JP4302611B2 - Combustible gas detection device and combustible gas detection method - Google Patents

Combustible gas detection device and combustible gas detection method Download PDF

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Description

本発明は、被検出雰囲気内の可燃性ガスを検出する可燃性ガス検出装置及び可燃性ガス検出方法に関するものである。   The present invention relates to a flammable gas detection device and a flammable gas detection method for detecting a flammable gas in an atmosphere to be detected.

従来、この種の可燃性ガスの検出装置においては、下記非特許文献1にて開示された燃料電池自動車用水素ガスセンサがある。この水素ガスセンサは、互いに異なる温度に制御される両サーミスタの各検出値の差分から湿度の影響度合いを求め、湿度成分を補正して水素ガスを検出するようになっている。
Masaaki Tada、他3名、「Hydrogen Sensor for Fuel Cell Vehicles(燃料電池自動車用水素ガスセンサ)」、SAE-2003-01-1137、p7-p8
Conventionally, in this type of combustible gas detection device, there is a hydrogen gas sensor for a fuel cell vehicle disclosed in Non-Patent Document 1 below. This hydrogen gas sensor detects the degree of influence of humidity from the difference between detection values of both thermistors controlled to different temperatures, and detects hydrogen gas by correcting the humidity component.
Masaaki Tada and three others, "Hydrogen Sensor for Fuel Cell Vehicles", SAE-2003-01-1137, p7-p8

ところで、上記水素ガスセンサにおいては、被検出雰囲気中の水素ガスの濃度が同じであっても、被検出雰囲気中の湿度の変動によって当該被検出雰囲気全体の熱伝導率が変動するという現象が考慮されていないため、水素ガスの検出精度が低いという不具合を招く。   By the way, in the hydrogen gas sensor, even if the concentration of hydrogen gas in the atmosphere to be detected is the same, the phenomenon that the thermal conductivity of the entire atmosphere to be detected fluctuates due to a change in humidity in the atmosphere to be detected is considered. As a result, the hydrogen gas detection accuracy is low.

そこで、本発明は、以上のようなことに対処するため、被検出雰囲気内の可燃性ガスの濃度が当該被検出雰囲気内の湿度に基づき変動することを考慮して、可燃性ガスを精度よく検出するようにした可燃性ガス検出装置及び可燃性ガス検出方法を提供することを目的とする。   Therefore, in order to cope with the above, the present invention takes into account that the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere varies based on the humidity in the detected atmosphere, and accurately detects the combustible gas. An object of the present invention is to provide a combustible gas detection device and a combustible gas detection method that detect the above.

上記課題の解決にあたり、本発明に係る可燃性ガスの検出装置は、請求項1の記載によれば、被検出雰囲気内に晒される複数の発熱抵抗体(211、221、330)を備える。   In solving the above-described problems, the combustible gas detection device according to the present invention includes a plurality of heating resistors (211, 221, 330) exposed to the detected atmosphere.

当該可燃性ガス検出装置において、複数の発熱抵抗体のうち2つの発熱抵抗体(211)の各抵抗値を互いに異なる各一定温度に対応する各値にそれぞれ維持するように当該2つの発熱抵抗体を通電制御する通電制御手段(230、240、480)と、
被検出雰囲気内の環境温度を検出する温度検出手段(390)と、
通電制御手段による通電制御状態にて生ずる上記2つの発熱抵抗体の各端子電圧の差を電圧差として算出する電圧差算出手段(420、430)と、
通電制御手段による通電制御状態にて生ずる上記2つの発熱抵抗体の各端子電圧の比を電圧比として決定する電圧比決定手段(431)と、
この電圧比決定手段による決定電圧比と温度検出手段による検出環境温度との間の関係に基づき上記被検出雰囲気内の湿度を決定する湿度決定手段(432)と、
電圧差算出手段による算出電圧差、湿度決定手段による決定湿度及び上記検出環境温度の間の関係に基づき上記被検出雰囲気内の上記可燃性ガスの濃度を算出する濃度算出手段(433、434、440)とを備えて、
この濃度算出手段の算出濃度に基づき上記可燃性ガスを検出するようにしたことを特徴とする。
In the combustible gas detection device, the two heating resistors so as to maintain the resistance values of the two heating resistors (211) among the plurality of heating resistors at respective values corresponding to different constant temperatures. Energization control means (230, 240, 480) for energization control of
Temperature detection means (390) for detecting the environmental temperature in the atmosphere to be detected;
Voltage difference calculation means (420, 430) for calculating a difference between the terminal voltages of the two heating resistors generated in the energization control state by the energization control means as a voltage difference;
Voltage ratio determining means (431) for determining, as a voltage ratio, a ratio of the respective terminal voltages of the two heating resistors generated in the energization control state by the energization control means;
Humidity determining means (432) for determining the humidity in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage ratio determined by the voltage ratio determining means and the detected environmental temperature by the temperature detecting means;
Concentration calculating means (433, 434, 440) for calculating the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage difference calculated by the voltage difference calculating means, the humidity determined by the humidity determining means, and the detected environment temperature. )
The combustible gas is detected based on the calculated concentration of the concentration calculating means.

これによれば、上記通電制御状態にて生ずる2つの発熱抵抗体の各端子電圧の差が電圧差として算出され、上記通電制御状態にて生ずる2つの発熱抵抗体の各端子電圧の比が電圧比として決定され、被検出雰囲気内の湿度が、上記決定電圧比と上記検出環境温度との間の関係に基づき決定される。そして、上記被検出雰囲気内の上記可燃性ガスの濃度が上記算出電圧差、上記決定湿度及び上記検出環境温度の間の関係に基づき算出され、この算出濃度に基づき可燃性ガスが検出される。   According to this, the difference between the terminal voltages of the two heating resistors generated in the energization control state is calculated as a voltage difference, and the ratio of the terminal voltages of the two heating resistors generated in the energization control state is the voltage. The humidity in the detected atmosphere is determined based on the relationship between the determined voltage ratio and the detected environment temperature. Then, the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere is calculated based on the relationship between the calculated voltage difference, the determined humidity, and the detected environment temperature, and the combustible gas is detected based on the calculated concentration.

これにより、被検出雰囲気の熱伝導率が当該被検出雰囲気内の湿度に応じて変動することを考慮して、この変動をなくするように処理して可燃性ガスを検出することとなるので、この検出精度を高く確保できる。   Thereby, considering that the thermal conductivity of the atmosphere to be detected fluctuates according to the humidity in the atmosphere to be detected, it is possible to detect combustible gas by processing to eliminate this fluctuation, This detection accuracy can be secured high.

また、本発明に係る可燃性ガス検出装置は、請求項2の記載によれば、被検出雰囲気内に晒される発熱抵抗体(211、221、330)を備える。   According to the second aspect of the present invention, the combustible gas detection device includes the heating resistor (211, 221 and 330) exposed to the detected atmosphere.

当該可燃性ガス検出装置において、発熱抵抗体の抵抗値を互いに異なる一定温度に対応する各値に時を異にして維持するように当該発熱抵抗体を間欠的に通電制御する通電制御手段(214、215、216、231、290、481)と、
上記被検出雰囲気内の環境温度を検出する温度検出手段(500、390)と、
通電制御手段による間欠的通電制御状態にて時を異にして生ずる発熱抵抗体の各端子電圧の差を電圧差として算出する電圧差算出手段(420、430)と、
通電制御手段による間欠的通電制御状態にて時を異にして生ずる発熱抵抗体の各端子電圧の比を電圧比として決定する電圧比決定手段(431)と、
この電圧比決定手段による決定電圧比と前記温度検出手段による検出環境温度との間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の湿度を決定する湿度決定手段(432)と、
前記電圧差算出手段による算出電圧差、前記湿度決定手段による決定湿度及び前記検出環境温度の間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の前記可燃性ガスの濃度を算出する濃度算出手段(433、434、440)とを備えて、
この濃度算出手段の算出濃度に基づき前記可燃性ガスを検出するようにしたことを特徴とする。
In the combustible gas detection device, energization control means (214) for intermittently energizing the heat generating resistor so as to maintain the resistance value of the heat generating resistor at different values corresponding to different constant temperatures at different times. 215, 216, 231, 290, 481), and
Temperature detecting means (500, 390) for detecting the environmental temperature in the detected atmosphere;
Voltage difference calculation means (420, 430) for calculating a difference between the terminal voltages of the heating resistors generated at different times in the intermittent energization control state by the energization control means, as a voltage difference;
A voltage ratio determining means (431) for determining, as a voltage ratio, a ratio of each terminal voltage of the heating resistor generated at different times in the intermittent energization control state by the energization control means;
Humidity determining means (432) for determining the humidity in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage ratio determined by the voltage ratio determining means and the detected environmental temperature by the temperature detecting means;
Concentration calculating means (433, 434) for calculating the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage difference calculated by the voltage difference calculating means, the humidity determined by the humidity determining means, and the detected environment temperature. 440), and
The combustible gas is detected based on the calculated concentration of the concentration calculating means.

これによれば、上記間欠的通電制御状態にて時を異にして生ずる発熱抵抗体の各端子電圧の差が電圧差として算出され、上記間欠的電制御状態にて時を異にして生ずる発熱抵抗体の各端子電圧の比が電圧比として決定され、被検出雰囲気内の湿度が、上記決定電圧比と上記検出環境温度との間の関係に基づき決定される。そして、上記被検出雰囲気内の上記可燃性ガスの濃度が上記算出電圧差、上記決定湿度及び上記検出環境温度の間の関係に基づき算出され、この算出濃度に基づき可燃性ガスが検出される。   According to this, the difference between the terminal voltages of the heating resistors generated at different times in the intermittent energization control state is calculated as a voltage difference, and the heat generated at different times in the intermittent power control state. The ratio of the terminal voltages of the resistors is determined as the voltage ratio, and the humidity in the detected atmosphere is determined based on the relationship between the determined voltage ratio and the detected environment temperature. Then, the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere is calculated based on the relationship between the calculated voltage difference, the determined humidity, and the detected environment temperature, and the combustible gas is detected based on the calculated concentration.

このように、発熱抵抗体の数を単一にしても、上記間欠的通電制御状態にて時を異にして生ずる当該発熱抵抗体の各端子電圧の差及び比を電圧差及び電圧比とすることで、ガス検出装置の構成をより一層小型化するとともに当該検出素子の電力消費をより一層抑制しつつ、請求項1に記載の発明と同様の作用効果を達成し得る。   Thus, even if the number of heating resistors is single, the difference and ratio of the terminal voltages of the heating resistors that occur at different times in the intermittent energization control state are the voltage difference and voltage ratio. As a result, the configuration of the gas detection device can be further reduced in size and the power consumption of the detection element can be further suppressed, and the same effect as that of the first aspect of the invention can be achieved.

また、本発明に係る可燃性ガス検出装置は、請求項3の記載によれば、
複数の凹部(311)を間隔をおいて裏面側から形成してなる半導体基板(310)と、この半導体基板の表面に形成される絶縁層(320)と、この絶縁層の表面に前記各凹部に対応して形成される複数の発熱抵抗体(211、221、330)と、これら発熱抵抗体を覆うように前記絶縁層の表面に形成される保護層(350、360)とを備えて、被検出雰囲気内に配置される検出素子(300)と、
複数の発熱抵抗体のうち2つの発熱抵抗体(211、221)の各抵抗値を互いに異なる各一定温度に対応する各値にそれぞれ維持するように当該2つの発熱抵抗体を通電制御する通電制御手段(230、240、480)と、
被検出雰囲気内の環境温度を検出する温度検出手段(390)と、
通電制御手段による通電制御状態にて生ずる上記2つの発熱抵抗体の各端子電圧の差を電圧差として算出する電圧差算出手段(420)と、
通電制御手段による通電制御状態にて生ずる上記2つの発熱抵抗体の各端子電圧の比を電圧比として決定する電圧比決定手段(431)と、
この電圧比決定手段による決定電圧比と温度検出手段による検出環境温度との間の関係に基づき上記被検出雰囲気内の湿度を決定する湿度決定手段(432)と、
電圧差算出手段による算出電圧差、湿度決定手段による決定湿度及び上記検出環境温度の間の関係に基づき上記被検出雰囲気内の前記可燃性ガスの濃度を算出する濃度算出手段(440)とを備えて、
この濃度算出手段の算出濃度に基づき前記可燃性ガスを検出するようにした。
Moreover, according to the description of claim 3, the combustible gas detection device according to the present invention is
A semiconductor substrate (310) formed by forming a plurality of recesses (311) from the back side at intervals, an insulating layer (320) formed on the surface of the semiconductor substrate, and the recesses on the surface of the insulating layer A plurality of heating resistors (211, 221, 330) formed corresponding to, and a protective layer (350, 360) formed on the surface of the insulating layer so as to cover these heating resistors, A detection element (300) disposed in the atmosphere to be detected;
Energization control for energizing the two heating resistors so as to maintain the resistance values of the two heating resistors (211 and 221) among the plurality of heating resistors at respective values corresponding to different constant temperatures. Means (230, 240, 480);
Temperature detection means (390) for detecting the environmental temperature in the atmosphere to be detected;
Voltage difference calculation means (420) for calculating a difference between the terminal voltages of the two heating resistors generated in the energization control state by the energization control means as a voltage difference;
Voltage ratio determining means (431) for determining, as a voltage ratio, a ratio of the respective terminal voltages of the two heating resistors generated in the energization control state by the energization control means;
Humidity determining means (432) for determining the humidity in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage ratio determined by the voltage ratio determining means and the detected environmental temperature by the temperature detecting means;
Concentration calculating means (440) for calculating the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage difference calculated by the voltage difference calculating means, the humidity determined by the humidity determining means, and the detected environment temperature; And
The combustible gas is detected based on the calculated concentration of the concentration calculating means.

これによれば、請求項1に記載の発明とは異なり、上記構成の検出素子を有する可燃性ガス検出装置においても、当該請求項1に記載の発明と同様の作用効果を達成し得る。   According to this, unlike the invention according to claim 1, the combustible gas detection device having the detection element having the above-described configuration can also achieve the same operational effects as the invention according to claim 1.

また、本発明に係る可燃性ガス検出装置は、請求項4の記載によれば、
凹部(311)を裏面側から形成してなる半導体基板(310)と、この半導体基板の表面に形成される絶縁層(320)と、この絶縁層の表面に上記凹部に対応して形成される発熱抵抗体(211、221、330)と、この発熱抵抗体を覆うように絶縁層の表面に形成される保護層(350、360)とを備えて、被検出雰囲気内に配置される検出素子(300)と、
発熱抵抗体の抵抗値を互いに異なる一定温度に対応する各値に時を異にして維持するように当該発熱抵抗体を間欠的に通電制御する通電制御手段(214、215、216、231、290、481)と、
上記被検出雰囲気内の環境温度を検出する温度検出手段(500、390)と、
通電制御手段による間欠的通電制御状態にて時を異にして生ずる発熱抵抗体の各端子電圧の差を電圧差として算出する電圧差算出手段(420、430)と、
通電制御手段による間欠的通電制御状態にて時を異にして生ずる発熱抵抗体の各端子電圧の比を電圧比として決定する電圧比決定手段(431)と、
この電圧比決定手段による決定電圧比と温度検出手段による検出環境温度との間の関係に基づき上記被検出雰囲気内の湿度を決定する湿度決定手段(432)と、
電圧差算出手段による算出電圧差、湿度決定手段による決定湿度及び上記検出環境温度の間の関係に基づき上記被検出雰囲気内の上記可燃性ガスの濃度を算出する濃度算出手段(433、434、440)とを備えて、
この濃度算出手段の算出濃度に基づき上記可燃性ガスを検出するようにした。
Moreover, according to the description of Claim 4, the combustible gas detection apparatus which concerns on this invention
A semiconductor substrate (310) formed with a recess (311) from the back side, an insulating layer (320) formed on the surface of the semiconductor substrate, and formed on the surface of the insulating layer corresponding to the recess. A detection element that includes a heating resistor (211, 221 and 330) and a protective layer (350, 360) formed on the surface of the insulating layer so as to cover the heating resistor and is arranged in a detection atmosphere. (300),
Energization control means (214, 215, 216, 231 and 290) for intermittently energizing the heating resistor so as to maintain the resistance value of the heating resistor at different values corresponding to different constant temperatures at different times. 481),
Temperature detecting means (500, 390) for detecting the environmental temperature in the detected atmosphere;
Voltage difference calculation means (420, 430) for calculating a difference between the terminal voltages of the heating resistors generated at different times in the intermittent energization control state by the energization control means, as a voltage difference;
A voltage ratio determining means (431) for determining, as a voltage ratio, a ratio of each terminal voltage of the heating resistor generated at different times in the intermittent energization control state by the energization control means;
Humidity determining means (432) for determining the humidity in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage ratio determined by the voltage ratio determining means and the detected environmental temperature by the temperature detecting means;
Concentration calculating means (433, 434, 440) for calculating the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage difference calculated by the voltage difference calculating means, the humidity determined by the humidity determining means, and the detected environment temperature. )
The combustible gas is detected based on the calculated concentration of the concentration calculating means.

これによれば、請求項2に記載の発明とは異なり、上記構成の検出素子を有する可燃性ガス検出装置においても、当該請求項2に記載の発明と同様の作用効果を達成し得る。   According to this, unlike the invention described in claim 2, the combustible gas detection device having the detection element having the above-described configuration can achieve the same operational effects as the invention described in claim 2.

なお、請求項1〜4のいずれかに記載の発明において、湿度決定手段は、各環境温度において上記電圧比と上記湿度との間にて成立する近似直線関係に基づき、上記決定電圧比から上記湿度を決定するようにしてもよい。   In addition, in the invention according to any one of claims 1 to 4, the humidity determining means is based on the approximate linear relationship established between the voltage ratio and the humidity at each environmental temperature, from the determined voltage ratio. The humidity may be determined.

また、請求項2或いは4に記載の発明において、電圧比決定手段でもって、上記間欠的通電制御状態にて時を異にして生ずる発熱抵抗体の各端子電圧のうち、先行して生ずる端子電圧を、後続して生ずる端子電圧で除して得られる比を、電圧比とし、この電圧比が1よりも大きいとき(或いは小さいとき)にのみ、湿度決定手段による湿度決定を行うようにしてもよい。   Further, in the invention according to claim 2 or 4, the terminal voltage generated in advance among the terminal voltages of the heating resistor generated at different times in the intermittent energization control state by the voltage ratio determining means. The ratio obtained by dividing the voltage by the terminal voltage generated subsequently is defined as a voltage ratio, and the humidity determination by the humidity determination means is performed only when the voltage ratio is larger (or smaller) than 1. Good.

