JP4249714B2 - エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置 - Google Patents

Description

本発明は一種のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置に係り、エネルギーエリアの密度、面積及び均一性を調整できるチャンバ装置であり、特に、エネルギーを均一化できる反射装置を具えたチャンバ装置に関する。

ダイヤモンドは極めて良好な物理、化学特性を有し、並びにＣＶＤ技術の発展により、ダイヤモンド膜は既に特定の基板上に成長可能となっており、例えばダイヤモンド表面音波装置、ダイヤモンドトランジスタ等が提供されている。これにより、現在、ダイヤモンド膜は切削工具及び光電通信装置に広く応用されている。しかしダイヤモンド膜の成長には安定し且つ均一なエネルギーが必要であり、それがあってこそガス前駆物質が解離、再結合等の反応を行なう。これにより、印加するエネルギー波の安定性は、ダイヤモンド膜堆積品質、均一性、成長速度のいずれに対しても極めて大きな影響を有する。ダイヤモンド膜形成装置に関しては、そのエネルギー印加方式はホットフィラメント（Ｈｏｔ ｆｉｌａｍｅｎｔ）、マイクロ波（ｍｉｃｒｏｗａｖｅ）、電子サイクロトン共鳴（ＥＣＲ）、アーク（Ａｒｃ）等とされうる。このほか、どの種類のＣＶＤ方式で基板上にダイヤモンド膜を堆積させても、基板サイズが増加する時、エネルギーの均一性は明らかに非常に重要となる。マイクロ波をエネルギー波とするなら、不均一なエネルギーがプラズマの発生する形状に影響を与え、これにより堆積されるダイヤモンド膜の一部エリアの品質が不均一となり、且つダイヤモンド膜の厚さが不均一となる欠点が形成され、則ちダイヤモンドの加工及び応用に影響が生じる。

図１は周知のダイヤモンド膜形成装置８０であり、基板上にダイヤモンド膜を成長させるのに用いられる。該装置は放物曲線チャンバ８１を具え、且つエネルギー波発生装置８２が放物曲線チャンバ８１の焦点位置に設けられてエネルギーを提供し、これによりエネルギーは該放物曲線チャンバ８１により均一に下方の基板に投射される。ただし基板サイズが増すと、放物曲線チャンバの体積もそれに伴い大きくしなければならず、これによりダイヤモンド膜形成装置８０の体積が膨大となり且つ制作難度も増し、製造コスト増加の欠点を発生する。

このほか、図２は周知の別のダイヤモンド膜形成装置８０ａであり、基板上にダイヤモンド膜を成長させるのに用いられる。該装置は楕円チャンバ８１ａを具え、且つエネルギー波発生装置８２ａが楕円チャンバ８１ａの焦点位置に設けられてエネルギーを提供し、これによりエネルギーは該楕円チャンバ８１ａにより下方の基板に集中させられて投射される。ただし基板サイズが増すと、エネルギー波発生装置８２ａが楕円チャンバ８１ａの焦点部分に設けられているため、エネルギー波発生装置８２ａのエネルギーが特定面積に集中し、これによりエネルギー波発生装置８２ａのエネルギーの基板への投射が不均一となり、基板上のダイヤモンド膜品質不良の欠点が形成される。

従来の技術のこのような欠点を解決するため、本発明は一種の反射装置と該反射装置を使用したチャンバ装置を提供し、有効に上述の問題を解決する。

本発明の主要な目的は、反射装置と該反射装置を使用したチャンバ装置を提供して均一なエネルギーを提供できるようにすることにある。

本発明の別の目的は、反射装置と該反射装置を使用したチャンバ装置を提供し、反射装置によりエネルギー波の投射面積を増すことにある。

本発明のまた別の目的は、反射装置と該反射装置を使用したチャンバ装置を提供し、モジュール化の概念により該反射装置の数量を弾性配置できるようにすることにある。

本発明のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置の好ましい実施例によると、エネルギー波発生装置とチャンバエネルギー反射装置が組み合わされ、そのうち、エネルギー波はマイクロ波或いは光とされてエネルギーを提供し、該チャンバエネルギー反射装置は少なくとも一つのフレネル反射曲面で組成された回転曲面とされて該エネルギー波を反射し、それをプラットフォームに投射する。

