described in Modern Chemical Co., Ltd.) can be used.
[0028]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless the gist of the present invention is exceeded.
[0029]
Example 1
The protective film of the resist film which was cured by irradiating the entire surface with ultraviolet rays on the resist film (Asahi Kasei Sunfort, 25 μm thickness) was peeled off. On the other hand, the protective film of the uncured resist film that was not irradiated with ultraviolet rays or the like was peeled off. A cured resist film and an uncured resist film are pasted so that the surfaces from which the protective film is peeled off are in contact with each other, cut into 15 mm × 510 mm strips, and then the mylar films on both sides are peeled off to produce a tape for substrate connection did.
[0030]
Next, a resist film was laminated on 10 double-sided copper-clad laminates (area 340 mm × 510 mm, copper foil thickness 18 μm, substrate thickness 0.2 mm), and an image having a line and space of 75 μm was 3 × 4 12 Exposure was carried out using a mask film having an imposition structure. Next, after peeling off the mylar film, each substrate is adjacent so that the 510 mm side is adjacent, and the substrate connecting tape is attached to the edge so that the uncured resist film is in contact, and the edges are connected to each other. It was.
[0031]
Next, the resist pattern was formed by spraying a 1.0% by weight sodium carbonate aqueous solution (liquid temperature 30 ° C.) by spraying a 1.0% by weight sodium carbonate aqueous solution (liquid temperature 30 ° C.) with the 510 mm side facing the conveyance direction. Next, ferric chloride solution (40 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 The etching process was performed. Even after the etching process was completed, the substrate connecting tape was not cut and the substrate jammed. Next, resist removal (40 ° C., 3 mass% sodium hydroxide aqueous solution) was performed.
[0032]
The remaining substrate connection tape was not confirmed on each substrate after the resist removal was completed, and all the substrate connection tape was removed, and all the separated substrates reached the receiving part without jamming.
[0033]
As a result of measuring the line width of the image line corresponding to 75 μm on the mask at 12 locations on each surface of the substrate, the line width error (maximum line width−minimum line width) was measured. The maximum was 7.0 μm.
[0034]
Example 2
The protective film of the resist film which was cured by irradiating the entire surface with ultraviolet rays on the resist film (Asahi Kasei Sunfort, 25 μm thickness) was peeled off. On the other hand, 2-ethylhexyl acrylate / methacrylic acid copolymer (mass ratio: 8/2, propylene glycol monomethyl ether solvent, solid content 35% by mass) was applied on a PET film and dried to produce an adhesive layer. did. Paste the protective film of the cured resist film so that the peeled surface is in contact with the adhesive layer, cut it into a 15 mm x 510 mm strip, and then peel off the PET film and Mylar film on both sides to produce a tape for substrate connection did.
[0035]
Next, a resist film was laminated on 10 double-sided copper-clad laminates (area 340 mm × 510 mm, copper foil thickness 18 μm, substrate thickness 0.2 mm), and an image having a line and space of 75 μm was 3 × 4 12 Exposure was carried out using a mask film having an imposition structure. Next, after peeling off the mylar film, the substrates were adjacent so that the 510 mm sides were adjacent to each other, and the substrate connecting tape was attached to the edge so that the adhesive layer was in contact with each other, and the edges were connected to each other.
[0036]
Next, the resist pattern was formed by spraying a 1.0% by weight sodium carbonate aqueous solution (liquid temperature 30 ° C.) by spraying a 1.0% by weight sodium carbonate aqueous solution (liquid temperature 30 ° C.) with the 510 mm side facing the conveyance direction. Next, ferric chloride solution (40 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 The etching process was performed. Even after the etching process was completed, the substrate connecting tape was not cut and the substrate jammed. Next, resist removal (40 ° C., 3 mass% sodium hydroxide aqueous solution) was performed.
[0037]
The remaining substrate connection tape was not confirmed on each substrate after the resist removal was completed, and all the substrate connection tape was removed, and all the separated substrates reached the receiving part without jamming.
[0038]
As a result of measuring the line width of the image line corresponding to 75 μm on the mask at 12 locations on each surface of the substrate, the line width error (maximum line width−minimum line width) was measured. The maximum was 7.0 μm.
[0039]
Comparative Example 1
A dry film is laminated on 10 double-sided copper-clad laminates (area 340 mm × 510 mm, copper foil thickness 18 μm, substrate thickness 0.2 mm), and an image having a line and space of 75 μm is a 3 × 4 12-sided image. Exposure was carried out using the mask film having the structure. Next, after peeling off the mylar film, it was made to flow with the 510 mm side facing the conveyance direction and the image surface facing upward, and sprayed with a 1.0 wt% aqueous sodium carbonate solution (liquid temperature 30 ° C.) to perform alkali development processing. A resist pattern was formed. Next, ferric chloride solution (40 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 The etching process was performed. Next, resist removal (40 ° C., 3 mass% sodium hydroxide aqueous solution) was performed. In addition, the board connection tape was not used.