また、本発明は、請求項5の記載によれば、請求項1〜4のいずれか1つに記載の可燃性ガス検出装置において、
上記電圧差を独立変数とし、上記可燃性ガスの濃度を従属変数とし、上記湿度及び上記環境温度をパラメータとして成立する一次関数式の切片と上記湿度との間の所定の関係を用いて上記決定湿度に基づき上記切片を決定する切片決定手段(433)と、
上記検出環境温度に基づき上記一次関数式の勾配を決定する勾配決定手段(434)とを備えて、
濃度算出手段は、上記決定湿度及び上記検出環境温度に代わる切片決定手段による決定切片及び勾配決定手段による決定勾配を共に用いて、上記算出電圧差に応じて、上記一次関数式に基づき上記可燃性ガスの濃度を算出するようにしたことを特徴とする。
Moreover, according to the description of Claim 5, this invention WHEREIN: In the combustible gas detection apparatus as described in any one of Claims 1-4,
The voltage difference is an independent variable, the concentration of the combustible gas is a dependent variable, and the determination is performed using a predetermined relationship between an intercept of a linear function equation established with the humidity and the environmental temperature as parameters, and the humidity. Intercept determining means (433) for determining the intercept based on humidity;
Gradient determining means (434) for determining the gradient of the linear function equation based on the detected ambient temperature,
The concentration calculating means uses both the determined intercept by the intercept determining means and the determined gradient by the gradient determining means in place of the determined humidity and the detected environmental temperature, and the combustibility based on the linear function equation according to the calculated voltage difference. The gas concentration is calculated.

これによれば、通電制御手段による上記通電制御状態において生ずる発熱抵抗体の各端子電圧の電圧差を独立変数とし、被検出雰囲気内の可燃性ガスの濃度を従属変数とし、上記湿度及び上記環境温度をパラメータとして成立する一次関数式を前提とする。   According to this, the voltage difference of each terminal voltage of the heating resistor generated in the energization control state by the energization control means is an independent variable, the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere is the dependent variable, the humidity and the environment A linear function formula that assumes temperature as a parameter is assumed.

このような前提のもと、当該一次関数式の切片と上記湿度との間で成立する所定の関係を用いて、上記一次関数式の切片が上記決定湿度に基づき決定され、かつ、当該一次関数式の勾配が上記検出環境温度に基づき決定される。   Under such a premise, the intercept of the linear function equation is determined based on the determined humidity using a predetermined relationship established between the intercept of the linear function equation and the humidity, and the linear function The slope of the equation is determined based on the detected ambient temperature.

そして、上記可燃性ガスの濃度が、上記通電制御状態にて生ずる発熱抵抗体の各端子電圧の電圧差、上記決定切片及び上記決定勾配を用いて上記一次関数式に基づき算出され、この算出濃度に基づき可燃性ガスが検出される。   Then, the concentration of the combustible gas is calculated based on the linear function equation using the voltage difference of each terminal voltage of the heating resistor generated in the energization control state, the determined intercept and the determined gradient, and the calculated concentration Based on the above, combustible gas is detected.

これにより、被検出雰囲気内の可燃性ガスの濃度が当該被検出雰囲気内の湿度に応じて変動することをより一層考慮して、この変動をなくするように処理して可燃性ガスを検出することとなるので、この検出精度をより一層高く確保できる。   Accordingly, in consideration of the fact that the concentration of the combustible gas in the atmosphere to be detected fluctuates according to the humidity in the atmosphere to be detected, the combustible gas is detected by processing to eliminate this fluctuation. Therefore, this detection accuracy can be further ensured.

また、本発明は、請求項6の記載によれば、請求項1〜5のいずれか1つに記載の可燃性ガス検出装置において、温度検出手段は、被検出雰囲気内に配置される測温抵抗体であってその抵抗値の変化に応じて被検出雰囲気内の環境温度を検出する測温抵抗体であることを特徴とする。   According to a sixth aspect of the present invention, in the combustible gas detection device according to any one of the first to fifth aspects, the temperature detecting means is a temperature measuring device disposed in the detected atmosphere. The resistor is a resistance temperature detector that detects an environmental temperature in the atmosphere to be detected in accordance with a change in the resistance value.

このように、温度検出手段として、被検出雰囲気内に配置される測温抵抗体を採用しても、請求項1〜5のいずれか1つに記載の発明と同様の作用効果を達成できる。   Thus, even if the resistance temperature detector disposed in the atmosphere to be detected is employed as the temperature detecting means, the same effect as that of the invention according to any one of claims 1 to 5 can be achieved.

また、本発明は、請求項7の記載によれば、請求項3或いは4に記載の可燃性ガス検出装置において、温度検出手段は、半導体基板の表面上に形成される薄膜抵抗体であって、
この薄膜抵抗体はその抵抗値の変化に基づき上記被検出雰囲気内の環境温度を検出する薄膜抵抗体であることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the combustible gas detection device according to the third or fourth aspect, the temperature detection means is a thin film resistor formed on the surface of the semiconductor substrate. ,
The thin film resistor is a thin film resistor that detects an environmental temperature in the detected atmosphere based on a change in the resistance value.

このように、温度検出手段として、半導体基板の表面上に形成されてなる薄膜抵抗体を採用したので、この薄膜抵抗体の抵抗値が、上記環境温度の変化に伴い迅速に変化し得る。従って、請求項3或いは4に記載の発明と同様の作用効果をより一層精度よく達成し得る。   As described above, since the thin film resistor formed on the surface of the semiconductor substrate is employed as the temperature detecting means, the resistance value of the thin film resistor can change rapidly with the change in the environmental temperature. Therefore, the same effect as that of the invention of claim 3 or 4 can be achieved with higher accuracy.

また、本発明に係る可燃性ガス検出方法では、請求項8の記載によれば、
被検出雰囲気内に晒される両発熱抵抗体(211、221、330)の各抵抗値を互いに異なる各一定温度に対応する各値にそれぞれ維持するように当該両発熱抵抗体を通電制御し、
上記被検出雰囲気内の上記通電制御状態において生ずる両発熱抵抗体の各端子電圧の電圧比と上記被検出雰囲気内の環境温度との間の関係に基づき上記被検出雰囲気内の湿度を決定し、
両発熱抵抗体の各端子電圧の電圧差、上記湿度及び上記環境温度の間の関係に基づき上記被検出雰囲気内の可燃性ガスの濃度を算出することで、当該可燃性ガスを検出する。
In the combustible gas detection method according to the present invention, according to the description of claim 8,
Energizing and controlling the heating resistors so as to maintain the resistance values of the heating resistors (211, 221 and 330) exposed to the detected atmosphere at respective values corresponding to different constant temperatures;
Determining the humidity in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage ratio of each terminal voltage of both heating resistors generated in the energization control state in the detected atmosphere and the environmental temperature in the detected atmosphere;
The combustible gas is detected by calculating the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere based on the voltage difference between the terminal voltages of the two heating resistors, the humidity, and the environment temperature.

これによれば、請求項1に記載の発明と同様の作用効果を達成し得る可燃性ガス検出方法の提供が可能となる。   According to this, it is possible to provide a combustible gas detection method capable of achieving the same function and effect as the first aspect of the invention.

また、本発明に係る可燃性ガス検出方法では、請求項9の記載によれば、
被検出雰囲気内に晒される発熱抵抗体の抵抗値を互いに異なる一定温度に対応する各値に時を異にして維持するように当該発熱抵抗体を間欠的に通電制御し、
上記被検出雰囲気内の上記間欠的通電制御状態において生ずる発熱抵抗体の各端子電圧の電圧比と上記被検出雰囲気内の環境温度との間の関係に基づき上記被検出雰囲気内の湿度を決定し、
発熱抵抗体の各端子電圧の電圧差、上記湿度及び上記環境温度の間の関係に基づき上記被検出雰囲気内の可燃性ガスの濃度を算出することで、当該可燃性ガスを検出する。
Further, in the combustible gas detection method according to the present invention, according to the description of claim 9,
The heating resistor is subjected to intermittent energization control so that the resistance value of the heating resistor exposed to the detected atmosphere is maintained at different times corresponding to different constant temperatures,
The humidity in the detected atmosphere is determined based on the relationship between the voltage ratio of each terminal voltage of the heating resistor generated in the intermittent energization control state in the detected atmosphere and the environmental temperature in the detected atmosphere. ,
The combustible gas is detected by calculating the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere based on the voltage difference between the terminal voltages of the heating resistor, the humidity, and the environmental temperature.

これによれば、請求項2に記載の発明と同様の作用効果を達成し得る可燃性ガス検出方法の提供が可能となる。   According to this, it is possible to provide a combustible gas detection method capable of achieving the same effect as that of the invention described in claim 2.

また、本発明は、請求項10の記載によれば、請求項8或いは9に記載の可燃性ガス検出方法において、
上記可燃性ガスの算出は、
上記電圧差を独立変数とし、上記被検出雰囲気内の可燃性ガスの濃度を従属変数とし、上記湿度及び上記環境温度をパラメータとして成立する一次関数式の切片と上記湿度との間の所定の関係を用いて、上記決定湿度に基づき上記切片を決定し、
上記環境温度に基づき決定される上記一次関数式の勾配、上記切片及び上記電圧差を用いて、上記一次関数式に基づき上記可燃性ガスの濃度を算出することで行うようにしたことを特徴とする。
According to the description of claim 10, the present invention provides the combustible gas detection method according to claim 8 or 9,
Calculation of the above flammable gas is
Predetermined relationship between the humidity and the intercept of a linear function equation established with the voltage difference as an independent variable, the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere as a dependent variable, and the humidity and the environmental temperature as parameters To determine the intercept based on the determined humidity,
Using the gradient of the linear function equation determined based on the environmental temperature, the intercept, and the voltage difference, the concentration of the combustible gas is calculated based on the linear function equation. To do.

これにより、請求項8或いは9に記載の発明の作用効果をより一層向上できる。   Thereby, the effect of the invention of Claim 8 or 9 can be improved further.

なお、請求項1、2、3、4、8或いは9に記載の上記各関係または請求項5或いは10に記載の所定の関係及び一次関数式は、データとして、メモリに予め記憶されていてもよい。また、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。   It should be noted that each of the relationships described in claims 1, 2, 3, 4, 8 or 9 or the predetermined relationship and linear function equation described in claims 5 or 10 may be stored in advance in a memory as data. Good. Moreover, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each said means shows the correspondence with the specific means as described in embodiment mentioned later.

以下、本発明の各実施形態を図面に基づいて説明する。
(第1実施形態)
図1及び図2は、本発明に係る可燃性ガス検出装置の第1実施形態を示しており、この可燃性ガス検出装置は、例えば、燃料電池から漏れる水素ガスを検出するのに用いられる。
Hereinafter, each embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
(First embodiment)
1 and 2 show a first embodiment of a combustible gas detection device according to the present invention, and this combustible gas detection device is used, for example, to detect hydrogen gas leaking from a fuel cell.

当該可燃性ガス検出装置は、装置ユニット100(図1参照)と、制御回路200(図2参照)とにより構成されている。装置ユニット100は、図1にて示すごとく、ケーシング110、蓋体120及びコネクタ130を備えている。ケーシング110は両ケーシング部材111、112を有しており、当該両ケーシング部材111、112は、その各開口部にて互いに嵌合されて、ケーシング110を構成している。   The combustible gas detection device includes an apparatus unit 100 (see FIG. 1) and a control circuit 200 (see FIG. 2). As shown in FIG. 1, the device unit 100 includes a casing 110, a lid 120, and a connector 130. The casing 110 has both casing members 111 and 112, and both the casing members 111 and 112 are fitted to each other at their respective openings to constitute the casing 110.

ここで、ケーシング部材111は、ガス導入筒113を備えており、このガス導入筒113は、ケーシング部材111の底壁中央から外方へ円筒状に延出し、ガス導入口部114にて、外方に開口している。なお、図1にて、符号115は、Oリングを示す。このOリングは、当該可燃性ガス検出装置の取り付け箇所によっては、廃止してもよい。   Here, the casing member 111 includes a gas introduction tube 113, and this gas introduction tube 113 extends cylindrically outward from the center of the bottom wall of the casing member 111, and is It opens to the direction. In FIG. 1, reference numeral 115 denotes an O-ring. This O-ring may be abolished depending on the attachment location of the combustible gas detection device.

蓋体120は、図1にて示すごとく、ケーシング部材111の内側からガス導入筒113内に同軸的に嵌装されており、当該蓋体120は、図1及び図3にて示すごとく、円筒部材121を備えている。この円筒部材121は、その底壁側円筒部にて、図1にて示すごとく、ガス導入筒113の小径穴部内に同軸的に嵌装されており、当該円筒部材121は、その環状底壁122(図3参照)にて、ガス導入口部114にその内面側から着座している。なお、円筒部材121は、その環状底壁122の中空部にて、ガス導入口部114を通り外方に開口している。   As shown in FIG. 1, the lid 120 is coaxially fitted from the inside of the casing member 111 into the gas introduction tube 113, and the lid 120 is a cylinder as shown in FIGS. 1 and 3. A member 121 is provided. As shown in FIG. 1, the cylindrical member 121 is coaxially fitted in the small diameter hole portion of the gas introduction tube 113 at the bottom wall side cylindrical portion, and the cylindrical member 121 has an annular bottom wall. At 122 (refer to FIG. 3), the gas inlet 114 is seated from the inner surface side. The cylindrical member 121 is opened outward through the gas inlet 114 in the hollow portion of the annular bottom wall 122.

また、円筒部材121は、その基端側環状フランジ部123にて、ガス導入筒113の基端側に形成した大径穴部内にパッキン等の環状シール(図示しない)を介し接着剤でもって気密的に接着嵌装されている。なお、上述のように環状シールを介し接着剤で接着することに代えて、溶着に依ってもよい。   The cylindrical member 121 is hermetically sealed with an adhesive through an annular seal (not shown) such as packing in a large-diameter hole formed on the proximal end side of the gas introduction tube 113 at the proximal end-side annular flange portion 123. It is adhesively fitted. Note that instead of adhering with an adhesive via an annular seal as described above, welding may be used.

また、蓋体120は、円筒部材121内に設けた撥水フィルタ124及び金網125を備えている。撥水フィルタ124は、その外周部にて、円筒部材121の環状底壁122と環板状スペーサ126との間に挟持されており、この撥水フィルタ124は、ガス導入口部114及び円筒部材の環状底壁122の中空部からスペーサ126内への水滴の浸入や粉塵の侵入を防止する。   Further, the lid 120 includes a water repellent filter 124 and a metal mesh 125 provided in the cylindrical member 121. The water repellent filter 124 is sandwiched between the annular bottom wall 122 of the cylindrical member 121 and the annular plate spacer 126 at the outer peripheral portion thereof. The water repellent filter 124 includes the gas inlet 114 and the cylindrical member. Intrusion of water droplets and intrusion of dust from the hollow portion of the annular bottom wall 122 into the spacer 126 is prevented.

金網125は、その外周部にて、環板状スぺーサ126と円筒状スペーサ127の環状底壁との間に挟持されており、この金網125は、次のような役割を果たす。即ち、後述する発熱抵抗体330(図4参照)への通電に伴い当該発熱抵抗体に電流が流れて当該発熱抵抗体の温度が水素ガスの下限爆発温度を上回ることで、水素ガスがスペーサ127内で発火した場合に、金網125は、スペーサ127の内部からその外方へ逸火することを防止する。   The metal mesh 125 is sandwiched between the annular plate spacer 126 and the annular bottom wall of the cylindrical spacer 127 at the outer periphery thereof. The metal mesh 125 plays the following role. That is, when a heating resistor 330 (see FIG. 4), which will be described later, is energized, a current flows through the heating resistor and the temperature of the heating resistor exceeds the lower limit explosion temperature of hydrogen gas. When ignited inside, the wire mesh 125 prevents a fire from escaping from the inside of the spacer 127 to the outside.

なお、スペーサ127は、円筒部材121の円筒部内に同軸的に圧入により嵌装されて、その環状底壁にて、金網125、環状スペーサ126及び撥水フィルタ124を、円筒部材121の環状底壁122の内面上に固定している。   The spacer 127 is coaxially press-fitted into the cylindrical portion of the cylindrical member 121, and the metal mesh 125, the annular spacer 126, and the water repellent filter 124 are connected to the annular bottom wall of the cylindrical member 121. It is fixed on the inner surface of 122.

コネクタ130は、ケーシング部材111の図1にて図示右側壁に組み付けられており、このコネクタ130は、その複数のコネクタピン131(図1では、一コネクタピンのみを示す)にて、ケーシング111の右側壁を通し配線板180の配線パターン部(図示しない)に電気的に接続されている。なお、当該コネクタ130は、ケーシング部材111と一体で構成されていてもよい。   The connector 130 is assembled to the right side wall of the casing member 111 shown in FIG. 1, and the connector 130 is connected to the casing 111 by a plurality of connector pins 131 (only one connector pin is shown in FIG. 1). It is electrically connected to a wiring pattern portion (not shown) of the wiring board 180 through the right side wall. The connector 130 may be integrated with the casing member 111.

当該装置ユニット100は、図1及び図3にて示すごとく、検出素子300、敷き板140及び取り付け板150を備えており、検出素子300は、図1及び図3にて示すごとく、敷き板140及び取り付け板150と共に、円筒部材121内に支持されている。取り付け板150は、図3にて示すごとく、その断面L字状外周部151にて、円筒部材121の環状フランジ部123内に同軸的にかつ気密的に固定されている。敷き板140は、熱伝導率の小さい材料でもって形成されており、この敷き板140は、取り付け板150の外面(スペーサ127側の面)の中央部に接着剤でもって接着されている。検出素子300は、敷き板140の外面(スペーサ127側の面)に接着剤で接着されて、スペーサ127内に露呈している。   As shown in FIGS. 1 and 3, the apparatus unit 100 includes a detection element 300, a laying plate 140, and a mounting plate 150, and the detection element 300 includes a laying plate 140 as shown in FIGS. 1 and 3. Along with the mounting plate 150, the cylindrical member 121 is supported. As shown in FIG. 3, the attachment plate 150 is coaxially and airtightly fixed in the annular flange portion 123 of the cylindrical member 121 at the outer peripheral portion 151 having an L-shaped cross section. The laying plate 140 is made of a material having a low thermal conductivity, and this laying plate 140 is bonded to the central portion of the outer surface (the surface on the spacer 127 side) of the mounting plate 150 with an adhesive. The detection element 300 is adhered to the outer surface (surface on the spacer 127 side) of the laying plate 140 with an adhesive, and is exposed in the spacer 127.

