JP4312638B2 - Peripheral surface defect detection optical system of translucent disk, peripheral surface defect detection device, and peripheral surface defect detection method - Google Patents

Peripheral surface defect detection optical system of translucent disk, peripheral surface defect detection device, and peripheral surface defect detection method Download PDF

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Description

この発明は、透光性ディスク(半透明あるいは透明なディスク)の周面欠陥検出光学系、周面欠陥検出装置および周面欠陥検出方法に関し、詳しくは、ガラスディスクに対して内周あるいは外周のエッジ部の割れ、欠け等の欠陥を、付着異物をほとんど検出することなくこれから切り離して効率よく、高精度に検出することができるようなガラスディスクの周面欠陥検出光学系に関する。   The present invention relates to a peripheral defect detection optical system, a peripheral defect detection apparatus, and a peripheral defect detection method for a translucent disc (semi-transparent or transparent disc). The present invention relates to a peripheral defect detection optical system for a glass disk that can detect defects such as cracks and chippings in an edge portion from each other without detecting adhering foreign matters and can detect them efficiently and with high accuracy.

コンピュータ等の情報記録媒体として用いられる磁気ディスクは、近年益々高記憶密度化が要求され、それに伴い表面に形成される磁性層や保護膜等の膜が薄膜化している。ガラスディスク基板を用いる磁気ディスクの製造工程の―例としては、まず、図7に示すように、ガラスディスクをラッピング装置で磨上げ(ラッピング加工工程(1))、次にガラス基板の両面をポリッシング加工して、表面粗さ平均1nm程度に鏡面加工する(ポリッシング加工工程(2))工程がある。その後、ガラス基板を洗浄し(第1洗浄工程(3))、表面欠陥検査および周面欠陥検査が行われる(第1表面検査工程(4))。そして合格したガラス基板を洗浄し(第2洗浄工程(5))、スパッタ法等によりクロム、銅、NiAl等からなる厚さ50〜2000Å程度の金属下地層を形成し(金属下地層形成工程(5))、続いてスパッタ法等によりコバルト系強磁性合金薄膜等からなる厚さ100〜1000Å程度の磁性層を形成し(磁性層形成工程(7))、さらに例えばカーボン膜、水素化カーボン膜、窒素化カーボン膜等からなる厚さ10〜150Å程度の保護膜を形成する(保護膜形成工程(8))工程がある。このような製造工程で保護膜を形成した後、成膜工程で発生した小突起の除去及び表面の清浄化のため、研磨装置により磁気ディスクの表面のテープクリーニング等が行われる(バーニッシュとワイピング工程(9))、そして最後に再び表面検査が行われる(第2表面検査工程(10))。   In recent years, magnetic disks used as information recording media such as computers have been increasingly required to have a higher storage density, and as a result, films such as magnetic layers and protective films formed on the surface have become thinner. As an example of the manufacturing process of a magnetic disk using a glass disk substrate, first, as shown in FIG. 7, the glass disk is polished with a lapping device (lapping process (1)), and then both surfaces of the glass substrate are polished. There is a step of polishing and polishing the surface to an average surface roughness of about 1 nm (polishing step (2)). Thereafter, the glass substrate is cleaned (first cleaning step (3)), and surface defect inspection and peripheral surface defect inspection are performed (first surface inspection step (4)). Then, the passed glass substrate is cleaned (second cleaning step (5)), and a metal underlayer having a thickness of about 50 to 2000 mm made of chromium, copper, NiAl or the like is formed by a sputtering method or the like (metal underlayer forming step ( 5)) Subsequently, a magnetic layer made of a cobalt-based ferromagnetic alloy thin film or the like having a thickness of about 100 to 1000 mm is formed by sputtering or the like (magnetic layer forming step (7)), and further, for example, a carbon film or a hydrogenated carbon film There is a step of forming a protective film made of a nitrogenated carbon film or the like having a thickness of about 10 to 150 mm (protective film forming step (8)). After the protective film is formed in such a manufacturing process, the surface of the magnetic disk is cleaned with a polishing apparatus in order to remove small protrusions generated in the film forming process and clean the surface (burnish and wiping). Step (9)) and finally surface inspection is performed again (second surface inspection step (10)).

情報記録媒体の1つである磁気ディスクは、最近ではガラスディスクを素材とし、これに磁性膜を形成している。ガラスディスクは表面を研磨して平滑とされるが、研磨作業や取り扱い中などにおいて、その内周あるいは外周のエッジが欠けたり、割れたりすることがあり、これによりディスクの品質が低下する。第1表面検査工程(4)において、欠け、割れ等が検査され、その程度が小さいときは再研磨され、これが大きいと当該ディスクは不良品とされる。欠け、割れの大きさの程度は欠陥検査装置により検査されて判定される。   Recently, a magnetic disk, which is one of information recording media, is made of a glass disk, and a magnetic film is formed thereon. The surface of a glass disk is smoothened by polishing the surface. However, the edge of the inner periphery or the outer periphery may be chipped or cracked during polishing work or handling, thereby reducing the quality of the disk. In the first surface inspection step (4), chipping, cracking, etc. are inspected, and when the degree is small, the surface is re-polished. The degree of chipping and cracking is inspected and determined by a defect inspection apparatus.

図6により、ガラスディスクの外周エッジ部と、その欠け欠陥を説明する。
図6(a)において、ガラスディスク1は、各種の外径のものがあり、それぞれは所定の直径の中心孔Hを有する。(b)は、その外周部分の断面を示し、上側となるその表面を1a 、下側となるその表面(裏面)を1b 、外周の側面を1c とする。ディスク1は、側面1c の付近が面取りされ、上側の周縁部(以下チャンファ)ChUと下側のチャンファChDが形成されており、側面1c より内方の長さdの範囲が外周エッジ部E(外周面)とされ、ここに生じた欠け、割れが周面欠陥Kとされる。なお、長さdはディスク1のサイズにより異なり、例えば2.5インチの場合は0.2mmとされている。
With reference to FIG. 6, the outer peripheral edge portion of the glass disk and its chip defect will be described.
6A, the glass disk 1 has various outer diameters, each having a center hole H having a predetermined diameter. (B) shows a cross section of the outer peripheral portion, where the upper surface is 1a, the lower surface (back surface) is 1b, and the outer side surface is 1c. The disk 1 is chamfered in the vicinity of the side surface 1c to form an upper peripheral edge portion (hereinafter referred to as chamfer) ChU and a lower chamfer ChD, and the range of the inner length d from the side surface 1c is the outer peripheral edge portion E ( The chip or crack generated here is the peripheral defect K. Note that the length d varies depending on the size of the disk 1, and is, for example, 0.2 mm in the case of 2.5 inches.

最近では、このようなガラスディスク基板が主流となり、その厚さはさらに薄くなっていて、高密度記録の要請から前記の長さdもさらに短くなってきている。そのため、従来の周面欠陥検査方式では十分な検出ができない状況にある。
従来の外周エッジの欠陥検出方法としては、外周部の上部に法線からみた入射角30゜程度でチャンファ部に投光して散乱光を受光する第1の受光系と、これに加えて、ディスクの外周側面に対向する方向で散乱光を受光する第2の受光系を設けた出願人による発明が公知である(特許第3141974号−特開平7−190950号−特許文献1)。
さらに、周面欠陥ではないが、透明体ディスクの上部からディスク表面へ線状の光を照射してこれをディスクの内部で全反射させて外周側面からの散乱光を受光してディスク表面における欠陥を検出する欠陥検出装置が公知である(特許文献2)。
Recently, such a glass disk substrate has become mainstream, and its thickness is further reduced, and the length d is further shortened due to the demand for high-density recording. For this reason, the conventional peripheral surface defect inspection method cannot perform sufficient detection.
As a conventional defect detection method for the outer peripheral edge, in addition to the first light receiving system for projecting light to the chamfer part at an incident angle of about 30 ° as viewed from the normal to the upper part of the outer peripheral part and receiving scattered light, An invention by the applicant having a second light receiving system for receiving scattered light in a direction facing the outer peripheral side surface of the disk is known (Japanese Patent No. 3141974-JP-A-7-190950-Patent Document 1).
Furthermore, although it is not a peripheral surface defect, a linear light is irradiated from the upper part of the transparent disk to the disk surface, and this is totally reflected inside the disk to receive scattered light from the outer peripheral side surface and receive a defect on the disk surface. There is a known defect detection device for detecting the above (Patent Document 2).