該チャンバエネルギー反射装置はフレネル反射曲面と部分回転曲面で構成されるか、或いは少なくとも二つのフレネル反射曲面と部分回転曲面で構成されるか、或いは全てフレネル反射曲面で構成される。

本発明のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置の別の好ましい実施例によると、それは複数のエネルギー波発生装置と一つのチャンバが組み合わされ、そのうち、エネルギー波はマイクロ波或いは光とされ、二以上のエネルギー波発生装置がエネルギーを提供する。及び、該チャンバはエネルギー波発生装置の数量に対応する数量のチャンバエネルギー反射装置で構成されて、該複数のエネルギー波発生装置のエネルギー波を反射してそれを一つのプラットフォームに投射する。

そのうち、該チャンバのチャンバエネルギー反射装置は一つのフレネル反射曲面で構成されるか、一つのフレネル反射曲面と部分回転曲面で構成されるか、少なくとも二つのフレネル反射曲面と部分回転曲面で構成されるか、全てフレネル反射曲面で構成される。

請求項１の発明は、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、
エネルギー波を提供するエネルギー波発生装置と、
チャンバエネルギー反射装置であって、その反射曲面が少なくとも一つのフレネル反射曲面で構成され、該フレネル反射曲面が複数組の微小な回転曲面を具え且つこれら回転曲面の同一側に共同焦点を具え、該エネルギー波発生装置が該共同焦点上に設置されて該エネルギー波を反射してそれを均一にプラットフォームに投射する、上記チャンバエネルギー反射装置と、
を具えたことを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項２の発明は、請求項１記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、エネルギー波発生装置は、マイクロ波或いは光を発生する装置であることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項３の発明は、請求項１記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該チャンバエネルギー反射装置は少なくとも一つの回転曲面を更に具備することを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項４の発明は、請求項１記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該チャンバエネルギー反射装置の反射曲面が発生する反射効果が回転放物面と等価であることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項５の発明は、請求項３記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該少なくとも一つの回転曲面は回転楕円面或いは回転双曲面とされ、該少なくとも一つの回転曲面の焦点は該共同焦点とされることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項６の発明は、請求項５記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該少なくとも一つの回転曲面は該エネルギー波を該少なくとも一つの回転曲面のもう一つの焦点へと集中投射することを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項７の発明は、請求項１記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、プラットフォームが運動装置に接続され、これによりプラットフォームが三次元方向の運動可能とされたことを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項８の発明は、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、
二つ以上のエネルギー波発生装置によりエネルギーを提供する複数のエネルギー波発生装置と、
チャンバエネルギー反射装置であって、その反射曲面が複数のフレネル反射曲面で構成され、各該フレネル反射曲面が複数組の微小な回転曲面を具え且つこれら回転曲面の同一側に共同焦点を具え、且つそれぞれ該エネルギー波発生装置と相互に対応し、該エネルギー波を反射してそれを均一にプラットフォームに投射する、上記チャンバエネルギー反射装置と、
を具えたことを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項９の発明は、請求項８記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、エネルギー波発生装置は、マイクロ波或いは光を発生する装置であることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項１０の発明は、請求項８記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該チャンバエネルギー反射装置は少なくとも一つの回転曲面を更に具備することを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項１１の発明は、請求項８記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該チャンバエネルギー反射装置の反射曲面が発生する反射効果が回転放物面と等価であることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項１２の発明は、請求項１１記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該均一なプラットフォームへの投射が交互に異なる面積に投射するか同じ面積に同時に投射することとされることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項１３の発明は、請求項１０記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該少なくとも一つの回転曲面は回転楕円面或いは回転双曲面とされ、該少なくとも一つの回転曲面の焦点は該共同焦点とされることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項１４の発明は、請求項１３記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該少なくとも一つの回転曲面は該エネルギー波を該少なくとも一つの回転曲面のもう一つの焦点に投射することを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項１５の発明は、請求項１４記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該エネルギー波が少なくとも一つの回転曲面のもう一つの焦点に投射され、各回転曲面のもう一つの焦点は同一焦点とされてこれにより投射エリアのエネルギー密度が高められることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項１６の発明は、請求項１４記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該エネルギー波が少なくとも一つの回転曲面のもう一つの焦点に投射され、各回転曲面の該もう一つの焦点は異なる焦点とされてチャンバに複数の高エネルギーエリアを形成することを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。
請求項１７の発明は、請求項８記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該プラットフォームが運動装置に接続され、これによりプラットフォームが三次元方向の運動可能とされたことを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置としている。

