JP4315127B2 - Solid-state imaging device, output circuit of solid-state imaging device, imaging device, and light-receiving device - Google Patents
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本発明は、固体撮像素子の撮像部と共に同一基板上に形成された固体撮像素子と、固体撮像素子の出力回路と、固体撮像素子が搭載された撮像装置並びに出力回路が組み込まれた受光装置に関する。 The present invention relates to a solid-state imaging device formed on the same substrate together with an imaging unit of a solid-state imaging device, an output circuit of the solid-state imaging device, an imaging device in which the solid-state imaging device is mounted, and a light receiving device in which the output circuit is incorporated. .
一般に、プレーナ技術によって例えばシリコン基板上に形成されたトランジスタ回路を有する電子回路においては、その電気的動作の過程において、一時的あるいは定期的に高インピーダンス状態となる部位が存在する場合がある。 In general, in an electronic circuit having a transistor circuit formed on a silicon substrate, for example, by planar technology, there may be a part that temporarily or periodically becomes a high impedance state in the process of electrical operation.
その例としては、例えば入力信号からそのピークのみを検出して保持する回路等において、ピーク以外のレベルが入力されている期間に、高インピーダンスとなる部位が発生することとなる。 For example, in a circuit that detects and holds only the peak from the input signal, for example, a portion having high impedance is generated during a period in which a level other than the peak is input.
具体的に、図17で示す出力回路を参照しながら上記高インピーダンス発生についてのメカニズムを説明する。まず、この出力回路は、例えばビデオカメラ等の撮像デバイスにおいて、該撮像デバイスのリニアセンサに蓄積された信号電荷を例えばフローティングディフュージョンにて電荷−電気信号変換して得られた電圧信号Vinを増幅して第1の出力端子φ1より撮像信号Vsとして出力する本線L1と、該本線L1から分岐され、かつ上記撮像信号Vsとして適正な信号出力レベルを得る、いわゆるオートゲインコントロールのような制御を可能にするためのピークホールド回路101が接続された支線L2とを有する。
Specifically, the mechanism for generating the high impedance will be described with reference to the output circuit shown in FIG. First, the output circuit amplifies a voltage signal Vin obtained by converting a signal charge accumulated in a linear sensor of the imaging device, for example, a charge-electric signal by a floating diffusion in an imaging device such as a video camera. The main line L1 that is output as the imaging signal Vs from the first output terminal φ1 and the control that is branched from the main line L1 and obtains an appropriate signal output level as the imaging signal Vs can be controlled like so-called auto gain control. And a branch line L2 to which a
ピークホールド回路101は、ある時点あるいは所定期間において読み出された撮像信号Vsのピーク値をホールドして出力するという信号処理動作を行ない、この回路でホールドされたピーク値は、外部に接続された電子アイリス制御回路に供給され、該電子アイリス制御回路よって、上記ピーク値に基づいて次の撮像時における電荷蓄積期間(露光期間)が制御されることで、適正な信号出力レベルを得ることができるものである。
The
そして、上記出力回路は、リニアセンサからの電圧信号Vinを所定のゲイン(≒1)で増幅する初段のソースフォロア回路102と、該第1のソースフォロア102から出力される信号Vaからその最小のピークレベルVmを検出して保持する上記ピークホールド回路101と、該ピークホールド回路101にて保持された最小のピークレベル信号Vmを所定のゲイン(≒1)で増幅するソースフォロア回路103とが接続されて構成されている。
The output circuit includes a first-stage
上記初段のソースフォロア回路102は、電源ラインLp(電源電圧Vdd)と接地間に、N−MOSトランジスタによる駆動トランジスタTr1と負荷トランジスタTr2とが直列に接続されて構成され、駆動トランジスタTr1のゲート電極にリニアセンサからの電圧信号Vinが供給されるように配線接続されている。このソースフォロア回路102の出力Vaは両トランジスタTr1及びTr2の共通接点aから取り出されるようになっている。
The first-stage
ピークホールド回路101は、初段のソースフォロア回路102における出力ラインに、信号の出力方向に対して逆方向接続されたP−MOSトランジスタによるダイオードDと、該ダイオードDのアノードと接地間に接続されたコンデンサCとで構成されている。
The
後段のソースフォロア回路103は、電源ラインLp(電源電圧Vdd)と接地間に、N−MOSトランジスタによる駆動トランジスタTr3と負荷トランジスタTr4とが直列に接続されて構成され、駆動トランジスタTr3のゲート電極に上記ダイオードDのアノード電位が供給されるように配線接続されている。このソースフォロア回路103の出力Voutは両トランジスタTr3及びTr4の共通接点bから取り出されるようになっている。
The
上記初段のソースフォロア回路102及び後段のソースフォロア回路103における各負荷トランジスタTr2及びTr4のゲート電極には、それぞれゲート電位Vggが供給されるように配線接続されている。
The gate electrodes of the load transistors Tr2 and Tr4 in the first-stage
ここで、上記ピークホールド回路101の信号処理動作を簡単に説明すると、初段のソースフォロア回路102の出力電位Va、即ちダイオードDのカソード電位Vaが該ダイオードDのアノード電位Vmよりも低い場合は、ダイオードDがオン動作し、その結果、コンデンサCには上記カソード電位Vaに応じた電荷が蓄積されることになる。
Here, the signal processing operation of the
一方、ダイオードDのカソード電位Vaが該ダイオードDのアノード電位Vmよりも高い場合は、ダイオードDがオフ状態となるため、コンデンサCには依然アノード電位Vmに応じた電荷が蓄積されたままである。即ち、以前蓄積された低レベルのカソード電位による電荷が蓄積されたままとなり、現段階まで入力された電圧信号の最小レベルが保持されるかたちとなる。 On the other hand, when the cathode potential Va of the diode D is higher than the anode potential Vm of the diode D, the diode D is turned off, so that the charge corresponding to the anode potential Vm is still accumulated in the capacitor C. That is, the charge accumulated by the low-level cathode potential that has been accumulated before remains accumulated, and the minimum level of the voltage signal input until the present stage is maintained.
上記一連の動作が一時的あるいは定期的に繰り返されることによって、コンデンサCの両端電圧の変化(コンデンサCにて保持されるピークレベルVmの変化)が後段のソースフォロア回路103にて増幅されて出力端子φoutより出力されることとなる。
By repeating the above series of operations temporarily or periodically, the change in the voltage across the capacitor C (change in the peak level Vm held in the capacitor C) is amplified and output by the
そして、ダイオードDのカソード電位Vaがアノード電位Vmよりも高い期間においては、上記ダイオードDのアノードの後段に高入力インピーダンス部であるMOSトランジスタのゲート電極が接続されていることもあって、コンデンサCに蓄積された電荷の流出(輸送)経路が実質的になくなり、出力ラインのコンデンサ接続点cが高インピーダンス部位として存在することとなる。 In the period in which the cathode potential Va of the diode D is higher than the anode potential Vm, the gate electrode of the MOS transistor which is a high input impedance portion is connected to the subsequent stage of the anode of the diode D, and the capacitor C Thus, the outflow (transport) path of the electric charge accumulated in the output line is substantially eliminated, and the capacitor connection point c of the output line exists as a high impedance part.
ところで、撮像デバイスにおいては、電荷蓄積期間や黒レベル検出期間などのように、撮像信号として長期間高レベルの信号が出力される期間が存在する。 By the way, in the imaging device, there is a period in which a high level signal is output for a long period of time as an imaging signal, such as a charge accumulation period and a black level detection period.
このように高レベルの信号が長期間出力される場合、上記出力回路における高インピーダンス発生部位(出力ラインのコンデンサ接続点c)での電位Vmが、リニアセンサの使用条件等によって高くなるという現象が生じる。 When such a high level signal is output for a long period of time, there is a phenomenon that the potential Vm at the high impedance generation site (capacitor connection point c of the output line) in the output circuit becomes higher depending on the use condition of the linear sensor. Arise.
即ち、高インピーダンス部分cにおけるトランジスタの拡散層での暗電流やリニアセンサの使用条件等によって上記高インピーダンス部分cに光が漏れ込むなどの影響により、図18に示すように、時間の経過と共に上記高インピーダンス部分cの電位が上昇することとなる。 That is, due to the influence of light leaking into the high impedance portion c due to the dark current in the diffusion layer of the transistor in the high impedance portion c, the use condition of the linear sensor, etc., as shown in FIG. The potential of the high impedance portion c will rise.
この高インピーダンス部分での電位上昇を長時間放置すると、上記出力回路の出力端子φoutに現れる電位Voutが、定格として設計した電位Vdd1以上又は、以下となって、回路動作上不都合が生じることとなり、信頼性確保の上で好ましくないというおそれがある。 If the potential rise in the high impedance portion is left for a long time, the potential Vout appearing at the output terminal φout of the output circuit becomes equal to or higher than the potential Vdd1 designed as a rating, resulting in inconvenience in circuit operation. There is a possibility that it is not preferable in terms of ensuring reliability.
また、この高インピーダンス部分cでの電位上昇を長時間放置した場合、該電位上昇はある電位で飽和することとなるが、この出力回路の出力端子φoutに現れる電位Voutを定格として設計した基準電位Vdd1以上に上げたくない場合は、不良品として処理されることとなり、撮像デバイスの歩留まり向上の点で不利になるおそれもある。 Further, when the potential rise at the high impedance portion c is left for a long time, the potential rise is saturated at a certain potential, but the reference potential designed with the potential Vout appearing at the output terminal φout of the output circuit as a rating. If it is not desired to increase the voltage to Vdd1 or more, it is processed as a defective product, which may be disadvantageous in terms of improving the yield of the imaging device.
上記例は、高インピーダンス部分cでの電位上昇を例にしたが、回路構成によっては、上記暗電流や光電変換等の影響によって高インピーダンス部分の電位が反対に降下し、低レベルに関する基準電位以下となって所望の回路動作が行なわれなくなる可能性が生じる。 In the above example, the potential increase at the high impedance portion c is taken as an example. However, depending on the circuit configuration, the potential at the high impedance portion drops due to the influence of the dark current, photoelectric conversion, etc. Thus, there is a possibility that a desired circuit operation is not performed.
上記例は、撮像デバイスの出力回路に組み込まれるピークホールド回路での例を示したが、その他、携帯電話や種々の電子機器に組み込まれる電子回路においても、その高インピーダンス発生部分の電位が、例えば温度変化等によって変化し、結果的に、出力端子より取り出される電位が定格外の電位となるおそれがある。 The above example shows an example of a peak hold circuit incorporated in an output circuit of an imaging device. In addition, in an electronic circuit incorporated in a mobile phone or various electronic devices, the potential of the high impedance generation portion is, for example, Changes due to temperature changes or the like, and as a result, the potential extracted from the output terminal may become an unrated potential.
本発明の目的は、同一基板上に形成された撮像信号の出力回路における高インピーダンス発生部位での電位変化のレベルを所定電位に抑制することができ、出力回路の出力レベルを定格内に規制することができる固体撮像素子を提供することにある。 An object of the present invention is to suppress the level of potential change at a high impedance generation site in an imaging signal output circuit formed on the same substrate to a predetermined potential, and regulate the output level of the output circuit within a rating. An object of the present invention is to provide a solid-state imaging device that can be used.