また、当該装置ユニット100は、図1及び図3にて示すごとく、複数本のピン状ターミナル160〜164及びヒータ170を備えており、各ターミナル160〜164は、取り付け板150に挿通されている。ヒータ170は、図1及び図3にて示すごとく、両ターミナル160、163の各先端部間に電気的に接続されており、このヒータ170は、両ターミナル160、163を介する給電により検出素子300を加熱してこの検出素子300に付着する結露や不純物を乾燥消失させる。   Further, as shown in FIGS. 1 and 3, the device unit 100 includes a plurality of pin-shaped terminals 160 to 164 and a heater 170, and each of the terminals 160 to 164 is inserted into the mounting plate 150. . As shown in FIGS. 1 and 3, the heater 170 is electrically connected between the tip portions of both terminals 160 and 163, and the heater 170 is detected by the power supply via both terminals 160 and 163. Is heated and the condensation and impurities adhering to the detection element 300 are dried and disappeared.

特に、雰囲気温度を検出する測温抵抗体を検出素子300の表面上に設ける場合、当該測温抵抗体でもって検出する温度が、検出素子300の表面に付着した結露や不純物に起因して実際の雰囲気温度よりも低くなり、温度の検出精度の低下を招くという事態の発生を防止する効果がある。なお、検出素子300は、後述する各電極膜370(図4参照)にて、ターミナル161、162及び164の各先端部にワイヤボンディングにより電気的に接続されている。   In particular, when a resistance temperature detector that detects the ambient temperature is provided on the surface of the detection element 300, the temperature detected by the resistance temperature detector is actually caused by condensation or impurities attached to the surface of the detection element 300. This has the effect of preventing the occurrence of a situation in which the temperature is lower than the ambient temperature and the temperature detection accuracy is lowered. In addition, the detection element 300 is electrically connected to each front-end | tip part of the terminals 161, 162, and 164 by wire bonding in each electrode film 370 (refer FIG. 4) mentioned later.

配線板180は、ケーシング110内に設けられており、この配線板180は、その外周部にて、ケーシング部材111の開口端部に支持されている。なお、当該配線板180には、各ターミナル160〜164が、その基端部にて、嵌着されて配線板180の上記配線パターン部に電気的に接続されている。   The wiring board 180 is provided in the casing 110, and the wiring board 180 is supported by the opening end of the casing member 111 at the outer periphery thereof. Each terminal 160 to 164 is fitted to the wiring board 180 at its base end portion and is electrically connected to the wiring pattern portion of the wiring board 180.

制御回路200は、図1にて示すごとく、ケーシング110内にて配線板180の裏面(図1にて図示下側)に実装されており、この制御回路200は、当該配線板180の上記配線パターン部を介し、コネクタ130のコネクタピン131及び各ターミナル160〜164に電気的に接続されている。   As shown in FIG. 1, the control circuit 200 is mounted on the back surface (the lower side in FIG. 1) of the wiring board 180 in the casing 110, and the control circuit 200 is connected to the wiring board 180. It is electrically connected to the connector pin 131 of the connector 130 and each of the terminals 160 to 164 via the pattern portion.

次に、上述した検出素子300の構成につき図4及び図5を参照して説明する。検出素子300はマイクロマシニング技術を用いて製造されているもので、当該検出素子300は、図4にて示すごとく、シリコン製半導体基板310及び上下両側絶縁層320を備えている。上側絶縁層320は、半導体基板310の表面に形成されており、一方、下側絶縁層320は、半導体基板310の裏面に形成されている。なお、上側絶縁層320は、半導体基板310の表面に形成した酸化シリコン膜321と、この酸化シリコン膜321上に積層した窒化シリコン膜322でもって構成されている。また、下側絶縁層320は、半導体基板310の裏面に形成した酸化シリコン膜321と、この酸化シリコン膜321上に積層した窒化シリコン膜322でもって構成されている。   Next, the configuration of the detection element 300 described above will be described with reference to FIGS. The detection element 300 is manufactured using a micromachining technique, and the detection element 300 includes a silicon semiconductor substrate 310 and upper and lower insulating layers 320 as shown in FIG. The upper insulating layer 320 is formed on the surface of the semiconductor substrate 310, while the lower insulating layer 320 is formed on the back surface of the semiconductor substrate 310. The upper insulating layer 320 includes a silicon oxide film 321 formed on the surface of the semiconductor substrate 310 and a silicon nitride film 322 stacked on the silicon oxide film 321. The lower insulating layer 320 includes a silicon oxide film 321 formed on the back surface of the semiconductor substrate 310 and a silicon nitride film 322 stacked on the silicon oxide film 321.

ここで、半導体基板310には、図4にて図示左右両側凹部311が、上側絶縁層320の裏面側において、間隔をおいて形成されている。また、下側絶縁層320は、各凹部311に対応する部位にて、それぞれ除去されて、各凹部311の開口部として形成されている。これにより、上側絶縁層320は、その裏面のうち各凹部311に対する各対応裏面部にて、当該各凹部311の開口部を通して外方に露呈している。なお、半導体基板310は、各凹部311以外の部位にて基板部312を構成する。   Here, the left and right concave portions 311 shown in FIG. 4 are formed in the semiconductor substrate 310 at intervals on the back surface side of the upper insulating layer 320. In addition, the lower insulating layer 320 is removed at portions corresponding to the respective recesses 311 and formed as openings of the respective recesses 311. As a result, the upper insulating layer 320 is exposed to the outside through the opening of each recess 311 at each corresponding back surface of the back surface corresponding to each recess 311. The semiconductor substrate 310 constitutes a substrate portion 312 at a portion other than each recess 311.

また、検出素子300は、図4及び図5にて示すごとく、左右両側発熱抵抗体330並びに左側、中央側及び右側の各配線膜340を備えている。左側発熱抵抗体330は、上側絶縁層320の表面のうち左側凹部311に対応する部位上に渦巻き状に形成されており、一方、右側発熱抵抗体330は、上側絶縁層320の表面のうち右側凹部311に対応する部位上に渦巻き状に形成されている。本第1実施形態において、両発熱抵抗体330は、後述する各配線膜340と共に、白金抵抗材料でもって形成されている。   Further, as shown in FIGS. 4 and 5, the detection element 300 includes left and right heat generating resistors 330 and left, center, and right wiring films 340. The left heating resistor 330 is spirally formed on a portion of the surface of the upper insulating layer 320 corresponding to the left recess 311, while the right heating resistor 330 is formed on the right side of the surface of the upper insulating layer 320. A spiral shape is formed on a portion corresponding to the recess 311. In the first embodiment, both the heating resistors 330 are formed of a platinum resistance material together with each wiring film 340 described later.

左側配線膜340は、図4にて示すごとく、上側絶縁層320の表面の左側部上において、半導体基板310の基板部312に対応して位置し、図5にて示すごとく、左側発熱抵抗体330の一端と一体となるように形成されている。中央側配線膜340は、上側絶縁層320の表面の中央部上にて、半導体基板310の基板部312に対応して位置し、左側発熱抵抗体330の他端及び右側発熱抵抗体330の一端と一体となるように形成されている。また、右側配線膜340は、上側絶縁層320の表面の右側部上にて、半導体基板310の基板部312に対応して位置し、右側発熱抵抗体330の他端と一体となるように形成されている。   As shown in FIG. 4, the left wiring film 340 is located on the left side of the surface of the upper insulating layer 320 corresponding to the substrate portion 312 of the semiconductor substrate 310. As shown in FIG. It is formed so as to be integrated with one end of 330. The central wiring film 340 is located on the central portion of the surface of the upper insulating layer 320 so as to correspond to the substrate portion 312 of the semiconductor substrate 310, and has the other end of the left heating resistor 330 and one end of the right heating resistor 330. It is formed so as to be integrated. The right wiring film 340 is formed on the right side of the surface of the upper insulating layer 320 so as to correspond to the substrate portion 312 of the semiconductor substrate 310 and to be integrated with the other end of the right heating resistor 330. Has been.

また、当該検出素子300は、図4及び図5にて示すごとく、内側保護層350及び外側保護層360並びに左側、中央側及び右側の各電極膜370を備えており、内側保護層350は、各配線膜340及び各発熱抵抗体330を覆うように、上側絶縁層320の表面上に形成されている。また、外側保護層360は、内側保護層350上に積層状に形成されている。   Further, as shown in FIGS. 4 and 5, the detection element 300 includes an inner protective layer 350 and an outer protective layer 360, and left, center, and right electrode films 370. It is formed on the surface of the upper insulating layer 320 so as to cover each wiring film 340 and each heating resistor 330. The outer protective layer 360 is formed on the inner protective layer 350 in a stacked form.

ここで、内側保護層350及び外側保護層360には、左側、中央側及び右側の各コンタクトホール361が、内側保護層350及び外側保護層360のうち左側、中央側及び右側の各配線膜340に対応する各部位に形成されている。これにより、左側、中央側及び右側の各配線膜340は、その表面にて、左側、中央側及び右側の各コンタクトホール361を通り外方に露呈している。左側、中央側及び右側の各電極膜370は、左側、中央側及び右側の各コンタクトホール361を通して左側、中央側及び右側の各配線膜340上に形成されている。   Here, in the inner protective layer 350 and the outer protective layer 360, the contact holes 361 on the left side, the central side, and the right side are provided with the wiring films 340 on the left side, the central side, and the right side of the inner protective layer 350 and the outer protective layer 360, respectively. It is formed in each part corresponding to. As a result, the left, center, and right wiring films 340 are exposed outwardly through the left, center, and right contact holes 361 on the surface. The left, central and right electrode films 370 are formed on the left, central and right wiring films 340 through the left, central and right contact holes 361.

本第1実施形態では、検出素子300において、左側発熱抵抗体330、左側及び中央側の各配線膜340並びに左側及び中央側の各電極膜370が、主として、左側熱伝導式ガス検出部380を構成し、右側発熱抵抗体330、中央側及び右側の各配線膜340並びに中央側及び右側の各電極膜370が、主として、右側熱伝導式ガス検出部380を構成する。   In the first embodiment, in the detection element 300, the left heating resistor 330, the left and center wiring films 340, and the left and center electrode films 370 mainly serve as the left heat-conducting gas detection unit 380. The right heating resistor 330, the central and right wiring films 340, and the central and right electrode films 370 mainly constitute the right heat conduction type gas detection unit 380.

また、当該検出素子300は、図5にて示すごとく、測温抵抗体390を備えており、この測温抵抗体390は、白金(Pt)を含む測温抵抗材料でもって、図5にて図示上側において、上側絶縁層320と内側保護層350との間に薄膜抵抗体として形成されている。これにより、当該測温抵抗体390は、当該ガス検出装置を配置した被検出雰囲気の温度(以下、環境温度ともいう)を検出する。本第1実施形態では、測温抵抗体390の温度抵抗係数は両発熱抵抗体330の各温度抵抗係数とほぼ同一となっている。   Further, as shown in FIG. 5, the detection element 300 includes a resistance temperature detector 390, and the resistance temperature detector 390 is a resistance temperature detector material containing platinum (Pt). On the upper side in the figure, a thin film resistor is formed between the upper insulating layer 320 and the inner protective layer 350. Thereby, the resistance temperature detector 390 detects the temperature (hereinafter also referred to as environmental temperature) of the atmosphere to be detected in which the gas detection device is arranged. In the first embodiment, the temperature resistance coefficient of the resistance temperature detector 390 is substantially the same as the temperature resistance coefficient of both the heating resistors 330.

また、各電極膜391は、内側保護層350及び外側保護層360に形成した各コンタクトホール(図示しない)内にて測温抵抗体390の左右両端部上に形成されている。なお、この測温抵抗体390は、両電極膜391を介しターミナル(図示しない)を介し配線板180の上記配線パターン部に接続されている。   Each electrode film 391 is formed on both left and right ends of the resistance temperature detector 390 in each contact hole (not shown) formed in the inner protective layer 350 and the outer protective layer 360. The resistance temperature detector 390 is connected to the wiring pattern portion of the wiring board 180 via both terminals 391 and a terminal (not shown).

次に、上述した制御回路200の構成について図2を参照して説明する。制御回路200は、両ブリッジ回路210、220を備えており、ブリッジ回路210は、図2にて示すごとく、ガス検出用発熱抵抗体211及び各固定抵抗212、213、214でもって、ホイートストーンブリッジ回路を形成するように構成されている。   Next, the configuration of the control circuit 200 described above will be described with reference to FIG. The control circuit 200 includes both bridge circuits 210 and 220. As shown in FIG. 2, the bridge circuit 210 includes a heating resistor 211 for gas detection and fixed resistors 212, 213, and 214. It is configured to form a bridge circuit.

このブリッジ回路210において、ガス検出用発熱抵抗体211は、検出素子300の左側熱伝導式ガス検出部380を構成する左側発熱抵抗体330でもって構成されている。ここで、発熱抵抗体211は、その一端にて、接地されており、当該発熱抵抗体211の他端は、固定抵抗212、固定抵抗213及び固定抵抗214を介し接地されている。   In the bridge circuit 210, the gas detection heating resistor 211 is configured by a left heating resistor 330 that constitutes the left heat conduction type gas detection unit 380 of the detection element 300. Here, the heating resistor 211 is grounded at one end, and the other end of the heating resistor 211 is grounded via a fixed resistor 212, a fixed resistor 213, and a fixed resistor 214.

しかして、当該ブリッジ回路210は、発熱抵抗体211及び固定抵抗214の共通端子(一側電源端子)及び両固定抵抗212、213の共通端子(他側電源端子)の間に、定温度制御回路230から制御電圧を受けて作動する。そして、この作動のもと、当該ブリッジ回路210は、ガス検出用発熱抵抗体211の抵抗値の変化に基づき発熱抵抗体211及び固定抵抗212の共通端子(ブリッジ回路210の一側出力端子)と両固定抵抗213、214の共通端子(ブリッジ回路210の他側出力端子)との間に生ずる電位差(水素ガスの濃度を表す)を出力する。   Thus, the bridge circuit 210 includes a constant temperature control circuit between the common terminal (one side power supply terminal) of the heating resistor 211 and the fixed resistor 214 and the common terminal (other side power supply terminal) of the two fixed resistors 212 and 213. Operates in response to a control voltage from 230. Under this operation, the bridge circuit 210 is connected to a common terminal (one output terminal of the bridge circuit 210) of the heating resistor 211 and the fixed resistor 212 based on a change in the resistance value of the gas detection heating resistor 211. A potential difference (representing the concentration of hydrogen gas) generated between the common terminals of the fixed resistors 213 and 214 (the other output terminal of the bridge circuit 210) is output.

定温度制御回路230は、演算増幅回路250の出力(後述する)に応じて、ガス検出用発熱抵抗体211の抵抗値を一定温度(例えば、150(℃))に対応する値に維持するように、内蔵直流電源(図示しない)の出力電圧に基づき、ブリッジ回路210への上記制御電圧を形成する。なお、発熱抵抗体211(330)の抵抗値は上記制御電圧或いは当該発熱抵抗体211の温度の上昇(又は低下)に応じて増大(又は減少)する。   The constant temperature control circuit 230 maintains the resistance value of the gas detection heating resistor 211 at a value corresponding to a constant temperature (for example, 150 (° C.)) according to the output (described later) of the operational amplifier circuit 250. The control voltage to the bridge circuit 210 is formed based on the output voltage of the built-in DC power supply (not shown). The resistance value of the heating resistor 211 (330) increases (or decreases) in accordance with the control voltage or the temperature rise (or decrease) of the heating resistor 211.

また、ブリッジ回路220は、図2にて示すごとく、ガス検出用発熱抵抗体221及び各固定抵抗222、223、224でもって、ホイートストーンブリッジ回路を形成するように構成されている。このブリッジ回路220において、ガス検出用発熱抵抗体221は、検出素子300の右側熱伝導式ガス検出部380を構成する右側発熱抵抗体330でもって構成されている。ここで、発熱抵抗体221は、その一端にて、接地されており、当該発熱抵抗体221の他端は、固定抵抗222、固定抵抗223及び固定抵抗224を介し接地されている。   Further, as shown in FIG. 2, the bridge circuit 220 is configured to form a Wheatstone bridge circuit with the gas detection heating resistor 221 and the fixed resistors 222, 223, and 224. In the bridge circuit 220, the gas detection heating resistor 221 is configured by a right heating resistor 330 that constitutes the right heat conduction type gas detection unit 380 of the detection element 300. Here, the heating resistor 221 is grounded at one end, and the other end of the heating resistor 221 is grounded via a fixed resistor 222, a fixed resistor 223, and a fixed resistor 224.

しかして、ブリッジ回路220は、発熱抵抗体221及び固定抵抗224の共通端子(一側電源端子)及び両固定抵抗222、223の共通端子(他側電源端子)の間に、定温度制御回路240から制御電圧を受けて作動する。そして、この作動のもと、当該ブリッジ回路220は、ガス検出用発熱抵抗体221の抵抗値の変化に基づき発熱抵抗体221及び固定抵抗222の共通端子(ブリッジ回路220の一側出力端子)と両固定抵抗223、224の共通端子(ブリッジ回路220の他側出力端子)との間に生ずる電位差(水素ガス濃度を表す)を出力する。   Thus, the bridge circuit 220 includes the constant temperature control circuit 240 between the common terminal (one side power supply terminal) of the heating resistor 221 and the fixed resistor 224 and the common terminal (other side power supply terminal) of both the fixed resistors 222 and 223. Operates in response to a control voltage from. Under this operation, the bridge circuit 220 is connected to the common terminal (one side output terminal of the bridge circuit 220) of the heating resistor 221 and the fixed resistor 222 based on the change in the resistance value of the gas detection heating resistor 221. A potential difference (representing the hydrogen gas concentration) generated between the common terminals of the fixed resistors 223 and 224 (the other output terminal of the bridge circuit 220) is output.

定温度制御回路240は、演算増幅回路260の出力(後述する)に応じて、ガス検出用発熱抵抗体221の抵抗値を一定温度(例えば、330(℃))に対応する値に維持するように、内蔵直流電源(図示しない)の出力電圧に基づき、ブリッジ回路220への上記制御電圧を形成する。なお、発熱抵抗体221の抵抗値は、定温度制御回路240からの制御電圧或いは当該発熱抵抗体211の温度の上昇(又は低下)に応じて増大(又は減少)する。また、両定温度制御回路230、240の各制御電圧の出力は、電源スイッチ281のオンに同期して開始されるようになっている。   The constant temperature control circuit 240 maintains the resistance value of the gas detection heating resistor 221 at a value corresponding to a constant temperature (for example, 330 (° C.)) according to the output (described later) of the operational amplifier circuit 260. The control voltage to the bridge circuit 220 is formed based on the output voltage of the built-in DC power supply (not shown). Note that the resistance value of the heating resistor 221 increases (or decreases) in accordance with a control voltage from the constant temperature control circuit 240 or an increase (or decrease) in the temperature of the heating resistor 211. The output of each control voltage of both constant temperature control circuits 230 and 240 is started in synchronization with the power switch 281 being turned on.