特開平7−190950号公報(特許第3141974号)JP 7-190950 A (Patent No. 3141974) 特開昭64−57154号公報JP-A-64-57154

近年、ディスク駆動装置(HDD)は、記録密度のさらなる高密度化に加えて、5400rpmを越える高速回転のディスクが使用されるようになってきている。そのため、ガラスディスクの厚さは薄くなり、さらに、記録されるトラック部分も外周や内周ぎりぎりまで設定される。これにより、内周あるいは外周に発生する、より小さな周面欠陥(欠け欠陥や割れ欠陥)が従来以上にディスクの品質に影響を与えるようになってきている。HDDにそのようなディスクが組込まれた場合に故障の原因になる確立が高くなている。
より小さな周面欠陥を問題とした場合には、特開平7−190950号に示される技術でディスクの外周エッジに存在する欠け欠陥、割れ欠陥を検出すると、この検出技術では、これらのほかに、付着異物も同時に検出されてしまう欠点がある。そのため製品歩留まりが悪化する問題がある。したがって、現在では特開平7−190950号のディスク欠陥の欠陥検出の技術は、高密度記録のHDD装置の製造に対して対応しきれなくなってきている。そのため、付着異物が検出されることを排除した、より精度の高い外周エッジ部の欠け欠陥、割れ欠陥の検出の要請が強い。
この発明の目的は、上記の要望を受けてなされたもので、透光性ディスクに対して外周エッジ部の割れ、欠け等の欠陥を、付着異物をほとんど検出することなくこれから切り離して効率よく、高精度に検出することができる透光性ディスクの周面欠陥検出光学系および周面欠陥検出装置、そして周面欠陥検出方法を提供することにある。
In recent years, disk drives (HDDs) have come to use high-speed disks exceeding 5400 rpm in addition to further increasing the recording density. For this reason, the thickness of the glass disk is reduced, and the recorded track portion is set to the outermost or innermost limit. As a result, smaller peripheral surface defects (chip defects and crack defects) occurring on the inner periphery or outer periphery have affected the disk quality more than ever. There is a high probability of causing a failure when such a disk is incorporated in the HDD.
When a smaller peripheral surface defect is a problem, if a chip defect or a crack defect existing at the outer peripheral edge of the disk is detected by the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-190950, There is a drawback that adhering foreign matter is also detected at the same time. Therefore, there is a problem that the product yield deteriorates. Therefore, at present, the defect detection technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-190950 has been unable to cope with the manufacture of high-density recording HDD devices. For this reason, there is a strong demand for more accurate detection of chipping defects and cracking defects at the outer peripheral edge portion, which excludes the detection of attached foreign matter.
The object of the present invention was made in response to the above-mentioned request, and the defect such as cracking and chipping of the outer peripheral edge portion with respect to the translucent disc was efficiently separated from this without almost detecting the attached foreign matter, An object of the present invention is to provide a peripheral surface defect detection optical system, a peripheral surface defect detection device, and a peripheral surface defect detection method for a translucent disc that can be detected with high accuracy.

この発明の透光性ディスクの周面欠陥検出光学系および周面欠陥検出装置の構成は、検査対象となる透光性ディスクの周面に対して所定の入射角で光ビームを入射してディスクの内部を通してディスクの外周面あるいは内周面の検査領域に内側から光ビームを照射する投光系と、ディスクの内部に対して外部で検査領域の近傍に設けられ検査領域からの散乱光を受光する第1の受光系と、第2の受光系と備えている。
さらに、前記の光ビームはレーザ光であってスポットとされ、光ビームのスポットが入射する周面は外周面であり、前記の第1の受光系は、回転するディスクにおいて検査領域からの散乱光を受光し、前記のディスクはガラスディスクであり、スポットは、外周面のうちの外周側面に入射し、前記の第2の受光系は、検査領域を通るディスクの直径線に対して外周側面におけるスポットの入射位置と対称な外周側面の位置からさらに所定のオフセット分離れた位置においてディスクの外部に放出されるディスクの内部を伝搬した検査領域からの散乱光をディスクの外部で受光し、
前記の第1の受光系の受光面は、ディスクのチャンファにおける欠陥を検出するためにディスクの裏面側のチャンファの面に対向するように設定され、ディスクの内周側面あるいは外周側面の欠陥を検出するために前記の第2の受光系の受光面は、ディスクの裏面側のチャンファの面に対して実質的に垂直になるように設定されているものである。
The structure of the peripheral defect detecting optical system and the peripheral defect detecting device of the translucent disc according to the present invention is such that a light beam is incident on the peripheral surface of the translucent disc to be inspected at a predetermined incident angle. A light projecting system that irradiates the inspection area on the outer peripheral surface or inner peripheral surface of the disk from the inside through the inside of the disk, and scattered light from the inspection area that is provided in the vicinity of the inspection area outside the disk. A first light receiving system and a second light receiving system.
Further, the light beam is a laser beam that is a spot, the peripheral surface on which the light beam spot is incident is an outer peripheral surface, and the first light receiving system is a scattered light from the inspection region in the rotating disk. The disc is a glass disc, the spot is incident on the outer peripheral side of the outer peripheral surface, and the second light receiving system is on the outer peripheral side with respect to the diameter line of the disc passing through the inspection area. The scattered light from the inspection area that has propagated through the inside of the disk emitted to the outside of the disk at a position further separated from the position of the outer peripheral side surface symmetrical to the incident position of the spot is received outside the disk,
The light receiving surface of the first light receiving system is set to face the chamfer surface on the back side of the disk in order to detect defects in the disk chamfer, and detects a defect on the inner peripheral surface or outer peripheral side surface of the disk. Therefore, the light receiving surface of the second light receiving system is set to be substantially perpendicular to the chamfer surface on the back surface side of the disk .

これらの発明にあっては、前記したように、ディスクの内部を通して周面の検査領域に内側から光ビームスポットを照射してディスクの内部に対して外側で検査領域の近傍に設けられた第1の受光系により検査領域からの散乱光を受光してディスクの周面欠陥を検出する。そのため、ディスクの外側に付着している異物からの散乱光はほとんど発生しない。
その結果、ガラスディスクの内周あるいは外周のエッジ部に存在する欠け欠陥、割れ欠陥をはじめとする、付着異物を除いた各種の欠陥を、付着異物をほとんど検出することなく、これと区別して高精度に検出することができる。
ところで、ディスクには、中心部に孔が開けられているので、ここでは、ディスクの周面のうち中心部の孔から遠い外側となる周面を外周面とし、中心部の孔に沿った側の周面を内周面として説明する。
In these inventions, as described above, the light beam spot is irradiated from the inside to the inspection area on the peripheral surface through the inside of the disk, and the first is provided in the vicinity of the inspection area outside the inside of the disk. The light receiving system receives scattered light from the inspection area and detects a peripheral surface defect of the disk. Therefore, almost no scattered light is generated from the foreign matter adhering to the outside of the disk.
As a result, various defects, excluding attached foreign matter, such as chipping defects and cracking defects present on the inner or outer edge of the glass disk, can be distinguished from these with little detection of attached foreign matter. It can be detected with accuracy.
By the way, since the disc has a hole in the central portion, here, the peripheral surface far from the central hole in the peripheral surface of the disc is defined as the outer peripheral surface, and the side along the central hole is here. The peripheral surface will be described as the inner peripheral surface.

図1は、この発明の検出光学系を適用したガラスディスク検査装置の一実施例の説明図、図2(a)は、レーザスポットのディスクへの入射状態の説明図、(b)は、そのディスク内部に入射した光線と検査領域との関係の説明図、
図3(a)は、チャンファ欠陥検出系の説明図、(b)は、ディスクの外周側面欠陥検出系の説明図、(c)は、ディスク内部における内部散乱光と外周側面欠陥検出系との関係の説明図、図4(a)は、ディスクの反射光出射位置から所定のオフセットOFを持たせて欠陥を検出する原理説明の平面図、(b)は、その外周部分の断面説明図、図5は、内周面の欠陥を検出するこの発明の他の一実施例の説明図、図6(a)は、ガラスディスクの外周エッジ部Eとその欠陥の説明図、図6(b)は、その外周部分の断面図、そして、図7は、ガラス基板を用いる磁気ディスクの製造工程の一例の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view of an embodiment of a glass disk inspection apparatus to which the detection optical system of the present invention is applied, FIG. 2 (a) is an explanatory view of the incident state of a laser spot on the disk, and FIG. An explanatory diagram of the relationship between the light beam incident on the inside of the disc and the inspection area,
3A is an explanatory diagram of the chamfer defect detection system, FIG. 3B is an explanatory diagram of the outer peripheral side defect detection system of the disc, and FIG. 3C is an illustration of the internal scattered light inside the disc and the outer peripheral side defect detection system. 4A is a plan view illustrating the principle of detecting a defect by giving a predetermined offset OF from the reflected light emission position of the disk, and FIG. 4B is a cross-sectional explanatory view of the outer peripheral portion thereof. FIG. 5 is an explanatory view of another embodiment of the present invention for detecting defects on the inner peripheral surface, FIG. 6 (a) is an explanatory view of the outer peripheral edge E of the glass disk and its defects, and FIG. 6 (b). FIG. 7 is a cross-sectional view of an outer peripheral portion thereof, and FIG. 7 is an explanatory view of an example of a manufacturing process of a magnetic disk using a glass substrate.

