JP4239042B2 - 2次元アブソリュート位置センサおよびロボット - Google Patents

2次元アブソリュート位置センサおよびロボット Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、平面運動する可動体の2次元アブソリュート位置を計測する位置センサに係り、特にクリーン/真空環境下で使用されるロボットのエンドエフェクタの2次元アブソリュート位置を計測する2次元アブソリュート位置センサに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体製造装置などの分野でシリコンウエハ搬送や液晶表示パネル用ガラス基板搬送として、一般にクリーン真空環境下で動作するロボットが使用されている。このようなロボットのアームの先端には、ウエハやガラス基板等を保持あるいは搬送し、2次元平面内で運動を行う可動体としてエンドエフェクタが装着されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、従来技術では、上記のロボットに何らかのトラブルが起こり、エンドエフェクタを有するアームを再ティーチングする必要が生じた場合、ティーチング作業が煩雑であるために時間を要し、後工程でのスループットの低下を招くという問題があった。
また、ロボットのアームを駆動するベルトが経年変化によって伸長し、エンドエフェクタが徐々に位置ずれを起こすという問題があった。
この問題を解決するために、エンドエフェクタの位置ずれを補正するには、エンドエフェクタの厚みが僅か数ミリであることも考慮すると、エンドエフェクタの構造に大幅な改良を加える必要のない、小型軽量な2次元アブソリュート位置センサを装備しなければならない。
特に、クリーン・真空環境下で動作するロボットは、作業環境を汚染するパーティクルの発生は許容されず、また、薬液雰囲気中での使用も考えられる。
上記に述べた理由から、従来から、クリーン・真空環境下で動作するロボットにおいて、耐環境性に優れ、エンドエフェクタの2次元アブソリュート位置を非接触で、計測することができる、適当な位置センサが見当たらなかった。
そこで、本発明は、クリーン真空環境下で動作するロボットのエンドエフェクタが位置ずれを起こした際に、非接触で、且つ容易に2次元アブソリュート位置を計測できると共に、耐環境性に優れ、小型軽量な2次元アブソリュート位置センサを提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
上記問題を解決するため、本発明は、次のように構成したのである。
請求項1記載の発明は、磁性体と、前記磁性体に対向して配置される第1および第2の磁気検出手段と、前記第1および第2の磁気検出手段がそれぞれ出力する信号を処理する信号処理手段と、を備え、可動体が移動する第1の方向および第2の方向のアブソリュート位置を計測する2次元アブソリュート位置センサにおいて、前記磁性体は、前記第1の方向および第2の方向の位置をそれぞれ計測するためのスリットを備え、前記第1および第2の磁気検出手段は、それぞれ前記スリットとの対向位置に応じて位相の異なるA相信号およびB相信号を出力し、前記信号処理手段は、前記第1の磁気検出手段が出力するA相信号とB相信号とのレベルを比較する第1のコンパレータと、前記第2の磁気検出手段が出力する信号の振幅を検出する振幅検出回路と、前記振幅検出回路の出力信号と比較信号とのレベルを比較する第2のコンパレータと、を備え、前記第1のコンパレータの出力と前記第2のコンパレータの出力とに基づいて位置有効信号を出力して前記第1の方向の位置計測領域を特定することを特徴とするものである。
また、請求項2記載の発明は、前記磁性は、略十字型またはT字型の外形状を有することを特徴とするものである。
また、請求項3記載の発明は、請求項1または2に記載の2次元アブソリュート位置センサを備えたことを特徴とするものである。
【0005】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。
図1は、本発明の実施例を示すエンドエフェクタに取り付けた状態における2次元アブソリュート位置センサの構成図であって、(a)はその平面図、(b)は(a)の側面図である。