また、本発明の他の目的は、撮像部及び転送レジスタと共に同一基板上に形成された出力回路における高インピーダンス発生部位での電位変化のレベルを所定電位に抑制することができ、出力回路からの出力レベルを定格内に規制することができる固体撮像素子の出力回路を提供することにある。 Another object of the present invention is to suppress the level of potential change at a high impedance generation site in an output circuit formed on the same substrate together with an imaging unit and a transfer register to a predetermined potential. An object of the present invention is to provide an output circuit of a solid-state imaging device capable of regulating an output level within a rating.
また、本発明の他の目的は、固体撮像素子を搭載した撮像装置において、固体撮像素子における撮像部及び転送レジスタと共に同一基板上に形成された出力回路の高インピーダンス発生部位での電位変化のレベルを所定電位に抑制することができ、これによって固体撮像素子の出力回路からの出力レベルを定格内に規制することができ、撮像特性の向上を図ることができる撮像装置を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a level of potential change at a high impedance generation portion of an output circuit formed on the same substrate together with an image pickup unit and a transfer register in a solid-state image pickup device in an image pickup apparatus equipped with a solid-state image pickup device. Therefore, it is possible to control the output level from the output circuit of the solid-state imaging device within the rating, thereby providing an imaging apparatus capable of improving imaging characteristics.
また、本発明の他の目的は、光電変換部と共に同一基板上に形成された出力回路の高インピーダンス発生部位での電位変化のレベルを所定電位に抑制することができ、これによって上記出力回路からの出力レベルを定格内に規制することができ、受光特性の向上を図ることができる受光装置を提供することにある。 Another object of the present invention is to suppress the level of potential change at a high impedance generation portion of the output circuit formed on the same substrate together with the photoelectric conversion unit to a predetermined potential, thereby It is an object of the present invention to provide a light receiving device that can regulate the output level of the light within the rating and improve the light receiving characteristics.
本発明に係る固体撮像素子は、被写体からの入射光をその光量に応じた量の信号電荷に変換する光電変換部が多数配列された撮像部と、上記撮像部に蓄積された上記信号電荷を出力側に転送する転送レジスタと、上記転送レジスタを通じて転送された上記信号電荷をその電荷量に応じたレベルの電気信号に変換して撮像信号として出力する出力回路とが同一基板上に形成された固体撮像素子において、上記出力回路の高インピーダンス発生部分に、該部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を接続して構成する。 The solid-state imaging device according to the present invention includes an imaging unit in which a large number of photoelectric conversion units that convert incident light from a subject into signal charges corresponding to the amount of light are arranged, and the signal charges accumulated in the imaging unit. A transfer register for transferring to the output side and an output circuit for converting the signal charge transferred through the transfer register into an electric signal having a level corresponding to the amount of the charge and outputting it as an imaging signal are formed on the same substrate. In the solid-state imaging device, a potential limiting circuit that limits the potential at the high impedance generation portion of the output circuit to a predetermined potential is connected.
これにより、まず、被写体からの光が撮像部に入射されることにより、該撮像部に配列された各光電変換部にてその入射光量に応じた量の信号電荷に変換される。撮像部に蓄積された信号電荷は、転送レジスタによる転送動作によって出力回路側に順次転送される。出力回路は、転送レジスタを通じて転送された信号電荷をその電荷量に応じたレベルの電気信号に変換して出力する。 As a result, first, light from the subject is incident on the imaging unit, and is converted into an amount of signal charge corresponding to the amount of incident light by each photoelectric conversion unit arranged in the imaging unit. The signal charges accumulated in the imaging unit are sequentially transferred to the output circuit side by the transfer operation by the transfer register. The output circuit converts the signal charge transferred through the transfer register into an electric signal having a level corresponding to the charge amount and outputs the electric signal.
通常、固体撮像素子においては、垂直帰線期間や水平帰線期間、並びに黒レベル検出期間などのように、撮像信号として長期間高レベルの信号が出力される期間が存在する。 Usually, in a solid-state imaging device, there are periods in which a high-level signal is output for a long period of time as an imaging signal, such as a vertical blanking period, a horizontal blanking period, and a black level detection period.
出力回路の回路構成として例えば高レベルの信号が長期間出力される場合に、該出力回路に高インピーダンスが発生する場合、該高インピーダンス発生部分での電位が、固体撮像素子の使用条件等によって高くなるという現象が生じる。即ち、固体撮像素子の使用条件等によって上記高インピーダンス部分に光が漏れ込み、その結果、該高インピーダンス部分におけるトランジスタの拡散層での光電変換によって該高インピーダンス部分の電位が上昇あるいは下降することとなる。 As a circuit configuration of the output circuit, for example, when a high-level signal is output for a long period of time, if a high impedance is generated in the output circuit, the potential at the high-impedance generation portion is increased depending on the use conditions of the solid-state imaging device, etc. The phenomenon that becomes. That is, light leaks into the high impedance portion depending on the use conditions of the solid-state imaging device, and as a result, the potential of the high impedance portion increases or decreases due to photoelectric conversion in the diffusion layer of the transistor in the high impedance portion. Become.
この高インピーダンス部分での電位上昇あるいは電位下降を長時間放置すると、出力回路の出力レベルが、定格として設計した電位以上又は、以下となって、回路動作上不都合が生じることとなり、信頼性確保の上で好ましくないというおそれがある。 If the potential rise or fall in this high impedance part is left for a long time, the output level of the output circuit becomes higher or lower than the designed potential, causing inconvenience in circuit operation and ensuring reliability. There is a fear that it is not preferable.
しかし、本発明に係る固体撮像素子においては、その出力回路における高インピーダンス発生部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を設けるようにしているため、上記高インピーダンス発生部分において、光の漏れ込み等によって電位が上昇あるいは下降したとしても、そのレベル変化は電位制限回路によって所定電位に抑え込まれることとなり、上記出力回路の出力レベルを定格内に規制することが可能となる。 However, in the solid-state imaging device according to the present invention, since a potential limiting circuit that limits the potential at the high impedance generation portion in the output circuit to a predetermined potential is provided, light leakage occurs at the high impedance generation portion. Even if the potential rises or falls due to the insertion or the like, the level change is suppressed to a predetermined potential by the potential limiting circuit, and the output level of the output circuit can be regulated within the rating.
次に、本発明に係る固体撮像素子の出力回路は、被写体からの入射光をその光量に応じた量の信号電荷に変換する光電変換部が多数配列された撮像部と、上記撮像部に蓄積された上記信号電荷を出力側に転送する転送レジスタとを有する固体撮像素子と共に同一基板上に形成されるもので、上記転送レジスタを通じて転送された上記信号電荷をその電荷量に応じたレベルの電気信号に変換して撮像信号として出力する固体撮像素子の出力回路において、上記撮像信号の出力ラインである本線のほかに、撮像信号のピークレベルを検出する支線を有し、上記支線の高インピーダンス発生部分に、該部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を接続して構成する。 Next, the output circuit of the solid-state imaging device according to the present invention includes an imaging unit in which a large number of photoelectric conversion units that convert incident light from a subject into signal charges of an amount corresponding to the amount of light are arranged, and stored in the imaging unit. The signal charge transferred through the transfer register is formed on the same substrate together with a solid-state imaging device having a transfer register for transferring the signal charge to the output side. In the output circuit of the solid-state image sensor that converts the signal into a signal and outputs it as an imaging signal, in addition to the main line that is the output line of the imaging signal, it has a branch line that detects the peak level of the imaging signal and generates high impedance in the branch line A potential limiting circuit that limits the potential at the portion to a predetermined potential is connected to the portion.
この出力回路においては、上述したように、高インピーダンス発生部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を設けるようにしているため、上記高インピーダンス発生部分において、光の漏れ込み等によって電位が上昇あるいは下降したとしても、そのレベル変化は電位制限回路によって所定電位に抑え込まれることとなり、上記出力回路の出力レベルを定格内に規制することが可能となる。 In this output circuit, as described above, a potential limiting circuit for limiting the potential at the high impedance generation portion to a predetermined potential is provided. Therefore, in the high impedance generation portion, the potential is reduced due to light leakage or the like. Even if it rises or falls, the level change is suppressed to a predetermined potential by the potential limiting circuit, and the output level of the output circuit can be regulated within the rating.
次に、本発明に係る撮像装置においては、フォーカス制御用の固体撮像素子と該固体撮像素子からの出力に基づいて適正な信号出力レベルを得るための制御を行なうゲイン制御手段とを有する撮像装置において、上記フォーカス制御用の固体撮像素子の出力回路として、蓄積された信号電荷の電荷量に応じた信号成分を含む信号を出力する本線と、上記信号成分のピークレベルを検出する支線を設け、少なくとも上記支線の高インピーダンス発生部分に、該部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を接続して構成する。 Next, in the imaging apparatus according to the present invention, the imaging apparatus includes a solid-state imaging element for focus control and a gain control unit that performs control for obtaining an appropriate signal output level based on an output from the solid-state imaging element. In the solid-state imaging device for the focus control, a main line for outputting a signal including a signal component corresponding to the amount of accumulated signal charges and a branch line for detecting the peak level of the signal component are provided as an output circuit of the focus control solid-state imaging device. A potential limiting circuit for limiting the potential at the high impedance generation portion of the branch line to a predetermined potential is connected to at least the branch line.
これにより、上記フォーカス制御用の固体撮像素子において、被写体からの入射光の光量に応じた電荷量の信号電荷に変換され、その電荷量に応じたレベルの信号成分を有する出力信号が出力回路の本線を通じて出力され、また、支線を通じて上記信号成分のピークレベルが検出されて出力されることとなる。 As a result, in the solid-state imaging device for focus control, an output signal having a signal component having a level corresponding to the amount of charge is converted into a signal charge corresponding to the amount of incident light from the subject. The signal is output through the main line, and the peak level of the signal component is detected and output through the branch line.
これら信号成分とピークレベルはゲイン制御手段に供給され、適正な信号出力レベルを得るための制御が行なわれる。例えば、上記ピークレベルに応じて上記フォーカス制御用固体撮像素子での電荷蓄積期間(露光期間)の長さが調整され、上記信号成分のレベルに応じてフォーカス調整が行なわれる。 These signal components and peak level are supplied to the gain control means, and control for obtaining an appropriate signal output level is performed. For example, the length of the charge accumulation period (exposure period) in the focus control solid-state imaging device is adjusted according to the peak level, and focus adjustment is performed according to the level of the signal component.
この場合において、上記出力回路は、高インピーダンス発生部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を設けるようにしているため、上記高インピーダンス発生部分において、光の漏れ込み等によって電位が上昇あるいは下降したとしても、そのレベル変化は電位制限回路によって所定電位に抑え込まれることとなる。 In this case, since the output circuit is provided with a potential limiting circuit that limits the potential at the high impedance generation portion to a predetermined potential, the potential rises due to light leakage or the like at the high impedance generation portion. Even if it falls, the level change is suppressed to a predetermined potential by the potential limiting circuit.
即ち、上記フォーカス制御用固体撮像素子における出力回路の高インピーダンス発生部位での電位変化のレベルを所定電位に抑制することができ、これによってフォーカス制御用固体撮像素子の出力回路からの出力レベルを定格内に規制することができ、ゲイン制御手段での適正な信号出力レベルを得るための制御を良好に行なわせることができる。これは、撮像装置の撮像特性の向上につながる。 In other words, the level of potential change at the high impedance generation portion of the output circuit in the focus control solid-state image sensor can be suppressed to a predetermined potential, thereby rating the output level from the output circuit of the focus control solid-state image sensor. Therefore, the gain control means can achieve good control for obtaining an appropriate signal output level. This leads to an improvement in imaging characteristics of the imaging device.