本発明のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置は、エネルギー波発生装置とチャンバエネルギー反射装置が組み合わされてなり、エネルギー波はマイクロ波或いは光とされてエネルギーを提供し、該チャンバエネルギー反射装置は少なくとも一つのフレネル反射曲面で組成された回転曲面であり、該エネルギー波を反射してそれをプラットフォームに投射し、該チャンバエネルギー反射装置はフレネル反射曲面と部分回転曲面で組成されるか、或いは全てフレネル反射曲面で組成される。本発明のチャンバ装置は大幅に投射エリアのエネルギー密度、面積を増しエネルギーを均一化し、且つチャンバ内に多くの高エネルギーエリアを有し、設備空間、設備及び製造コストの節約を達成する。

図４は本発明のチャンバ回転曲面の好ましい実施例の側面図である。本発明のチャンバエネルギー反射装置１０はエネルギー波発生装置２０と組み合わされて使用されて所定エリアに向けて均一なエネルギーを投射し、該エネルギー波発生装置２０のエネルギーが該チャンバエネルギー反射装置１０に投射される時、該エネルギーは該チャンバエネルギー反射装置１０により平行で均一とされて所定エリアに投射され、且つチャンバエネルギー反射装置１０は一般の曲面構造の反射装置１０Ｂ（図３）の代わりに採用されて反射装置の体積の縮小と製造コストダウンの効果を達成する。

本発明のチャンバエネルギー反射装置１０は一種類以上の曲面で構成され、該チャンバエネルギー反射装置１０は、反射曲面１０１と第１上面１０２を具え、且つ該反射曲面１０１と第１上面１０２は相互に特定距離隔たり、特定厚さを具えたチャンバエネルギー反射装置１０を形成する。該反射曲面１０１は非クローズ式に該エネルギー波発生装置２０を囲み、並びにエネルギー波発生装置２０と所定距離隔たり、該反射曲面１０１に向けて射出されたエネルギーを反射する。該反射曲面１０１は該エネルギー波発生装置２０を焦点とし、該焦点を利用して複数の曲線が形成され、該複数の曲線をいずれも該焦点を焦点とし、更にこの複数の曲線の一部分が切り取られて該反射曲面が形成される。本発明の好ましい実施例によると、該チャンバエネルギー反射装置１０はいずれも説明しやすいように単一反射曲面１０１を以て説明されるが、当然該チャンバエネルギー反射装置１０は単一種類の放物面、単一種類の双曲面或いはその二種類以上の異なる曲面の組み合わせとされ得て、このような形状及びその組み合わせの変化は本発明の技術の属する分野における通常の知識を有する者であれば容易に実施可能であり、ゆえにいずれも本発明の範囲にあるものとし、このような変化については説明を省略する。理論上、焦点Ｆを焦点とする放物線として、無限の複数組の放物線を獲得でき、且つこの複数組の放物線はいずれも該焦点Ｆを焦点とする条件を満足する。これにより、特定放物線方程式Ｆ（Ｘ，Ｙ）が焦点をＦとする条件を満足するものとし、且つ特定空間にあって参考点をキャプチャし、特定計算により特定厚さを有するフレネル反射曲面の複数組曲線を得るとすると、これらの曲線もまた焦点をＦとする条件を満足する。これにより、本発明の反射曲面１０１は、一つのフレネル反射曲面で構成されるか、一つのフレネル反射曲面と部分回転曲面で構成されるか、少なくとも二つのフレネル反射曲面と部分回転曲面で構成されるか、或いは全てフレネル反射曲面で構成されるかの、四種類のうちのいずれかとされる。則ち、本発明のチャンバエネルギー反射装置１０はまた上述の異なる組み合わせにより完成される。図５はいかに該反射曲面を画定するかを説明する図である。直線９０が焦点ｆ（Ｃ，０）を通過し、且つ該直線が特定厚さを有する反射装置とＰ１（ｘ１，ｙ１）及びＰ２（ｘ２，ｙ２）の２点で交叉するとすると、該ｆ（Ｃ，０）とＰ１（ｘ１，ｙ１）及びｆ（Ｃ，０）とＰ２（ｘ２，ｙ２）によりそれぞれｆ１（ｘ，ｙ）とｆ２（ｘ，ｙ）の曲線方程式が獲得され、上述の原理により複数組の曲線方程式を求め、この複数組の曲線方程式により、該反射曲面１０１の等価焦点を求めることができる。