演算増幅回路250は、ブリッジ回路210の両出力端子間に生ずる電位差を増幅して増幅電位差を定温度制御回路230及びマイクロコンピュータ270に出力する。演算増幅回路260は、ブリッジ回路220の両出力端子間に生ずる電位差を増幅して増幅電位差を定温度制御回路240及びマイクロコンピュータ270に出力する。   The operational amplifier circuit 250 amplifies a potential difference generated between both output terminals of the bridge circuit 210 and outputs the amplified potential difference to the constant temperature control circuit 230 and the microcomputer 270. The operational amplifier circuit 260 amplifies a potential difference generated between both output terminals of the bridge circuit 220 and outputs the amplified potential difference to the constant temperature control circuit 240 and the microcomputer 270.

マイクロコンピュータ270は、直流電源280から電源スイッチ281を介し給電されて作動し、図6にて示すフローチャートに従いコンピュータプログラムを実行する。この実行中において、マイクロコンピュータ270は、測温抵抗体390の検出環境温度や両演算増幅回路250、260の各出力電位差に基づき、水素ガスの濃度の算出に要する各種の処理を行う。なお、上記コンピュータプログラムは、マイクロコンピュータ270のROMに当該マイクロコンピュータにより読み出し可能に記憶されている。   The microcomputer 270 operates with power supplied from the DC power supply 280 via the power switch 281 and executes the computer program according to the flowchart shown in FIG. During this execution, the microcomputer 270 performs various processes necessary for calculating the hydrogen gas concentration based on the detected environment temperature of the resistance temperature detector 390 and the output potential differences of the two operational amplifier circuits 250 and 260. The computer program is stored in the ROM of the microcomputer 270 so as to be readable by the microcomputer.

以上のように構成した本第1実施形態において、当該可燃性ガス検出装置の装置ユニット100が被検出雰囲気内に配置されているものとする。このような状態にて、上記被検出雰囲気内に漏洩する水素ガスが、装置ユニット100のガス導入筒113内にそのガス導入口部114から流入すると、当該水素ガスは、撥水フィルタ124及び金網125を通り円筒状スペーサ127内に流入し、然る後、検出素子300に到達する。これに伴い、当該水素ガスが、検出素子300に接触するようにして外側保護層360の表面付近にて流動する。   In this 1st Embodiment comprised as mentioned above, the apparatus unit 100 of the said combustible gas detection apparatus shall be arrange | positioned in to-be-detected atmosphere. In this state, when hydrogen gas leaking into the detected atmosphere flows into the gas introduction tube 113 of the apparatus unit 100 from the gas introduction port 114, the hydrogen gas is removed from the water repellent filter 124 and the wire mesh. 125 and flows into the cylindrical spacer 127, and then reaches the detection element 300. Accordingly, the hydrogen gas flows near the surface of the outer protective layer 360 so as to come into contact with the detection element 300.

このような状態において、電源スイッチ281がオンされ、マイクロコンピュータ270が直流電源280から給電されると、当該マイクロコンピュータ270は、図6のフローチャートに従い上記コンピュータプログラムの実行を開始する。この開始に伴い、ステップ400において、マイクロコンピュータ270に内蔵のソフトタイマーの起動処理がなされる。従って、当該ソフトタイマーがそのリセット起動により計時を開始する。   In such a state, when the power switch 281 is turned on and the microcomputer 270 is supplied with power from the DC power supply 280, the microcomputer 270 starts executing the computer program according to the flowchart of FIG. With this start, in step 400, a soft timer built in the microcomputer 270 is activated. Therefore, the soft timer starts timing by the reset activation.

ついで、上記ソフトタイマーの計時時間が所定の待ち時間を経過するまで、ステップ410においてNOとの判定が繰り返される。なお、上記所定の待ち時間は、定温度制御回路230による制御のもと発熱抵抗体211の温度が上記一定温度(150(℃))になるとともに定温度制御回路240による制御のもと発熱抵抗体221が上記一定温度(330(℃))になるに要する時間(例えば、0.5(秒))に設定されている。   Next, the determination of NO is repeated in step 410 until the time measured by the soft timer has exceeded a predetermined waiting time. The predetermined waiting time is the temperature of the heating resistor 211 is controlled to be the constant temperature (150 (° C.)) under the control of the constant temperature control circuit 230 and the heating resistance is controlled under the control of the constant temperature control circuit 240. The time (for example, 0.5 (second)) required for the body 221 to reach the constant temperature (330 (° C.)) is set.

また、電源スイッチ281のオンに同期して、両定温度制御回路230、240による各制御電圧の出力が開始される。これに伴い、定温度制御回路230がブリッジ回路210の両電源端子間に制御電圧を出力すると、当該ブリッジ回路210が当該制御電圧でもって通電される。そして、このブリッジ回路210の両出力端子間から出力される電位差が演算増幅回路250により増幅されて定温度制御回路230にフィードバックされる。従って、ステップ410におけるNOとの判定の繰り返し中において、発熱抵抗体211の抵抗値が上記一定温度(150(℃))に対応する値を維持するように、当該発熱抵抗体211が定温度制御回路230により通電制御される。   Further, in synchronization with the power switch 281 being turned on, the output of each control voltage by the two constant temperature control circuits 230 and 240 is started. Accordingly, when the constant temperature control circuit 230 outputs a control voltage between both power supply terminals of the bridge circuit 210, the bridge circuit 210 is energized with the control voltage. The potential difference output from both output terminals of the bridge circuit 210 is amplified by the operational amplifier circuit 250 and fed back to the constant temperature control circuit 230. Accordingly, the heating resistor 211 is controlled at a constant temperature so that the resistance value of the heating resistor 211 maintains a value corresponding to the constant temperature (150 (° C.)) while the determination of NO in step 410 is repeated. The energization is controlled by the circuit 230.

また、定温度制御回路240がブリッジ回路220の両電源端子間に制御電圧を出力すると、当該ブリッジ回路220が当該制御電圧でもって通電される。そして、このブリッジ回路220の両出力端子間から出力される電位差が演算増幅回路260により増幅されて定温度制御回路240にフィードバックされる。従って、ステップ410におけるNOとの判定の繰り返し中において、発熱抵抗体221の抵抗値が上記一定温度(330(℃))に対応する値を維持するように、当該発熱抵抗体221が定温度制御回路240により通電制御される。   When the constant temperature control circuit 240 outputs a control voltage between both power supply terminals of the bridge circuit 220, the bridge circuit 220 is energized with the control voltage. The potential difference output from both output terminals of the bridge circuit 220 is amplified by the operational amplifier circuit 260 and fed back to the constant temperature control circuit 240. Therefore, during the repetition of the determination of NO in step 410, the heating resistor 221 is controlled at a constant temperature so that the resistance value of the heating resistor 221 maintains a value corresponding to the constant temperature (330 (° C.)). The energization is controlled by the circuit 240.

然る後、上記ソフトタイマーの計時時間が上記所定の待ち時間を経過すると、ステップ410においてYESと判定され、次のステップ411において、変数N=0とクリアされる。ついで、ステップ420において、両演算増幅回路250、260の各増幅電位差及び測温抵抗体390により検出される環境温度(以下、環境温度Tという)の入力処理がなされる。   Thereafter, when the time measured by the soft timer has passed the predetermined waiting time, YES is determined in step 410 and the variable N = 0 is cleared in the next step 411. Next, in step 420, input processing of the respective amplified potential differences of the operational amplifier circuits 250 and 260 and the environmental temperature (hereinafter referred to as environmental temperature T) detected by the resistance temperature detector 390 is performed.

ついで、ステップ430において、電圧差Vdの算出処理がなされる。ここで、電圧差Vdは、発熱抵抗体221の端子電圧と発熱抵抗体211の端子電圧との差をいう。このステップ430での算出処理では、電圧差Vdが、演算増幅回路260からの増幅電位差の演算増幅回路250からの増幅電位差に対する差に基づき算出される。   Next, in step 430, the voltage difference Vd is calculated. Here, the voltage difference Vd refers to a difference between the terminal voltage of the heating resistor 221 and the terminal voltage of the heating resistor 211. In the calculation process in step 430, the voltage difference Vd is calculated based on the difference between the amplified potential difference from the operational amplifier circuit 260 and the amplified potential difference from the operational amplifier circuit 250.

然る後、ステップ431において、電圧比Rvの算出処理がなされる。ここで、電圧比Rvは、発熱抵抗体221の端子電圧の発熱抵抗体211の端子電圧に対する比をいう。このステップ431の処理では、電圧比Rvが、演算増幅回路260からの増幅電位差の演算増幅回路250からの増幅電位差に対する比に基づき算出される。   Thereafter, in step 431, the voltage ratio Rv is calculated. Here, the voltage ratio Rv refers to the ratio of the terminal voltage of the heating resistor 221 to the terminal voltage of the heating resistor 211. In the processing of step 431, the voltage ratio Rv is calculated based on the ratio of the amplified potential difference from the operational amplifier circuit 260 to the amplified potential difference from the operational amplifier circuit 250.

このようにして電圧比の算出が終了すると、次のステップ432において、上記被検出雰囲気内の相対湿度Hの算出処理がなされる。この算出処理では、各環境温度における相対湿度Hが、図7にて示す相対湿度Hと電圧比Rvとの近似直線関係を表す特性(以下、相対湿度−電圧比特性ともいう)に基づき電圧比Rvから算出される。   When the calculation of the voltage ratio is completed in this way, in the next step 432, the relative humidity H in the detected atmosphere is calculated. In this calculation process, the relative humidity H at each environmental temperature is based on a characteristic (hereinafter also referred to as a relative humidity-voltage ratio characteristic) representing an approximate linear relationship between the relative humidity H and the voltage ratio Rv shown in FIG. Calculated from Rv.

本実施形態において、上記近似関係は、電圧比が被検出雰囲気内の相対湿度の増大及び環境温度の上昇(或いは、被検出雰囲気内の相対湿度の減少及び環境温度の低下)に応じて増大(或いは減少)する関係をいう。換言すれば、上記近似関係は、被検出雰囲気内の相対湿度が、電圧比の増大及び環境温度の上昇(或いは、電圧比の減少及び環境温度の低下)に応じて増大(或いは減少)する関係をいう。但し、上記相対湿度−電圧比特性は、後述する一次関数式及びマップデータと共に、データとしてマイクロコンピュータ270のROMに予め記憶されている。なお、当該データの記憶は、上記ROMに限ることなく、適宜なメモリでおこなってもよい。   In the present embodiment, the approximate relationship increases in accordance with an increase in the relative humidity in the detected atmosphere and an increase in the environmental temperature (or a decrease in the relative humidity in the detected atmosphere and a decrease in the environmental temperature). (Or decrease). In other words, the above approximate relationship is a relationship in which the relative humidity in the detected atmosphere increases (or decreases) in response to an increase in the voltage ratio and an increase in the environmental temperature (or a decrease in the voltage ratio and a decrease in the environmental temperature). Say. However, the relative humidity-voltage ratio characteristic is stored in advance in the ROM of the microcomputer 270 as data together with a linear function equation and map data described later. Note that the storage of the data is not limited to the ROM, and may be performed by an appropriate memory.

ここで、上記相対湿度−電圧比特性の導入根拠について説明する。検出素子300を被検出雰囲気内に配置して、当該被検出雰囲気に含まれる水素ガスの濃度D(以下、水素ガス濃度Dともいう)が、当該検出素子300の右側発熱抵抗体330の端子電圧の左側発熱抵抗体330の端子電圧に対する電圧差Vd(以下、両発熱抵抗体330間の電圧差Vdともいう)との間においてどのような関係を有するかにつき、当該被検出雰囲気内の相対湿度Hをパラメータとして、測定してみた。但し、上記被検出雰囲気の環境温度Tは、例えば80(℃)であるものとする。また、左側発熱抵抗体330の温度は150(℃)に維持されており、一方、右側発熱抵抗体330の温度は330(℃)に維持されているものとする。   Here, the grounds for introducing the relative humidity-voltage ratio characteristic will be described. The detection element 300 is arranged in the detection atmosphere, and the hydrogen gas concentration D (hereinafter also referred to as hydrogen gas concentration D) contained in the detection atmosphere is the terminal voltage of the right heating resistor 330 of the detection element 300. The relative humidity in the detected atmosphere is related to the voltage difference Vd with respect to the terminal voltage of the left heating resistor 330 (hereinafter also referred to as the voltage difference Vd between the two heating resistors 330). Measurement was performed using H as a parameter. However, the environmental temperature T of the detected atmosphere is, for example, 80 (° C.). In addition, the temperature of the left heating resistor 330 is maintained at 150 (° C.), while the temperature of the right heating resistor 330 is maintained at 330 (° C.).

上記測定の結果、複数のグラフが、図8にて例示するように、相対湿度Hをパラメータとして得られた。但し、図8において、グラフ1は、相対湿度H=0(%RH)のときの両発熱抵抗体330間の電圧差Vdと水素ガス濃度Dとの関係を示す。また、グラフ2は、相対湿度H=45(%RH)のときの両発熱抵抗体330間の電圧差Vdと水素ガス濃度Dとの関係を示し、グラフ3は、相対湿度H=100(%RH)のときの両発熱抵抗体330間の電圧差Vdと水素ガス濃度Dとの関係を示す。なお、このような関係は、H=0(%RH)、45(%RH)及び100(%RH)以外の相対湿度においても実質的に同様に得られる。   As a result of the measurement, a plurality of graphs were obtained using relative humidity H as a parameter, as illustrated in FIG. However, in FIG. 8, the graph 1 shows the relationship between the voltage difference Vd between the two heating resistors 330 and the hydrogen gas concentration D when the relative humidity H = 0 (% RH). Graph 2 shows the relationship between the voltage difference Vd between the heating resistors 330 and the hydrogen gas concentration D when the relative humidity H = 45 (% RH), and graph 3 shows the relative humidity H = 100 (% The relationship between the voltage difference Vd between the two heating resistors 330 and the hydrogen gas concentration D at the time of (RH) is shown. Note that such a relationship can be obtained substantially similarly at relative humidity other than H = 0 (% RH), 45 (% RH), and 100 (% RH).

従って、図8の各グラフによれば、両発熱抵抗体330間の電圧差Vdと水素ガス濃度Dとの関係は、環境温度T=80(℃)のもとで、相対湿度Hをパラメータとして、図8の直交座標面の縦軸に沿い平行移動する直線的グラフでもって表されることが分かる。換言すれば、両発熱抵抗体330間の電圧差Vdは、相対湿度Hをパラメータとするものの、水素ガス濃度Dと正比例の関係にあることが分かる。   Therefore, according to each graph of FIG. 8, the relationship between the voltage difference Vd between the two heating resistors 330 and the hydrogen gas concentration D is based on the relative humidity H as a parameter under the environment temperature T = 80 (° C.). It can be seen that this is represented by a linear graph that translates along the vertical axis of the orthogonal coordinate plane of FIG. In other words, it can be seen that the voltage difference Vd between the two heating resistors 330 is directly proportional to the hydrogen gas concentration D, although the relative humidity H is a parameter.

ここで、図8では、各グラフの勾配は、互いに同一であって、主として、上記被検出雰囲気内の環境温度Tによって決まる。よって、この勾配をAとすれば、各グラフは、一次関数式Vd=A・D+Bによって表せる。但し、Vdは、当該一次関数式の独立変数であり、Dは当該一次関数式の従属変数であり、Bは、当該一次関数式の切片を示す。この切片Bは、上記一次関数式の図8の直交座標面の縦軸との交点、即ち、D=0(%)のときの両発熱抵抗体330間の電圧差を表す。   Here, in FIG. 8, the gradients of the respective graphs are the same, and are mainly determined by the environmental temperature T in the detected atmosphere. Therefore, if this gradient is A, each graph can be expressed by a linear function equation Vd = A · D + B. However, Vd is an independent variable of the said linear function formula, D is a dependent variable of the said linear function formula, B shows the intercept of the said linear function formula. This intercept B represents the intersection of the linear function equation with the vertical axis of the orthogonal coordinate plane of FIG. 8, that is, the voltage difference between the two heating resistors 330 when D = 0 (%).

また、図8の各グラフを前提に、上記被検出雰囲気内の相対湿度Hが、左側発熱抵抗体330の端子電圧の右側発熱抵抗体330の端子電圧に対する電圧比Rv(以下、両発熱抵抗体330の電圧比Rvともいう)との間においてどのような関係を有するかにつき、測定してみた。この測定の結果、図7にて示すグラフ4が得られた。このグラフ4によれば、相対湿度Hは両発熱抵抗体330の電圧比Rvに対し近似直線関係を有することが分かる。   Further, on the assumption of each graph of FIG. 8, the relative humidity H in the detected atmosphere is a voltage ratio Rv of the terminal voltage of the left heating resistor 330 to the terminal voltage of the right heating resistor 330 (hereinafter, both heating resistors). And a voltage ratio Rv of 330). As a result of this measurement, the graph 4 shown in FIG. 7 was obtained. According to this graph 4, it can be seen that the relative humidity H has an approximate linear relationship with the voltage ratio Rv of both the heating resistors 330.

そこで、図7のグラフで特定される相対湿度Hと両発熱抵抗体330の電圧比Rvとの関係が、図8の各グラフで特定される両発熱抵抗体330間の電圧差Vdと水素ガス濃度Dとの関係に対しどのような関係を有するかについて検討してみた。   Therefore, the relationship between the relative humidity H specified in the graph of FIG. 7 and the voltage ratio Rv of both the heating resistors 330 is the voltage difference Vd between the heating resistors 330 specified in each graph of FIG. The relationship between the concentration D and the concentration D was examined.

図8によれば、両発熱抵抗体330間の電圧差Vdと水素ガス濃度Dとの関係は、相対湿度Hをパラメータする。従って、各グラフ1、2、3の図8の縦軸との交点である切片Bは、相対湿度Hと一定の関係にあることを利用して相対湿度Hから決まる。ここで、切片Bと相対湿度Hとは、3次関数的な関係にあり簡単には導出できないが、切片Bと相対湿度Hとの関係が、実測により、マップデータとして得られる。   According to FIG. 8, the relationship between the voltage difference Vd between the two heating resistors 330 and the hydrogen gas concentration D parameters the relative humidity H. Therefore, the intercept B, which is the intersection of the graphs 1, 2, and 3 with the vertical axis of FIG. Here, the intercept B and the relative humidity H have a cubic function relationship and cannot be easily derived. However, the relationship between the intercept B and the relative humidity H is obtained as map data by actual measurement.

また、相対湿度Hは、図7のグラフ4から分かるように、環境温度T及び両発熱抵抗体330の電圧比Rvによって一義的に決まる。よって、この決定相対湿度Hに対応する切片Bは、上記マップデータから一義的に決まることが分かる。   Further, as can be seen from the graph 4 in FIG. 7, the relative humidity H is uniquely determined by the environmental temperature T and the voltage ratio Rv of both the heating resistors 330. Therefore, it can be seen that the intercept B corresponding to the determined relative humidity H is uniquely determined from the map data.