次に、本発明に係る受光装置は、被写体からの入射光をその光量に応じた量の信号電荷に変換する光電変換部と、上記信号電荷をその電荷量に応じたレベルの電気信号に変換して受光信号として出力する出力回路とが同一基板上に形成された受光装置において、上記出力回路の高インピーダンス発生部分に、該部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を接続して構成する。 Next, a light receiving device according to the present invention converts a photoelectric conversion unit that converts incident light from a subject into an amount of signal charge according to the amount of light, and converts the signal charge into an electrical signal at a level according to the amount of charge. In the light receiving device in which the output circuit for outputting the light receiving signal is formed on the same substrate, a potential limiting circuit for limiting the potential at the portion to the predetermined potential is connected to the high impedance generating portion of the output circuit. Constitute.
これにより、まず、被写体からの光が光電変換部に入射されることにより、該光電変換部にてその入射光量に応じた量の信号電荷に変換される。光電変換部にて得られた信号電荷は、出力回路にてその電荷量に応じたレベルの電気信号に変換されて出力されることとなる。 As a result, first, light from the subject is incident on the photoelectric conversion unit, and the photoelectric conversion unit converts the light into an amount corresponding to the amount of incident light. The signal charge obtained by the photoelectric conversion unit is converted into an electric signal of a level corresponding to the amount of the charge by the output circuit and output.
この場合、出力回路の高インピーダンス発生部分での電位上昇あるいは電位下降を長時間放置すると、出力回路の出力レベルが、定格として設計した電位以上又は、以下となって、回路動作上不都合が生じることとなり、信頼性確保の上で好ましくないというおそれがある。 In this case, if the potential increase or decrease in the high impedance generation part of the output circuit is left unattended for a long time, the output level of the output circuit becomes higher or lower than the designed potential, resulting in inconvenience in circuit operation. Therefore, there is a possibility that it is not preferable in terms of ensuring reliability.
しかし、本発明に係る受光装置においては、その出力回路における高インピーダンス発生部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を設けるようにしているため、上記高インピーダンス発生部分において、光の漏れ込み等によって電位が上昇あるいは下降したとしても、そのレベル変化は電位制限回路によって所定電位に抑え込まれることとなり、上記出力回路の出力レベルを定格内に規制することが可能となる。 However, since the light receiving device according to the present invention is provided with a potential limiting circuit that limits the potential at the high impedance generation portion of the output circuit to a predetermined potential, light leakage occurs at the high impedance generation portion. Even if the potential rises or falls due to the above, the level change is suppressed to a predetermined potential by the potential limiting circuit, and the output level of the output circuit can be regulated within the rating.
本発明に係る固体撮像素子の出力回路によれば、転送レジスタを通じて転送された撮像部の信号電荷をその電荷量に応じたレベルの電気信号に変換して撮像信号として出力する固体撮像素子の出力回路において、上記撮像信号の出力ラインである本線のほかに、撮像信号のピークレベルを検出する支線を有し、上記支線の高インピーダンス発生部分に、該部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を接続するようにしたので、撮像部及び転送レジスタと共に同一基板上に形成された出力回路における高インピーダンス発生部位での電位変化のレベルを所定電位に抑制することができ、出力回路からの出力レベルを定格内に規制することができる。 According to the output circuit of the solid-state image pickup device according to the present invention, the output of the solid-state image pickup device that converts the signal charge of the image pickup unit transferred through the transfer register into an electric signal having a level corresponding to the charge amount and outputs the electric signal. In the circuit, in addition to the main line that is the output line of the imaging signal, the circuit has a branch line that detects the peak level of the imaging signal, and a potential that limits the potential at the high impedance generation portion of the branch line to a predetermined potential Since the limiting circuit is connected, the level of the potential change at the high impedance generation site in the output circuit formed on the same substrate together with the imaging unit and the transfer register can be suppressed to a predetermined potential. The output level can be regulated within the rating.
また、本発明に係る撮像装置によれば、フォーカス制御用の固体撮像素子と該固体撮像素子からの出力に基づいて適正な信号出力レベルを得るための制御を行なうゲイン制御手段とを有する撮像装置において、上記フォーカス制御用の固体撮像素子の出力回路として、蓄積された信号電荷の電荷量に応じた信号成分を含む信号を出力する本線と、上記信号成分のピークレベルを検出する支線を設け、少なくとも上記支線の高インピーダンス発生部分に、該部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を接続するようにしたので、フォーカス制御用の固体撮像素子を搭載した撮像装置において、固体撮像素子における撮像部及び転送レジスタと共に同一基板上に形成された出力回路の高インピーダンス発生部位での電位変化のレベルを所定電位に抑制することができ、これによって上記フォーカス制御用の固体撮像素子の出力回路からの出力レベルを定格内に規制することができ、撮像特性の向上を図ることができる。 In addition, according to the imaging apparatus of the present invention, the imaging apparatus having a solid-state imaging element for focus control and gain control means for performing control for obtaining an appropriate signal output level based on an output from the solid-state imaging element In the solid-state imaging device for the focus control, a main line for outputting a signal including a signal component corresponding to the amount of accumulated signal charges and a branch line for detecting the peak level of the signal component are provided as an output circuit of the focus control solid-state imaging device. Since the potential limiting circuit for limiting the potential at the high impedance generation portion of the branch line to a predetermined potential is connected to at least the branch line, in the imaging device equipped with the solid-state imaging device for focus control, Predetermine the level of potential change at the high impedance generation part of the output circuit formed on the same substrate together with the imaging unit and transfer register Can be suppressed to position, whereby the output level from the output circuit of the solid-state imaging device for the focusing control can be restricted within the rating, it is possible to improve the imaging characteristics.
また、本発明に係る受光装置によれば、被写体からの入射光をその光量に応じた量の信号電荷に変換する光電変換部と、上記信号電荷をその電荷量に応じたレベルの電気信号に変換して受光信号として出力する出力回路とが同一基板上に形成された受光装置において、上記出力回路の高インピーダンス発生部分に、該部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を接続するようにしたので、光電変換部と共に同一基板上に形成された出力回路の高インピーダンス発生部位での電位変化のレベルを所定電位に抑制することができ、これによって上記出力回路からの出力レベルを定格内に規制することができ、受光特性の向上を図ることができる。 In addition, according to the light receiving device of the present invention, the photoelectric conversion unit that converts the incident light from the subject into a signal charge corresponding to the amount of the light, and the signal charge converted into an electric signal having a level corresponding to the charge amount. In a light-receiving device in which an output circuit that converts and outputs a light-receiving signal is formed on the same substrate, a potential limiting circuit that limits the potential at that portion to a predetermined potential is connected to the high-impedance generating portion of the output circuit. As a result, the level of potential change at the high impedance generation site of the output circuit formed on the same substrate together with the photoelectric conversion unit can be suppressed to a predetermined potential, thereby rating the output level from the output circuit. The light receiving characteristics can be improved.
以下、本発明に係る電子回路、本発明に係る固体撮像素子(その出力回路)及び本発明に撮像装置並びに本発明に係る受光装置についての実施の形態例を図1〜図16を参照しながら順次説明する。 Embodiments of an electronic circuit according to the present invention, a solid-state imaging device (its output circuit) according to the present invention, an imaging device according to the present invention, and a light receiving device according to the present invention will be described below with reference to FIGS. A description will be made sequentially.
[電子回路]
まず、本発明に係る電子回路を増幅段を有する信号出力回路に適用したいくつかの実施の形態例を図1〜図7を参照しながら説明する。
[Electronic circuit]
First, some embodiments in which an electronic circuit according to the present invention is applied to a signal output circuit having an amplification stage will be described with reference to FIGS.
第1の実施の形態に係る信号出力回路の基本構成は、図1に示すように、入力端子φinに供給された入力信号Vinを所定のゲイン(≒1)で増幅する初段のソースフォロア回路1と、該初段のソースフォロア回路1から出力される信号Vaからその最小のピークレベルVmを検出して保持するピークホールド回路2と、該ピークホールド回路2にて保持された最小のピークレベル信号Vmを所定のゲイン(≒1)で増幅するソースフォロア回路3とが接続されて構成されている。
As shown in FIG. 1, the basic configuration of the signal output circuit according to the first embodiment is a first-stage
上記初段のソースフォロア回路1は、電源ラインLp(電源電圧Vdd)と接地間に、N−MOSトランジスタによる駆動トランジスタTr1と負荷トランジスタTr2とが直列に接続されて構成され、駆動トランジスタTr1のゲート電極に入力信号Vinが供給されるように配線接続されている。このソースフォロア回路1の出力Vaは両トランジスタTr1及びTr2の共通接点aから取り出されるようになっている。
The
ピークホールド回路2は、初段のソースフォロア回路1における出力ラインに逆方向接続されたエンハンスメント型のPチャネルMOSトランジスタ(以下、単にP−MOSトランジスタと記す)によるダイオードD1と、該ダイオードD1のアノードと接地間に接続されたコンデンサCaとで構成されている。
The
ソースフォロア回路3は、電源ラインLp(電源電圧Vdd)と接地間に、エンハンスメント型のNチャネルMOSトランジスタ(以下、単にN−MOSトランジスタと記す)による駆動トランジスタTr3と負荷トランジスタTr4とが直列に接続されて構成され、駆動トランジスタTr3のゲート電極に上記ダイオードD1のアノード電位が供給されるように配線接続されている。このソースフォロア回路3の出力Voutは両トランジスタTr3及びTr4の共通接点bを通じて出力端子φoutより取り出されるようになっている。
In the
上記初段のソースフォロア回路1及び後段のソースフォロア回路3における各負荷トランジスタTr2及びTr4のゲート電極には、それぞれゲート電位Vggが供給されるように配線接続されている。
The gate electrodes of the load transistors Tr2 and Tr4 in the first-stage
そして、本実施の形態に係る信号出力回路は、上記ピークホールド回路2と後段のソースフォロア回路3との間に、ピークホールド回路2の出力電位Vmを所定の電位Vdd1に制限する電位制限回路(リミッタ回路)4が接続されて構成されている。
The signal output circuit according to the present embodiment has a potential limiting circuit (between the
このリミッタ回路4は、上記所定の電位Vdd1の供給ラインとピークホールド回路4の出力ライン間に、上記所定の電位Vdd1の供給ラインに対して順方向接続されたP−MOSトランジスタによるダイオードD2が接続されて構成されている。上記所定の電位Vdd1は、設計時に定められるもので、高インピーダンス部分の電位をそれ以上に上げたくない電位を指す。従って、以後の説明では上記所定の電位Vdd1を基準電位Vdd1として記載する。
In the
ここで、上記実施の形態に係る信号出力回路の信号処理動作を図2の信号波形図も参照しながら説明する。 Here, the signal processing operation of the signal output circuit according to the above embodiment will be described with reference to the signal waveform diagram of FIG.