図１０は本発明のチャンバ装置の第１実施例を示す。該チャンバ装置３０は少なくとも、エネルギー波発生装置３１、チャンバ３３、プラットフォーム３５、及びベース３７を具えている。該エネルギー波発生装置３１はマイクロ波発生装置とされてマイクロ波エネルギーを提供し、該エネルギー波発生装置３１は導波管（図示せず）によりマイクロ波エネルギーを該チャンバ装置３０内に送る。該エネルギー波発生装置３１は該導波管によりエネルギー波を該チャンバ装置３０に導入するほか、アンテナ（図示せず）により該チャンバ装置３０内に送ることも可能である。この実施例ではエネルギー波発生装置はマイクロ波発生装置とされるが、これに限定されるわけではなく、使用者の必要なエネルギーにより選択させる。チャンバ３３は非クローズ式に該エネルギー波発生装置３１を囲み、且つ該チャンバ３３とベース３７の間に閉じた空間が形成され、該チャンバ３３は曲面球体とされる。該チャンバ３３の上方にチャンバエネルギー反射装置１０が設けられ（このチャンバエネルギー反射装置１０は図４に示されるものと同じであるため説明を省略し、並びに同じ符号を付与している）、且つ該エネルギー波発生装置３１は該チャンバエネルギー反射装置１０の焦点部分に設置され、これによりエネルギー波発生装置３１のエネルギーはチャンバエネルギー反射装置１０により均一に該プラットフォーム３５へと反射される。このほか、該プラットフォーム３５は更に運動装置３９と接続され、該運動装置３９は該プラットフォーム３５を三次元方向に運動させることができ、これにより使用者の必要によりプラットフォーム運動方向を設定してエネルギー波を更に均一に該プラットフォームに投射させることができる。更に該プラットフォームに反応物装置が設置され、反応ガス（例えば水素ガス、メタンガス）を該プラットフォームに提供して、該エネルギーにより反応させるのに供される。

図７は本発明のチャンバ装置の第２実施例を示す。該チャンバ装置４０は、エネルギー波発生装置４１、チャンバ４３、プラットフォーム４５、ベース４７を具えている。該エネルギー波発生装置４１はマイクロ波発生装置とされてマイクロ波エネルギーを提供し、該エネルギー波発生装置４１は導波管（図示せず）によりマイクロ波エネルギーを該チャンバ装置４０内に送る。該エネルギー波発生装置４１は該導波管によりエネルギー波を該チャンバ装置４０に導入するほか、アンテナ（図示せず）により該チャンバ装置４０内に送ることも可能である。この実施例ではエネルギー波発生装置はマイクロ波発生装置とされるが、これに限定されるわけではなく、使用者の必要なエネルギーにより選択させる。チャンバ４３は非クローズ式に該エネルギー波発生装置４１を囲み、且つ該チャンバ４３とベース４７の間に閉じた空間が形成されている。該チャンバ４３の上方にチャンバエネルギー反射装置１０が設けられ（このチャンバエネルギー反射装置１０は図４に示されるものと同じであるため説明を省略し、並びに同じ符号を付与している）、該チャンバ４３は更に回転曲面４３０と４３１を具え、それは該チャンバエネルギー反射装置と接続され、該回転曲面４３０と４３１は回転楕円面とされ、且つエネルギー波発生装置４１は該チャンバ４３の等価焦点上に設けられ、プラットフォーム４５上の参考点が回転楕円面のもう一つの等価焦点４２とされ、これによりエネルギー波発生装置４１のエネルギーはチャンバエネルギー反射装置１０により均一にプラットフォーム４５に向けて反射され、且つエネルギー波発生装置４１のエネルギーが該チャンバ４３上の回転曲面４３０と４３１上に投射される時、該回転曲面４３０と４３１によりプラットフォーム４５上の焦点に集められてエネルギー使用効率が高められる。該プラットフォーム４５は更に運動装置４９と接続可能で、該運動装置４９は該プラットフォーム４５を三次元方向に運動させることができ、これにより使用者の必要によりプラットフォーム運動方向を設定してエネルギー波を更に均一に該プラットフォームに投射させることができる。この実施例では、該チャンバ４３上の回転曲面は回転楕円面とされるが、該回転楕円面はまた等価回転放物面、等価回転双曲面、或いはその他の曲面とされ得て、いずれの曲面設計であっても、その等価焦点を正確に計算できてエネルギー波発生装置をそれに対応して設置できるものとされ、これにより該エネルギー波発生装置は等価焦点に設置され、これによりエネルギー波が反射後に均一にプラットフォームに投射され、本発明の目的が達成される。