以上より、一次関数式Vd=A・D+Bから変換した式、D=(Vd−B)/Aを用いれば、水素ガス濃度Dの算出が可能となる。ここで、Va=(Vd−B)と表せば、DはVaと正比例の関係となるから、Dは、D=Va/AからVaに基づき算出されて、図9にて示すグラフが得られる。そこで、図7のグラフで特定される上記相対湿度−電圧比特性を導入した。   As described above, the hydrogen gas concentration D can be calculated by using the equation D = (Vd−B) / A converted from the linear function equation Vd = A · D + B. Here, if Va = (Vd−B), D is directly proportional to Va. Therefore, D is calculated based on Va from D = Va / A, and the graph shown in FIG. 9 is obtained. . Therefore, the relative humidity-voltage ratio characteristic specified in the graph of FIG. 7 was introduced.

上述のようにステップ430及びステップ431において電圧比Rv及び電圧差Vdの算出が終了すると、ステップ432において、相対湿度Hの算出処理がなされる。この算出処理では、相対湿度Hが図7の相対湿度−電圧比特性(上記ROMに記憶済み)を用いて電圧比Rvに基づき算出される。   As described above, when the calculation of the voltage ratio Rv and the voltage difference Vd is completed in step 430 and step 431, the relative humidity H is calculated in step 432. In this calculation process, the relative humidity H is calculated based on the voltage ratio Rv using the relative humidity-voltage ratio characteristics (stored in the ROM) of FIG.

ついで、ステップ433において、切片Bが、上記マップデータ(上記ROMに記憶済み)に基づきステップ432における算出相対湿度Hから決定される。そして、ステップ434において、勾配Aが、ステップ420における環境温度Tに基づき算出される。但し、勾配Aは環境温度と一定の関係を有する。なお、勾配Aは、好ましくは、検出ガスの種類をも考慮して算出するとよい。   Next, in step 433, the intercept B is determined from the calculated relative humidity H in step 432 based on the map data (stored in the ROM). In step 434, the gradient A is calculated based on the environmental temperature T in step 420. However, the gradient A has a certain relationship with the environmental temperature. The gradient A is preferably calculated in consideration of the type of detection gas.

然る後、ステップ440において、水素ガスの濃度Dが、一次関数式Vd=A・D+Bから変換した式、D=(Vd−B)/Aを用いて、電圧差Vd、勾配A及び切片Bに基づき算出される。なお、上記変換式D=(Vd−B)/Aは、マイクロコンピュータ270のROMに予め記憶されている。   Thereafter, in step 440, the voltage difference Vd, the gradient A, and the intercept B are obtained by using the equation D = (Vd−B) / A, in which the hydrogen gas concentration D is converted from the linear function equation Vd = A · D + B. Calculated based on The conversion formula D = (Vd−B) / A is stored in advance in the ROM of the microcomputer 270.

ついで、ステップ450において、N=N+1=1と加算更新され、ステップ460において、変数N=所定回数Noか否かが判定される。現段階では、N=1であることから、ステップ460において、N=1<No(=10)に基づき、NOと判定され、コンピュータプログラムがステップ420に戻る。   Next, in step 450, N = N + 1 = 1 is added and updated. In step 460, it is determined whether or not the variable N = predetermined number of times. Since N = 1 at the current stage, NO is determined in step 460 based on N = 1 <No (= 10), and the computer program returns to step 420.

以後、ステップ450における変数Nの加算更新値がN=Noとなるまで、ステップ420〜ステップ460を通る循環処理が繰り返される。然る後、N=Noとなり、ステップ460における判定がYESになると、次のステップ470において、ステップ440にて算出済みの全ての水素ガス濃度の平均値が算出され検出水素ガス濃度として出力される。   Thereafter, the cyclic process through steps 420 to 460 is repeated until the addition update value of the variable N in step 450 becomes N = No. Thereafter, if N = No and the determination in step 460 is YES, in the next step 470, the average value of all the hydrogen gas concentrations calculated in step 440 is calculated and output as the detected hydrogen gas concentration. .

以上説明したように、本第1実施形態によれば、定温度制御回路230、240による上述の通電制御状態にて生ずる発熱抵抗体211の端子電圧の発熱抵抗体221の端子電圧に対する電圧差Vdを独立変数とし、被検出雰囲気内の可燃性ガスの濃度Dを従属変数とし、相対湿度H及び環境温度Tをパラメータとして成立する一次関数式Vd=A・D+Bを前提とする。   As described above, according to the first embodiment, the voltage difference Vd between the terminal voltage of the heating resistor 211 and the terminal voltage of the heating resistor 221 generated in the above-described energization control state by the constant temperature control circuits 230 and 240. Is assumed to be an independent variable, the concentration D of the combustible gas in the atmosphere to be detected is a dependent variable, and a linear function equation Vd = A · D + B that is established with the relative humidity H and the environmental temperature T as parameters is assumed.

そして、当該一次関数式の切片Bと相対湿度Hとの間で成立する3次関数的な関係を表す上記マップデータに加え、定温度制御回路230、240による通電制御状態にて生ずる発熱抵抗体221の端子電圧の発熱抵抗体211の端子電圧に対する電圧比Rvと被検出雰囲気内の相対湿度Hとの間で環境温度Tにおいて成立する近似直線関係(図7参照)をも利用して、相対湿度Hが当該近似直線関係から上記決定電圧比Rvに基づき算出され、上記一次関数式の切片Bが上記マップデータから当該決定相対湿度Hに基づき決定され、かつ、当該一次関数式の勾配Aが上記環境温度Tに基づき算出される。   Further, in addition to the map data representing the cubic function relationship established between the intercept B of the linear function equation and the relative humidity H, the heating resistor generated in the energization control state by the constant temperature control circuits 230 and 240 The approximate linear relationship (see FIG. 7) established at the ambient temperature T between the voltage ratio Rv of the terminal voltage 221 to the terminal voltage of the heating resistor 211 and the relative humidity H in the atmosphere to be detected is also used. The humidity H is calculated from the approximate linear relationship based on the determined voltage ratio Rv, the intercept B of the linear function equation is determined from the map data based on the determined relative humidity H, and the gradient A of the linear function equation is It is calculated based on the environmental temperature T.

そして、上記可燃性ガスの濃度Dが、定温度制御回路230、240による通電制御状態にて生ずる発熱抵抗体221の端子電圧の発熱抵抗体211の端子電圧との電圧差Vd、上記決定切片B及び上記算出勾配Aを用いて上記一次関数式に基づき算出され、この算出濃度に基づき可燃性ガスが検出される。   The concentration D of the combustible gas is the voltage difference Vd between the terminal voltage of the heating resistor 221 and the terminal voltage of the heating resistor 211 generated in the energization controlled state by the constant temperature control circuits 230 and 240, and the determined intercept B. And based on the linear function equation using the calculated gradient A, combustible gas is detected based on the calculated concentration.

以上より、被検出雰囲気の熱伝導率が当該被検出雰囲気内の相対湿度に応じて変動することを考慮して、この変動の影響をなくするように処理して可燃性ガスを検出することとなり、その結果、この検出精度を高く確保できる。ここで、両発熱抵抗体211、221の温度抵抗係数は上述のごとく測温抵抗体390の温度抵抗係数とほぼ同一であるから、両発熱抵抗体211、221の各抵抗値及び測温抵抗体390の抵抗値が、共通の上記環境温度においてほぼ同様の変化特性を示す。従って、可燃性ガス濃度の算出や検出がより精度よくなされ得る。また、測温抵抗体390は薄膜抵抗体であるため、この薄膜抵抗体の抵抗値が環境温度の変化に伴い迅速に変化し得る。
(第2実施形態)
図10及び図11は、本発明に係る可燃性ガス検出装置の第2実施形態を示している。この第2実施形態では、上記第1実施形態において、マイクロコンピュータ270が、図10から分かるように、定温度制御回路230に代えて、この定温度制御回路230の出力制御電圧をブリッジ回路210に直接出力するとともに、定温度制御回路240に代えて、この定温度制御回路240の出力制御電圧をブリッジ回路220に直接出力するようにした構成となっている。これに伴い、本第2実施形態では、両定温度制御回路230、240が廃止されている。
From the above, considering that the thermal conductivity of the atmosphere to be detected fluctuates according to the relative humidity in the atmosphere to be detected, combustible gas is detected by processing so as to eliminate the influence of this fluctuation. As a result, high detection accuracy can be secured. Here, since the temperature resistance coefficients of the two heating resistors 211 and 221 are substantially the same as the temperature resistance coefficient of the temperature measuring resistor 390 as described above, the resistance values and the temperature measuring resistors of the two heating resistors 211 and 221 are the same. The resistance value of 390 shows almost the same change characteristic at the common environmental temperature. Accordingly, calculation and detection of the combustible gas concentration can be performed with higher accuracy. In addition, since the resistance temperature detector 390 is a thin film resistor, the resistance value of the thin film resistor can change rapidly as the environmental temperature changes.
(Second Embodiment)
10 and 11 show a second embodiment of the combustible gas detection device according to the present invention. In the second embodiment, as shown in FIG. 10, the microcomputer 270 replaces the constant temperature control circuit 230 with the output control voltage of the constant temperature control circuit 230 in the bridge circuit 210 in the first embodiment. In addition to direct output, the output control voltage of the constant temperature control circuit 240 is directly output to the bridge circuit 220 instead of the constant temperature control circuit 240. Accordingly, both constant temperature control circuits 230 and 240 are abolished in the second embodiment.

また、本第2実施形態では、マイクロコンピュータ270が、図6のフローチャートに代えて、図11にて示すフローチャートに従い、上記コンピュータプログラムを実行するように変更されている。その他の構成は、上記第1実施形態と同様である。   In the second embodiment, the microcomputer 270 is changed to execute the computer program according to the flowchart shown in FIG. 11 instead of the flowchart of FIG. Other configurations are the same as those in the first embodiment.

このように構成した本第2実施形態において、上記第1実施形態にて述べたと同様に当該可燃性ガス検出装置が上記被検出雰囲気内に配置されているものとする。   In the second embodiment configured as described above, it is assumed that the combustible gas detection device is disposed in the detected atmosphere as described in the first embodiment.

このような状態において、電源スイッチ281がオンされ、マイクロコンピュータ270が直流電源280から給電されると、当該マイクロコンピュータ270は、図11のフローチャートに従い上記コンピュータプログラムの実行を開始する。この開始に伴い、ステップ480において、両発熱抵抗体211、221の定温度制御処理がなされる。   In such a state, when the power switch 281 is turned on and the microcomputer 270 is supplied with power from the DC power supply 280, the microcomputer 270 starts executing the computer program according to the flowchart of FIG. Along with this start, in step 480, constant temperature control processing of both the heating resistors 211 and 221 is performed.

この定温度制御処理では、制御電圧が、演算増幅回路250の出力に応じて、ガス検出用発熱抵抗体211の抵抗値を一定温度(例えば、150(℃))に対応する値に維持するように、直流電源280の出力電圧に基づき形成されてブリッジ回路210に出力される。また、他の制御電圧が、演算増幅回路260の出力に応じて、ガス検出用発熱抵抗体221の抵抗値を一定温度(例えば、330(℃))に対応する値に維持するように、直流電源280の出力電圧に基づき形成されてブリッジ回路220に出力される。   In this constant temperature control process, the control voltage maintains the resistance value of the gas detection heating resistor 211 at a value corresponding to a constant temperature (for example, 150 (° C.)) according to the output of the operational amplifier circuit 250. Then, it is formed based on the output voltage of the DC power supply 280 and is output to the bridge circuit 210. Further, in accordance with the output of the operational amplifier circuit 260, another control voltage is controlled so as to maintain the resistance value of the gas detection heating resistor 221 at a value corresponding to a constant temperature (eg, 330 (° C.)). Based on the output voltage of the power source 280, it is formed and output to the bridge circuit 220.

これにより、発熱抵抗体211が上記一定温度(例えば、150(℃))に維持されるとともに、発熱抵抗体221が上記一定温度(例えば、330(℃))に維持される。   Accordingly, the heating resistor 211 is maintained at the constant temperature (for example, 150 (° C.)) and the heating resistor 221 is maintained at the constant temperature (for example, 330 (° C.)).

このような状態にて、以下のステップ411以後の処理が上記第1実施形態と同様になされる。その結果、上記第1実施形態と同様の作用効果が達成され得る。
(第3実施形態)
図12〜図18は、本発明に係る可燃性ガス検出装置の第3実施形態を示している。この第3実施形態では、上記第1実施形態にて述べた検出素子300(図4及び図5参照)において、右側発熱抵抗体330に代えて、測温抵抗体500を採用した構成となっている(図12及び図13参照)。これに伴い、本第3実施形態では、上記第1実施形態にて述べた測温抵抗体390は廃止されている。
In such a state, the following processing from step 411 is performed in the same manner as in the first embodiment. As a result, the same effect as the first embodiment can be achieved.
(Third embodiment)
FIGS. 12-18 has shown 3rd Embodiment of the combustible gas detection apparatus based on this invention. In the third embodiment, in the detection element 300 (see FIGS. 4 and 5) described in the first embodiment, a temperature measuring resistor 500 is used instead of the right heating resistor 330. (See FIGS. 12 and 13). Accordingly, in the third embodiment, the resistance temperature detector 390 described in the first embodiment is abolished.

測温抵抗体500は、上記第1実施形態にて述べた上側絶縁層320の表面のうち右側凹部311に対応する部位上に、白金(Pt)を含む測温抵抗材料でもって、蛇行状に形成されている。これにより、当該測温抵抗体500は、上記第1実施形態にて述べた測温抵抗体390と同様に、当該ガス検出装置を配置した被検出雰囲気の環境温度を検出する。   The resistance temperature detector 500 has a serpentine shape with a resistance temperature material containing platinum (Pt) on a portion corresponding to the right recess 311 in the surface of the upper insulating layer 320 described in the first embodiment. Is formed. Thereby, the resistance temperature detector 500 detects the environmental temperature of the atmosphere to be detected in which the gas detection device is arranged, similarly to the resistance temperature detector 390 described in the first embodiment.

ここで、当該測温抵抗体500は、その両端にて、上記第1実施形態にて述べた中央側及び右側の両配線膜340とそれぞれ一体となるように形成されている。なお、本第3実施形態では、測温抵抗体500の温度抵抗係数は上記第1実施形態にて述べた左側発熱抵抗体330の温度抵抗係数とほぼ同一となっている。   Here, the temperature measuring resistor 500 is formed at both ends so as to be integrated with both the central and right wiring films 340 described in the first embodiment. In the third embodiment, the temperature resistance coefficient of the resistance temperature detector 500 is substantially the same as the temperature resistance coefficient of the left heating resistor 330 described in the first embodiment.

また、本第3実施形態では、上記第1実施形態にて述べた制御回路200に代えて、図14にて示す制御回路が採用されている。この制御回路は、上記第1実施形態にて述べた定温度制御回路230に代えて、温度制御回路231を採用するとともに、上記第1実施形態にて述べたブリッジ回路220、定温度制御回路240、演算増幅回路260を廃止した構成となっている。   In the third embodiment, a control circuit shown in FIG. 14 is employed instead of the control circuit 200 described in the first embodiment. This control circuit employs a temperature control circuit 231 instead of the constant temperature control circuit 230 described in the first embodiment, and also includes a bridge circuit 220 and a constant temperature control circuit 240 described in the first embodiment. The operational amplifier circuit 260 is abolished.

温度制御回路231は、マイクロコンピュータ270による制御のもと、所定のパルス周期にてパルス状の制御電圧(図16参照)を発生するように構成されている。ここで、当該制御電圧は、上記パルス周期の前半(例えば、図16にてt=t0〜t1参照)にて、ローレベルL(>0)となり、上記パルス周期の後半(例えば、図16にてt=t1〜t2参照)にて、ハイレベルH(>L)となるように発生される。なお、当該パルス周期は、例えば、20(秒)であって、このパルス周期の前半及び後半は、それぞれ、10(秒)である。また、上記制御電圧のレベルがローレベルL(>0)以上であるのは、後述のように発熱抵抗体211を常時通電状態におくためである。このことは、発熱抵抗体211の断線や短絡等の故障検知を容易にすることに役立つ。   The temperature control circuit 231 is configured to generate a pulsed control voltage (see FIG. 16) at a predetermined pulse period under the control of the microcomputer 270. Here, the control voltage becomes a low level L (> 0) in the first half of the pulse period (for example, t = t0 to t1 in FIG. 16), and the second half of the pulse period (for example, in FIG. 16). At t = t1 to t2), the high level H (> L) is generated. The pulse period is, for example, 20 (seconds), and the first half and the second half of the pulse period are 10 (seconds), respectively. The reason why the level of the control voltage is equal to or higher than the low level L (> 0) is to keep the heating resistor 211 in an energized state as will be described later. This is useful for facilitating failure detection such as disconnection or short circuit of the heating resistor 211.

また、本第3実施形態では、上記第1実施形態にて述べたマイクロコンピュータ270が、図6のフローチャートに代えて、図15にて示すフローチャートに従い、上記コンピュータプログラムを実行するように変更されている。ここで、図15のフローチャートは、上記第2実施形態にて述べたフローチャート(図11参照)を変更したものである。   In the third embodiment, the microcomputer 270 described in the first embodiment is changed to execute the computer program in accordance with the flowchart shown in FIG. 15 instead of the flowchart in FIG. Yes. Here, the flowchart of FIG. 15 is a modification of the flowchart (see FIG. 11) described in the second embodiment.

また、本第3実施形態では、上記第1実施形態にて述べたブリッジ回路210(図2参照)において、図14にて示すごとく、両固定抵抗215、216及びアナログ切り換えスイッチ290を付加的に採用した構成が採用されている。   In the third embodiment, in the bridge circuit 210 (see FIG. 2) described in the first embodiment, both fixed resistors 215 and 216 and an analog changeover switch 290 are additionally provided as shown in FIG. The adopted structure is adopted.

アナログ切り換えスイッチ290は、図14にて示すごとく、可動接点291と、この可動接点291を選択的に切り換え投入する各固定接点292、293及び294とにより構成されている。ここで、可動接点291は、上記第1実施形態にて述べた固定抵抗213、固定抵抗212及び固定抵抗211を介し接地されている。固定接点292は、固定抵抗214を介し接地されている。また、固定接点293は固定抵抗215を介し接地されるとともに、固定接点294は固定抵抗216を介し接地されている。   As shown in FIG. 14, the analog changeover switch 290 includes a movable contact 291 and fixed contacts 292, 293, and 294 that selectively switch on the movable contact 291. Here, the movable contact 291 is grounded via the fixed resistor 213, the fixed resistor 212, and the fixed resistor 211 described in the first embodiment. The fixed contact 292 is grounded via a fixed resistor 214. The fixed contact 293 is grounded via the fixed resistor 215, and the fixed contact 294 is grounded via the fixed resistor 216.