まず、入力端子φinに入力される信号Vinの電圧レベルが低くなって、初段のソースフォロア回路1の出力電位Va、即ちダイオードD1のカソード電位Vaが、ダイオードD1のアノード電位Vmより低くなった場合、より正確にはアノード電位Vm−pチャネル形MOSトランジスタのしきい値(Vm−Vth)よりも低くなった場合は、ダイオードD1がオン動作し、その結果、コンデンサCaには上記カソード電位Vaに応じた電荷が蓄積されることになる。この場合、ダイオードD1のアノード電位Vmは、ダイオードD1のカソード電位Vaよりも上記しきい値Vth分高い電位となる。
First, when the voltage level of the signal Vin input to the input terminal φin is lowered and the output potential Va of the first
一方、入力端子φinに入力される信号Vinのレベルが高くなって、ダイオードD1のカソード電位Vaが該ダイオードD1のアノード電位Vmよりも高くなった場合は、ダイオードD1がオフ状態となるため、コンデンサCaには依然アノード電位Vmに応じた電荷が蓄積されたままである。即ち、以前蓄積された低レベルのカソード電位Vmによる電荷が蓄積されたままとなり、現段階まで入力された電圧信号の最小レベルが保持されるかたちとなる。 On the other hand, when the level of the signal Vin input to the input terminal φin becomes high and the cathode potential Va of the diode D1 becomes higher than the anode potential Vm of the diode D1, the diode D1 is turned off. The charge corresponding to the anode potential Vm is still accumulated in Ca. That is, the charges accumulated by the low-level cathode potential Vm accumulated before remain accumulated, and the minimum level of the voltage signal input until the present stage is maintained.
上記一連の動作が一時的あるいは定期的に繰り返されることによって、コンデンサCaの両端電圧の変化(コンデンサCaにて保持されるピークレベルVmの変化)が後段のソースフォロア回路3にて電流増幅されて出力端子φoutより出力されることとなる。
By repeating the above series of operations temporarily or periodically, the change in the voltage across the capacitor Ca (change in the peak level Vm held in the capacitor Ca) is amplified by the
そして、ダイオードD1のカソード電位Vaがアノード電位よりも高い期間においては、上記ダイオードD1のアノードの後段に高入力インピーダンス部であるMOSトランジスタのゲート電極が接続されていることもあって、コンデンサCaに蓄積された電荷の流出(輸送)経路が実質的になくなり、出力ラインのコンデンサ接続点cが高インピーダンス部位として存在することとなる。 During the period when the cathode potential Va of the diode D1 is higher than the anode potential, the gate electrode of the MOS transistor, which is a high input impedance portion, is connected to the subsequent stage of the anode of the diode D1, and the capacitor Ca is connected to the capacitor Ca. The outflow (transport) path of the accumulated charge is substantially eliminated, and the capacitor connection point c of the output line exists as a high impedance part.
上記コンデンサ接続点cでの高インピーダンス状態が長期間放置されると、通常は、温度変化や高インピーダンス発生部分におけるトランジスタの拡散層での暗電流等によって、図2に示すように、時間の経過と共に上記高インピーダンス発生部分cの電位が上昇し、最終的にはある電位で飽和することとなる(図2の破線参照)。 When the high impedance state at the capacitor connection point c is left for a long period of time, usually, the time elapses as shown in FIG. 2 due to a change in temperature or dark current in the diffusion layer of the transistor in the high impedance generation portion. At the same time, the potential of the high impedance generation portion c rises and eventually becomes saturated at a certain potential (see the broken line in FIG. 2).
しかし、本実施の形態においては、ピークホールド回路2と後段のソースフォロア回路3の間に上記構成のリミッタ回路4を接続するようにしているため、上記高インピーダンス部分cの電位が、基準電位Vdd1より少し高い電位(Vdd1+Vth)となったとき、リミッタ回路4を構成するP−MOSトランジスタによるダイオードD2がオン動作し、これによって、上記高インピーダンス部分cの電位上昇は、上記基準電位Vdd1よりも少し高い電位にて制限されることとなる。上記電位VthはP−MOSトランジスタのしきい値を示す。
However, in the present embodiment, since the
ピークホールド回路4の出力ラインはその後段にN−MOSトランジスタによるソースフォロア回路3が接続されているため、上記高インピーダンス部分cの電位が基準電位Vdd1+しきい値Vthとなったとしても、該ソースフォロア回路3の出力端子φoutからは、高インピーダンス部分cの電位よりもN−MOSトランジスタのしきい値分低下した電位が現れることとなる。つまり、後段のソースフォロア回路3は、リミッタ回路4を構成するダイオードD2のしきい値Vth分の電位上昇を抑制する補正回路として機能することとなる。
Since the output line of the
従って、リミッタ回路4を構成するP−MOSトランジスタとソースフォロア回路3を構成するN−MOSトランジスタの各拡散濃度やそれぞれのチャネル幅/チャネル長等のパラメータを調整して両トランジスタのしきい値をほぼ同じにすることにより、上記リミッタ回路4によって高インピーダンス部分cの電位を基準電位Vdd1+しきい値Vthにしか制限できなかったとしても、後段のソースフォロア回路3の出力端子φoutから現れる電位は定格で設計した基準電位Vdd1以下となるため、回路動作上不都合が生じることもなく、信頼性の向上を図ることができる。
Therefore, the threshold values of the two transistors are adjusted by adjusting parameters such as the diffusion concentration and the channel width / channel length of the P-MOS transistor constituting the
次に、第2の実施の形態に係る信号出力回路について図3〜図5を参照しながら説明する。なお、図1と対応するものについては同符号を記し、その重複説明を省略する。 Next, a signal output circuit according to a second embodiment will be described with reference to FIGS. In addition, the same code | symbol is described about the thing corresponding to FIG. 1, and the duplication description is abbreviate | omitted.
この第2の実施の形態に係る信号出力回路は、図3に示すように、ピークホールド回路3の出力ラインの後段にボルテージフォロア回路11を接続した例を示すものである。通常、ボルテージフォロア回路は、図5Aのブロック図に示すように、例えばカレントミラー回路を用いた差動増幅回路12と、該差動増幅回路12の出力Vcを所定のゲインで増幅して出力端子φoutより出力するバッファ回路13により構成され、フィードバック系14を有し、入力と出力のDCレベルがほぼ同じで利得もほぼ1の回路である。図5Bに上記ボルテージフォロア回路をMOSトランジスタにて構成した一般的な回路例を示す。
The signal output circuit according to the second embodiment shows an example in which a
そして、この第2の実施の形態に係る信号出力回路においては、ボルテージフォロア回路11のフィードバック系にP−MOSトランジスタによるソースフォロア回路14を挿入接続することにより、フィードバックの電位をリミッタ回路4を構成するダイオードD2のしきい値Vth分上げるようにする。
In the signal output circuit according to the second embodiment, the
具体的に説明すると、この第2の実施の形態に係る信号出力回路のボルテージフォロア回路11は、カレントミラー回路15を用いた差動増幅回路12と、該差動増幅回路12の出力Vcを所定のゲイン(≒1)で増幅して出力端子φoutより出力する第1のソースフォロア回路13と、該第1のソースフォロア回路13の出力Voutを所定のゲイン(≒1)で増幅して電圧信号Vdとして上記差動増幅回路12に帰還させる第2のソースフォロア回路14とが接続されて構成されている。
More specifically, the
上記ボルテージフォロア回路11における差動増幅回路12は、電源ラインLpに2つのP−MOSトランジスタTr11及びTr12の各ドレインが共通に接続されて構成されたカレントミラー回路15と、該カレントミラー回路15の一方のP−MOSトランジスタTr11のソースに直列に接続され、かつゲート電極に上記ピークホールド回路2の出力Vmが供給される入力側のN−MOSトランジスタTr13と、カレントミラー回路15の他方のP−MOSトランジスタTr12のソースに直列に接続され、かつゲート電極に第2のソースフォロア回路14の出力Vdが供給される出力側のNMOSトランジスタTr14と、これらNMOSトランジスタTr13及びTr14における各エミッタの共通接点dと接地間にN−MOSトランジスタTr15による定電流源16とを有して構成されている。この差動増幅回路12の出力Vcは、カレントミラー回路15の他方のP−MOSトランジスタTr12と出力側のN−MOSトランジスタTr14との接続点eより取り出されるようになっている。
The
第1のソースフォロア回路13は、電源ラインLpと接地間にN−MOSトランジスタによる駆動トランジスタTr21と負荷トランジスタTr22とが直列に接続されて構成され、駆動トランジスタTr21のゲート電極に上記差動増幅回路12の出力Vcが供給されるように配線接続されている。この第1のソースフォロア回路13の出力は両トランジスタTr21及びTr22の共通接点fから出力端子φoutを通じて取り出されるようになっている。
The first
第2のソースフォロア回路14は、接地と電源ラインLp間にP−MOSトランジスタによる駆動トランジスタTr31と負荷トランジスタTr32とが直列に接続されて構成され、駆動トランジスタTr31のゲート電極に上記第1のソースフォロア回路13の出力Voutが供給されるように配線接続されている。この第2のソースフォロア回路14の出力Vdは両トランジスタTr31及びTr32の共通接点gから取り出されて上記差動増幅回路12における出力側のN−MOSトランジスタTr14のゲート電極に供給されるように配線接続されている。
The second
なお、差動増幅回路12の定電流源16を構成するN−MOSトランジスタTr15及び第1のソースフォロア回路13における負荷トランジスタTr22の各ゲート電極には、初段のソースフォロア回路1における負荷トランジスタTr2に印加されるゲート電位と同じゲート電位(第1のゲート電位)Vgg1が供給され、第2のソースフォロア回路14における負荷トランジスタTr32のゲート電極には、第2のゲート電位Vgg2が供給されるように配線接続されている。
Note that the N-MOS transistor Tr15 constituting the constant
ここで、上記第2の実施の形態に係る信号出力回路、特にボルテージフォロア回路11の信号処理動作を説明すると、コンデンサ接続点cでの高インピーダンス状態が長時間放置されて、該高インピーダンス部分cの電位Vmがランプ信号状に上昇した場合、まず、リミッタ回路4によって上記高インピーダンス部分cの電位上昇が基準電位Vdd1+しきい値Vthに制限される。このとき、第2のソースフォロア回路14がP−MOSトランジスタにて構成されていることから、第1のソースフォロア13から出力されるフィードバック電位Voutは、上記第2のソースフォロア回路14によって、P−MOSトランジスタのしきい値分高くなる。
Here, the signal processing operation of the signal output circuit according to the second embodiment, particularly the
この場合、リミッタ回路4を構成するP−MOSトランジスタと第2のソースフォロア回路14を構成するP−MOSトランジスタの各拡散濃度やそれぞれのチャネル幅/チャネル長等のパラメータを調整して両トランジスタのしきい値をほぼ同じにすれば、差動増幅回路12の両入力側に供給される信号Vm及びVdの各しきい値分の電位が打ち消されることとなり、出力端子φoutに現れる電位を基準電位Vdd1まで下げることができる。
In this case, the parameters such as the diffusion concentration and the channel width / channel length of the P-MOS transistor constituting the
つまり、この実施の形態に係るボルテージフォロア回路11を接続することにより、図4に示すように、出力端子φoutに現れる電位Voutを定格で設計した基準電位Vdd1以下に制限することができ、回路動作上不都合が生じることもなく、信頼性の向上を図ることができる。
That is, by connecting the
次に、第3の実施の形態に係る信号出力回路について図6を参照しながら説明する。なお、図1と対応するものについては同符号を記し、その重複説明を省略する。 Next, a signal output circuit according to a third embodiment will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is described about the thing corresponding to FIG. 1, and the duplication description is abbreviate | omitted.