図８は本発明のチャンバ装置の第３実施例を示す。このチャンバ装置５０は、エネルギー波発生装置５１、チャンバ５３、プラットフォーム５５、ベース５７を具えている。該エネルギー波発生装置５１はマイクロ波発生装置とされてマイクロ波エネルギーを提供し、該エネルギー波発生装置５１は導波管（図示せず）によりマイクロ波エネルギーを該チャンバ装置５０内に送る。該エネルギー波発生装置５１は該導波管によりエネルギー波を該チャンバ装置５０に導入するほか、アンテナ（図示せず）により該チャンバ装置５０内に送ることも可能である。この実施例ではエネルギー波発生装置はマイクロ波発生装置とされるが、これに限定されるわけではなく、使用者の必要なエネルギーにより選択させる。チャンバ５３は非クローズ式に該エネルギー波発生装置５１を囲み、且つ該チャンバ５３とベース５７の間に閉じた空間が形成されている。該チャンバ５３内に複数のチャンバエネルギー反射装置１０が設けられ（このチャンバエネルギー反射装置１０は図４に示されるものと同じであるため説明を省略し、並びに同じ符号を付与している）、これによりエネルギー波発生装置５１のエネルギーはチャンバエネルギー反射装置１０により均一に該プラットフォーム５５へと反射され、且つ該エネルギー波発生装置５１のエネルギーが該チャンバ５３の両側に投射される時も、該チャンバエネルギー反射装置１０によりエネルギーが該プラットフォーム５５に均一に投射されて、エネルギーの均一性が改善される。このほか、該プラットフォーム５５は更に運動装置５９と接続可能で、該運動装置５９は該プラットフォーム５５を三次元方向に運動させることができ、これにより使用者の必要によりプラットフォーム運動方向を設定してエネルギー波を更に均一に該プラットフォームに投射させることができる。