しかして、当該アナログ切り換えスイッチ290は、上記第1実施形態にて述べたマイクロコンピュータ270による制御のもと、上記制御電圧のレベル変化に同期して可動接点291を各固定接点292、293及び294のいずれかに切り換え投入する。なお、以下、可動接点291の固定接点292への投入状態を第1投入状態といい、可動接点291の固定接点293への投入状態を第2投入状態といい、可動接点291の固定接点294への投入状態を第3投入状態という。   Accordingly, the analog changeover switch 290 controls the movable contact 291 to each of the fixed contacts 292, 293, and 294 in synchronization with the level change of the control voltage under the control of the microcomputer 270 described in the first embodiment. Switch to one of the following. It should be noted that, hereinafter, the input state of the movable contact 291 to the fixed contact 292 is referred to as a first input state, and the input state of the movable contact 291 to the fixed contact 293 is referred to as a second input state, to the fixed contact 294 of the movable contact 291. The input state is referred to as a third input state.

ここで、上記制御電圧がローレベルLにあるときアナログ切り換えスイッチ290は第1投入状態になるようにマイクロコンピュータ270により切り換え制御される。これに伴い、ブリッジ回路210において、各固定抵抗214〜216のうち固定抵抗214が固定抵抗213に直列接続される。   Here, when the control voltage is at the low level L, the analog changeover switch 290 is controlled by the microcomputer 270 so as to be in the first on state. Accordingly, in the bridge circuit 210, the fixed resistor 214 among the fixed resistors 214 to 216 is connected in series to the fixed resistor 213.

上記制御電圧がローレベルLからハイレベルHになるとアナログ切り換えスイッチ290は第2及び第3の投入状態のいずれかに切り換わるようにマイクロコンピュータ270により制御される。これに伴い、ブリッジ回路210において、両固定抵抗215、216のいずれかが固定抵抗213に直列接続される。   When the control voltage changes from the low level L to the high level H, the analog changeover switch 290 is controlled by the microcomputer 270 so as to switch to either the second or third input state. Accordingly, in the bridge circuit 210, either one of the fixed resistors 215 and 216 is connected in series to the fixed resistor 213.

本第3実施形態では、ブリッジ回路210において、各固定抵抗214〜216の抵抗値は次のように設定されている。即ち、上記制御電圧のローレベル状態にて固定抵抗214が固定抵抗213に直列接続されているとき、発熱抵抗体211の温度(以下、抵抗体温度Cともいう)をC=C1(図17参照)に維持する電流(以下、電流I1ともいう)を発熱抵抗体211に流すように、固定抵抗214の抵抗値(以下、抵抗値R1ともいう)が設定されている。   In the third embodiment, in the bridge circuit 210, the resistance values of the fixed resistors 214 to 216 are set as follows. That is, when the fixed resistor 214 is connected in series to the fixed resistor 213 in the low level state of the control voltage, the temperature of the heating resistor 211 (hereinafter also referred to as resistor temperature C) is C = C1 (see FIG. 17). The resistance value of the fixed resistor 214 (hereinafter also referred to as the resistance value R1) is set so that a current maintained at () (hereinafter also referred to as the current I1) flows through the heating resistor 211.

また、上記制御電圧のハイレベル状態にて固定抵抗215が固定抵抗213に直列接続されているとき、抵抗体温度CをC=C2(図17参照)に維持する電流(以下、電流I2ともいう)を発熱抵抗体211に流すように、固定抵抗215の抵抗値(以下、抵抗値R2ともいう)が設定されている。   Further, when the fixed resistor 215 is connected in series to the fixed resistor 213 in the high level state of the control voltage, a current that maintains the resistor temperature C at C = C2 (see FIG. 17) (hereinafter also referred to as a current I2). The resistance value of the fixed resistor 215 (hereinafter, also referred to as the resistance value R2) is set so as to flow through the heating resistor 211.

また、上記制御電圧のハイレベル状態にて固定抵抗216が固定抵抗213に直列接続されているとき、抵抗体温度CをC=C3(図17参照)に維持する電流(以下、電流I3ともいう)を発熱抵抗体211に流すように、固定抵抗216の抵抗値(以下、抵抗値R3ともいう)が設定されている。   Further, when the fixed resistor 216 is connected in series to the fixed resistor 213 in the high level state of the control voltage, a current that maintains the resistor temperature C at C = C3 (see FIG. 17) (hereinafter also referred to as a current I3). The resistance value of the fixed resistor 216 (hereinafter, also referred to as the resistance value R3) is set so as to flow through the heating resistor 211.

ここで、各固定抵抗214〜216の抵抗値は、R1<R3<R2という関係を有する。従って、抵抗体温度Cは、図17にて示すごとく、C1<C3<C2という関係を有する。   Here, the resistance values of the fixed resistors 214 to 216 have a relationship of R1 <R3 <R2. Therefore, the resistor temperature C has a relationship of C1 <C3 <C2 as shown in FIG.

また、抵抗体温度C=C1は、100(℃)よりも高い。これは、上述のように制御電圧のレベルをローレベルL(>0)以上とすることで発熱抵抗体211に常時通電することにより、発熱抵抗体211の温度を100(℃)よりも高く維持し、当該発熱抵抗体211に対する結露水等の水分の付着を未然に防止するためである。なお、当該防止は、発熱抵抗体211の温度上昇を円滑にするのに役立つ。その他の構成は上記第1実施形態と同様である。   The resistor temperature C = C1 is higher than 100 (° C.). As described above, the temperature of the heating resistor 211 is maintained higher than 100 (° C.) by always energizing the heating resistor 211 by setting the control voltage level to the low level L (> 0) or more. In order to prevent moisture from adhering to the heating resistor 211, such as condensed water. This prevention is useful for smoothing the temperature rise of the heating resistor 211. Other configurations are the same as those in the first embodiment.

このように構成した本第3実施形態において、上記第1実施形態にて述べたと同様に当該可燃性ガス検出装置が上記被検出雰囲気内に配置されているものとする。   In the third embodiment configured as described above, it is assumed that the combustible gas detection device is disposed in the detected atmosphere as described in the first embodiment.

このような状態において、電源スイッチ281がオンされ、マイクロコンピュータ270が直流電源280から給電されると、当該マイクロコンピュータ270は、図15のフローチャートに従い上記コンピュータプログラムの実行を開始する。この開始に伴い、ステップ412において、変数N=0とクリアされる。このとき、時間t=t0であるとする。   In such a state, when the power switch 281 is turned on and the microcomputer 270 is supplied with power from the DC power supply 280, the microcomputer 270 starts executing the computer program according to the flowchart of FIG. With this start, in step 412, the variable N = 0 is cleared. At this time, it is assumed that time t = t0.

ついで、両ステップ481、ステップ413の循環処理がなされる。即ち、ステップ413では、温度周期τの経過か否かが判定される。本第3実施形態では、温度周期τは、当該制御電圧のパルス周期の2倍(例えば、t=t0〜t4)に相当する。しかして、温度周期τの経過までは、ステップ413でNOとの判定が繰り返されるため、上述のように両ステップ481、413の循環処理がなされる。   Next, the circulation processing of both step 481 and step 413 is performed. That is, in step 413, it is determined whether or not the temperature cycle τ has elapsed. In the third embodiment, the temperature period τ corresponds to twice the pulse period of the control voltage (for example, t = t0 to t4). Thus, until the temperature cycle τ elapses, the determination of NO is repeated in step 413, so that the circulation processing in both steps 481 and 413 is performed as described above.

このような循環処理中、ステップ481において、本第3実施形態におけるブリッジ回路210の発熱抵抗体211の温度制御処理がなされる。具体的には、温度制御回路231が、マイクロコンピュータ270により制御されて、上記パルス周期にて制御電圧をパルス状に発生する。ここで、当該制御電圧は、t=t0〜t1にてローレベルLを維持し、t=t1〜t2にてハイレベルHを維持し、t=t2〜t3にてローレベルLを維持し、t=t3〜t4にてハイレベルHを維持するように変化する。   During such circulation processing, in step 481, the temperature control processing of the heating resistor 211 of the bridge circuit 210 in the third embodiment is performed. Specifically, the temperature control circuit 231 is controlled by the microcomputer 270 to generate a control voltage in a pulse shape with the above pulse period. Here, the control voltage maintains a low level L at t = t0 to t1, maintains a high level H at t = t1 to t2, maintains a low level L at t = t2 to t3, It changes so as to maintain the high level H from t = t3 to t4.

また、アナログ切り換えスイッチ290は、マイクロコンピュータ270による制御のもと、当該制御電圧のレベル変化に同期して、可動接点291を各固定接点292〜294のいずれかに切り換え投入する。詳細には、アナログ切り換えスイッチ290は、時間t=t0にて第1投入状態になり、t=t1にて第2投入状態になり、t=t2にて第1投入状態になり、t=t3にて第3投入状態になり、t=t4にて第1投入状態になる。   The analog changeover switch 290 switches the movable contact 291 to any one of the fixed contacts 292 to 294 in synchronization with the level change of the control voltage under the control of the microcomputer 270. Specifically, the analog changeover switch 290 enters the first on state at time t = t0, enters the second on state at t = t1, enters the first on state at t = t2, and sets t = t3. The third charging state is set at t1, and the first charging state is set at t = t4.

しかして、上述のように、t=t0にて、アナログ切り換えスイッチ290が第1投入状態になり、温度制御回路231からの制御電圧がローレベルLにてブリッジ回路210に出力されると、ブリッジ回路210において固定抵抗214が固定抵抗213に直列接続され、電流I1が発熱抵抗体211に流れて当該発熱抵抗体の温度をC=C1に維持する。   Thus, as described above, when t = t0, the analog changeover switch 290 enters the first input state, and when the control voltage from the temperature control circuit 231 is output to the bridge circuit 210 at the low level L, the bridge In the circuit 210, the fixed resistor 214 is connected in series with the fixed resistor 213, and the current I1 flows through the heating resistor 211 to maintain the temperature of the heating resistor at C = C1.

ついで、上述のように、時間t=t1にて、アナログ切り換えスイッチ290が第2投入状態になり、ブリッジ回路210において固定抵抗215が固定抵抗213に直列接続されると、温度制御回路231からの制御電圧がハイレベルHにてブリッジ回路210に出力され、電流I2が発熱抵抗体211に流れて当該発熱抵抗体の温度をC=C2に維持する。   Next, as described above, when the analog changeover switch 290 enters the second input state at time t = t1 and the fixed resistor 215 is connected in series to the fixed resistor 213 in the bridge circuit 210, the temperature control circuit 231 The control voltage is output to the bridge circuit 210 at the high level H, and the current I2 flows through the heating resistor 211 to maintain the temperature of the heating resistor at C = C2.

ここで、上述のように、温度制御回路231からの制御電圧がハイレベルHにてブリッジ回路210に出力されると、ブリッジ回路210は、両固定抵抗213、215の共通端子と固定抵抗212及び発熱抵抗体211の共通端子との間から、固定抵抗215の抵抗値R2及び発熱抵抗体211の抵抗値の変化に基づき電位差V1(図18にてt=t1〜t2参照)を出力する。すると、この電位差V1は、演算増幅回路250により増幅されて増幅電位差VA1としてマイクロコンピュータ270に出力される。このようにマイクロコンピュータ270に出力される増幅電位差VA1は、次のt=t2〜t3の間にて当該マイクロコンピュータ270のRAMに記憶される。   Here, as described above, when the control voltage from the temperature control circuit 231 is output to the bridge circuit 210 at the high level H, the bridge circuit 210 includes the common terminals of the fixed resistors 213 and 215, the fixed resistors 212, and A potential difference V1 (see t = t1 to t2 in FIG. 18) is output from the common terminal of the heating resistor 211 based on the resistance value R2 of the fixed resistor 215 and the resistance value of the heating resistor 211. Then, this potential difference V1 is amplified by the operational amplifier circuit 250 and output to the microcomputer 270 as the amplified potential difference VA1. Thus, the amplified potential difference VA1 output to the microcomputer 270 is stored in the RAM of the microcomputer 270 during the next t = t2 to t3.

然る後、上述のように、時間t=t2にて、アナログ切り換えスイッチ290が第1投入状態になり、ブリッジ回路210において固定抵抗214が固定抵抗213に再び直列接続されると、温度制御回路231からの制御電圧がローレベルLにてブリッジ回路210に出力され、電流I1が発熱抵抗体211に流れて当該発熱抵抗体の温度をC=C1に維持する。   Thereafter, as described above, at time t = t2, the analog changeover switch 290 enters the first input state, and when the fixed resistor 214 is again connected in series to the fixed resistor 213 in the bridge circuit 210, the temperature control circuit The control voltage from H.231 is output to the bridge circuit 210 at the low level L, and the current I1 flows through the heating resistor 211 to maintain the temperature of the heating resistor at C = C1.

ついで、上述のように、時間t=t3にて、アナログ切り換えスイッチ290が第3投入状態になり、ブリッジ回路210において固定抵抗216が固定抵抗213に直列接続されると、温度制御回路231からの制御電圧がハイレベルHにてブリッジ回路210に出力され、電流I3が発熱抵抗体211に流れて当該発熱抵抗体の温度をC=C3に維持する。   Next, as described above, at time t = t3, the analog changeover switch 290 enters the third input state, and when the fixed resistor 216 is connected in series to the fixed resistor 213 in the bridge circuit 210, the temperature control circuit 231 The control voltage is output to the bridge circuit 210 at the high level H, and the current I3 flows through the heating resistor 211 to maintain the temperature of the heating resistor at C = C3.

ここで、上述のように、温度制御回路231からの制御電圧が時間t=t3にてハイレベルHにてブリッジ回路210に出力されると、ブリッジ回路210は、両固定抵抗213、216の共通端子と固定抵抗212及び発熱抵抗体211の共通端子との間から、固定抵抗216の抵抗値R3及び発熱抵抗体211の抵抗値の変化に基づき電位差V2(図18にてt=t3〜t4参照)を出力する。すると、この電位差V2は、演算増幅回路250により増幅されて増幅電位差VA2としてマイクロコンピュータ270に出力される。このようにマイクロコンピュータ270に出力される演算増幅電圧VA2は、t=t4〜t5の間にてマイクロコンピュータ270のRAMに記憶される。現段階では、図18にて示すごとく、電位差V1>電位差V2であることから、増幅電位差VA1>増幅電位差VA2である。   Here, as described above, when the control voltage from the temperature control circuit 231 is output to the bridge circuit 210 at the high level H at time t = t3, the bridge circuit 210 is common to both the fixed resistors 213 and 216. A potential difference V2 (see t = t3 to t4 in FIG. 18) between the terminal and the common terminal of the fixed resistor 212 and the heating resistor 211 based on the resistance value R3 of the fixed resistor 216 and the resistance value of the heating resistor 211. ) Is output. Then, this potential difference V2 is amplified by the operational amplifier circuit 250 and output to the microcomputer 270 as the amplified potential difference VA2. Thus, the operational amplification voltage VA2 output to the microcomputer 270 is stored in the RAM of the microcomputer 270 between t = t4 and t5. At this stage, as shown in FIG. 18, since the potential difference V1> the potential difference V2, the amplified potential difference VA1> the amplified potential difference VA2.

然る後、温度周期τの経過に伴いステップ413における判定がYESになると、次のステップ420において、両増幅電位差の読み出し処理及び環境温度Tの入力処理がなされる。   Thereafter, when the determination in step 413 becomes YES as the temperature cycle τ elapses, in the next step 420, both amplified potential difference read processing and environmental temperature T input processing are performed.

この読み出し処理及び入力処理では、上記第1実施形態にて述べた両演算増幅回路250、260からの各増幅電位差に代えて、上述のようにステップ481でマイクロコンピュータ270のRAMに記憶済みの演算増幅回路250からの両増幅電位差VA1、VA2が読み出されるとともに、測温抵抗体500により検出される環境温度Tがマイクロコンピュータ270に入力される。   In this read processing and input processing, instead of the amplified potential differences from the two operational amplifier circuits 250 and 260 described in the first embodiment, the operations stored in the RAM of the microcomputer 270 in step 481 as described above. Both amplified potential differences VA 1 and VA 2 from the amplifier circuit 250 are read out, and the environmental temperature T detected by the resistance temperature detector 500 is input to the microcomputer 270.

ついで、ステップ430において、電圧差Vdの算出処理がなされる。この算出処理では、上記第1実施形態にて述べた両演算増幅回路250、260からの各増幅電位差の差に代えて、ステップ420で読み出された両増幅電位差VA1、VA2の差(VA1−VA2)が算出される。   Next, in step 430, the voltage difference Vd is calculated. In this calculation process, instead of the difference between the amplified potential differences from the two operational amplifier circuits 250 and 260 described in the first embodiment, the difference between the amplified potential differences VA1 and VA2 read out at step 420 (VA1- VA2) is calculated.

このようにしてステップ430での処理が終了すると、ステップ431において、電圧比Rvの決定処理がなされる。この決定処理では、上記第1実施形態にて述べた両演算増幅回路250、260からの各増幅電位差の比に代えて、増幅電位差VA1の増幅電位差VA2に対する比(VA1/VA2)が電圧比Rvとして算出される。   When the processing in step 430 is completed in this way, in step 431, the voltage ratio Rv is determined. In this determination process, the ratio (VA1 / VA2) of the amplified potential difference VA1 to the amplified potential difference VA2 is set to the voltage ratio Rv instead of the ratio of the amplified potential differences from the two operational amplifier circuits 250 and 260 described in the first embodiment. Is calculated as

すると、次のステップ490において、Rv>1が成立するか否かが判定される。現段階では、上述のごとく、VA1>VA2であることから、Rv>1が成立する。従って、ステップ490における判定がYESとなる。なお、Rv≦1が成立する場合には、ステップ481以後の処理が再びなされる。   Then, in the next step 490, it is determined whether or not Rv> 1 is satisfied. At the present stage, as described above, since VA1> VA2, Rv> 1 is established. Therefore, the determination in step 490 is YES. If Rv ≦ 1 holds, the processing after step 481 is performed again.

上述のようにステップ490におけるYESとの判定に伴い、ステップ432以後の処理が上記第1実施形態と同様になされる。そして、ステップ460における判定がYESとなるまで、ステップ481以後の処理が、t=t4〜t8以後にて、上述と同様になされる。   As described above, with the determination of YES in step 490, the processing after step 432 is performed in the same manner as in the first embodiment. Then, the processing after step 481 is performed in the same manner as described above after t = t4 to t8 until the determination in step 460 becomes YES.