この第3の実施の形態に係る信号出力回路は、図6に示すように、上記第1の実施の形態に係る信号出力回路において、ピークホールド回路2の代わりにクランプ回路5を接続した構成を有する。
As shown in FIG. 6, the signal output circuit according to the third embodiment has a configuration in which a
具体的には、上記クランプ回路5は、初段のソースフォロア回路1の出力ラインに接続された結合コンデンサCbと、該結合コンデンサCbから導出される出力ラインと基準電位Vdd1の供給ライン間に接続されたスイッチング回路SWとから構成されている。スイッチング回路SWは、例えばN−MOSトランジスタにて構成することができ、この場合、ドレインに基準電位Vdd1の供給ラインが接続され、ソースに結合コンデンサCbから導出される出力ラインが接続され、ゲート電極にスイッチング制御信号Scが供給されるように配線接続される。
Specifically, the
この信号出力回路の信号処理動作を説明すると、初段のソースフォロア回路1から出力される信号VaのDC成分がクランプ回路5の結合コンデンサCbによって除去され、0レベルを中心として正・負に振れる信号Vbとして取り出されることとなる。そして、この信号Vbのある基準となる期間において、スイッチング制御信号Scが例えば高レベルとなってスイッチング回路SWがオン動作することにより、その基準となる期間の出力レベルが基準電位Vdd1となる。従って、このクランプ回路5からは、基準電位Vdd1を中心として正側・負側に振れる信号Vcが取り出されることとなる。
The signal processing operation of this signal output circuit will be described. The signal component DC of the signal Va output from the first-stage
そして、スイッチング回路SWがオフ状態のとき、スイッチング回路SWの出力ラインとの接続点hが高インピーダンス状態となり、この状態を長期間放置すると、第1の実施の形態の場合と同様に、上記高インピーダンス部分hの電位Vcが上昇することとなる。 When the switching circuit SW is in an off state, the connection point h with the output line of the switching circuit SW is in a high impedance state. If this state is left for a long period of time, as in the case of the first embodiment, The potential Vc of the impedance portion h will increase.
しかし、この第3の実施の形態においては、クランプ回路5の後段にリミッタ回路4が接続されているため、上記高インピーダンス部分hでの電位上昇は基準電位Vdd1+しきい値Vthに制限され、後段のソースフォロア回路3の出力端子φoutから現れる電位Voutは定格で設計した基準電位Vdd1以下となる。
However, in the third embodiment, since the
上記第3の実施の形態に係る信号出力回路においては、リミッタ回路4の後段にN−MOSトランジスタによるソースフォロア回路3を接続した例を示したが、該ソースフォロア回路3の代わりに図3で示す第2の実施の形態に係るボルテージフォロア回路11を接続するようにしてもよい。この場合も、第1のソースフォロア回路13の出力端子φoutから現れる電位Voutは定格で設計した基準電位Vdd1以下となる。
In the signal output circuit according to the third embodiment, an example in which the
次に、第4の実施の形態に係る信号出力回路について図7を参照しながら説明する。なお、図6と対応するものについては同符号を記し、その重複説明を省略する。 Next, a signal output circuit according to a fourth embodiment will be described with reference to FIG. Note that components corresponding to those in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted.
この第4の実施の形態に係る信号出力回路は、図7に示すように、上記図6で示す第3の実施の形態に係る信号出力回路とほぼ同じ構成を有するが、クランプ回路5とリミッタ回路4の間に高インピーダンス部分hの電位Vcを基準電位Vdd1以下に抑える補正回路6を挿入接続した点で異なる。
As shown in FIG. 7, the signal output circuit according to the fourth embodiment has substantially the same configuration as the signal output circuit according to the third embodiment shown in FIG. 6, but includes a
この補正回路6は、接地と電源ライン(電源電圧Vdd)間に、P−MOSトランジスタによる駆動トランジスタTr5と負荷トランジスタTr6とが直列に接続されて構成され、駆動トランジスタTr5のゲート電極に結合コンデンサCbから導出された出力ラインが接続されている。この補正回路6の出力Vdは両トランジスタTr5及びTr6の共通接点iから取り出されるようになっている。この場合、上記補正回路6を構成するP−MOSトランジスタは、そのしきい値がリミッタ回路4を構成するP−MOSトランジスタのしきい値Vthとほぼ同じになるように調整される。なお、上記補正回路6における負荷トランジスタTr6のゲート電極には、第2のゲート電位Vgg2が供給されるように配線接続されている。
The
上記補正回路6の信号処理動作を説明すると、補正回路6がP−MOSトランジスタによるソースフォロア回路にて構成されていることから、その出力電位Vdは入力電位Vbよりもそのしきい値Vth分高くなる。従って、高インピーダンス部分hの電位が上昇して基準電位Vdd1となったとき、補正回路6の出力電位Vdは基準電位Vdd1+しきい値Vthとなるため、これにより、後段のリミッタ回路4がオン動作し、補正回路6の出力電位Vdの上昇はそれ以上行なわれないこととなる。つまり、高インピーダンス部分hの電位上昇は基準電位Vdd1にて制限されることとなる。
The signal processing operation of the
このように、上記第4の実施の形態に係る信号出力回路においては、高インピーダンス部分hの電位上昇及び出力端子φoutに現れる電位の上昇を共に基準電位Vdd1に制限することができる。 As described above, in the signal output circuit according to the fourth embodiment, both the potential increase of the high impedance portion h and the potential increase appearing at the output terminal φout can be limited to the reference potential Vdd1.
図7の例では、リミッタ回路4の後段にN−MOSトランジスタによるソースフォロア回路3を接続した例を示したが、該ソースフォロア回路3の代わりに図3で示す第2の実施の形態に係るボルテージフォロア回路11を接続するようにしてもよい。
In the example of FIG. 7, an example in which the
[固体撮像素子]
次に、本発明に係る固体撮像素子をCCD構造の転送段を有するリニアセンサに適用した実施の形態例(以下、単に実施の形態に係るリニアセンサと記す)を図8〜図13を参照しながら説明する。
[Solid-state imaging device]
Next, an embodiment in which the solid-state imaging device according to the present invention is applied to a linear sensor having a CCD structure transfer stage (hereinafter simply referred to as a linear sensor according to the embodiment) will be described with reference to FIGS. While explaining.
この実施の形態に係るリニアセンサは、図8R>8に示すように、被写体からの入射光をその光量に応じた電荷量の信号電荷に変換して蓄積する受光部21が一列に多数(例えば2000画素分)配列されてなるセンサ列22と、このセンサ列22の各受光部21から読出しゲート23を介して読み出された信号電荷を一方向に転送するCCD構造の転送レジスタ24とを有して構成されている。
As shown in FIG. 8R> 8, the linear sensor according to this embodiment includes a large number of light receiving
読出しゲート23による信号電荷の読み出しは、ゲートパルスφROGが印加されることによって行なわれる。また、転送レジスタ24上に形成された例えば2層の多結晶シリコン層による転送電極への互いに位相の異なる2相の転送パルスφH1及びφH2の印加によって、転送レジスタ24上の信号電荷が一方向に転送されることとなる。
Reading of signal charges by the read
転送レジスタ24の最終段には出力部25が接続されている。この出力部15は、転送レジスタ24の最終段から転送されてきた信号電荷を電気信号(例えば電圧信号Vi)に変換する例えばフローティング・ディフュージョンあるいはフローティング・ゲート等で構成される電荷−電気信号変換部26と、この電荷−電気信号変換部26にて電圧信号Viへの変換が行われた後の信号電荷を、リセットパルスφRGの入力に従ってドレイン領域Dに掃き捨てるリセットゲートRGとを有して構成されている。上記ドレイン領域Dには電源ラインLpを通じて電源電圧Vddが印加されている。
An
また、上記電荷−電気信号変換部26の後段には、該電荷−電気信号変換部26からの電圧信号Viを電流増幅する例えばソースフォロア回路からなるバッファ回路27が形成されている。
Further, a
そして、本実施の形態に係るリニアセンサは、上記バッファ回路27の後段に信号出力回路28が接続されて構成される。この信号出力回路28は、センサ列22、読出しゲート23、転送レジスタ24及び出力部25と共に同一基板上に形成(オンチップ形成)されるものである。
The linear sensor according to the present embodiment is configured by connecting a
ここで、上記リニアセンサの処理動作を簡単に説明すると、まず、電荷蓄積期間において、被写体からの入射光に応じた信号電荷がセンサ列22の各受光部21に蓄積される。その後の電荷読出し時において、読出しゲート23にゲートパルスφROGが印加されることにより、上記センサ列22に蓄積されていた信号電荷が転送レジスタ24に読み出される。そして、次の走査期間において、転送レジスタ24への2相の転送パルスφH1及びφH2の供給によって、転送レジスタ24における各転送電極下のポテンシャル分布が順次変化し、これによって、信号電荷が転送レジスタ24に沿って順次出力部25の電荷−電気信号変換部26に転送され、この電荷−電気信号変換部26において電圧信号Viに変換されて、後段のバッファ回路27を介して信号出力回路28に供給されることになる。
Here, the processing operation of the linear sensor will be briefly described. First, in the charge accumulation period, signal charges corresponding to incident light from the subject are accumulated in each light receiving
ここで、信号出力回路28についてのいくつかの構成例を説明すると、まず、第1の構成例に係る信号出力回路は、図9に示すように、上記図1に示す第1の実施の形態に係る信号出力回路とほぼ同じ構成を有するが、初段のソースフォロア回路1の出力ラインが2本に分岐されている点で異なる。従って、図1と対応するものについては同符号を記してその重複説明を省略する。
Here, several configuration examples of the
上記初段のソースフォロア回路1から導出される2本の出力ラインL1及びL2のうち、一方の出力ライン(本線)L1には外部に導出された第1の出力端子φ1が接続されて、入力端子φinに入力される電圧信号Viが第1の出力端子φ1を通じて撮像信号Vsとして取り出されるようになっており、他方の出力ライン(支線)L2には、第1の実施の形態と同様に、上記電圧信号Viの最小ピークレベルVmを検出して保持するピークホールド回路2が接続され、その後段にN−MOSトランジスタによるソースフォロア回路3が接続されている。このソースフォロア回路3の出力ラインは、外部に導出された第2の出力端子φ2が接続されている。
Of the two output lines L1 and L2 derived from the
従って、第1の出力端子φ1からは、リニアセンサからの電圧信号Viを所定のゲインにて増幅してなる撮像信号Vsが出力され、第2の出力端子φ2からは、リニアセンサからの電圧信号Viの最小ピークレベルを示す信号(以下、ピーク検出信号Vpと記す)が出力されることとなる。 Therefore, the imaging signal Vs obtained by amplifying the voltage signal Vi from the linear sensor with a predetermined gain is output from the first output terminal φ1, and the voltage signal from the linear sensor is output from the second output terminal φ2. A signal indicating the minimum peak level of Vi (hereinafter referred to as a peak detection signal Vp) is output.
通常、リニアセンサにおいては、動作待機中や電荷蓄積期間並びに黒レベル検出期間などのように、電圧信号Viとして長期間高レベルの信号が出力される期間が存在する。この場合、支線L2に接続されたピークホールド回路2のコンデンサ接続点cが高インピーダンス状態となり、該高インピーダンス部分cの電位Vmが、リニアセンサの使用条件等によって高くなるという現象が生じる。即ち、リニアセンサの使用条件等によって上記高インピーダンス部分cに光が漏れ込み、その結果、該高インピーダンス部分cにおけるトランジスタの拡散層での光電変換によって該高インピーダンス部分cの電位が上昇することとなる。
Usually, in the linear sensor, there is a period during which a high level signal is output as the voltage signal Vi for a long period of time, such as during standby for operation, a charge accumulation period, and a black level detection period. In this case, a phenomenon occurs in which the capacitor connection point c of the
この高インピーダンス部分cでの電位上昇を長時間放置すると、第2の出力端子φ2から出力されるピーク検出信号Vpの出力レベルが、定格として設計した基準電位Vdd1以上となって、回路動作上不都合が生じることとなり、信頼性確保の上で好ましくないというおそれがある。 If the potential rise at the high impedance portion c is left for a long time, the output level of the peak detection signal Vp output from the second output terminal φ2 becomes equal to or higher than the reference potential Vdd1 designed as a rating, which is inconvenient in circuit operation. May occur, which is not preferable in terms of ensuring reliability.