図９、図１０は本発明の第４実施例を示す。上述の第３実施例との唯一の違いは、そのチャンバ６３内に複数のエネルギー波発生装置６１ａ、６１ｂ、６１ｃが設けられ、それは二つ以上のエネルギー波発生装置を具え、且つ、該複数のエネルギー波発生装置に対応する数量のチャンバエネルギー反射装置１０が設けられて、複数のエネルギー波発生装置が発生するエネルギー波を反射してプラットフォーム６５に投射することであり、その他の操作原理は前述の実施例と同じである。図９は第４実施例の立体図、図１０は第４実施例の側面断面図である。この実施例では三つのエネルギー波発生装置６１ａ、６１ｂ、６１ｃが設けられているが、エネルギー波発生装置の数量はこれに限定されるものではなく、使用者の必要により設置されてエネルギーを提供する。好ましい実施例では、該エネルギー波発生装置６１ａ、６１ｂ、６１ｃはマイクロ波発生装置とされるが、光源装置或いはその他のエネルギー波発生装置とすることもできる。チャンバ６３はベース６７と閉じた空間を形成する。該チャンバ６３に、複数のエネルギー波発生装置６１ａ、６１ｂ、６１ｃと対応する数量のチャンバエネルギー反射装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃが設けられている。この実施例ではモジュール化の概念により大面積のエネルギーがプラットフォーム６５に提供されて大面積のダイヤモンド膜形成に供される。該チャンバエネルギー反射装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃはプラットフォーム６５の上方部分に設置され、該エネルギー波発生装置６１ａ、６１ｂ、６１ｃはそれぞれチャンバエネルギー反射装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃの焦点部分に設置され、これによりエネルギー波発生装置６１ａのエネルギーがチャンバエネルギー反射装置１０ａにより均一にプラットフォーム６５の第１特定エリアＡに投射され、エネルギー波発生装置６１ｂのエネルギーがチャンバエネルギー反射装置１０ｂにより均一にプラットフォーム６５の第２特定エリアＢに投射され、エネルギー波発生装置６１ｃのエネルギーがチャンバエネルギー反射装置１０ｃにより均一にプラットフォーム６５の第３特定エリアＣに投射され、このような配置により、大面積のエネルギー波が提供され、且つエネルギー波のエネルギーが均一にプラットフォームに投射される。

本実施例中、エネルギー波発生装置６１ａ、６１ｂ、６１ｃの設置の位置は、等価焦点上にあり、且つ前述の実施例で説明済みであるので、これについての詳細な説明は省略する。本実施例のエネルギー波発生装置６１ａ、６１ｂ、６１ｃとチャンバエネルギー反射装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃの数はそれぞれ３個とされるが、使用者の必要とするエネルギー面積により、両者の数を増加することができ、これにより使用者はエネルギー波発生装置とチャンバエネルギー反射装置（反射装置）を弾性的に配置することができ、モジュール化の目的を達成できる。

このほか、プラットフォーム６５は運動装置６９と接続可能で、該運動装置６９は該プラットフォーム６５を三次元方向に運動（例えば回転、直線揺動、或いはその他の周知の運動）させることができ、これにより使用者の必要によりプラットフォーム運動方向を設定してエネルギー波を更に均一に該プラットフォームに投射させることができる。

上述のチャンバ装置６０を利用し、大面積の基板にダイヤモンド膜形成を行なえ、基板を該プラットフォーム６５の上に置き、且つエネルギー波発生装置６１ａ、６１ｂ、６１ｃと該チャンバエネルギー反射装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃにより大面積のエネルギーを提供し、均一に該基板に投射し、基板の各エリアに均一なエネルギーを提供してダイヤモンド膜を形成させることができ、並びに運動装置６９を組み合わせてプラットフォーム６５を移動させることにより、エネルギーを更に均一に基板に投射することができる。

以上は本発明の好ましい実施例の説明であって、本発明の範囲を限定するものではなく、本発明に基づきなしうる細部の修飾或いは改変は、いずれも本発明の請求範囲に属するものとする。

周知のダイヤモンド膜形成装置表示図である。 周知の別のダイヤモンド膜形成装置表示図である。 周知の曲面構造の反射装置表示図である。 本発明のチャンバエネルギー反射装置の好ましい実施例図である。 本発明の反射曲面の画定原理表示図である。 本発明のチャンバ装置の第１実施例表示図である。 本発明のチャンバ装置の第２実施例表示図である。 本発明のチャンバ装置の第３実施例表示図である。 本発明のチャンバ装置の第４実施例の立体図である。 本発明のチャンバ装置の第４実施例の側面断面図である。