図1において、欠陥検査装置10の欠陥検出光学系9は、検査対象となるガラスディスク(以下ディスク)1を装着して回転するスピンドル2と、ディスク1の側面に対して入射角θi≒45゜でレーザ光源31からのレーザスポットSpを側面位置P(図1,図2(b)参照)に照射してディスク1の内部を通してディスク外周面の検査領域(受光外周面)Q(図3(a)参照)を内側から投射する光学系3と、検査領域Qからの散乱光を受ける第1の受光系4(図3(a)参照)、検査領域Qからのディスク内部伝搬散乱光を受ける第2の受光系5(図3(b)参照)とからなる。   In FIG. 1, a defect detection optical system 9 of a defect inspection apparatus 10 includes a spindle 2 that rotates with a glass disk 1 (hereinafter referred to as a disk) 1 to be inspected, and an incident angle θi≈45 ° with respect to a side surface of the disk 1. Then, a laser spot Sp from the laser light source 31 is irradiated to the side surface position P (see FIGS. 1 and 2B), and the inspection area (light-receiving outer peripheral surface) Q (see FIG. )) From the inside, a first light receiving system 4 (see FIG. 3A) that receives scattered light from the inspection area Q, and a first light receiving system that propagates scattered light from the inside of the disk from the inspection area Q. 2 light receiving systems 5 (see FIG. 3B).

第1の受光系4は、図3(a)に示すように、光ファイバ41とその受光面形成部分42(以下受光面42)とからなり、受光面42は、光学系3からの投射光を受けるディスク1の外周内側の検査領域Qの下側のチャンファChDに対向するように、すなわち、チャンファChDの面に平行になるように、ディスク1の表面に対して受光角θj方向(図3(a)参照)においてディスク1の表面外側に設けられている。
なお、受光面42は、光ファイバ41の受光面そのものであっても、あるいは光ファイバ41の端部に結合する受光面として受光部材として形成されたものであってもよい。
これにより水平方向から所定の傾きとなるチャンファChU,ChD部分からの散乱光は受光し易くなるが、水平方向に対して直角な外周側面の散乱光は受光し難くなる。したがって、第1の受光系4は、チャンファ部分の欠け欠陥を検出する検出系になる。
As shown in FIG. 3A, the first light receiving system 4 includes an optical fiber 41 and a light receiving surface forming portion 42 (hereinafter referred to as a light receiving surface 42), and the light receiving surface 42 is projected light from the optical system 3. In the direction of the light receiving angle θj (see FIG. 3) with respect to the surface of the disk 1 so as to face the lower chamfer ChD of the inspection area Q inside the outer periphery of the disk 1 to be received, that is, parallel to the chamfer ChD surface. (See (a)) provided outside the surface of the disk 1.
The light receiving surface 42 may be the light receiving surface itself of the optical fiber 41 or may be formed as a light receiving member as a light receiving surface coupled to the end of the optical fiber 41.
Accordingly, scattered light from the chamfers ChU and ChD having a predetermined inclination from the horizontal direction can be easily received, but scattered light on the outer peripheral side surface perpendicular to the horizontal direction is difficult to receive. Therefore, the first light receiving system 4 becomes a detection system for detecting a chip defect in the chamfer portion.

一方、第2の受光系5は、図3(b)に示すように、光ファイバ51とその受光面形成部分52(以下受光面52)とからなり、ディスク内部の伝搬において前記の検査領域QからのレーザスポットSpの正反射光がディスク1から外部に出射する出射位置R(点R)から、さらに所定のオフセットOF、例えば、3.3インチ程度のディスクでは、OF=10mm程度を持たせた外周面の検出位置S(点S)において、これの斜め上部に設けられている。第2の受光系5の受光面は、下側のチャンファChDの面に垂直になるように、ディスク1の表面に対して受光角θk方向(図3(b)参照)に設定されている。
これにより水平方向に対して直角な外周側面の散乱光は受光し易くなるが、水平方向から所定の傾きとなるチャンファChU,ChD部分からの散乱光は受光し難くなる。したがって、第2の受光系5は、外周側面の欠け欠陥を検出する検出系になる。
なお、レーザスポットSpの正反射光が出射される出射位置Rは、検査領域Qを通るY軸(ディスクの直径線)に対して(あるいは関して)入射光が入る側面の入射位置Pと対称な位置にある。
On the other hand, as shown in FIG. 3B, the second light receiving system 5 includes an optical fiber 51 and a light receiving surface forming portion 52 (hereinafter referred to as a light receiving surface 52). From the emission position R (point R) at which the specularly reflected light from the laser spot Sp from the disk 1 is emitted to the outside, a predetermined offset OF, for example, a disk of about 3.3 inches has an OF of about 10 mm. In the detection position S (point S) of the outer peripheral surface, it is provided obliquely above this. The light receiving surface of the second light receiving system 5 is set in the light receiving angle θk direction (see FIG. 3B) with respect to the surface of the disk 1 so as to be perpendicular to the surface of the lower chamfer ChD.
This makes it easier to receive scattered light on the outer peripheral side surface perpendicular to the horizontal direction, but it is difficult to receive scattered light from the chamfers ChU and ChD having a predetermined inclination from the horizontal direction. Therefore, the second light receiving system 5 becomes a detection system for detecting a chip defect on the outer peripheral side surface.
The emission position R from which the specularly reflected light of the laser spot Sp is emitted is symmetrical to the incident position P on the side surface where the incident light enters with respect to (or with respect to) the Y axis (diameter line of the disk) passing through the inspection region Q. In the right position.

ここでの欠陥検出光学系9は、回転するガラスディスク1の外周エッジ部E(図6参照)に対して、投光系3によりレーザスポットSpをディスク1の内部を通してこの内部からディスク1の外周部に投射する。レーザスポットSpによるこの照射位置が前記の検査領域Qを形成する。図3に示すように、各周面欠陥の散乱光Ljは、第1の受光系4に受光され、そしてその内部伝搬した正反射光近傍の散乱光Lkは、第2の受光系5に受光される。
ここで、第1の受光系4は、受光面42により検査領域QにおけるチャンファChUとチャンファChDにおける欠陥を検出する。一方、第2の受光系5は、受光面52により外周側面の欠陥を検出する。このようにチャンファの欠陥と外周側面の欠陥を検出する受光系をそれぞれに設けて2系統に分けることで、小さな欠け欠陥、割れ欠陥をより高い精度で検出することができる。また、ディスク1の内部からの照射光により検査領域Qで発生する散乱光を得ることで付着異物の検出を阻止する。これは、ディスク1の内側には異物は付着しないからである。欠け欠陥、割れ欠陥のある外周位置に同時に異物が付着していてもその散乱光は、ディスク周面あるいは端面を境界面として全反射されるため、光ファイバ41の受光面42および光ファイバ51の受光面52には到達しない。したがって、前記の検出光学系で検出される欠陥は、外周エッジ部の欠け欠陥、割れ欠陥がほとんどである。
Here, the defect detection optical system 9 is configured such that a laser spot Sp is passed through the inside of the disk 1 by the light projecting system 3 to the outer peripheral edge E (see FIG. 6) of the rotating glass disk 1 from the inside to the outer periphery of the disk 1 Project to the part. This irradiation position by the laser spot Sp forms the inspection region Q. As shown in FIG. 3, the scattered light Lj of each peripheral surface defect is received by the first light receiving system 4, and the scattered light Lk in the vicinity of the specularly reflected light propagated therein is received by the second light receiving system 5. Is done.
Here, the first light receiving system 4 detects defects in the chamfer ChU and chamfer ChD in the inspection region Q by the light receiving surface 42. On the other hand, the second light receiving system 5 detects defects on the outer peripheral side surface by the light receiving surface 52. Thus, by providing a light receiving system for detecting a chamfer defect and a defect on the outer peripheral side surface, and dividing them into two systems, small chip defects and crack defects can be detected with higher accuracy. Further, the scattered light generated in the inspection region Q is obtained by the irradiation light from the inside of the disk 1, thereby preventing the detection of adhered foreign matter. This is because no foreign matter adheres to the inside of the disk 1. Even if foreign matter is simultaneously attached to the outer peripheral position having a chip defect or a crack defect, the scattered light is totally reflected with the peripheral surface or end face of the disk as a boundary surface, so that the light receiving surface 42 of the optical fiber 41 and the optical fiber 51 It does not reach the light receiving surface 52. Therefore, the defects detected by the detection optical system are mostly chip defects and crack defects at the outer peripheral edge portion.

