JP4274514B2 - 熱処理雰囲気炉 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、鋼の熱処理のための変成ガス発生装置を有する熱処理雰囲気炉に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、ガス浸炭処理では、変成炉を使用して得られた変成ガスをキャリアガスとして使用している。該変成ガスは、原料ガスとしての炭化水素系ガスと空気または酸化性ガスとの混合ガスを1050〜1100℃に加熱したNi触媒層またはCo触媒層中に通過させて得ている。
【0003】
例えば、炭化水素系ガスとして、ブタンを用いた場合には、
C4 H10+2O2 +8N2 →4CO+H2 +8N2 ・・・(1)
の反応により変成ガスが得られる。かようにして得られた変成ガスは、高温で不安定なCOの分解を防ぐためにガス冷却器によって一旦常温付近まで冷却され、浸炭時に使用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従来、前記変成炉は浸炭炉と別に構成設置されており、したがって、設置場所が必要になるとともに、レトルト、高温加熱装置、冷却装置等が必要であり、その他、保守に手数を要する等の問題が残されていた。さらに変成炉を一体化した熱処理炉も提案されているが、一体化された変成炉の構成は、前記従来の変成炉と実質的に異なる構造ではなく、加熱装置等を有するものであった。
【0005】
本発明は、前記事情に鑑み、自体に加熱装置を不要とした構造簡単且つ安価で経済的な変成ガス発生装置を有する熱処理雰囲気炉を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1は、耐熱鋼直管からなり、内部にハニカム構造の触媒が充填され、一端に原料混合ガスの供給口が形成され、他端にサンプルガスの取出口が形成され、さらに前記原料混合ガスの供給口からみて前記触媒充填部分を越えた位置に変成ガスの出口が形成されてなる変成ガス発生装置の、前記原料混合ガスの供給口及びサンプルガスの取出口を炉壁を貫通して炉外に臨ませ、前記触媒充填部分及び変成ガスの出口を炉内に配置してなることを特徴とする熱処理雰囲気炉である。
【0007】
前記雰囲気熱処理炉の変成ガス発生装置は、自体で加熱装置を有しない。すなわち、後に詳細を説明するように、その主要部である触媒充填部分及び変成ガスの出口が熱処理雰囲気炉内に配置させられて該熱処理雰囲気炉の加熱源が利用される。したがって、構造簡単且つ安価に提供できる。
【0008】
また、触媒をハニカム構造とすることによって、原料混合ガスが均一且つ効率よく反応に供することが可能になる。このため、触媒の材質については、従来の変成炉で用いられているNi触媒に限定されることなく、白金―ロジウム系の2元系触媒や、白金―ロジウムーパナジウム系の3元系触媒、さらにはCo触媒等の利用が可能である。なお、好ましくは、白金―ロジウム系または白金―ロジウムーパナジウムであり、従来のNi触媒より低温加熱による変成が可能であり、経済的であり、熱処理雰囲気炉の熱源の加熱によって原料混合ガスの変成を有効に行なうことができるので、例えば、ガス軟窒化のためのガス変成(400℃以上)にも有効利用できる。
【0009】
前記雰囲気熱処理炉の変成ガス発生装置は、耐熱鋼直管からなり、内部にハニカム構造の触媒が充填され、一端に原料混合ガスの供給口が形成され、他端にサンプルガスの取出口が形成され、さらに前記原料混合ガスの供給口からみて前記触媒充填部分を越えた位置に変成ガスの出口が形成されている。
【0010】
前記本発明の雰囲気熱処理炉は、前記変成ガス発生装置の、前記原料混合ガスの供給口及びサンプルガスの取出口を炉壁を貫通して炉外に臨ませ、前記触媒充填部分及び変成ガスの出口を炉内に配置してなる。
【0013】
前記熱処理雰囲気炉では、炉内に配置された触媒充填部分及び変成ガスの出口が熱処理雰囲気炉の熱源で加熱され、炉外の原料混合ガスの供給口から炭化水素系ガスと空気との混合ガスを供給することにより、該原料混合ガスがハニカム構造の触媒中を通過させられて、変成されたガスがその出口から炉内に供給される。
【0015】
前記のごとく、原料混合ガスの供給は、炉外の原料混合ガスの供給口から行なわれ、熱処理作業の開始に先立ち、あるいは熱処理作業を続行しながら、変成ガスの一部をサンプルガスの取出口から容易に取り出して、分析及び確認することができ、不完全処理品の発生を防止することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下に、以下に、本発明に実施の一形態を説明する。図1は本発明の熱処理雰囲気炉の要部縦断面図、図2は本発明の熱処理雰囲気炉の要部横断面図、図3は図1のIII−III線断面図である。
【0017】
図中、1は熱処理雰囲気炉であり、2は変成ガス発生装置である。なお、熱処理雰囲気炉1は、加熱装置、炉天井部、攪拌装置等が省略され、炉壁1a,1b及び炉床1c部のみが開示されている。
【0018】
前記変成ガス発生装置を構成する耐熱鋼直管3として、400〜1100℃に使用される、好ましくは、高温浸炭(1050〜1100℃)に耐えうる鋼直管が使用される。実施例では、1500℃を超える融点を持つFe−Cr−Ni系の焼結パイプが使用された。
【0019】
まず、内径78mm、外径79mm、長さ1922mmの前記耐熱鋼直管3の内部に、外径76mm、長さ880mm、600セルのハニカム構造の白金―ロジウム系の触媒4が充填された。
【0020】