符号の説明

１０ チャンバエネルギー反射装置
１０１ 反射曲面
１０２ 第１上面
２０ エネルギー波発生装置
３０ チャンバ装置
３１ エネルギー波発生装置
３３ チャンバ
３５ プラットフォーム
３７ ベース
３９ 運動装置
４０ チャンバ装置
４１ エネルギー波発生装置
４２ 等価焦点
４３ チャンバ
４３０、４３１ 回転曲面
４５ プラットフォーム
４７ ベース
４９ 運動装置
５０ チャンバ装置
５１ エネルギー波発生装置
５３ チャンバ
５５ プラットフォーム
５７ ベース
５９ 運動装置
６０ チャンバ装置
６１ａ、６１ｂ、６１ｃ エネルギー波発生装置
１０ａ、１０ｂ、１０ｃ チャンバエネルギー反射装置
６３ チャンバ
６５ プラットフォーム
６７ ベース
６９ 運動装置
８０ ダイヤモンド膜形成装置
８１ 放物曲線チャンバ
８２ エネルギー波発生装置
８０ａ ダイヤモンド膜形成装置
８１ａ 楕円チャンバ
８２ａ エネルギー波発生装置
９０ 直線

Claims (17)

1. エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、
   エネルギー波を提供するエネルギー波発生装置と、
   チャンバエネルギー反射装置であって、その反射曲面が少なくとも一つのフレネル反射曲面で構成され、該フレネル反射曲面が複数組の微小な回転曲面を具え且つこれら回転曲面の同一側に共同焦点を具え、該エネルギー波発生装置が該共同焦点上に設置されて該エネルギー波を反射してそれを均一にプラットフォームに投射する、上記チャンバエネルギー反射装置と、
   を具えたことを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
2. 請求項１記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、エネルギー波発生装置は、マイクロ波或いは光を発生する装置であることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
3. 請求項１記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該チャンバエネルギー反射装置は少なくとも一つの回転曲面を更に具備することを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
4. 請求項１記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該チャンバエネルギー反射装置の反射曲面が発生する反射効果が回転放物面と等価であることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
5. 請求項３記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該少なくとも一つの回転曲面は回転楕円面或いは回転双曲面とされ、該少なくとも一つの回転曲面の焦点は該共同焦点とされることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
6. 請求項５記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該少なくとも一つの回転曲面は該エネルギー波を該少なくとも一つの回転曲面のもう一つの焦点へと集中投射することを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
7. 請求項１記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、プラットフォームが運動装置に接続され、これによりプラットフォームが三次元方向の運動可能とされたことを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
8. エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、
   二つ以上のエネルギー波発生装置によりエネルギーを提供する複数のエネルギー波発生装置と、
   チャンバエネルギー反射装置であって、その反射曲面が複数のフレネル反射曲面で構成され、各該フレネル反射曲面が複数組の微小な回転曲面を具え且つこれら回転曲面の同一側に共同焦点を具え、且つそれぞれ該エネルギー波発生装置と相互に対応し、該エネルギー波を反射してそれを均一にプラットフォームに投射する、上記チャンバエネルギー反射装置と、
   を具えたことを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
9. 請求項８記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、エネルギー波発生装置は、マイクロ波或いは光を発生する装置であることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
10. 請求項８記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該チャンバエネルギー反射装置は少なくとも一つの回転曲面を更に具備することを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
11. 請求項８記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該チャンバエネルギー反射装置の反射曲面が発生する反射効果が回転放物面と等価であることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
12. 請求項１１記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該均一なプラットフォームへの投射が交互に異なる面積に投射するか同じ面積に同時に投射することとされることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
13. 請求項１０記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該少なくとも一つの回転曲面は回転楕円面或いは回転双曲面とされ、該少なくとも一つの回転曲面の焦点は該共同焦点とされることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
14. 請求項１３記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該少なくとも一つの回転曲面は該エネルギー波を該少なくとも一つの回転曲面のもう一つの焦点に投射することを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
15. 請求項１４記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該エネルギー波が少なくとも一つの回転曲面のもう一つの焦点に投射され、各回転曲面のもう一つの焦点は同一焦点とされてこれにより投射エリアのエネルギー密度が高められることを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
16. 請求項１４記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該エネルギー波が少なくとも一つの回転曲面のもう一つの焦点に投射され、各回転曲面の該もう一つの焦点は異なる焦点とされてチャンバに複数の高エネルギーエリアを形成することを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。
17. 請求項８記載のエネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置において、該プラットフォームが運動装置に接続され、これによりプラットフォームが三次元方向の運動可能とされたことを特徴とする、エネルギー波反射装置を具えたチャンバ装置。

Images