図2は、この場合のディスク1の内部からディスク1の外周部に投射する投光系3の説明図である。
図2(a)において、31は、光学系3のレーザ光源であり、内部に集束レンズを有していて、そのレーザビーム32の焦点がFである。レーザビーム32は、焦点Fに収束された後にディスク1の外周面1cの入射位置PにレーザスポットSpとして入射する。ここで、ディスク1を3.3インチとし、その厚さtをt=1.27mmとする。
外周面1cの入射位置PでのレーザスポットSpは、長径が1.0mm程度の幅の楕円になっていて、その長径がチャンファChU,ChD部分を除いた外周面1cの高さZ1(図2(b)参照)に対応し、図1に示すように、例えば、θi=45゜で斜めに入射される。
FIG. 2 is an explanatory diagram of the light projecting system 3 that projects from the inside of the disk 1 to the outer periphery of the disk 1 in this case.
In FIG. 2A, reference numeral 31 denotes a laser light source of the optical system 3, which has a focusing lens therein, and the focal point of the laser beam 32 is F. The laser beam 32 is converged on the focal point F and then enters the incident position P of the outer peripheral surface 1c of the disk 1 as a laser spot Sp. Here, the disk 1 is 3.3 inches, and its thickness t is t = 1.27 mm.
The laser spot Sp at the incident position P of the outer peripheral surface 1c is an ellipse having a major axis having a width of about 1.0 mm, and the major axis has a height Z1 of the outer peripheral surface 1c excluding the chamfers ChU and ChD (FIG. 2). Corresponding to (b)), as shown in FIG. 1, for example, it is incident obliquely at θi = 45 °.

図2(b)に示すように、このとき、焦点Fで収束された後にレーザビーム32のレーザスポットSpは、ディスク表面に平行な線に対して角度θpにされて外周面1cに高さZ1で照射される。そして屈折してディスク内部に入り、内部で角度θqとなり、入射位置Pから検査領域Qに至り、検査領域QにおいてチャンファChU,ChD部分と外周側面1cとをカバーする高さZ2にする。このような関係になる、角度θpと焦点Fとの位置関係が設定される。
これにより、得られる散乱光は、実質的に外周エッジに発生する欠け欠陥あるいは割れ欠陥に限定することができ、ディスク1の表面あるいは裏面に付着した異物からの散乱光の影響は発生しない。
このように入射光θpを全反射角より小さくして斜めに入射させれば、ディスク1の表面あるいは裏面側から外部に出る光の割合が小さくて済む。その結果、ディスク1の表面あるいは裏面の付着異物からの散乱光は減少し、付着異物が検出される割合が少なくなる。
なお、外周面1cに対するレーザビーム32の入射光の角θpをディスク1の表面あるいは裏面に対する全反射角よりも大きく採ってもよい。ディスク1の内部に入射した光は、表面内側と裏面内側とで全反射してディスク1の外にはほとんど出ないからである。
図1に示すように、このとき、ディスク内部に入射した光は、ガラスの屈折率n=1.536に従って屈折して、キャリッジの進行方向であるY軸との交点に一致する検査領域Qに照射される。
As shown in FIG. 2B, at this time, after being focused at the focal point F, the laser spot Sp of the laser beam 32 is at an angle .theta.p with respect to a line parallel to the disk surface and has a height Z1 on the outer peripheral surface 1c. Irradiated with. Then, it refracts and enters the inside of the disk, becomes an angle θq inside, reaches the inspection area Q from the incident position P, and has a height Z2 that covers the chamfers ChU and ChD and the outer peripheral side surface 1c in the inspection area Q. The positional relationship between the angle θp and the focal point F that satisfies this relationship is set.
Thereby, the obtained scattered light can be substantially limited to the chip defect or crack defect generated at the outer peripheral edge, and the influence of the scattered light from the foreign matter adhering to the front surface or the back surface of the disk 1 does not occur.
As described above, if the incident light θp is made smaller than the total reflection angle and is incident obliquely, the ratio of the light that exits from the front surface or the back surface of the disk 1 can be reduced. As a result, the scattered light from the attached foreign matter on the front surface or the back surface of the disk 1 is reduced, and the rate of detecting the attached foreign matter is reduced.
The angle θp of the incident light of the laser beam 32 with respect to the outer peripheral surface 1 c may be set larger than the total reflection angle with respect to the front surface or the back surface of the disk 1. This is because the light incident on the inside of the disc 1 is totally reflected on the inner side of the front surface and the inner side of the back surface and hardly comes out of the disc 1.
As shown in FIG. 1, at this time, the light incident on the inside of the disk is refracted according to the refractive index n = 1.536 of the glass, and enters the inspection region Q that coincides with the intersection with the Y axis that is the carriage traveling direction. Irradiated.

図3は、第1,第2の受光系4,5の部分の説明図である。
図3(a)に示されるように、第1の受光系4は、光ファイバ41を有していて、外周エッジ部の検査領域Qにおける下側のチャンファChDの面に実質的に平行になる角度θjに設定されている。すなわち、ディスク1の表面からθj≒40゜の角度に設定され、かつ表面上部から15mm程度の高さで、さらにディスクの外周エッジから24mm程度離れたところに光ファイバ41の受光面42が配置されている。これにより、受光面42は、下側のチャンファChDの面に対峙する。
そして、光ファイバ41の後端部が光ファイバ受光器(APD受光モジュール)43に内蔵されたアバランシェ・フォトダイオード(APD)の受光面に接続されている。
なお、図3(a)の白抜き実線矢印は、検査領域Qに対するレーザスポットSpの入射光であり、点線の矢印は、検査領域Qを透過するレーザスポットSpの透過直接光である。
一方、第2の受光系5も、図3(b)に示されるように、光ファイバ51を有している。そして、第2の受光系5は、ディスク1の内部において検査領域(受光面)Qから正反射光(内部伝搬反射光)を受ける出射位置Rより、さらにずれた検出位置S(受光位置)に設定され、ディスク1の下側のチャンファChDに実質的に平行となる角度θkに設定され、すなわち、裏面からθk≒約40゜の上方に設定され、かつ表面から15mm程度の高さで、さらにディスクの外周エッジ(その端面)から24mm程度離れたところに光ファイバ51の受光面52が配置されている。そして、光ファイバ51の後端部が光ファイバ受光器(APD受光モジュール)53に内蔵されたアバランシェ・フォトダイオード(APD)の受光面に接続されている。
FIG. 3 is an explanatory diagram of the first and second light receiving systems 4 and 5.
As shown in FIG. 3A, the first light receiving system 4 includes an optical fiber 41, and is substantially parallel to the surface of the lower chamfer ChD in the inspection region Q at the outer peripheral edge portion. The angle θj is set. That is, the light receiving surface 42 of the optical fiber 41 is disposed at an angle of θj≈40 ° from the surface of the disk 1 and at a height of about 15 mm from the upper surface and at a distance of about 24 mm from the outer peripheral edge of the disk. ing. As a result, the light receiving surface 42 faces the surface of the lower chamfer ChD.
The rear end of the optical fiber 41 is connected to the light receiving surface of an avalanche photodiode (APD) built in the optical fiber light receiver (APD light receiving module) 43.
In FIG. 3A, the white solid arrow indicates the incident light of the laser spot Sp with respect to the inspection region Q, and the dotted arrow indicates the direct transmitted light of the laser spot Sp that passes through the inspection region Q.
On the other hand, the second light receiving system 5 also has an optical fiber 51 as shown in FIG. The second light receiving system 5 is located at a detection position S (light receiving position) that is further deviated from the emission position R that receives specularly reflected light (internally propagated reflected light) from the inspection region (light receiving surface) Q inside the disk 1. Set to an angle θk substantially parallel to the lower chamfer ChD on the lower side of the disk 1, that is, set to be above θk≈about 40 ° from the back surface and at a height of about 15 mm from the front surface, The light receiving surface 52 of the optical fiber 51 is disposed at a position about 24 mm away from the outer peripheral edge (the end surface) of the disk. The rear end of the optical fiber 51 is connected to the light receiving surface of an avalanche photodiode (APD) built in the optical fiber light receiver (APD light receiving module) 53.

なお、前記角θj,角θkは、チャンファと外周側面それぞれの散乱光を受ける角度であればよく、透過光あるいは正反射光を避ける角度であって、かつ、多くの散乱光が受光される角度がよい。角度が選択できる範囲としては、ディスク1の表面あるいは裏面に対して20゜〜60゜程度である。
ところで、外周エッジ部の検査領域Qでディスク1の内部の方向に反射した光は図3(c)に示すように、ディスク内部で全反射しかつ散乱しながら正反射光LRに沿って進む。そこで、この散乱光を捕らえる適切な位置として前記オフセットOFが必要になる。さらに、検査領域Qで発生した散乱光は、ディスク1の外に出ることなく、内部散乱光となって、外周面内側と内周面内側との間で多重反射して回り込み、前記オフセットOFを設定した検出位置Sに至る。
The angles θj and θk may be angles that receive scattered light from the chamfer and the outer side surface, and are angles that avoid transmitted light or regular reflected light, and are angles at which a lot of scattered light is received. Is good. The range in which the angle can be selected is about 20 ° to 60 ° with respect to the front or back surface of the disk 1.
By the way, as shown in FIG. 3C, the light reflected in the direction inside the disk 1 in the inspection region Q at the outer peripheral edge part travels along the regular reflection light LR while being totally reflected and scattered inside the disk. Therefore, the offset OF is necessary as an appropriate position for capturing the scattered light. Further, the scattered light generated in the inspection region Q does not go out of the disk 1 but becomes internal scattered light, which is reflected multiple times between the outer peripheral surface inner side and the inner peripheral surface inner side. The set detection position S is reached.

