JP4287891B2 - 測長用標準部材及びそれを用いた電子ビーム測長装置 - Google Patents
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以上、詳述したように、本発明によれば、光学的測定以下の寸法を内在させることで100nm以下の次世代半導体パターン測定用の装置寸法校正が可能である。また、標準部材の位置検出パターンを用いることで自動装置校正も可能である。
Claims (8)
- 所定の領域内に所定の間隔で2次元的かつ周期的に配列された、夫々、光学的手段により絶対寸法としてピッチ寸法が特定された第1の回折格子パターン群と、
前記第1の回折格子パターン群の夫々に内在された、前記第1の回折格子の直線部の長さ、配列のピッチ寸法および周期的な繰り返し方向のうち少なくともいずれか1つが異なる第2の回折格子パターンと、
隣接する第1の回折格子パターン間に配置された位置検出用マークと、を有することを特徴とする半導体部材からなる測長用標準部材。 - 請求項1記載の測長用標準部材であって、
前記第2の回折格子パターンは、最小ピッチ寸法が100nm以下であることを特徴とする測長用標準部材。 - 請求項1記載の測長用標準部材であって、
前記第1の回折格子パターンは、シリコン基板で構成され、かつ、前記シリコン基板の(110)面と(111)面の面方位の表面を有する凹凸状のパターンであることを特徴とする測長用標準部材。 - 所定の領域内に所定の間隔で2次元的かつ周期的に配列された、夫々、光学的手段により絶対寸法としてピッチ寸法が特定された凹凸パターンにより構成された第1の回折格子群と、
前記第1の回折格子群の夫々に内在され、前記凹凸パターンの凸部の延存方向において、前記凸部の第1の長さよりも短い第2の長さの凸部を有する凹凸パターンにより構成された第2の回折格子と、
隣接する第1の回折格子の間に配置された位置検出用マークと、を有することを特徴とする半導体部材からなる測長用標準部材。 - 電子ビームを照射し、走査して試料の加工寸法を計測する電子ビーム測長手段と、
前記電子ビームを測長用標準部材に走査して得られる二次電子信号波形をもとに寸法校正を行う校正手段とを有し、
前記測長用標準部材は、半導体部材からなり、
前記測長用標準部材は、
所定の領域内に所定の間隔で2次元的かつ周期的に配列された、夫々、光学的手段により絶対寸法としてピッチ寸法が特定された第1の回折格子パターン群と、
前記第1の回折格子パターン群の夫々に内在された、前記第1の回折格子の直線部の長さ、配列のピッチ寸法および周期的な繰り返し方向のうち少なくともいずれか1つが異なる第2の回折格子パターンと、
隣接する第1の回折格子パターン間に配置された位置検出用マークと、を有することを特徴とする電子ビーム測長装置。 - 請求項5記載の電子ビーム測長装置であって、
前記第2の回折格子パターンは、最小ピッチ寸法が100nm以下であることを特徴とする電子ビーム測長装置。 - 請求項5記載の電子ビーム測長装置であって、
前記第1の回折格子パターンは、シリコン基板で構成され、かつ、前記シリコン基板の(110)面と(111)面の面方位の表面を有する凹凸状のパターンであることを特徴とする電子ビーム測長装置。 - 電子ビームを照射し、走査して試料の加工寸法を計測する電子ビーム測長手段と、
前記電子ビームを測長用標準部材に走査して得られる二次電子信号波形をもとに寸法校正を行う校正手段とを有し、
前記測長用標準部材は、半導体部材からなり、
前記測長用標準部材は、
所定の領域内に所定の間隔で2次元的かつ周期的に配列された、夫々、光学的手段により絶対寸法としてピッチ寸法が特定された凹凸パターンにより構成された第1の回折格子群と、
前記第1の回折格子群の夫々に内在され、前記凹凸パターンの凸部の延存方向において、前記凸部の第1の長さよりも短い第2の長さの凸部を有する凹凸パターンにより構成された第2の回折格子と、
隣接する第1の回折格子の間に配置された位置検出用マークと、を有することを特徴とする電子ビーム測長装置。
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JP2007328556A JP4287891B2 (ja) | 2007-12-20 | 2007-12-20 | 測長用標準部材及びそれを用いた電子ビーム測長装置 |
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