しかし、本実施の形態に係るリニアセンサにおける信号出力回路28の第1の構成例においては、上記ピークホールド回路2の後段に高インピーダンス部分cでの電位Vmをほぼ基準電位Vdd1に制限するリミッタ回路4を接続するようにしているため、上記高インピーダンス部分cにおいて、光の漏れ込み等によって電位が上昇したとしても、その電位上昇は上記リミッタ回路4によって基準電位Vdd1+しきい値Vthに制限されることとなり、しかも、リミッタ回路4の後段にN−MOSトランジスタによるソースフォロア回路3を接続するようにしているため、第2の出力端子φ2に現れる電位Vpを基準電位Vdd1以下に抑制することができ、リニアセンサの回路動作の信頼性及びリニアセンサの歩留まり向上を有効に図ることができる。
However, in the first configuration example of the
次に、上記信号出力回路28の第2の構成例について図10を参照しながら説明すると、この第2の構成例に係る信号出力回路28は、上記図3に示す第2の実施の形態に係る信号出力回路とほぼ同じ構成を有するが、上記第1の構成例と同様に、初段のソースフォロア回路1の出力ラインが2本(本線L1と支線L2)に分岐されている点で異なる。
Next, a second configuration example of the
具体的には、上記初段のソースフォロア回路1から導出される2本の出力ラインL1及びL2のうち、一方の出力ライン(本線)L1に外部に導出された第1の出力端子φ1が接続されて、入力端子φinに入力される電圧信号Viが第1の出力端子φ1を通じて撮像信号Vsとして取り出されるようになっており、他方の出力ライン(支線)L2に、第1の実施の形態と同様に、上記電圧信号Viの最小ピークレベルを検出して保持するピークホールド回路2が接続され、その後段に上記第2の実施の形態に係るボルテージフォロア回路11が接続されている。このボルテージフォロア回路11における第1のソースフォロア回路13の出力ラインは、外部に導出された第2の出力端子φ2が接続されている。
Specifically, of the two output lines L1 and L2 derived from the first-stage
この第2の構成例においても、上記第1の構成例と同様に、上記ピークホールド回路2の後段に高インピーダンス部分cでの電位Vmをほぼ基準電位Vdd1に制限するリミッタ回路4を接続するようにしているため、上記高インピーダンス部分cにおいて、光の漏れ込み等によって電位が上昇したとしても、その電位上昇は上記リミッタ回路4によって基準電位Vdd1+しきい値Vthに制限されることとなり、しかも、リミッタ回路4の後段にボルテージフォロア回路11を接続するようにしているため、第2の出力端子φ2に現れる電位Vpを基準電位Vdd1以下に抑制することができ、リニアセンサの回路動作の信頼性及びリニアセンサの歩留まり向上を有効に図ることができる。
Also in the second configuration example, similarly to the first configuration example, the
次に、上記信号出力回路28の第3の構成例について図11を参照しながら説明すると、この第3の構成例に係る信号出力回路は、上記図1に示す第1の実施の形態に係る信号出力回路とほぼ同じ構成を有するが、上記第1の構成例と同様に、初段のソースフォロア回路1の出力ラインが2本(本線L1と支線L2)に分岐されている点で異なる。
Next, a third configuration example of the
そして、上記第1の構成例と異なる点は、本線L1に上記図6に示す第3の実施の形態に係るクランプ回路5、リミッタ回路4及びソースフォロア回路3が接続されている点である。
A difference from the first configuration example is that the
入力端子φinに入力される電圧信号Viの波形は、図12に示すように、出力部25における電荷−電気信号変換部26からの信号成分Vsig にリセットゲートRGに印加されるリセットパルスφRG(電位Vrg)がカップリングによって付加された波形を有する。信号成分Vsig の出力期間Tsとカップリング成分Vrgの出力期間Tcとの間にある期間はフィードスルー期間Tfである。
As shown in FIG. 12, the waveform of the voltage signal Vi input to the input terminal φin is a reset pulse φRG (potential) applied to the reset gate RG to the signal component Vsig from the charge-
従って、この第3の構成例における本線L1においては、初段のソースフォロア回路1から出力される信号のDC成分(この場合、フィードスルー成分Vf)がクランプ回路5の結合コンデンサCbによって除去されて、上記フィードスルー成分が0レベルされた信号出力Vbとされる。そして、結合コンデンサCbから出力される信号Vbのうち、フィードスルー期間Tfに同期して、スイッチング制御信号Scが例えば高レベルとなってスイッチング回路SWがオン動作することにより、フィードスルー期間Tfの出力レベルが基準電位Vdd1となる。従って、このクランプ回路5からは、初段のソースフォロア回路1から出力される信号Va(≒Vi)がレベルシフトされて、フィードスルー成分Vfが基準電位Vdd1とされた信号Vcが取り出されることとなる。
Therefore, in the main line L1 in the third configuration example, the DC component (in this case, the feed-through component Vf) of the signal output from the first
この場合、カップリング期間Tcの出力レベルが非常に高くなるが、リミッタ回路4によってそのレベルが基準電位Vdd1+しきい値Vthに制限され、更に、後段のソースフォロア回路3からは、上記カップリング期間Tcの出力レベルがフィードスルー成分と同じ基準電位Vdd1とされた信号Vpが取り出されることになる。即ち、第1の出力端子φ1からは、不要なカップリング成分Vrgが除去されて必要な信号成分Vsig のみが含まれた信号が撮像信号Vsとして取り出されるため、該撮像信号Vsのダイナミックレンジを大きくとることができ、感度の向上を有効に図ることが可能となる。
In this case, the output level of the coupling period Tc becomes very high, but the level is limited by the
そして、この第3の構成例においては、上記第6の実施の形態に係る信号出力回路にて説明したように、スイッチング回路SWがオフ状態のとき、スイッチング回路SWの出力ラインとの接続点hが高インピーダンス状態となり、この状態を長期間放置すると、上記高インピーダンス部分hの電位Vcが上昇することとなる。 In the third configuration example, as described in the signal output circuit according to the sixth embodiment, when the switching circuit SW is in the OFF state, the connection point h with the output line of the switching circuit SW. Becomes a high impedance state, and if this state is left for a long period of time, the potential Vc of the high impedance portion h rises.
しかし、この第3の構成例においては、クランプ回路5の後段にリミッタ回路4が接続されているため、上記高インピーダンス部分hでの電位上昇は基準電位Vdd1+しきい値Vthに制限され、後段のソースフォロア回路3の出力端子(第1の出力端子φ1)から現れる電位Vsは定格で設計した基準電位Vdd1以下となる。
However, in this third configuration example, since the
次に、上記信号出力回路の第4の構成例について図13を参照しながら説明すると、この第4の構成例に係る信号出力回路は、上記図12に示す第3の構成例に係る出力回路とほぼ同じ構成を有するが、上記図7R>7で示す第4の実施の形態に係る信号出力回路と同様に、クランプ回路5とリミッタ回路4との間に補正回路6が挿入接続されている点で異なる。
Next, a fourth configuration example of the signal output circuit will be described with reference to FIG. 13. The signal output circuit according to the fourth configuration example is the same as the output circuit according to the third configuration example shown in FIG. The
この場合、高インピーダンス部分hの電位が上昇して基準電位Vdd1となったとき、補正回路6の出力電位は基準電位Vdd1+しきい値Vthとなるため、これにより、後段のリミッタ回路4がオン動作し、補正回路6の出力電位Vdの上昇はそれ以上行なわれないこととなる。つまり、高インピーダンス部分hの電位上昇は基準電位Vdd1にて制限されることとなる。
In this case, when the potential of the high impedance portion h rises to become the reference potential Vdd1, the output potential of the
従って、この第4の構成例に係る出力回路においては、高インピーダンス部分hの電位上昇及び出力端子φ1に現れる電位Vsの上昇を共に基準電位Vdd1に制限することができる。 Therefore, in the output circuit according to the fourth configuration example, it is possible to limit both the potential rise of the high impedance portion h and the potential Vs appearing at the output terminal φ1 to the reference potential Vdd1.
なお、図12で示す第3の構成例及び図13R>3で示す第4の構成例においては、リミッタ回路4の後段にN−MOSトランジスタによるソースフォロア回路3を接続するようにしたが、該ソースフォロア回路3の代わりに第2の実施の形態に係るボルテージフォロア回路11を接続するようにしてもよい。この場合も、第1のソースフォロア回路13の出力端子φ1及びφ2から現れる電位Vp及びVsは定格で設計した基準電位Vdd1以下となる。
In the third configuration example shown in FIG. 12 and the fourth configuration example shown in FIG. 13R> 3, the
[撮像装置]
次に、本発明に係る撮像装置をCCD構造の転送段を有するリニアセンサをフォーカス制御用として用いたカメラ装置に適用した実施の形態例(以下、単に実施の形態に係るカメラ装置と記す)を図14を参照しながら説明する。
[Imaging device]
Next, an embodiment in which the imaging device according to the present invention is applied to a camera device using a linear sensor having a CCD-structure transfer stage for focus control (hereinafter simply referred to as a camera device according to the embodiment) will be described. This will be described with reference to FIG.