図4は、正反射光の出射位置Rから所定のオフセットOFを持たせる欠陥検出の原理を説明するための平面図である。
3.3インチのディスク1の半径r=42mmとし、ガラスの屈折率n=1.536とする。そして、図4(a)において、入射角θi=45゜、図4(b)の断面図において、検出位置Sの位置からの出射角γ=40゜(=θj)、その水平面での角度α(図4(a)参照)=0゜とする。さらに、正反射光の出射位置Rの位置からのオフセットOF=10mmとし、ディスク1の中心を原点OとしてX,Y軸を採る。
FIG. 4 is a plan view for explaining the principle of defect detection having a predetermined offset OF from the emission position R of regular reflection light.
The radius r of the 3.3-inch disk 1 is set to 42 mm, and the refractive index n of the glass is set to 1.536. Then, the angle of the FIG. 4 (a), the incident angle .theta.i = 45 °, in the sectional view of FIG. 4 (b), the emission angle gamma = 40 DEG from the position of the detection position S (= θj), in its horizontal plane α (see FIG. 4A) = 0 °. Further, the offset OF from the position of the emission position R of the regular reflection light is set to 10 mm, and the X and Y axes are taken with the center of the disk 1 as the origin O.

これにより、検査領域Qの座標(Xq,Yq)は、(0,42mm)となり、入射位置Pの座標(Xp,Yp)は、(34.3286mm,−24.1981mm)となる。そして、正反射光出射位置Rの座標(Xr,Yr)は、入射位置Pに対してY軸を基準にして対称の位置(−34.3286mm,−24.1981mm)になる。その結果、検出位置Sの座標(Xs,Ys)は、Xs=−r・sinθs,Ys=-r・cosθsとなって、(−27.6351mm,−31.6275mm)となる。ただし、θL=2arcsin((L/2)/r)=13.67428゜,θs=2θt−θL=41.14588゜,L=OF=10mmである。ここに、θsは、弧P−S上の中心角を2θsとしたときの角であり、θLは、弧P−R上の中心角の1/2角と角θsとの差の角、θt=arcsin(1/n・sinθi)=27.41008゜、n=1.536である(図4参照)。
点Sの角度α=0゜,γ=40゜において、検査領域Qの外周側面近傍の座標点を点Sから点Pへ向かう逆方向の光で追跡すると、点Sに得られる反射光の座標Q’は、(−0.89097,41.99055mm)となる。
この座標Q’の位置は、座標Q(0,42mm)に対してX方向に約0.9mmと少しずれた近傍の位置となっており、散乱光の発生する位置に対応している。
これにより実質的に検査領域Qの外周エッジ部の散乱光を捕らえることができる。この点Qの近傍点の位置がさらに大きくずれると、散乱光受光点から外れ、逆に検査領域Qに近すぎると正反射光を受けることになって、検査領域Qの外周側面での欠陥検出はできなくなる。
Thereby, the coordinates (Xq, Yq) of the inspection region Q are (0, 42 mm), and the coordinates (Xp, Yp) of the incident position P are (34.3286 mm, −24.1981 mm). The coordinates (Xr, Yr) of the regular reflection light emission position R are symmetrical positions (−34.3286 mm, −24.1981 mm) with respect to the incident position P with respect to the Y axis. As a result, the coordinates (Xs, Ys) of the detection position S are Xs = −r · sin θs and Ys = −r · cos θs (−27.6351 mm, −31.6275 mm). However, θL = 2arcsin ((L / 2) / r) = 13.67428 °, θs = 2θt−θL = 41.14588 °, and L = OF = 10 mm. Here, θs is an angle when the central angle on the arc PS is 2θs, θL is the angle between the half angle of the central angle on the arc PR and the angle θs, θt = Arcsin (1 / n · sinθi) = 27.41008 ° and n = 1.536 (see FIG. 4).
When the coordinate point in the vicinity of the outer peripheral side surface of the inspection region Q is traced with light in the reverse direction from the point S to the point P at the angles α = 0 ° and γ = 40 ° of the point S, the coordinates of the reflected light obtained at the point S Q ′ is (−0.89097, 41.99055 mm).
The position of the coordinate Q ′ is a position near the coordinate Q (0, 42 mm) that is slightly shifted by about 0.9 mm in the X direction, and corresponds to the position where scattered light is generated.
Thereby, the scattered light of the outer peripheral edge part of the test | inspection area | region Q can be caught substantially. If the position of the point in the vicinity of this point Q deviates further, it will deviate from the scattered light receiving point, and conversely, if it is too close to the inspection region Q, it will receive regular reflection light, and defect detection on the outer peripheral side surface of the inspection region Q Can not.

さて、図1に戻り、それぞれの光ファイバ受光器43,53の検出信号は、アンプ44,54を介してそれぞれ欠陥検出回路6に入力される。欠陥検出回路6は、アンプ44からの検出信号をバンドパスフィルタ(BPF)61a,61bでそれぞれ受けてコンパレータ(COM)62a,62bでそれぞれの検出信号から閾値Tha,Thbを越えた信号を欠陥検出信号として検出信号Da,Dbを発生する。なお、ここでの閾値Tha,Thbは、ノイズ除去のために設けられているものであって、制御回路7から設定される。
検出信号Da,Dbは、それぞれにビットデータとしてデータサンプリングクロック発生回路75からのサンプリングクロックに応じてサンプリングされて欠陥メモリ63に記憶される。
欠陥検出回路6は、周面欠陥ばかりでなく、ディスク1の表面欠陥検出回路として動作するものである。ここでは、この同じ検出回路6を利用して周面欠陥を検出する。
Now, returning to FIG. 1, the detection signals of the respective optical fiber receivers 43 and 53 are input to the defect detection circuit 6 via the amplifiers 44 and 54, respectively. The defect detection circuit 6 receives detection signals from the amplifier 44 by bandpass filters (BPF) 61a and 61b, and comparators (COM) 62a and 62b detect defects from the detection signals that exceed the thresholds Tha and Thb. Detection signals Da and Db are generated as signals. Here, the threshold value Tha, Thb of, there is provided for noise removal, Ru is set from the control circuit 7.
The detection signals Da and Db are each sampled as bit data according to the sampling clock from the data sampling clock generation circuit 75 and stored in the defective memory 63.
The defect detection circuit 6 operates not only as a peripheral surface defect but also as a surface defect detection circuit of the disk 1. Here, a peripheral surface defect is detected using the same detection circuit 6.

7は、制御回路であり、内部に、インタフェース71と、Yテーブル駆動回路72、スピンドルモータ駆動回路73、R・θ座標発生回路74、データサンプリングクロック発生回路75とからなる。前記の閾値Tha,Thbは、データ処理装置8からデータとして制御回路7に送出される。
そして、制御回路7は、Yテーブル駆動回路72によりY軸方向(半径R方向)にスピンドル2を移動させるY移動機構のモータ76を駆動して、モータ76に設けられたエンコーダ77からR・θ座標発生回路74がY方向(半径R方向)の座標位置信号を得る。また、スピンドルモータ駆動回路73によりスピンドルモータ78を駆動してスピンドル2を回転させる。そして、スピンドルモータ78に設けられたエンコーダ79からR・θ座標発生回路74がθ方向の座標位置信号と、回転基準となるインデックス信号とを得る。
制御回路7は、インタフェース71を介してデータ処理装置8から制御される。
このような制御回路7において、周面欠陥を検出する場合には、Yテーブル駆動回路72は移動されることなく、固定値rに設定される。そして、インデックス信号に応じて1周分の欠陥データが欠陥メモリ63に採取される。
A control circuit 7 includes an interface 71, a Y table drive circuit 72, a spindle motor drive circuit 73, an R / θ coordinate generation circuit 74, and a data sampling clock generation circuit 75. The thresholds Tha and Thb are sent from the data processing device 8 to the control circuit 7 as data.
Then, the control circuit 7 drives the motor 76 of the Y moving mechanism that moves the spindle 2 in the Y-axis direction (radius R direction) by the Y table driving circuit 72, and outputs R · θ from the encoder 77 provided in the motor 76. The coordinate generation circuit 74 obtains a coordinate position signal in the Y direction (radius R direction). Further, the spindle motor 78 is driven by the spindle motor driving circuit 73 to rotate the spindle 2. The R / θ coordinate generation circuit 74 obtains a coordinate position signal in the θ direction and an index signal serving as a rotation reference from an encoder 79 provided in the spindle motor 78.
The control circuit 7 is controlled from the data processing device 8 via the interface 71.
In such a control circuit 7, when a peripheral surface defect is detected, the Y table drive circuit 72 is set to a fixed value r without being moved. Then, the defect data for one round is collected in the defect memory 63 according to the index signal.

