JP4286623B2 - プラズマ表面処理方法及び処理装置 - Google Patents
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Description
このように第1及び第2の空間42,44で気体の拡散を繰り返すことで、気体の均一化を一層促進するとともに、より多くの開口部46をより広い範囲に配置し、被処理物70を同時に処理する面積を拡大することができる。
また、第2のプレート56は図示しないアース線を介して接地されており、第2のプレート56と被処理物70との間の異常放電の発生を防いでいる。
また、スリット54の下側には有底溝57の底面57aが位置しており、スリット58の上側には第1プレートの下面が位置している。このため、スリット54とスリット58とは同一直線上に形成されていない。
また、第2のプレート56sは図示しないアース線を介して接地されており、第2のプレート56sと被処理物70との間の異常放電の発生を防いでいる。
また、第2のプレート56rは図示しないアース線を介して接地されており、第2のプレート56rと被処理物70との間の異常放電の発生を防いでいる。
活性化された気体は、第2プレート56r上面の有底溝57によって形成された空間(第2の拡散部)で拡散により均一化された後、絞りである多数のスリット58から、被処理物70に噴きつけられる。活性化した気体の流れを分岐して多数のスリット58から被処理物70に吹き付けることで、処理面積を拡大し、より効率的に処理することができる。
20,22 電極
24 流路
30,31 処理部
32,33 空間(拡散部)
34 絞り
36,37 開口部
40 処理部
42 第1の空間(拡散部)
43 連通孔(絞り部)
44 第2の空間(第2の拡散部)
46 開口部
50,50s 処理部
53 有底溝(拡散部)
54 スリット(絞り部)
57 有底溝(第2の拡散部)
58,58s スリット(絞り)
59 貫通孔(吸引部)
60 吸引部
70 被処理物
71r 凸条部
72r 凹溝
Claims (15)
- 対向する電極間に設けた流路に気体を流す第1ステップと、
前記電極間において放電し、前記流路を流れる前記気体を活性化する第2ステップと、
活性化した前記気体の流れを分割または拡大して減速し、前記気体の拡散を促進する第3ステップと、
拡散を促進した前記気体を被処理物に噴きつける第4ステップとを備え、
前記第3ステップにおいて、減速した前記気体を増速した後、再び減速し、前記気体の拡散をさらに促進することを特徴とする、プラズマ表面処理方法。 - 対向する電極間に設けた流路に気体を流す第1ステップと、
前記電極間において放電し、前記流路を流れる前記気体を活性化する第2ステップと、
活性化した前記気体の流れを分割または拡大して減速し、前記気体の拡散を促進する第3ステップと、
拡散を促進した前記気体を被処理物に噴きつける第4ステップと、
被処理物に噴きつけた前記気体を、その噴きつけ位置の周囲から吸引して回収する第5ステップと、を備え、
前記第4ステップにおいて、平行に延在する複数の開口部から、前記気体を前記被処理物に噴きつけ、
前記第5ステップにおいて、前記開口部と交互に平行に延在する複数の吸引部から、前記被処理物に噴きつけた前記気体を吸引し回収することを特徴とする、プラズマ表面処理方法。 - 前記第4ステップにおいて、拡散を促進した前記気体を、前記被処理物にのみ噴きつけることを特徴とする、請求項1または2記載のプラズマ表面処理方法。
- 前記第4ステップにおいて、拡散を促進した前記気体を、複数の箇所から被処理物に噴きつけることを特徴とする、請求項1ないし3のいずれか一項に記載のプラズマ表面処理方法。
- 前記第4ステップにおいて、前記第3ステップにおいて減速した気体の流れを絞り、前記気体を増速して前記被処理物に噴きつけることを特徴とする、請求項1ないし4のいずれか一項に記載のプラズマ表面処理方法。
- 前記電極間の放電により活性化される前記気体は、窒素気体を90体積パーセント以上
含むことを特徴とする、請求項1ないし5のいずれか一項に記載のプラズマ表面処理方法。 - 前記各ステップは、大気圧またはその近傍の圧力の環境下において行うことを特徴とする、請求項1ないし6のいずれか一項に記載のプラズマ表面処理方法。
- 対向する電極間に設けた流路に気体を流し、前記流路を通る気体を前記電極間の放電により活性化した後、被処理物に対向する開口部から前記被処理物に噴きつける、プラズマ表面処理装置において、
前記流路と前記開口部とを連通し、前記流路からの前記気体の流れを分割または拡大して減速し、前記気体の拡散を促進する拡散部を備え、さらに前記拡散部と前記開口部との間に、
前記拡散部に連通し、前記拡散部からの前記気体の流れを縮小する絞り部と、
前記絞り部と前記開口部とを連通し、前記絞り部からの前記気体の流れを拡大する第2の拡散部とを備えたことを特徴とする、プラズマ表面処理装置。 - 対向する電極間に設けた流路に気体を流し、前記流路を通る気体を前記電極間の放電により活性化した後、被処理物に対向する開口部から前記被処理物に噴きつける、プラズマ表面処理装置において、
前記開口部が、平行に延在するように複数設けられており、さらに、
前記流路と前記開口部とを連通し、前記流路からの前記気体の流れを分割または拡大して減速し、前記気体の拡散を促進する拡散部と、
前記開口部の周囲に、前記開口部と交互に平行に延在する複数の吸引部と、を備え、
前記開口部から噴きつけた前記気体を、前記吸引部から吸引して回収することを特徴とする、プラズマ表面処理装置。 - 前記開口部は、前記被処理物にのみ対向することを特徴とする、請求項8または9記載のプラズマ表面処理装置。
- ひとつの前記流路が、前記拡散部を介して、複数の前記開口部に連通することを特徴とする、請求項8、9または10記載のプラズマ表面処理装置。
- 前記拡散部は、前記開口部に連続して形成されたことを特徴とする、請求項8ないし11のいずれか一項に記載のプラズマ表面処理装置。
- 前記拡散部と前記開口部との間に断面が減少する絞りを設け、前記拡散部からの前記気体を増速して、前記開口部から前記被処理物に噴きつけることを特徴とする、請求項8ないし12のいずれか一項に記載のプラズマ表面処理装置。
- 前記電極間の放電により活性化される前記気体は、窒素気体を90体積パーセント以上含むことを特徴とする、請求項8ないし13のいずれか一項に記載のプラズマ表面処理装置。
- 大気圧またはその近傍の圧力の環境下に、前記被処理物が配置されることを特徴とする、請求項8ないし14のいずれか一項に記載のプラズマ表面処理装置。
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