この実施の形態に係るカメラ装置は、図示するように、被写体を撮像するカメラ本体31に、フォーカス制御用のリニアセンサ32が組み込まれ、更に、該リニアセンサ32の信号出力レベルを適正なレベルに制御するゲイン制御手段33を有して構成されている。
In the camera device according to this embodiment, as shown in the figure, a
カメラ本体31は、フォーカスレンズ,バリエータ,コンペンセータ,エレクタ及びリレーレンズ等が組み込まれて構成されたズームレンズ部41と、電子シャッタ機能を有し、かつズームレンズ部41を通じて入射された被写体からの光をその光量に応じた量の信号電荷に変換して電気信号として出力する上記リニアセンサ32と、該リニアセンサ32を駆動するための読出しゲートパルスや転送クロック等の各種タイミング信号を発生するタイミング発生回路42と、上記リニアセンサ32からの出力に基づいて適正な信号出力レベルを得るための制御を行なう上記ゲイン制御手段33とを有して構成されている。
The
上記リニアセンサ32は、上記図8で示す本実施の形態に係るリニアセンサと同じ構成を有し、その出力回路も図9〜図13に示すものと同じ構成のものを使用している。従って、これらリニアセンサ32及びその出力回路の詳細説明は省略する。
The
ゲイン制御手段33は、リニアセンサ32における出力回路の第2の出力端子φ2から出力されるピーク検出信号Vpのレベル(最小ピークレベル)に基づいてタイミング発生回路42のタイミングを制御することによって、リニアセンサ32の露光時間を調整する露光調整回路43と、上記出力回路の第1の出力端子φ1から出力される撮像信号Vsのレベルに基づいてフォーカスずれを算出してフォーカスエラー信号Sfとして出力する演算回路44と、該演算回路44からのフォーカスエラー信号Sfに基づいて今回のフォーカスずれに応じてフォーカスレンズ45をその光軸方向に移動させることによってフォーカス調整を行なうオートフォーカス制御回路46とを有して構成されている。
The gain control means 33 controls the timing of the
ここで、リニアセンサ32の出力回路として上記図9で示す第1の構成例を用いた場合の本実施の形態に係るカメラ装置の動作を説明すると、まず、リニアセンサ32において、被写体からの入射光の光量に応じた電荷量の信号電荷に変換され、その電荷量に応じたレベルの信号成分を有する撮像信号Vsが出力回路の本線L1を通じて出力され、また、支線L2を通じて上記撮像信号Vsのピークレベルが検出されてピーク検出信号Vpとして出力されることとなる。
Here, the operation of the camera device according to the present embodiment when the first configuration example shown in FIG. 9 is used as the output circuit of the
これら撮像信号Vsとピーク検出信号Vpは後段のゲイン制御手段33に供給され、適正な信号出力レベルを得るための制御が行なわれる。即ち、上記ピーク検出信号Vpのレベルに応じてリニアセンサ32での露光時間の長さが調整され、上記撮像信号Vsのレベルに応じてフォーカス調整が行なわれる。
The imaging signal Vs and the peak detection signal Vp are supplied to the gain control means 33 at the subsequent stage, and control for obtaining an appropriate signal output level is performed. That is, the length of exposure time in the
なお、上記露光調整回路43での露光時間の制御では、出力回路から出力されるピーク検出信号Vpのレベルが基準レベルよりも大きければ、リニアセンサ32での露光時間が短くなるようにタイミング発生回路42のタイミングを制御し、上記ピーク検出信号Vpのレベルが基準レベルよりも小さければ、リニアセンサ32での露光時間が長くなるようにタイミング発生回路42のタイミングを制御する。
In the exposure time control by the
この場合において、上記第1の構成例に係る出力回路は、図9に示すように、ピークホールド回路2の後段に高インピーダンス部分(コンデンサ接続点c)での電位Vmをほぼ基準電位Vdd1に制限するリミッタ回路4を接続するようにしているため、上記高インピーダンス部分cにおいて、光の漏れ込み等によって電位Vmが上昇したとしても、その電位上昇は上記リミッタ回路4によって基準電位Vdd1+しきい値Vthに制限されることとなり、しかも、リミッタ回路4の後段にN−MOSトランジスタによるソースフォロア回路3を接続するようにしているため、第2の出力端子φ2に現れる電位Vpを基準電位Vdd1以下に抑制することができる。
In this case, the output circuit according to the first configuration example, as shown in FIG. 9, limits the potential Vm at the high impedance portion (capacitor connection point c) to the reference potential Vdd1 at the subsequent stage of the
即ち、上記リニアセンサ32における出力回路の上記高インピーダンス部位cでの電位変化のレベルをほぼ基準電位Vdd1に抑制することができ、これによって、リニアセンサ32の出力回路から出力されるピーク検出信号Vpの出力レベルを定格内に規制することができ、ゲイン制御手段33での適正な信号出力レベルを得るための制御を良好に行なわせることができる。これは、カメラ装置の撮像特性の向上につながる。
That is, the level of potential change at the high impedance portion c of the output circuit in the
次に、リニアセンサ32の出力回路として上記図10で示す第2の構成例を用いた場合は、上記第1の構成例に係る出力回路を用いた場合と同様に、上記ピークホールド回路2の後段に高インピーダンス部分cでの電位Vmをほぼ基準電位に制限するリミッタ回路4を接続するようにしているため、上記高インピーダンス部分cにおいて、光の漏れ込み等によって電位Vmが上昇したとしても、その電位上昇は上記リミッタ回路4によって基準電位Vdd1+しきい値Vthに制限されることとなり、しかも、リミッタ回路4の後段にボルテージフォロア回路11を接続するようにしているため、第2の出力端子φ2に現れる電位Vpを基準電位Vdd1以下に抑制することができ、これによって、リニアセンサ32の出力回路からの出力レベルを定格内に規制することができ、ゲイン制御手段33での適正な信号出力レベルを得るための制御を良好に行なわせることができる。
Next, when the second configuration example shown in FIG. 10 is used as the output circuit of the
次に、リニアセンサ32の出力回路として上記図11で示す第3の構成例及び図13で示す第4の構成例を用いた場合は、第2の出力端子φ2から不要なカップリング成分Vrgが除去されて必要な信号成分Vsig のみが含まれた信号が撮像信号Vsとして取り出されるため、該撮像信号Vsのダイナミックレンジを大きくとることができ、感度の向上を有効に図ることが可能となる。
Next, when the third configuration example shown in FIG. 11 and the fourth configuration example shown in FIG. 13 are used as the output circuit of the
また、クランプ回路5の後段にリミッタ回路4が接続されているため、高インピーダンス部分(スイッチング回路の出力ラインとの接続点h)での電位上昇は、第3の構成例の場合は基準電位Vdd1+しきい値Vthに制限、第4の構成例の場合は基準電位Vdd1に制限され、後段のソースフォロア回路3の出力端子φ1及びφ2から現れる電位Vs及びVpは定格で設計した基準電位Vdd1以下となる。特に、第4の構成例においては、高インピーダンス部分c及びhの電位上昇及び出力端子φ1及びφ2に現れる電位Vs及びVpの上昇を共に基準電位Vdd1に制限することができる。
In addition, since the
これによって、リニアセンサ32の出力回路からの出力レベルを定格内に規制することができ、ゲイン制御手段33での適正な信号出力レベルを得るための制御を良好に行なわせることができる。なお、上記第3の構成例及び第4の構成例に係る出力回路では、リミッタ回路4の後段にN−MOSトランジスタによるソースフォロア回路3を接続するようにしたが、該ソースフォロア回路3の代わりに図3で示す第2の実施の形態に係るボルテージフォロア回路11を接続するようにしてもよい。この場合も、第1のソースフォロア回路13の出力端子φ1及びφ2から現れる電位Vs及びVpは定格で設計した基準電位Vdd1以下となる。
As a result, the output level from the output circuit of the
なお、上記実施の形態においては、リニアセンサ32の出力回路に適用した例を示したが、その他、多数の受光部がマトリクス状に配されたイメージセンサの水平転送レジスタの最終段に接続される出力回路にも適用させることもできる。
In the above embodiment, the example applied to the output circuit of the
[受光装置]
次に、本発明に係る受光装置を例えば光通信に用いられる受信側のリモートセンサに適用した実施の形態例(以下、実施の形態に係るリモートセンサと記す)を図15及び図16を参照しながら説明する。
[Light receiving device]
Next, an embodiment in which the light receiving device according to the present invention is applied to, for example, a remote sensor on the receiving side used for optical communication (hereinafter referred to as a remote sensor according to the embodiment) will be described with reference to FIGS. While explaining.
この実施の形態に係るリモートセンサは、図15に示すように、例えばフォトダイオードFDを有するセンサ部51と、該センサ部51からの出力信号Vinを増幅して後段のデコーダ52に供給する出力回路53を有して構成されている。
As shown in FIG. 15, the remote sensor according to this embodiment includes, for example, a
上記センサ部51は、+極が接地とされたバイアス電源54(電源電圧−V)と、電流iの流れに対して逆方向接続された上記フォトダイオードFDと、該フォトダイオードFDのカソードと接地間に接続された負荷抵抗Rとを有して構成されている。このセンサ部51においては、外部から光が入射することによって、その入射光量に応じた負の電圧レベルを有する光検出信号Vinが出力される。
The
なお、本実施の形態に係るリモートセンサに対して光信号を出力する送信系は、送るべきコードデータを光変調して赤外線の光信号として出力するようになされている。コードデータに対する光信号の例を図16R>6Aに示す。この光信号は、論理値「0」及び「1」に応じて赤外線の出力レベルを可変にした信号形態となっている。 The transmission system that outputs an optical signal to the remote sensor according to the present embodiment is configured to optically modulate code data to be transmitted and output it as an infrared optical signal. An example of an optical signal for code data is shown in FIG. This optical signal has a signal form in which the output level of infrared rays is made variable in accordance with logical values “0” and “1”.
そして、上記送信系からの光信号がリモートセンサに入射されることによって、例えば図16Bに示すように、光信号の光出力レベルに応じた光検出信号Vinが取り出されることとなる。例えば図16Aの光信号が入射された場合、光出力レベルの高い論理値「1」に対しては、電圧レベルの降下が急峻とされた光検出信号が出力され、光出力レベルの低い論理値「0」に対しては、電圧レベルの降下が緩やかとされた光検出信号が出力される。 Then, when the optical signal from the transmission system is incident on the remote sensor, for example, as shown in FIG. 16B, a light detection signal Vin corresponding to the light output level of the light signal is taken out. For example, when the optical signal in FIG. 16A is incident, for a logical value “1” with a high optical output level, a light detection signal with a sharp voltage level drop is output, and a logical value with a low optical output level is output. For “0”, a light detection signal with a gradual drop in voltage level is output.