以下、これについて詳細に説明する。
R・θ座標発生回路74は、インタフェース71を介してデータ処理装置8から制御信号を受けて周面欠陥検出動作に入る。そして、ディスク1の回転基準位置であるインデックス信号をエンコーダ79から得て、この信号に応じてデータサンプリングクロック発生回路75を駆動し、これに所定の周期のサンプリングクロックを発生させる。発生したサンプリングクロックは、欠陥メモリ63に供給されて、そのアドレスをサンプリングクロックの周期で更新して、更新した各アドレス位置に検出信号Da,Dbのビットデータを順次それぞれに記憶させる。そして、R・θ座標発生回路74は、インデックス信号の発生を基準として1回転分の検査が終了した時点でインタフェース71に検査終了信号を送出し、同時に停止信号をデータサンプリングクロック発生回路75に送出してサンプリングクロック発生動作を停止させる。
インタフェース71は、R・θ座標発生回路から検査終了信号を受けて、これに応じて欠陥メモリ63から欠陥検出信号Da,Dbについての各1周分の欠陥検出データを読出して最初のデータ位置をディスク1の回転基準としてデータ処理装置8に、欠陥検出信号Da,Dbによる2系統の欠陥データを送出する。
This will be described in detail below.
The R · θ coordinate generation circuit 74 receives a control signal from the data processing device 8 via the interface 71 and enters a peripheral surface defect detection operation. Then, an index signal which is the rotation reference position of the disk 1 is obtained from the encoder 79, and the data sampling clock generation circuit 75 is driven in accordance with this signal, thereby generating a sampling clock having a predetermined cycle. The generated sampling clock is supplied to the defective memory 63, the address is updated at the sampling clock cycle, and the bit data of the detection signals Da and Db are sequentially stored in the updated address positions. Then, the R · θ coordinate generation circuit 74 sends an inspection end signal to the interface 71 when the inspection for one rotation is completed with reference to the generation of the index signal, and simultaneously sends a stop signal to the data sampling clock generation circuit 75. Then, the sampling clock generation operation is stopped.
The interface 71 receives the inspection end signal from the R · θ coordinate generation circuit, and in response to this, reads out the defect detection data for each round of the defect detection signals Da and Db from the defect memory 63 to determine the first data position. Two types of defect data based on the defect detection signals Da and Db are sent to the data processing device 8 as the rotation reference of the disk 1.

データ処理装置8は、MPU81とメモリ82、CRTディスプレイ83、キーボード84等からなり、これらが相互にバス85を介して接続されている。そして、メモリ82には、欠陥分類プログラム82a、欠陥大きさ判定プログラム82b、欠陥マップ表示プログラム82c等が設けられ、さらにディスク1の立体画像データ82dが設けられている。
欠陥分類プログラム82aは、MPU81により実行されて、MPU81は、欠陥検出信号Da,Dbについての各1周分の欠陥検出データを受けて、それぞれ欠陥検出信号Da側の欠陥をチャンファChUとチャンファChDのチャンファ部分の欠陥とし、欠陥検出信号Db側の欠陥を外周側面(端面)の欠陥として分類する。さらに、サンプリングクロックの周波数に対応して各欠陥データ位置の外周座標(θ座標)を算出して欠陥データの位置を算出する。なお、このときの検出分解能は、サンプリングクロックの周波数により決定され、高い分解能に設定できる。
The data processing device 8 includes an MPU 81, a memory 82, a CRT display 83, a keyboard 84, and the like, which are connected to each other via a bus 85. The memory 82 includes a defect classification program 82a, a defect size determination program 82b, a defect map display program 82c, and the like, and further includes stereoscopic image data 82d of the disc 1.
The defect classification program 82a is executed by the MPU 81, and the MPU 81 receives the defect detection data for one rotation for each of the defect detection signals Da and Db, and determines the defects on the defect detection signal Da side as chamfer ChU and chamfer ChD, respectively. The defect on the chamfer part is classified, and the defect on the defect detection signal Db side is classified as a defect on the outer peripheral side surface (end surface). Further, the position of the defect data is calculated by calculating the outer peripheral coordinate (θ coordinate) of each defect data position corresponding to the frequency of the sampling clock. The detection resolution at this time is determined by the frequency of the sampling clock and can be set to a high resolution.

MPU81は、次に欠陥大きさ判定プログラム82bを実行して、欠陥分類プログラム82aの実行によって分類されたチャンファ部分の欠陥と端面(外周側面)の欠陥とを共に参照してこれら2系統のデータについて、欠陥ビットの連続性をみてその連続性によりグルーピングして大きさを判定する。このとき、チャンファ部分の欠陥と端面の欠陥との間の連続性も判定されてこれらが1つの欠陥とされる。ここでの欠陥の大きさは、例えば、5段階のものとされる。MPU81は、次に欠陥マップ表示プログラム82cを実行してディスク1の立体画像映像の上に検出基準位置(インデックス信号の発生位置)を基準として重ねてマップ表示する。このとき、チャンファ部分の欠陥と端面の欠陥とが色分けされ、さらにグルーピングされた大きな欠陥は、5段階にわけられた大きさの図形でそれぞれに表示される。
もちろん、チャンファ部分の欠陥と端面の欠陥が1つになったときには両方の色が重ね合わされる。
Next, the MPU 81 executes the defect size determination program 82b and refers to both the chamfer part defect and the end face (outer peripheral surface) defect classified by the execution of the defect classification program 82a. The size of the defective bits is determined by grouping according to the continuity of the defective bits. At this time, the continuity between the defect of the chamfer part and the defect of the end face is also determined, and these are regarded as one defect. Here, the size of the defect is, for example, 5 levels. Next, the MPU 81 executes the defect map display program 82c to display the map by superimposing the detection reference position (index signal generation position) on the stereoscopic image video of the disk 1 as a reference. At this time, the defect of the chamfer part and the defect of the end face are color-coded, and the large grouped defect is displayed as a graphic divided into five levels.
Of course, when the defect of the chamfer part and the defect of the end face become one, both colors are superimposed.

図5は、内周面の欠陥を検出するこの発明の他の一実施例の説明図である。
レーザスポットSpの入射角θiは、18.4゜であり、ディスク1の照射面で屈折して内部に進入したレーザビームLtが検査領域(ディスク内周面の内側の受光面)Qの位置で実質的に45゜で照射するように設定されている。しかも、レーザビームLtは、入射レーザビームが入射点Pで屈折なしに直進した方向(図5の一点鎖線参照)において、その直進光がディスク1の内周面Nに接触しないで近づくように設定され、内周面Nに最も近づいた内周面Nに照射されない位置H(点H)でその直進光がディスク1の半径線とクロスするようにその入射角θiが設定されている。このような条件に設定すると、内周面の検査領域Qに対して大きな角度の入射レーザビームを照射することができる。それにより、内部の反射光の反射率が大きくなり、その分、散乱光を増加する。なお、その直進光が内周面Nに接触すると、その分、ディスク1の内部での外乱光が増加する。
そこで、図示するように、クロスするディスク1の半径線と外周との交点が反射光の出射位置Rとなるようにして、逆算して入射角θiを求めると、最適なθi=18.4゜となる。
これにより、図示するように、ここでの検査領域Qは、ディスクlの内周面の内側に設定され、ここに入射点Pで屈折したレーザスポットSpが照射される。
ここで、図4の場合と同様に、ディスク1を3.3インチのディスクとして、半径r=42mmとし、ガラスの屈折率n=1.536とする。θa=38.7゜,θb=12.1゜,θp=32.8゜,θs=20.3゜であり、点Qへの照射角θqは、θq=45゜となる。
なお、内径ri=12.5mm,P点の座標は(22.783,−35.283)であり、点Hの座標は(−8.298,−10.340)である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of another embodiment of the present invention for detecting defects on the inner peripheral surface.
The incident angle θi of the laser spot Sp is 18.4 °, and the laser beam Lt refracted on the irradiation surface of the disk 1 and enters the inside is at the position of the inspection region (light receiving surface inside the inner peripheral surface of the disk) Q. It is set to irradiate at substantially 45 °. In addition, the laser beam Lt is set so that the straightly traveling light approaches the inner peripheral surface N of the disk 1 without contacting it in the direction in which the incident laser beam travels straight without refraction at the incident point P (see the dashed line in FIG. 5). The incident angle θi is set so that the straight light crosses the radial line of the disk 1 at a position H (point H) where the inner peripheral surface N closest to the inner peripheral surface N is not irradiated. If such conditions are set, it is possible to irradiate an incident laser beam having a large angle with respect to the inspection region Q on the inner peripheral surface. Thereby, the reflectance of the internal reflected light is increased, and the scattered light is increased accordingly. When the straight light comes into contact with the inner peripheral surface N, the disturbance light inside the disk 1 increases accordingly.
Therefore, as shown in the figure, when the intersection angle between the radial line of the disk 1 and the outer periphery is the reflected light emission position R, the incident angle θi is calculated in reverse and the optimum θi = 18.4 °. It becomes.
As a result, as shown in the drawing, the inspection region Q here is set inside the inner peripheral surface of the disk l and irradiated with the laser spot Sp refracted at the incident point P.
Here, as in the case of FIG. 4, the disk 1 is a 3.3 inch disk, the radius r is 42 mm, and the refractive index n of the glass is 1.536. θa = 38.7 °, θb = 12.1 °, θp = 32.8 °, θs = 20.3 °, and the irradiation angle θq to the point Q is θq = 45 °.
The inner diameter ri = 12.5 mm, the coordinates of the point P are (22.783, -35.283), and the coordinates of the point H are (-8.298, -10.340).