つぎに、図面実施例では、前記耐熱鋼直管3の一端に原料混合ガスの供給通路5及び供給口6が形成された原料混合ガス用の入口レンガ7が挿入され、さらに他端にサンプルガスの取出し通路8及びサンプルガスの取出口9が形成されたサンプルガス用のレンガ10が挿入されている。
【0021】
さらに前記原料混合ガスの供給口6からみて前記触媒4の充填部分を越えた前記耐熱鋼直管3の位置に変成ガスの出口11が形成される。
【0024】
つぎに、前記変成ガス発生装置を用いた熱処理雰囲気炉について述べる。図面実施の一形態では、前記変成ガス発生装置2を熱処理雰囲気炉1の炉床1c部に設けている。なお、設置本数は熱処理雰囲気炉1の大きさ、構造等により決定される。また、その設置場所は、必ずしも炉床に限定されるものではなく、炉の構造に応じて適宜決定される。
【0027】
前記本発明の熱処理雰囲気炉は、図1及び図2に示す通りであり、前記原料混合ガスの供給口6及びサンプルガスの取出口9を炉外に臨ませ、具体的には、原料混合ガスの供給口6を炉壁1bに貫通させ、サンプルガスの取出口9を炉壁1aに貫通させ、且つ前記触媒4の充填部分及び変成ガスの出口11を炉内に配置して構成される。
【0028】
そして、変成ガス発生装置2の外に望ませた部分がフランジ12、ケ−ス受け13、フランジパッキン14、ボルト15等により機密密閉される。前記構成の熱処理雰囲気炉1内を1050℃に保ち、前記原料混合ガスの供給口6から、ブタンを毎分3リットル、空気を毎分28.9リットルを供給した。
【0029】
なお、前記原料混合ガスの供給は、配管ヘッダ−、オリフィス(いずれも図示せず)によって所定のガス比率を保ち均等に行われる。
【0030】
前記触媒を通過させた変成ガス成分を分析した結果は、CO:23.5%、CO2 :0.137%、CH4 :0.06%、N2 :38%、H2 :38%であり、従来の変成ガスとほとんど差異がなく、実用に耐えることが確認された。
【0031】
なお、前記実施の形態では、通常の浸炭処理について説明したが、必ずしも前記実施例に記載された処理に限定されるものでなく、他の処理においても有効である。例えば、ガス軟窒化処理のように、熱処理雰囲気炉内の温度が600℃程度の通常の浸炭処理より低い温度での処理でも、ハニカム構造のNi触媒を用いることで、従来と変わらない変成ガスを得ることが可能である。
【0032】
【発明の効果】
本発明によれば、変成ガス専用の加熱装置、さらに冷却装置等の諸設備が不要であり、構造上簡単且つ安価で経済的な熱処理雰囲気炉を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の熱処理雰囲気炉の要部縦断面図である。
【図2】 本発明の熱処理雰囲気炉の要部横断面図である。
【図3】 図1のIII−III線断面図である。
【符号の説明】
1 熱処理雰囲気炉
2 変成ガス発生装置
3 耐熱鋼直管
4 (ハニカム構造の)触媒
5 (原料混合ガスの)供給口
6 (サンプルガスの)取出口
11(変成ガスの)出口
Claims (2)
- 耐熱鋼直管からなり、内部にハニカム構造の触媒が充填され、一端に原料混合ガスの供給口が形成され、他端にサンプルガスの取出口が形成され、さらに前記原料混合ガスの供給口からみて前記触媒充填部分を越えた位置に変成ガスの出口が形成されてなる変成ガス発生装置の、前記原料混合ガスの供給口及びサンプリングガスの取出口を炉壁を貫通して炉外に臨ませ、前記触媒充填部分及び変成ガスの出口を炉内に配置してなることを特徴とする熱処理雰囲気炉。
- 触媒が白金―ロジウム系であることを特徴とする請求項1に記載の熱処理雰囲気炉。
Priority Applications (1)
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JP2002047607A JP4274514B2 (ja) | 2002-02-25 | 2002-02-25 | 熱処理雰囲気炉 |
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JP2002047607A JP4274514B2 (ja) | 2002-02-25 | 2002-02-25 | 熱処理雰囲気炉 |
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JP4274514B2 true JP4274514B2 (ja) | 2009-06-10 |
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Family Applications (1)
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JP2002047607A Expired - Lifetime JP4274514B2 (ja) | 2002-02-25 | 2002-02-25 | 熱処理雰囲気炉 |
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-
2002
- 2002-02-25 JP JP2002047607A patent/JP4274514B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
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JP2003246604A (ja) | 2003-09-02 |
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