出力回路53は、上記図6に示す第3の実施の形態に係る信号出力回路と同様の構成を有するため、その詳細説明は省略するが、スイッチング回路SWに供給されるスイッチング制御信号Scは、入力信号(光検出信号)Vinにおいてその論理値が決定される期間のうち、各先頭の例えば1/4期間において高レベルとなる信号形態となっている。この1/4期間は、光出力が必ず0となっている期間であり、そのため、初段のソースフォロア回路1から出力される信号Vaも上記1/4期間においては必ず高レベルとされる。このことから、上記1/4期間においてスイッチング回路SWがオン動作することにより、上記1/4期間における高レベルが基準電位Vdd1にクランプされることとなる。
Since the
従って、上記出力回路53の出力端子φoutから出力される信号Voutは、光信号が論理値「1」を示す場合、上記1/4期間が基準電位Vdd1とされ、その1/4期間を過ぎた時点から急峻に低レベルに落ち込む信号波形となり、光信号が論理値「0」を示す場合、上記1/4期間が基準電位Vdd1とされ、その1/4期間を過ぎた時点から緩やかに低レベルに落ち込む信号波形となる。
Therefore, the signal Vout output from the output terminal φout of the
デコーダ52は、上記出力回路53から出力される信号Voutの上記1/4期間から所定期間τにおける電位を検出し、該検出電位と基準電位Vdd1との電位差(検出電圧)が参照電圧Vrよりも高ければ、即ち上記検出電圧がVH のとき、論理値「1」として認識し、参照電圧Vrよりも低ければ、即ち上記検出電圧がVL のとき、論理「0」として認識して、デジタルのコード情報Dcとして出力する回路構成を有する。このデコーダ52からのコード情報Dcは、例えば図示しないシステムコントローラに供給されてそのコード情報Dcに応じた制御が行なわれることになる。
The
この場合において、上記出力回路53は、図6に示すように、クランプ回路5の後段にリミッタ回路4を接続するようにしているため、高インピーダンス部分(スイッチング回路SWの出力ラインとの接続点h)において、光の漏れ込み等によって電位Vcが上昇したとしても、その電位上昇は上記リミッタ回路4によって基準電位Vdd1+しきい値Vthに制限されることとなり、しかも、リミッタ回路4の後段にN−MOSトランジスタによるソースフォロア回路3を接続するようにしているため、出力端子φoutに現れる電位Voutを基準電位Vdd1以下に抑制することができる。
In this case, as shown in FIG. 6, the
これによって、出力回路53からの出力レベルを定格内に規制することができ、後段のデコーダ52でのコード情報Dcへの変換を良好に行なわせることができる。
As a result, the output level from the
上記出力回路53は、リミッタ回路4の後段にN−MOSトランジスタによるソースフォロア回路3を接続するようにしたが、該ソースフォロア回路3の代わりに図3で示す第2の実施の形態に係るボルテージフォロア回路11を接続するようにしてもよい。この場合も、第1のソースフォロア回路13の出力端子φoutから現れる電位Voutは定格で設計した基準電位Vdd1以下となる。
The
他の構成としては、上記出力回路53として上記図6に示す回路構成を採用したが、上記図7で示す第4の実施の形態に係る回路構成を用いるようにしてもよい。この場合、高インピーダンス部分hの電位上昇及び出力端子φoutに現れる電位Voutの上昇を共に基準電位Vdd1に制限することができる。
As another configuration, the circuit configuration shown in FIG. 6 is adopted as the
1 初段のソースフォロア回路、2 ピークホールド回路、3 後段のソースフォロア回路、4 リミット回路、5 クランプ回路、D1,D2,D ダイオード、11 ボルテージフォロア回路、22 センサ列、24 転送レジスタ、26 電荷−電気信号変換部、28 信号出力回路、L1 本線、L2 支線、Lp 電源ライン、31 カメラ本体、32 リニアセンサ、33 ゲイン制御手段、42 タイミング発生回路、43 露光調整回路、44 演算回路、45 フォーカスレンズ、46 オートフォーカス制御回路、51 センサ部、52 デコーダ、53 出力回路
1 Source follower circuit of the first stage, 2 Peak hold circuit, 3 Source follower circuit of the subsequent stage, 4 Limit circuit, 5 Clamp circuit, D1, D2, D diode, 11 Voltage follower circuit, 22 Sensor array, 24 Transfer register, 26 Charge − Electrical signal conversion unit, 28 signal output circuit, L1 main line, L2 branch line, Lp power supply line, 31 camera body, 32 linear sensor, 33 gain control means, 42 timing generation circuit, 43 exposure adjustment circuit, 44 arithmetic circuit, 45
Claims (24)
上記撮像部に蓄積された上記信号電荷を出力側に転送する転送レジスタと、
上記転送レジスタを通じて転送された上記信号電荷をその電荷量に応じたレベルの電気信号に変換して撮像信号として出力する出力回路とが同一基板上に形成された固体撮像素子において、
上記出力回路の高インピーダンス発生部分に、所定電位発生源と上記高インピーダンス発生部分間に逆方向接続されたダイオードにて構成されて、上記高インピーダンス発生部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を接続し、
上記ダイオードのしきい値分の電位上昇を抑制する補正回路を接続した
固体撮像素子。 An imaging unit in which a large number of photoelectric conversion units that convert incident light from a subject into signal charges corresponding to the amount of light are arranged;
A transfer register for transferring the signal charge accumulated in the imaging unit to the output side;
In the solid-state imaging device formed on the same substrate with an output circuit that converts the signal charge transferred through the transfer register into an electric signal of a level corresponding to the amount of the charge and outputs it as an imaging signal.
A potential limit that is configured by a diode connected in a reverse direction between a predetermined potential generation source and the high impedance generation portion in the high impedance generation portion of the output circuit, and limits the potential at the high impedance generation portion to the predetermined potential Connect the circuit,
A solid-state imaging device connected to a correction circuit that suppresses a potential increase corresponding to the threshold value of the diode .
請求項1記載の固体撮像素子。 The output circuit has a branch line to which a peak detection circuit for detecting the peak level of the imaging signal is connected in addition to the main line that is the output line of the imaging signal. solid-state imaging device according to claim 1, wherein said potential limiting circuit is connected.
請求項1又は2記載の固体撮像素子。 The output circuit, the high impedance generator portion of the main line which is an output line of the image signal, the solid-state imaging device according to claim 1 or 2, wherein the potential limiting circuit is connected.
請求項1〜3のいずれか1記載の固体撮像素子。 High impedance generator portion of the branch line, the solid-state imaging device according to any one of claims 1-3 capacitor connection point der Ru in the connected peak-hold circuit in front of the high input impedance section.
請求項4記載の固体撮像素子。 Downstream of the capacitor connection point, the solid-state imaging device of the potential suppresses correction circuit potential increase in threshold amount the limiting circuit constituting the diode if it is attached claim 4, wherein in the high impedance generator portion.
請求項3記載の固体撮像素子。 High impedance generator portion of the main line, the solid-state imaging device according to claim 3, wherein Ru selectively supply point der clamp the voltage at the connected clamping circuit in front of the high input impedance section.
請求項6記載の固体撮像素子。 A correction circuit is connected between the selective supply point of the clamp voltage and the diode constituting the potential limiting circuit to suppress the potential increase of the threshold voltage of the diode constituting the potential limiting circuit at the high impedance generation portion. It is not that according to claim 6, wherein the solid-state imaging device.
上記撮像信号の出力ラインである本線のほかに、撮像信号のピークレベルを検出する支線を有し、上記支線の高インピーダンス発生部分に、所定電位発生源と上記高インピーダンス発生部分間に逆方向接続されたダイオードにて構成されて、上記高インピーダンス発生部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を接続し、
上記ダイオードのしきい値分の電位上昇を抑制する補正回路を接続した
固体撮像素子の出力回路。 An imaging unit in which a large number of photoelectric conversion units that convert incident light from a subject into signal charges corresponding to the amount of light are arranged, and a transfer register that transfers the signal charges accumulated in the imaging unit to the output side An output of a solid-state image pickup device that is formed on the same substrate together with a solid-state image pickup device that converts the signal charge transferred through the transfer register into an electric signal of a level corresponding to the amount of charge and outputs it as an image pickup signal In the circuit
In addition to the main line that is the output line of the imaging signal, it has a branch line that detects the peak level of the imaging signal, and is connected in the reverse direction to the high impedance generation part of the branch line between the predetermined potential generation source and the high impedance generation part Connected to a potential limiting circuit configured to limit the potential at the high impedance generation portion to a predetermined potential.
An output circuit of a solid-state imaging device connected with a correction circuit that suppresses a potential increase corresponding to the threshold value of the diode .
請求項8記載の固体撮像素子の出力回路。 The high impedance generator portion of the main line which is an output line of the image signal, the output circuit of the solid-state imaging device according to claim 8, wherein said potential limiting circuit is connected.
請求項8又は9記載の固体撮像素子の出力回路。 High impedance generator portion of the branch line, the output circuit of the solid-state imaging device of the capacitive connection point der Ru claim 8 or 9, wherein in the connected peak-hold circuit in front of the high input impedance section.
請求項10記載の固体撮像素子の出力回路。 Downstream of the capacitor connection point, the solid-state imaging device of the potential suppresses correction circuit potential increase in threshold amount of limiting diodes constituting the circuit it is connected according to claim 10, wherein in the high impedance generator portion Output circuit.
請求項8又は9記載の固体撮像素子の出力回路。 High impedance generator portion of the main line, the output circuit of the solid-state imaging device according to claim 8 or 9, wherein Ru selectively supply point der clamp the voltage at the connected clamping circuit in front of the high input impedance section.
請求項12記載の固体撮像素子の出力回路。 A correction circuit is connected between the selective supply point of the clamp voltage and the diode constituting the potential limiting circuit to suppress the potential increase of the threshold voltage of the diode constituting the potential limiting circuit at the high impedance generation portion. the output circuit of the solid-state imaging device according to claim 12, wherein is that have been.
上記フォーカス制御用の固体撮像素子の出力回路は、蓄積された信号電荷の電荷量に応じた信号成分を含む信号を出力する本線と、上記信号成分のピークレベルを検出する支線を有し、
少なくとも上記支線の高インピーダンス発生部分に、所定電位発生源と上記高インピーダンス発生部分間に逆方向接続されたダイオードにて構成されて、上記高インピーダンス発生部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を接続し、
上記ダイオードのしきい値分の電位上昇を抑制する補正回路を接続した
撮像装置。 In an imaging apparatus having a solid-state imaging device for focus control and gain control means for performing control for obtaining an appropriate signal output level based on an output from the solid-state imaging device,
The output circuit of the solid-state imaging device for focus control has a main line that outputs a signal including a signal component corresponding to the amount of accumulated signal charges, and a branch line that detects a peak level of the signal component.
A potential limit that is composed of a diode connected in a reverse direction between a predetermined potential generation source and the high impedance generation portion at least in the high impedance generation portion of the branch line, and limits the potential at the high impedance generation portion to the predetermined potential Connect the circuit,
An imaging apparatus connected to a correction circuit that suppresses a potential increase corresponding to a threshold value of the diode .
請求項14記載の撮像装置。 The gain control means includes: a focus control means that performs focus adjustment based on at least a signal component from the main line in the output circuit; and an exposure in the solid-state imaging device for imaging based on a peak level from a branch line in the output circuit. imaging device according to claim 14, wherein that having a exposure adjustment means for adjusting the time.
請求項14又は15記載の撮像装置。 The high impedance generator portion of the main line which is an output line of the image signal, the imaging apparatus according to claim 14 or 15, wherein the potential limiting circuit is connected.
請求項14〜16いずれか1記載の撮像装置。 High impedance generator portion of the branch line, the image pickup apparatus as claimed in any one capacitive connection point der Ru claim 14 to 16 in the connected peak-hold circuit in front of the high input impedance section.
請求項17記載の撮像装置。 Downstream of the capacitor connection point, the high impedance generation part of the potential suppresses correction circuit potential increase in threshold amount of limiting diodes constituting the circuit it is connected according to claim 17 imaging device according.
請求項16記載の撮像装置。 High impedance generator portion of the main line, the image pickup apparatus according to claim 16, wherein Ru selectively supply point der clamp the voltage at the connected clamping circuit in front of the high input impedance section.
請求項19記載の撮像装置。 A correction circuit is connected between the selective supply point of the clamp voltage and the diode constituting the potential limiting circuit to suppress the potential increase of the threshold voltage of the diode constituting the potential limiting circuit at the high impedance generation portion. which do that claim 19 imaging device according.
上記出力回路の高インピーダンス発生部分に、所定電位発生源と上記高インピーダンス発生部分間に逆方向接続されたダイオードにて構成されて、上記高インピーダンス発生部分での電位を所定電位に制限する電位制限回路を接続し、
上記ダイオードのしきい値分の電位上昇を抑制する補正回路を接続した
受光装置。 A photoelectric conversion unit that converts incident light from a subject into a signal charge of an amount corresponding to the amount of light, and an output circuit that converts the signal charge into an electric signal of a level corresponding to the amount of charge and outputs it as a light reception signal In the light receiving device formed on the same substrate,
A potential limit that is configured by a diode connected in a reverse direction between a predetermined potential generation source and the high impedance generation portion in the high impedance generation portion of the output circuit, and limits the potential at the high impedance generation portion to the predetermined potential Connect the circuit,
A light receiving device to which a correction circuit for suppressing a potential increase corresponding to the threshold value of the diode is connected .
請求項21記載の受光装置。 The high impedance generator portion includes a light receiving device according to claim 21, wherein Ru selectively supply point der clamp the voltage at the connected clamping circuit in front of the high input impedance section.
請求項22記載の受光装置。 The clamp circuit, the output-side electrode and the clamp voltage is constituted by the connected switching circuits that between source 22. photodetection device according binding capacity and the binding capacity which is connected to the input signal line.
請求項21又は22記載の受光装置。 A correction circuit is connected between the selective supply point of the clamp voltage and the diode constituting the potential limiting circuit to suppress the potential increase of the threshold voltage of the diode constituting the potential limiting circuit at the high impedance generation portion. is not that claim 21 or light receiving device according 22.
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