[0040]
As a result of measuring the line width of the image line corresponding to 75 μm on the mask at 12 locations on each surface of the substrate, the line width error (maximum line width−minimum line width) was measured. The maximum was 15.0 μm.
[0041]
Comparative Example 2
A resist film (Asahi Kasei Sunfort, 25 μm thick) was cut into a 15 mm × 510 mm strip, the protective film and the Mylar film were peeled off, and a connection film was prepared using only the uncured resist film.
[0042]
Next, a resist film was laminated on 10 double-sided copper-clad laminates (area 340 mm × 510 mm, copper foil thickness 18 μm, substrate thickness 0.2 mm), and an image having a line and space of 75 μm was 3 × 4 12 Exposure was carried out using a mask film having an imposition structure. Next, after peeling off the mylar film, it was made to flow with the 510 mm side facing the conveyance direction and the image surface facing upward, and sprayed with a 1.0 wt% aqueous sodium carbonate solution (liquid temperature 30 ° C.) to perform alkali development processing. A resist pattern was formed.
[0043]
After the resist pattern was formed, the substrate was sufficiently dried, and the substrates were adjacent so that the edges on the 510 mm side were adjacent to each other, and the connecting film was attached to the edges to connect the edges together. Next, ferric chloride solution (40 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 The etching process was performed. When the etching process was completed, the connection film was partially cut, the substrate was separated, and a substrate jam occurred. As a result, a good printed wiring board was not obtained.
[0044]
【The invention's effect】
As described above, when etching while connecting and transporting a plurality of printed circuit boards by the substrate connecting tape of the present invention and the etching method using the same, an alkali development process is possible, and the substrate can be separated in the etching process. We could provide highly accurate etching without happening.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a substrate connecting tape 1 of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which a substrate connecting tape is attached to a substrate edge portion and the substrates are connected.
FIG. 3 is a process flow diagram for carrying out the etching method of the present invention.
FIG. 4 is a process flow diagram for carrying out the etching method of the present invention.
[Explanation of symbols]
1 Board connection tape
2 Layer that dissolves in resist removal solution and has etching resistance (etching resistant layer)
3 Layer that is dissolved in the resist removal solution and has adhesiveness (adhesive layer)
4 Substrate
5 Transport means
6 Board connection part
7 Exposure section
8 Alkali development section
9 Etching part
10 resist removal section
11 Transfer roller
12, 13 Spray tube group

Claims (6)

少なくとも、レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有する層が積層されてなる基板接続用テープ。A tape for connecting a substrate, comprising at least a layer which is dissolved in a resist removing solution and has etching resistance and a layer which is dissolved in a resist removing solution and has adhesiveness. 上記レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層が、アルカリ現像液に溶解しないことを特徴とする請求項1記載の基板接続用テープ。2. The substrate connecting tape according to claim 1, wherein the layer that dissolves in the resist removing solution and has etching resistance does not dissolve in the alkali developer. 上記レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層が、硬化したレジストフィルムであることを特徴とする請求項1または2記載の基板接続用テープ。3. The substrate connecting tape according to claim 1, wherein the layer dissolved in the resist removing solution and having etching resistance is a cured resist film. 上記レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有する層が、未硬化のレジストフィルムであることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の基板接続用テープ。The tape for board | substrate connection in any one of Claims 1-3 whose layer which melt | dissolves in the said resist removal liquid and has adhesiveness is an uncured resist film. 上記レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有する層が、アクリル樹脂からなることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の基板接続用テープ。4. The substrate connecting tape according to claim 1, wherein the layer that is dissolved in the resist removing solution and has adhesiveness is made of an acrylic resin. 搬送手段で水平に搬送される複数の基板をエッチングする方法において、請求項1〜5の何れかに記載の基板接続用テープで隣り合う各基板の搬送方向の縁部同士を互いに連結し、その連結された状態の各基板を搬送手段により搬送しながらアルカリ現像およびエッチングを行い、次にレジスト除去を行うことで基板接続用テープを除去して各基板を分離することを特徴とするエッチング方法。In the method of etching a plurality of substrates that are transported horizontally by the transport means, the edges in the transport direction of the adjacent substrates are connected to each other with the substrate connecting tape according to claim 1, An etching method characterized by performing alkali development and etching while transporting each connected substrate by a transport means, and then removing the resist by removing the resist so as to separate the substrates.
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