ところで、この図では、第1の受光系4と第2の受光系5について図示していないが、それぞれは、図1と同様に設けられている。検査領域Qと第1の受光系4との位置関係、そして第2の受光系5と検出位置S(点S)との位置関係は、図1に示すものと同様となるので、その説明は割愛する。また、出射位置R(点R)と検出位置S(点S)とのオフセットOFも図1の実施例と同様に10mm程度である。
このような構成により、ディスク1の内周面の欠陥を検出することができる。
なお、入射角θiは、ディスク1の外径rと内径riと入射点Pの位置により決定されるものであり、3.3インチのディスクでは、θi=15゜〜20゜程度の範囲が好ましい。
Incidentally, in this figure, the first light receiving system 4 and the second light receiving system 5 are not shown, but each is provided in the same manner as in FIG. The positional relationship between the inspection region Q and the first light receiving system 4 and the positional relationship between the second light receiving system 5 and the detection position S (point S) are the same as those shown in FIG. Omit. Further, the offset OF between the emission position R (point R) and the detection position S (point S) is about 10 mm as in the embodiment of FIG.
With such a configuration, a defect on the inner peripheral surface of the disk 1 can be detected.
The incident angle .theta.i is determined by the outer diameter r and inner diameter ri of the disk 1 and the position of the incident point P. For a 3.3 inch disk, the range of .theta.i = 15 DEG to 20 DEG is preferable. .

以上により、両受光系4,5のいずれか、または両者に受光された各散乱光Lj,Lkの受光信号は、欠陥検出回路6で制御回路7によりに設定された閾値Tha,Thbと比較されて検出され、制御回路7を介してデータ処理装置8に送られて分類され、大きさが判定されて、マップ表示される。
図1の実施例では、出射位置Rと入射位置Pとの間に受光位置Sを設けた例を示しているが、受光位置Sが出射位置Rと検査領域Qとの間に設けられていてもよい。同様に、図5の実施例では、入射位置Pに対して出射位置Rの後ろ側に受光位置Sが設けられていてもよい。
また、実施例では、受光系として光ファイバを用いた受光器を設けているが、これは、光ファイバを用いた受光器に限定されるものではなく、イメージセンサ等の各種の受光素子、受光器を用いることができる。
また、実施例では、レーザ光源によりレーザスポットを検査領域に照射しているが、この発明は、このようなレーザスによるポットに限定されるものではなく、光ビーム一般を用いてもよいことはもちろんである。
ところで、実施例では、ガラスディスクを例としているが、ガラス基板に磁性層、保護層を被着した最終製品の磁気ディスクの状態でも光透過性があるので、この発明での検出対象としてよい。さらに、この発明は、このようなガラスディスクに限定されるものではなく、透光性ディスク一般の内周あるいは外周のエッジの欠陥検査に適用できることはもちろんである。
なお、この明細書での欠陥という言葉は、欠損や欠落のみならず疵一般に対する広義の概念として使用するものであって、これについては特許請求の範囲における語も同様である。
As described above, the received light signals of the scattered light Lj and Lk received by either or both of the light receiving systems 4 and 5 are compared with the thresholds Tha and Thb set by the control circuit 7 in the defect detection circuit 6. Are detected, sent to the data processing device 8 via the control circuit 7, classified, determined in size, and displayed on a map.
In the embodiment of FIG. 1, an example in which the light receiving position S is provided between the emission position R and the incident position P is shown. However, the light reception position S is provided between the emission position R and the inspection region Q. Also good. Similarly, in the embodiment of FIG. 5, the light receiving position S may be provided behind the emission position R with respect to the incident position P.
In the embodiment, a light receiver using an optical fiber is provided as a light receiving system, but this is not limited to a light receiver using an optical fiber, and various light receiving elements such as an image sensor, Can be used.
In the embodiment, the laser spot is irradiated to the inspection region by the laser light source. However, the present invention is not limited to such a laser pot and of course a general light beam may be used. It is.
By the way, in the embodiments, a glass disk is taken as an example, but since it is light transmissive even in the state of a final product magnetic disk in which a magnetic layer and a protective layer are attached to a glass substrate, it may be a detection target in the present invention. Furthermore, the present invention is not limited to such a glass disk, and it is needless to say that the present invention can be applied to defect inspection of the inner or outer peripheral edge of a general translucent disk.
The term “defect” in this specification is used not only as a deficiency or a deficiency but also as a broad concept for the general public, and this also applies to the term in the claims.

図1は、この発明の検出光学系を適用したガラスディスク検査装置の一実施例の説明図である。FIG. 1 is an explanatory view of an embodiment of a glass disk inspection apparatus to which the detection optical system of the present invention is applied. 図2は、その投光系部分の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of the light projecting system portion. 図3は、その受光系部分の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of the light receiving system portion. 図4は、ディスクの反射光出射位置から所定のオフセットOFを持たせて欠陥を検出する原理説明の平面図である。FIG. 4 is a plan view for explaining the principle of detecting a defect with a predetermined offset OF from the reflected light emission position of the disk. 図5は、内周面の欠陥を検出するこの発明の他の一実施例の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of another embodiment of the present invention for detecting defects on the inner peripheral surface. 図6は、ガラスディスクの外周エッジ部Eと、その欠陥Rの説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of the outer peripheral edge E of the glass disk and the defect R thereof. 図7は、ガラス基板を用いる磁気ディスクの製造工程の一例の説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of an example of a manufacturing process of a magnetic disk using a glass substrate.

符号の説明Explanation of symbols

1…ガラスディスク、1a …上側の表面、1b …下側の表面(裏面)、
1c …周面、2…スピンドル、
3…投光系、4…第1の受光系、5…第2の受光系、
6…欠陥検出回路、7…制御回路、
8…データ処理装置、9…欠陥検出光学系、
10…欠陥検査装置、
31…レーザ光源、32…レーザビーム、
41,51…光ファイバ、42,52…受光面、
43,53…光ファイバ受光器、44,54…アンプ、
61a,61b…バンドパスフィルタ(BPF)、
62a,62b…コンパレータ、
63…欠陥メモリ、
71…インタフェース、72…Yテーブル駆動回路、
73…スピンドルモータ駆動回路、
74…R・θ座標発生回路、
75…データサンプリングクロック発生回路、
76…Y移動機構のモータ、77,79…エンコーダ、
ChU…上側の周縁部(チャンファー)、
ChD…下側の周縁部(チャンファー)、
81…MPU、82…メモリ、
83…CRTディスプレイ、84…キーボード、
82a…欠陥分類プログラム、
82b…欠陥大きさ判定プログラム、
82c…欠陥マップ表示プログラム。
LT …レーザビーム、Sp …レーザスポット、
θT …入射角、θR …正反射角または受光角、
Lj,Lk…散乱光。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass disk, 1a ... Upper surface, 1b ... Lower surface (back surface),
1c ... peripheral surface, 2 ... spindle,
3 ... light projecting system, 4 ... first light receiving system, 5 ... second light receiving system,
6 ... Defect detection circuit, 7 ... Control circuit,
8 ... Data processing device, 9 ... Defect detection optical system,
10: Defect inspection device,
31 ... Laser light source, 32 ... Laser beam,
41, 51 ... optical fiber, 42, 52 ... light receiving surface,
43, 53 ... optical fiber receiver, 44, 54 ... amplifier,
61a, 61b ... band pass filter (BPF),
62a, 62b ... comparators,
63 ... defective memory,
71 ... interface, 72 ... Y table drive circuit,
73 ... Spindle motor drive circuit,
74. R / θ coordinate generation circuit,
75: Data sampling clock generation circuit,
76: Y moving mechanism motor, 77, 79 ... encoder,
ChU ... Upper peripheral edge (Chamfer),
ChD: Lower peripheral edge (Chamfer),
81 ... MPU, 82 ... memory,
83 ... CRT display, 84 ... Keyboard,
82a ... defect classification program,
82b ... Defect size determination program,
82c ... Defect map display program.
LT ... laser beam, Sp ... laser spot,
θT… incident angle, θR… regular reflection angle or light receiving angle,
Lj, Lk ... scattered light.