即ち、温度制御回路231からの制御電圧は、t=t4〜t5にてローレベルLを維持し、t=t5〜t6にてハイレベルHを維持し、t=t6〜t7にてローレベルLを維持し、t=t7〜t8にてハイレベルHを維持するように変化する。   That is, the control voltage from the temperature control circuit 231 maintains the low level L from t = t4 to t5, maintains the high level H from t = t5 to t6, and low level L from t = t6 to t7. And changes so as to maintain the high level H from t = t7 to t8.

また、アナログ切り換えスイッチ290は、マイクロコンピュータ270による制御のもと、当該制御電圧のレベル変化に同期して、時間t=t4にて第1投入状態になり、t=t5にて第2投入状態になり、t=t6にて第1投入状態になり、t=t7にて第3投入状態になり、t=t8にて第1投入状態になる。   Also, the analog changeover switch 290 is in the first on state at time t = t4 and in the second on state at t = t5 in synchronization with the level change of the control voltage under the control of the microcomputer 270. At t = t6, the third charging state is reached at t = t7, and the first charging state is reached at t = t8.

しかして、上述のように、t=t4にて、アナログ切り換えスイッチ290が第1投入状態になり、温度制御回路231からの制御電圧がローレベルLにてブリッジ回路210に出力されると、ブリッジ回路210の固定抵抗214が固定抵抗213に直列接続され、電流I1が発熱抵抗体211に流れて当該発熱抵抗体の温度をC=C1に維持する(図17参照)。   Therefore, as described above, when t = t4, the analog changeover switch 290 enters the first input state, and when the control voltage from the temperature control circuit 231 is output to the bridge circuit 210 at the low level L, the bridge The fixed resistor 214 of the circuit 210 is connected in series to the fixed resistor 213, and the current I1 flows through the heating resistor 211 to maintain the temperature of the heating resistor at C = C1 (see FIG. 17).

ついで、上述のように、時間t=t5にて、アナログ切り換えスイッチ290が第2投入状態になり、ブリッジ回路210において固定抵抗215が固定抵抗213に直列接続されると、温度制御回路231からの制御電圧がハイレベルHにてブリッジ回路210に出力され、電流I2が発熱抵抗体211に流れて当該発熱抵抗体の温度をC=C2に維持する(図17参照)。   Next, as described above, when the analog changeover switch 290 is in the second input state at time t = t5 and the fixed resistor 215 is connected in series to the fixed resistor 213 in the bridge circuit 210, the temperature control circuit 231 The control voltage is output to the bridge circuit 210 at the high level H, and the current I2 flows through the heating resistor 211 to maintain the temperature of the heating resistor at C = C2 (see FIG. 17).

ここで、上述のように、温度制御回路231からの制御電圧がハイレベルHにてブリッジ回路210に出力されると、ブリッジ回路210は、両固定抵抗213、215の共通端子と固定抵抗212及び発熱抵抗体211の共通端子との間から、固定抵抗215の抵抗値R2及び発熱抵抗体211の抵抗値の変化に基づき電位差V3(図18にてt=t5〜t6参照)を出力する。すると、この電位差V3は、演算増幅回路250により増幅されて増幅電位差VA3としてマイクロコンピュータ270に出力される。このようにマイクロコンピュータ270に出力される増幅電位差VA3は、次のt=t6〜t7の間にて当該マイクロコンピュータ270のRAMに記憶される。   Here, as described above, when the control voltage from the temperature control circuit 231 is output to the bridge circuit 210 at the high level H, the bridge circuit 210 includes the common terminals of the fixed resistors 213 and 215, the fixed resistors 212, and A potential difference V3 (see t = t5 to t6 in FIG. 18) is output from the common terminal of the heating resistor 211 based on the resistance value R2 of the fixed resistor 215 and the resistance value of the heating resistor 211. Then, this potential difference V3 is amplified by the operational amplifier circuit 250 and output to the microcomputer 270 as the amplified potential difference VA3. Thus, the amplified potential difference VA3 output to the microcomputer 270 is stored in the RAM of the microcomputer 270 during the next t = t6 to t7.

然る後、上述のように、時間t=t6にて、アナログ切り換えスイッチ290が第1投入状態になり、ブリッジ回路210において固定抵抗214が固定抵抗213に再び直列接続されると、温度制御回路231からの制御電圧がローレベルLにてブリッジ回路210に出力され、電流I1が発熱抵抗体211に流れて当該発熱抵抗体の温度をC=C1に維持する(図17参照)。   Thereafter, as described above, at time t = t6, the analog changeover switch 290 enters the first input state, and when the fixed resistor 214 is again connected in series to the fixed resistor 213 in the bridge circuit 210, the temperature control circuit The control voltage from H.231 is output to the bridge circuit 210 at the low level L, and the current I1 flows through the heating resistor 211 to maintain the temperature of the heating resistor at C = C1 (see FIG. 17).

ついで、上述のように、時間t=t7にて、アナログ切り換えスイッチ290が第3投入状態になり、ブリッジ回路210において固定抵抗216が固定抵抗213に直列接続されると、温度制御回路231からの制御電圧がハイレベルHにてブリッジ回路210に出力され、電流I3が発熱抵抗体211に流れて当該発熱抵抗体の温度をC=C3に維持する(図17参照)。   Next, as described above, at time t = t7, when the analog changeover switch 290 is in the third input state and the fixed resistor 216 is connected in series to the fixed resistor 213 in the bridge circuit 210, the temperature control circuit 231 The control voltage is output to the bridge circuit 210 at the high level H, and the current I3 flows through the heating resistor 211 to maintain the temperature of the heating resistor at C = C3 (see FIG. 17).

ここで、上述のように、温度制御回路231からの制御電圧が時間t=t7にてハイレベルHにてブリッジ回路210に出力されると、ブリッジ回路210は、両固定抵抗213、216の共通端子と固定抵抗212及び発熱抵抗体211の共通端子との間から、固定抵抗216の抵抗値R3及び発熱抵抗体211の抵抗値の変化に基づき電位差V1(図18にてt=t7〜t8参照)を出力する。すると、この電位差V1は、演算増幅回路250により増幅されて増幅電位差VA1としてマイクロコンピュータ270に出力される。このようにマイクロコンピュータ270に出力される演算増幅電圧VA1は、t=t8〜t9の間にてマイクロコンピュータ270のRAMに記憶される。現段階では、図18にて示すごとく、電位差V3>電位差V1であることから、増幅電位差VA3>増幅電位差VA1である。   Here, as described above, when the control voltage from the temperature control circuit 231 is output to the bridge circuit 210 at the high level H at time t = t7, the bridge circuit 210 is common to both the fixed resistors 213 and 216. Based on the change in resistance value R3 of the fixed resistor 216 and the resistance value of the heating resistor 211 from between the terminal and the common terminal of the fixed resistor 212 and the heating resistor 211 (see t = t7 to t8 in FIG. 18). ) Is output. Then, this potential difference V1 is amplified by the operational amplifier circuit 250 and output to the microcomputer 270 as the amplified potential difference VA1. Thus, the operational amplification voltage VA1 output to the microcomputer 270 is stored in the RAM of the microcomputer 270 between t = t8 and t9. At this stage, as shown in FIG. 18, since the potential difference V3> the potential difference V1, the amplified potential difference VA3> the amplified potential difference VA1.

しかして、t=t4〜t8に対応する温度周期τの経過に伴いステップ413においてYESとの判定がなされると、ステップ420において、上述のようにステップ481でマイクロコンピュータ270のRAMに記憶済みの演算増幅回路250からの両増幅電位差VA3、VA1が読み出されるとともに、測温抵抗体500により検出される環境温度Tがマイクロコンピュータ270に入力される。ついで、ステップ430において、ステップ420で読み出された両増幅電位差VA3、VA1の差(VA3−VA1)が算出される。然る後、ステップ431において、増幅電位差VA3の増幅電位差VA1に対する比(VA3/VA1)が電圧比Rvとして算出される。   Thus, when a determination of YES is made in step 413 as the temperature period τ corresponding to t = t4 to t8 elapses, in step 420, as described above, the data stored in the RAM of the microcomputer 270 is stored in step 481. Both amplified potential differences VA3 and VA1 are read from the operational amplifier circuit 250, and the ambient temperature T detected by the resistance temperature detector 500 is input to the microcomputer 270. Next, in step 430, the difference (VA3-VA1) between the two amplified potential differences VA3 and VA1 read in step 420 is calculated. Thereafter, in step 431, the ratio (VA3 / VA1) of the amplified potential difference VA3 to the amplified potential difference VA1 is calculated as the voltage ratio Rv.

しかして、現段階では、上述のごとく、VA3>VA1であることから、Rv>1が成立することから、ステップ490における判定がYESとなる。これに伴い、ステップ432以後の処理が上述と同様になされる。   Therefore, at the present stage, as described above, since VA3> VA1, since Rv> 1 is established, the determination in step 490 is YES. Accordingly, the processing after step 432 is performed in the same manner as described above.

以上説明したように、本第3実施形態では、上記第1実施形態にて述べたブリッジ回路220、定温度制御回路240及び演算増幅回路260を廃止した上で、ブリッジ回路210として、上記第1実施形態にて述べたブリッジ回路210において上述のようにアナログ切り換えスイッチ290及び両固定抵抗215、216を付加した構成を採用し、温度制御回路231を上記第1実施形態にて述べた定温度制御回路230に代えて採用した。そして、本第3実施形態にいうブリッジ回路210及び温度制御回路231をマイクロコンピュータ270でもって図15のフローチャートに従い上述のように制御することで、温度周期τ毎に、ブリッジ回路210を上述のようにパルス駆動するとともにアナログ切り換えスイッチ290を切り換え駆動するようにした。   As described above, in the third embodiment, the bridge circuit 220, the constant temperature control circuit 240, and the operational amplifier circuit 260 described in the first embodiment are eliminated, and the bridge circuit 210 is used as the first circuit. The bridge circuit 210 described in the embodiment employs a configuration in which the analog changeover switch 290 and the fixed resistors 215 and 216 are added as described above, and the temperature control circuit 231 is controlled by the constant temperature control described in the first embodiment. The circuit 230 is used instead. Then, the bridge circuit 210 and the temperature control circuit 231 according to the third embodiment are controlled by the microcomputer 270 as described above according to the flowchart of FIG. And the analog changeover switch 290 are changed over and driven.

これにより、ブリッジ回路及び発熱抵抗体をブリッジ回路210及び発熱抵抗体211とそれぞれ単一とすることで、検出素子300の小型化及び電力消費抑制を確保しつつ、上記第1実施形態と同様の作用効果を達成し得る。   As a result, the bridge circuit and the heating resistor are made single with the bridge circuit 210 and the heating resistor 211, respectively, so that the detection element 300 can be reduced in size and power consumption can be suppressed, and the same as in the first embodiment. An effect can be achieved.

次に、上記第3実施形態の変形例について説明する。上記第3実施形態では、上述したごとく、温度周期τの経過毎に電圧比Rv>1の成立に伴い水素ガスの濃度の算出に伴う処理を行う例が示されている。しかしながら、これに限ることなく、当該第3実施形態を次のように変形してもよい。   Next, a modification of the third embodiment will be described. In the third embodiment, as described above, an example is shown in which processing accompanying the calculation of the concentration of hydrogen gas is performed with the establishment of the voltage ratio Rv> 1 every time the temperature cycle τ elapses. However, the present invention is not limited to this, and the third embodiment may be modified as follows.

即ち、ステップ413における判定基準として、「温度周期τの経過か?」に代えて、「上記制御電圧のパルス周期の経過か?」を採用する。ここで、当該パルス周期の経過は、例えば、温度周期τの前半の経過、当該温度周期τの後半の経過、或いはこれに後続する温度周期τの前半の経過に相当する。   That is, instead of “whether the temperature cycle τ has passed” as the determination criterion in step 413, “whether the control voltage pulse cycle has passed” is adopted. Here, the progress of the pulse cycle corresponds to, for example, the first half of the temperature cycle τ, the second half of the temperature cycle τ, or the first half of the subsequent temperature cycle τ.

このような前提のもと、当該パルス周期の経過に伴いステップ413にてYESと判定される毎に、ステップ420以後の処理が次のように繰り返される。   Under such a premise, every time YES is determined in step 413 as the pulse period elapses, the processing after step 420 is repeated as follows.

上記第3実施形態にて述べたように、例えば、t=t2〜t3の間、t=t4〜t5の間、t=t6〜t7の間及びt=t8〜t9の間にてマイクロコンピュータ270のRAMに順次記憶された各増幅電位差VA1、VA2、VA3及びVA1のうち、両増幅電位差VA1、VA2、両増幅電位差VA2、VA3及び両増幅電位差VA3、VA1が順次ステップ420にて環境温度Tとともに読み出される。   As described in the third embodiment, for example, the microcomputer 270 is between t = t2 and t3, between t = t4 and t5, between t = t6 and t7, and between t = t8 and t9. Among the amplified potential differences VA1, VA2, VA3, and VA1 sequentially stored in the RAM, the amplified potential differences VA1, VA2, both amplified potential differences VA2, VA3, and both amplified potential differences VA3, VA1 are sequentially set together with the environmental temperature T in step 420. Read out.

そして、このように順次読み出された両増幅電位差VA1、VA2、両増幅電位差VA2、VA3及び両増幅電位差VA3、VA1が、順次、電圧差Vdとしてステップ430にて算出される。ついで、上述のように順次読み出された両増幅電位差VA1、VA2、両増幅電位差VA2、VA3及び両増幅電位差VA3、VA1が、それぞれ、順次、電圧比Rv=VA1/VA2、VA2/VA3、VA3/VA1としてステップ431にて決定される。   Then, the two amplified potential differences VA1 and VA2, the two amplified potential differences VA2 and VA3, and the two amplified potential differences VA3 and VA1 that are sequentially read out in this way are sequentially calculated as a voltage difference Vd in step 430. Next, the two amplified potential differences VA1 and VA2, the two amplified potential differences VA2 and VA3, and the two amplified potential differences VA3 and VA1 that are sequentially read out as described above are sequentially converted into voltage ratios Rv = VA1 / VA2, VA2 / VA3, and VA3, respectively. It is determined in step 431 as / VA1.

ここで、Rv=VA1/VA2>1、Rv=VA2/VA3<1及びRv=VA3/VA1>1である(図18参照)。従って、ステップ490において、Rv=VA1/VA2>1のときにはYESと判定され、Rv=VA2/VA3<1のときにはNOと判定され、Rv=VA3/VA1>1のときにはYESと判定される。   Here, Rv = VA1 / VA2> 1, Rv = VA2 / VA3 <1 and Rv = VA3 / VA1> 1 (see FIG. 18). Therefore, in step 490, YES is determined when Rv = VA1 / VA2> 1, NO is determined when Rv = VA2 / VA3 <1, and YES is determined when Rv = VA3 / VA1> 1.

このため、ステップ490における判定がYESのときにのみ、ステップ432以後の処理がなされる。これによっても、上記第3実施形態と同様の作用効果が達成され得る。   For this reason, the processing after step 432 is performed only when the determination in step 490 is YES. Also by this, the same effect as the third embodiment can be achieved.

なお、本発明の実施にあたり、上記各実施形態に限ることなく、次のような種々の変形例が挙げられる。
(1)発熱抵抗体330及び配線膜340の形成材料としては、高温において化学的耐久性が高く、かつ温度抵抗係数が大きいことが望ましい。
(2)水素ガスに限らず、都市ガス等の可燃性ガスの濃度検出や当該ガスの漏洩検出に本発明を適用してもよい。
(3)上記各実施形態における発熱抵抗体の数は2つに限ることなく、3つ以上であってもよい。
(4)測温抵抗体390或いは500は、薄膜抵抗体に限ることなく、サーミスタ等の温度検出可能な各種の抵抗体であってもよい。
(5)測温抵抗体390或いは500に代えて、検出素子300とは別体の測温抵抗体その他の温度センサを採用してもよい。この場合、当該温度センサは、検出素子300を配置した被検出雰囲気内に配置することが望ましい。
(6)発熱抵抗体211、221(330)は、上記実施形態とは異なり、当該発熱抵抗体の温度の上昇(或いは低下)に応じて減少(或いは増大)するように抵抗値を変化させる発熱抵抗体であってもよい。この場合、上記実施形態にて述べた電圧差Vd及び電圧比Rvは、両発熱抵抗体211、221のうち抵抗値の大きい方を基準に算出するようにする。
(7)図6のステップ410における判定基準である所定の待ち時間は、0.5(秒)に限ることなく、適宜変更してもよく、要するに、両発熱抵抗体211、221をその定温度制御により各上記対応の一定温度にし得る時間であればよい。
(8)両発熱抵抗体211、221の各温度抵抗係数は、測温抵抗体390或いは500の温度抵抗係数とは、必ずしも同一でなくてもよい。
(9)上記第3実施形態において、ステップ490(図15参照)における判定基準は、Rv>1に限ることなく、Rv<1であってもよい。
(10)上記第3実施形態において、図15のフローチャートのステップ412の処理に先立ち、上記第1実施形態にて述べたフローチャート(図6参照)の両ステップ400、410と同様の処理を行うようにしてもよい。
In carrying out the present invention, the following various modifications are possible without being limited to the above embodiments.
(1) As a material for forming the heating resistor 330 and the wiring film 340, it is desirable that the chemical durability is high at a high temperature and the temperature resistance coefficient is large.
(2) The present invention may be applied not only to hydrogen gas but also to concentration detection of combustible gas such as city gas and leakage detection of the gas.
(3) The number of heating resistors in each of the above embodiments is not limited to two, and may be three or more.
(4) The resistance thermometer 390 or 500 is not limited to a thin film resistor, and may be various resistors such as a thermistor capable of detecting temperature.
(5) Instead of the resistance temperature detector 390 or 500, a temperature resistance resistor or other temperature sensor separate from the detection element 300 may be employed. In this case, it is desirable that the temperature sensor is disposed in a detection atmosphere in which the detection element 300 is disposed.
(6) Unlike the above-described embodiment, the heating resistors 211 and 221 (330) generate heat in which the resistance value is changed so as to decrease (or increase) in accordance with an increase (or decrease) in the temperature of the heating resistor. A resistor may be used. In this case, the voltage difference Vd and the voltage ratio Rv described in the above embodiment are calculated on the basis of the larger resistance value of both the heating resistors 211 and 221.
(7) The predetermined waiting time, which is the determination criterion in step 410 of FIG. 6, is not limited to 0.5 (seconds), and may be changed as appropriate. In short, both the heating resistors 211 and 221 have their constant temperatures. Any time may be used as long as the temperature can be set to the corresponding constant temperature by the control.
(8) The temperature resistance coefficients of the two heating resistors 211 and 221 may not necessarily be the same as the temperature resistance coefficient of the resistance temperature detector 390 or 500.
(9) In the third embodiment, the determination criterion in step 490 (see FIG. 15) is not limited to Rv> 1, but may be Rv <1.
(10) In the third embodiment, prior to the processing of step 412 in the flowchart of FIG. 15, the same processing as both steps 400 and 410 of the flowchart (see FIG. 6) described in the first embodiment is performed. It may be.