Claims (3)

検査対象となる透光性ディスクの周面に対して所定の入射角で光ビームを入射して前記ディスクの内部を通して前記ディスクの外周面あるいは内周面の検査領域に内側から前記光ビームを照射する投光系と、
前記ディスクの内部に対して外部で前記検査領域の近傍に設けられ前記検査領域からの散乱光を受光する第1の受光系と、
第2の受光系とを備え
前記光ビームはレーザ光であってスポットとされ、前記光ビームのスポットが入射する前記周面は前記外周面であり、前記第1の受光系は、回転する前記ディスクにおいて前記検査領域からの散乱光を受光し、
前記ディスクはガラスディスクであり、前記スポットは、前記外周面のうちの外周側面に入射し、
前記第2の受光系は、前記検査領域を通る前記ディスクの直径線に対して前記外周側面における前記スポットの入射位置と対称な外周側面の位置からさらに所定のオフセット分離れた位置において前記ディスクの外部に放出される前記ディスクの内部を伝搬した前記検査領域からの散乱光を前記ディスクの外部で受光し、
前記第1の受光系の受光面は、前記ディスクのチャンファにおける欠陥を検出するために前記ディスクの裏面側の前記チャンファの面に対向するように設定され、
前記ディスクの内周側面あるいは前記外周側面の欠陥を検出するために前記第2の受光系の受光面は、前記ディスクの裏面側の前記チャンファの面に対して実質的に垂直になるように設定されている透光性ディスクの周面欠陥検出光学系。
A light beam is incident on the peripheral surface of the translucent disc to be inspected at a predetermined incident angle, and the optical beam is irradiated from the inside to the inspection area of the outer peripheral surface or the inner peripheral surface of the disc through the inside of the disc. A floodlighting system,
A first light receiving system that is provided in the vicinity of the inspection area outside the inside of the disk and receives scattered light from the inspection area ;
A second light receiving system ,
The light beam is a laser beam, which is a spot, the peripheral surface on which the light beam spot is incident is the outer peripheral surface, and the first light receiving system is scattered from the inspection region in the rotating disk. Receive light,
The disk is a glass disk, and the spot is incident on an outer peripheral side surface of the outer peripheral surface,
The second light receiving system has a predetermined offset separation from the position of the outer peripheral side surface symmetrical to the incident position of the spot on the outer peripheral side surface with respect to the diameter line of the disk passing through the inspection region. The scattered light from the inspection area that has propagated inside the disk emitted to the outside is received outside the disk,
The light receiving surface of the first light receiving system is set to face the surface of the chamfer on the back side of the disk in order to detect defects in the chamfer of the disk,
The light receiving surface of the second light receiving system is set so as to be substantially perpendicular to the surface of the chamfer on the back surface side of the disc in order to detect defects on the inner peripheral side surface or the outer peripheral side surface of the disc. An optical system for detecting a peripheral surface defect of a translucent disc.
検査対象となる透光性ディスクの周面に対して所定の入射角で光ビームを入射して前記ディスクの内部を通して前記ディスクの外周面あるいは内周面の検査領域に内側から前記光ビームを照射する投光系と、
前記ディスクの内部に対して外部で前記検査領域の近傍に設けられ前記検査領域からの散乱光を受光する第1の受光系と、
第2の受光系とを備え
前記光ビームはレーザ光であってスポットとされ、前記光ビームのスポットが入射する前記周面は前記外周面であり、前記第1の受光系は、回転する前記ディスクにおいて前記検査領域からの散乱光を受光し、
前記ディスクはガラスディスクであり、前記スポットは、前記外周面のうちの外周側面に入射し、
前記第2の受光系は、前記検査領域を通る前記ディスクの直径線に対して前記外周側面における前記スポットの入射位置と対称な外周側面の位置からさらに所定のオフセット分離れた位置において前記ディスクの外部に放出される前記ディスクの内部を伝搬した前記検査領域からの散乱光を前記ディスクの外部で受光し、
前記第1および第2の受光系は光ファイバを有する受光器であって、前記第1の受光系の前記光ファイバの受光面は、前記ディスクのチャンファにおける欠陥を検出するために前記ディスクの裏面側の前記チャンファの面に対向するように設定され、前記ディスクの内周側面あるいは前記外周側面の欠陥を検出するために前記第2の受光系の前記光ファイバの受光面は、前記ディスクの裏面側の前記チャンファの面に対して実質的に垂直になるように設定されている透光性ディスクの周面欠陥検出光学系。
A light beam is incident on the peripheral surface of the translucent disc to be inspected at a predetermined incident angle, and the optical beam is irradiated from the inside to the inspection area of the outer peripheral surface or the inner peripheral surface of the disc through the inside of the disc. A floodlighting system,
A first light receiving system that is provided in the vicinity of the inspection area outside the inside of the disk and receives scattered light from the inspection area ;
A second light receiving system ,
The light beam is a laser beam, which is a spot, the peripheral surface on which the light beam spot is incident is the outer peripheral surface, and the first light receiving system is scattered from the inspection region in the rotating disk. Receive light,
The disk is a glass disk, and the spot is incident on an outer peripheral side surface of the outer peripheral surface,
The second light receiving system has a predetermined offset separation from the position of the outer peripheral side surface symmetrical to the incident position of the spot on the outer peripheral side surface with respect to the diameter line of the disk passing through the inspection region. The scattered light from the inspection area that has propagated inside the disk emitted to the outside is received outside the disk,
The first and second light receiving systems are light receivers having optical fibers, and the light receiving surface of the optical fiber of the first light receiving system is a back surface of the disk for detecting defects in the chamfer of the disk. The light receiving surface of the optical fiber of the second light receiving system is set to face the surface of the chamfer on the side to detect defects on the inner peripheral side surface or the outer peripheral side surface of the disc. A peripheral defect detection optical system of a translucent disc set so as to be substantially perpendicular to the surface of the chamfer on the side.
検査対象となる透光性のディスクの周面に対して所定の入射角で光ビームを入射して前記ディスクの内部を通して前記ディスクの外周面あるいは内周面の検査領域に内側から前記光ビームを照射する投光系と、
前記ディスクの内部に対して外部で前記検査領域の近傍に設けられ前記検査領域からの散乱光を受光する第1の受光系と、
前記ディスクが装着されるスピンドルを回転駆動して前記ディスクを回転させる駆動機構と、
前記ディスクが回転している状態で前記第1の受光系から検出信号を得て前記ディスクの前記検査領域での欠陥を検出する検出回路と、
第2の受光系とを備え、
前記光ビームはレーザ光であってスポットとされ、前記光ビームのスポットが入射する前記周面は前記外周面であり、
前記ディスクはガラスディスクであり、前記スポットは、前記外周面のうちの外周側面に入射し、
前記第2の受光系は、前記検査領域を通る前記ディスクの直径線に対して前記外周側面における前記光ビームスポットの入射位置と対称な外周側面の位置からさらに所定のオフセット分離れた位置において前記ディスクの外部に放出される前記ディスクの内部を伝搬した前記検査領域からの散乱光を前記ディスクの外部で受光し、
前記第1の受光系の受光面は、前記ディスクのチャンファにおける欠陥を検出するために前記ディスクの裏面側の前記チャンファの面に対向するように設定され、
前記ディスクの内周側面あるいは前記外周側面の欠陥を検出するために前記第2の受光系の受光面は、前記ディスクの裏面側の前記チャンファの面に対して実質的に垂直になるように設定されている周面欠陥検出装置。
A light beam is incident at a predetermined incident angle on the peripheral surface of the translucent disk to be inspected, and the light beam is transmitted from the inside to the inspection area on the outer peripheral surface or inner peripheral surface of the disk through the inside of the disk. A projection system to irradiate;
A first light receiving system that is provided in the vicinity of the inspection area outside the inside of the disk and receives scattered light from the inspection area;
A driving mechanism for rotating the disk by rotating a spindle on which the disk is mounted;
A detection circuit for detecting a detection signal in the inspection area of the disk by obtaining a detection signal from the first light receiving system while the disk is rotating ;
A second light receiving system,
The light beam is a laser beam as a spot, and the peripheral surface on which the light beam spot is incident is the outer peripheral surface,
The disk is a glass disk, and the spot is incident on an outer peripheral side surface of the outer peripheral surface,
The second light receiving system further includes a predetermined offset separation from a position of the outer peripheral side surface symmetrical to the incident position of the light beam spot on the outer peripheral side surface with respect to the diameter line of the disk passing through the inspection region. The scattered light from the inspection area that has propagated inside the disk emitted to the outside of the disk is received outside the disk,
The light receiving surface of the first light receiving system is set to face the surface of the chamfer on the back side of the disk in order to detect defects in the chamfer of the disk,
The light receiving surface of the second light receiving system is set so as to be substantially perpendicular to the surface of the chamfer on the back surface side of the disc in order to detect defects on the inner peripheral side surface or the outer peripheral side surface of the disc. A peripheral surface defect detection device.
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