本発明に係る可燃性ガス検出装置の第1実施形態における装置ユニットの断面図である。It is sectional drawing of the apparatus unit in 1st Embodiment of the combustible gas detection apparatus which concerns on this invention. 上記第1実施形態における制御回路を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the control circuit in the said 1st Embodiment. 図1の蓋体に対する検出素子の組み付け構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the assembly | attachment structure of the detection element with respect to the cover body of FIG. 図3の検出素子の断面図である。It is sectional drawing of the detection element of FIG. 図3の検出素子の平面図である。It is a top view of the detection element of FIG. 図2のマイクロコンピュータの作用を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the effect | action of the microcomputer of FIG. 上記第1実施形態における被検出雰囲気内の相対湿度と電圧比との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the relative humidity in the to-be-detected atmosphere in the said 1st Embodiment, and a voltage ratio. 上記第1実施形態における電圧差と水素ガス濃度との関係を示す相対湿度をパラメータとしたグラフである。It is the graph which made the relative humidity which shows the relationship between the voltage difference and hydrogen gas concentration in the said 1st Embodiment a parameter. 上記第1実施形態における水素ガス濃度とVa(=電圧差−切片)との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the hydrogen gas concentration and Va (= voltage difference-intercept) in the said 1st Embodiment. 本発明の第2実施形態における制御回路図である。It is a control circuit diagram in a 2nd embodiment of the present invention. 図10のマイクロコンピュータの作用を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the effect | action of the microcomputer of FIG. 図13にて12−12線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows a 12-12 line in FIG. 本発明の第3実施形態における検出素子の平面図である。It is a top view of the detection element in 3rd Embodiment of this invention. 当該第3実施形態における制御回路図である。It is a control circuit diagram in the third embodiment. 図14のマイクロコンピュータの作用を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the effect | action of the microcomputer of FIG. 上記第3実施形態における温度制御回路の出力波形を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the output waveform of the temperature control circuit in the said 3rd Embodiment. 上記第3実施形態における発熱抵抗体の温度の時間的変化を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the time change of the temperature of the exothermic resistor in the 3rd embodiment of the above. 上記第3実施形態における発熱抵抗体の端子電圧の時間的変化を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the time change of the terminal voltage of the exothermic resistor in the 3rd embodiment of the above.

符号の説明Explanation of symbols

211、221、330…発熱抵抗体、214〜216…固定抵抗、
230、240…定温度制御回路、231…温度制御回路、280…直流電源、
250、260…演算増幅回路、270…マイクロコンピュータ、
290…アナログ切り換えスイッチ回路、300…検出素子、310…半導体基板、
311…凹部、320…絶縁層、350…内側保護層、360…外側保護層、
390、500…測温抵抗体。
211, 221 and 330 ... exothermic resistors, 214 to 216 ... fixed resistors,
230, 240 ... constant temperature control circuit, 231 ... temperature control circuit, 280 ... DC power supply,
250, 260 ... operational amplification circuit, 270 ... microcomputer,
290 ... analog changeover switch circuit, 300 ... detection element, 310 ... semiconductor substrate,
311: Recess, 320 ... Insulating layer, 350 ... Inner protective layer, 360 ... Outer protective layer,
390, 500 ... Resistance temperature detector.

Claims (10)

被検出雰囲気内に晒される複数の発熱抵抗体を備えてなる可燃性ガス検出装置において、
前記複数の発熱抵抗体のうち2つの発熱抵抗体の各抵抗値を互いに異なる各一定温度に対応する各値にそれぞれ維持するように当該2つの発熱抵抗体を通電制御する通電制御手段と、
前記被検出雰囲気内の環境温度を検出する温度検出手段と、
前記通電制御手段による通電制御状態にて生ずる前記2つの発熱抵抗体の各端子電圧の差を電圧差として算出する電圧差算出手段と、
前記通電制御手段による通電制御状態にて生ずる前記2つの発熱抵抗体の各端子電圧の比を電圧比として決定する電圧比決定手段と、
この電圧比決定手段による決定電圧比と前記温度検出手段による検出環境温度との間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の湿度を決定する湿度決定手段と、
前記電圧差算出手段による算出電圧差、前記湿度決定手段による決定湿度及び前記検出環境温度の間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の前記可燃性ガスの濃度を算出する濃度算出手段とを備えて、
この濃度算出手段の算出濃度に基づき前記可燃性ガスを検出するようにしたことを特徴とする可燃性ガス検出装置。
In the combustible gas detection device comprising a plurality of heating resistors exposed to the atmosphere to be detected,
Energization control means for energizing the two heating resistors so as to maintain the resistance values of the two heating resistors among the plurality of heating resistors at respective values corresponding to different constant temperatures;
Temperature detecting means for detecting an environmental temperature in the detected atmosphere;
Voltage difference calculating means for calculating a difference between the terminal voltages of the two heating resistors generated in the energization control state by the energization control means as a voltage difference;
Voltage ratio determining means for determining, as a voltage ratio, a ratio of the terminal voltages of the two heating resistors generated in the energization control state by the energization control means;
Humidity determining means for determining the humidity in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage ratio determined by the voltage ratio determining means and the detected environment temperature by the temperature detecting means;
Concentration calculating means for calculating the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage difference calculated by the voltage difference calculating means, the humidity determined by the humidity determining means, and the detected environmental temperature. ,
The combustible gas detection apparatus, wherein the combustible gas is detected based on the calculated concentration of the concentration calculation means.
被検出雰囲気内に晒される発熱抵抗体を備えてなる可燃性ガス検出装置において、
前記発熱抵抗体の抵抗値を互いに異なる一定温度に対応する各値に時を異にして維持するように当該発熱抵抗体を間欠的に通電制御する通電制御手段と、
前記被検出雰囲気内の環境温度を検出する温度検出手段と、
前記通電制御手段による間欠的通電制御状態にて時を異にして生ずる前記発熱抵抗体の各端子電圧の差を電圧差として算出する電圧差算出手段と、
前記通電制御手段による間欠的通電制御状態にて時を異にして生ずる前記発熱抵抗体の各端子電圧の比を電圧比として決定する電圧比決定手段と、
この電圧比決定手段による決定電圧比と前記温度検出手段による検出環境温度との間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の湿度を決定する湿度決定手段と、
前記電圧差算出手段による算出電圧差、前記湿度決定手段による決定湿度及び前記検出環境温度の間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の前記可燃性ガスの濃度を算出する濃度算出手段とを備えて、
この濃度算出手段の算出濃度に基づき前記可燃性ガスを検出するようにしたことを特徴とする可燃性ガス検出装置。
In a flammable gas detection device comprising a heating resistor exposed to the atmosphere to be detected,
Energization control means for intermittently energizing the heating resistor so as to maintain the resistance value of the heating resistor at different values corresponding to different constant temperatures at different times; and
Temperature detecting means for detecting an environmental temperature in the detected atmosphere;
A voltage difference calculating means for calculating a difference between the terminal voltages of the heating resistors generated at different times in the intermittent energization control state by the energization control means;
Voltage ratio determining means for determining, as a voltage ratio, a ratio of each terminal voltage of the heating resistor that occurs at different times in the intermittent energization control state by the energization control means;
Humidity determining means for determining the humidity in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage ratio determined by the voltage ratio determining means and the detected environment temperature by the temperature detecting means;
Concentration calculating means for calculating the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage difference calculated by the voltage difference calculating means, the humidity determined by the humidity determining means, and the detected environmental temperature. ,
The combustible gas detection apparatus, wherein the combustible gas is detected based on the calculated concentration of the concentration calculation means.
複数の凹部を間隔をおいて裏面側から形成してなる半導体基板と、この半導体基板の表面に形成される絶縁層と、この絶縁層の表面に前記各凹部に対応して形成される複数の発熱抵抗体と、これら発熱抵抗体を覆うように前記絶縁層の表面に形成される保護層とを備えて、被検出雰囲気内に配置される検出素子と、
前記複数の発熱抵抗体のうち2つの発熱抵抗体の各抵抗値を互いに異なる各一定温度に対応する各値にそれぞれ維持するように当該2つの発熱抵抗体を通電制御する通電制御手段と、
前記被検出雰囲気内の環境温度を検出する温度検出手段と、
前記通電制御手段による通電制御状態にて生ずる前記2つの発熱抵抗体の各端子電圧の差を電圧差として算出する電圧差算出手段と、
前記通電制御手段による通電制御状態にて生ずる前記2つの発熱抵抗体の各端子電圧の比を電圧比として決定する電圧比決定手段と、
この電圧比決定手段による決定電圧比と前記温度検出手段による検出環境温度との間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の湿度を決定する湿度決定手段と、
前記電圧差算出手段による算出電圧差、前記湿度決定手段による決定湿度及び前記検出環境温度の間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の前記可燃性ガスの濃度を算出する濃度算出手段とを備えて、
この濃度算出手段の算出濃度に基づき前記可燃性ガスを検出するようにした可燃性ガス検出装置。
A semiconductor substrate formed with a plurality of recesses from the back side at intervals, an insulating layer formed on the surface of the semiconductor substrate, and a plurality of recesses formed on the surface of the insulating layer corresponding to the recesses A heating element, and a detection element disposed in the atmosphere to be detected, including a protective layer formed on the surface of the insulating layer so as to cover the heating resistor;
Energization control means for energizing the two heating resistors so as to maintain the resistance values of the two heating resistors among the plurality of heating resistors at respective values corresponding to different constant temperatures;
Temperature detecting means for detecting an environmental temperature in the detected atmosphere;
Voltage difference calculating means for calculating a difference between the terminal voltages of the two heating resistors generated in the energization control state by the energization control means as a voltage difference;
Voltage ratio determining means for determining, as a voltage ratio, a ratio of the terminal voltages of the two heating resistors generated in the energization control state by the energization control means;
Humidity determining means for determining the humidity in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage ratio determined by the voltage ratio determining means and the detected environment temperature by the temperature detecting means;
Concentration calculating means for calculating the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage difference calculated by the voltage difference calculating means, the humidity determined by the humidity determining means, and the detected environmental temperature. ,
A combustible gas detection apparatus that detects the combustible gas based on the calculated concentration of the concentration calculation means.
凹部を裏面側から形成してなる半導体基板と、この半導体基板の表面に形成される絶縁層と、この絶縁層の表面に前記凹部に対応して形成される発熱抵抗体と、この発熱抵抗体を覆うように前記絶縁層の表面に形成される保護層とを備えて、被検出雰囲気内に配置される検出素子と、
前記発熱抵抗体の抵抗値を互いに異なる一定温度に対応する各値に時を異にして維持するように当該発熱抵抗体を間欠的に通電制御する通電制御手段と、
前記被検出雰囲気内の環境温度を検出する温度検出手段と、
前記通電制御手段による間欠的通電制御状態にて時を異にして生ずる前記発熱抵抗体の各端子電圧の差を電圧差として算出する電圧差算出手段と、
前記通電制御手段による間欠的通電制御状態にて時を異にして生ずる前記発熱抵抗体の各端子電圧の比を電圧比として決定する電圧比決定手段と、
この電圧比決定手段による決定電圧比と前記温度検出手段による検出環境温度との間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の湿度を決定する湿度決定手段と、
前記電圧差算出手段による算出電圧差、前記湿度決定手段による決定湿度及び前記検出環境温度の間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の前記可燃性ガスの濃度を算出する濃度算出手段とを備えて、
この濃度算出手段の算出濃度に基づき前記可燃性ガスを検出するようにした可燃性ガス検出装置。
A semiconductor substrate formed with a recess from the back side, an insulating layer formed on the surface of the semiconductor substrate, a heating resistor formed on the surface of the insulating layer corresponding to the recess, and the heating resistor And a protective layer formed on the surface of the insulating layer so as to cover the detection element, and a detection element disposed in the detection atmosphere;
Energization control means for intermittently energizing the heating resistor so as to maintain the resistance value of the heating resistor at different values corresponding to different constant temperatures at different times; and
Temperature detecting means for detecting an environmental temperature in the detected atmosphere;
A voltage difference calculating means for calculating a difference between the terminal voltages of the heating resistors generated at different times in the intermittent energization control state by the energization control means;
Voltage ratio determining means for determining, as a voltage ratio, a ratio of each terminal voltage of the heating resistor that occurs at different times in the intermittent energization control state by the energization control means;
Humidity determining means for determining the humidity in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage ratio determined by the voltage ratio determining means and the detected environment temperature by the temperature detecting means;
Concentration calculating means for calculating the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage difference calculated by the voltage difference calculating means, the humidity determined by the humidity determining means, and the detected environmental temperature. ,
A combustible gas detection apparatus that detects the combustible gas based on the calculated concentration of the concentration calculation means.
前記電圧差を独立変数とし、前記可燃性ガスの濃度を従属変数とし、前記湿度及び前記環境温度をパラメータとして成立する一次関数式の切片と前記湿度との間の所定の関係を用いて前記決定湿度に基づき前記切片を決定する切片決定手段と、
前記検出環境温度に基づき前記一次関数式の勾配を決定する勾配決定手段とを備えて、
前記濃度算出手段は、前記決定湿度及び前記検出環境温度に代わる前記切片決定手段による決定切片及び前記勾配決定手段による決定勾配を共に用いて、前記算出電圧差に応じて、前記一次関数式に基づき前記可燃性ガスの濃度を算出するようにしたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の可燃性ガス検出装置。
The voltage difference is an independent variable, the concentration of the combustible gas is a dependent variable, and the determination is performed using a predetermined relationship between an intercept of a linear function equation established with the humidity and the environmental temperature as parameters, and the humidity. Intercept determining means for determining the intercept based on humidity;
Gradient determining means for determining the gradient of the linear function equation based on the detected ambient temperature,
The concentration calculating means uses both the determined intercept by the intercept determining means and the determined gradient by the gradient determining means in place of the determined humidity and the detected environmental temperature, and based on the linear function formula according to the calculated voltage difference. The combustible gas detection device according to any one of claims 1 to 4, wherein the concentration of the combustible gas is calculated.
前記温度検出手段は、前記被検出雰囲気内に配置される測温抵抗体であってその抵抗値の変化に応じて前記被検出雰囲気内の環境温度を検出する測温抵抗体であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の可燃性ガス検出装置。   The temperature detection means is a resistance temperature detector that is disposed in the detected atmosphere and detects an environmental temperature in the detected atmosphere in accordance with a change in the resistance value thereof. The combustible gas detection device according to any one of claims 1 to 5. 前記温度検出手段は、前記半導体基板の表面上に形成される薄膜抵抗体であって、
この薄膜抵抗体はその抵抗値の変化に基づき前記被検出雰囲気内の環境温度を検出することを特徴とする請求項3或いは4に記載の可燃性ガス検出装置。
The temperature detecting means is a thin film resistor formed on the surface of the semiconductor substrate,
The combustible gas detection device according to claim 3 or 4, wherein the thin film resistor detects an environmental temperature in the detected atmosphere based on a change in the resistance value thereof.
被検出雰囲気内に晒される両発熱抵抗体の各抵抗値を互いに異なる各一定温度に対応する各値にそれぞれ維持するように当該両発熱抵抗体を通電制御し、
前記被検出雰囲気内の前記通電制御状態において生ずる前記両発熱抵抗体の各端子電圧の電圧比と前記被検出雰囲気内の環境温度との間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の湿度を決定し、
前記両発熱抵抗体の各端子電圧の電圧差、前記湿度及び前記環境温度の間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の可燃性ガスの濃度を算出することで、当該可燃性ガスを検出するようにした可燃性ガス検出方法。
Energizing and controlling the two heating resistors to maintain the resistance values of the two heating resistors exposed to the detected atmosphere at respective values corresponding to different constant temperatures,
The humidity in the detected atmosphere is determined based on the relationship between the voltage ratio between the terminal voltages of the two heating resistors generated in the energization control state in the detected atmosphere and the environmental temperature in the detected atmosphere. ,
The combustible gas is detected by calculating the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere based on the voltage difference between the terminal voltages of the two heating resistors, the humidity, and the environment temperature. Combustible gas detection method.
被検出雰囲気内に晒される発熱抵抗体の抵抗値を互いに異なる一定温度に対応する各値に時を異にして維持するように当該発熱抵抗体を間欠的に通電制御し、
前記被検出雰囲気内の前記間欠的通電制御状態において生ずる前記発熱抵抗体の各端子電圧の電圧比と前記被検出雰囲気内の環境温度との間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の湿度を決定し、
前記発熱抵抗体の各端子電圧の電圧差、前記湿度及び前記環境温度の間の関係に基づき前記被検出雰囲気内の可燃性ガスの濃度を算出することで、当該可燃性ガスを検出するようにした可燃性ガス検出方法。
The heating resistor is subjected to intermittent energization control so that the resistance value of the heating resistor exposed to the detected atmosphere is maintained at different times corresponding to different constant temperatures,
The humidity in the detected atmosphere is determined based on the relationship between the voltage ratio of each terminal voltage of the heating resistor generated in the intermittent energization control state in the detected atmosphere and the environmental temperature in the detected atmosphere. And
The combustible gas is detected by calculating the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere based on the relationship between the voltage difference of each terminal voltage of the heating resistor, the humidity, and the environmental temperature. Flammable gas detection method.
前記可燃性ガスの算出は、
前記電圧差を独立変数とし、前記被検出雰囲気内の可燃性ガスの濃度を従属変数とし、前記湿度及び前記環境温度をパラメータとして成立する一次関数式の切片と前記湿度との間の所定の関係を用いて、前記決定湿度に基づき前記切片を決定し、
前記環境温度に基づき決定される前記一次関数式の勾配、前記切片及び前記電圧差を用いて、前記一次関数式に基づき前記可燃性ガスの濃度を算出することで行うようにしたことを特徴とする請求項8或いは9に記載の可燃性ガス検出方法。
The calculation of the combustible gas is as follows:
The voltage difference is an independent variable, the concentration of the combustible gas in the detected atmosphere is a dependent variable, and a predetermined relationship between the humidity and the intercept of a linear function equation established using the humidity and the environmental temperature as parameters To determine the intercept based on the determined humidity,
Using the gradient of the linear function equation determined based on the environmental temperature, the intercept and the voltage difference, the concentration of the combustible gas is calculated based on the linear function equation. The combustible gas detection method according to claim 8 or 9.
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