図において、11はクリーン/真空環境下で動作するロボットに設けたエンドエフェクタ、12は磁性スリット薄板、13はX位置計測用磁気センサヘッド、14はY位置計測用磁気センサヘッドである。X位置計測用磁気センサヘッド13、Y位置計測用磁気センサヘッド14は、それぞれ磁気センサ16、17、バイアス磁石18a、18bおよび後述する基本検出回路が一体になったもので構成されている。
ここで、基本検出回路とは、各々の磁気センサ16、17の抵抗値変化を電圧信号に変換するものである。図2は、磁気センサヘッドに設けた基本検出回路を説明する図であって、(a)は基本検出回路の回路図、(b)はMR素子の配置図を示す。MR素子21〜24は磁性スリット薄板のスリットピッチ間隔をPとしたとき、P/4のピッチ間隔で各磁気センサヘッド13、14内に配列されている。
また、磁性スリット薄板12はエンドエフェクタ11の付根に配置される状態で取り付けられており、各磁気センサヘッド13、14と数ミリ程度の空隙を介して対向配置されている。図3は磁性スリット薄板12の外形図である。磁性スリット薄板12は、ケイ素鋼板等の磁性体材料を略十字形に成形したものである。図において、31はX位置計測用スリット、32はY位置計測用スリットであり、エッチング等の手法によって製作される。
次に、X軸、Y軸方向の2次元アブソリュート位置信号を検出する動作を中心に説明する。
図4はX、Y軸両方の信号処理回路のブロック図である。
以下、ここではX位置計測の信号処理回路を例により説明する。
X位置計測用磁気センサ16上を磁性スリット薄板12のX位置計測用スリット31が通過すると、スリットの有無に伴う磁束変化により磁気センサ16の抵抗値が変化する。この抵抗値変化を図2の基本検出回路において90度位相の異なるA相、B相の電圧信号に変換し、各々の信号を増幅器41aで増幅した後、位相変調回路42aで位相変調する。ここで,位相変調とは,磁性スリット薄板の変位量をx,A相信号VAおよびB相信号VBをそれぞれ
VA=V0sin(2π・x/P) (1)
VB=V0cos(2π・x/ P) (2)
としたとき,それぞれ振幅がV1で角周波数ωt(2π・x/P<<ωt)の搬送波
V1sinωt及びV1cosωtで平衡変調して加算するものであり,被変調信号Sは,次のように表すことができる.
S= V0V1sin(2π・x/ P)sinωt+V0V1cos(2π・x/ P)cosωt
=(V0V1/2)[(cos(ωt-2π・x/ P)- cos(ωt+2π・x/ P)+ cos(ωt-2π・x/ P)+cos(ωt+2π・x/ P)]
= V0V1 cos(ωt-2π・x/ P) (3)
すなわち,A相およびB相信号の電圧信号を角周波数ωtの搬送波で平衡変調して加算することにより,x変位すると被変調信号Sの位相が2π・x/Pだけ変化することになる.よって,この位相変調回路42aで得られた位相変調信号49aを、位相差検出回路44aにおいて位相変調基準信号発生回路 43から出力される位相変調基準信号46と比較し、その位相差を検出することによりX位置信号400aを出力する。
ところが、このままでは図5に示すように、A、B相増幅信号47a、48aが数スリットにわたって繰り返し観測されるので計測位置を特定できない。そのため、同図に示すように、B相増幅信号48aがA相増幅信号47aより大きいときのB>A信号53aとX位置有効領域判定信号54aを生成する、計測領域を一つに特定できるようなX位置有効領域判定用回路45aを付加した。ここで、B>A信号53aをA相増幅信号47aがB相増幅信号48aより大きいB<A信号としてもよい。
図6は位置有効領域判定用回路を示したものである。X位置有効領域判定回路45aにおいて、61aはX位置計測用磁気センサ16のA相増幅信号47aとB相増幅信号48aの大きさを比較するコンパレータ、62aはY位置計測用磁気センサ17から得られる信号の振幅を検出する振幅検出回路であって、ここでは位相変調信号49bのピークをホールドするピークホールド回路として用いている。また、66aはピークホールド回路62aのピークホールド信号と比較電圧の大きさを比較するコンパレータである。ここで、ピークホールド回路は、磁気センサから得られる信号の振幅を検出するものであれば、この回路だけに限定されるものではない。
次に、X位置有効領域を判定する動作について簡単に説明する。
Y位置計測用磁気センサ17から得られる位相変調信号49bは、Y位置計測用磁気センサ17を構成する4つのMR素子を通過する磁束密度に大きな差異がある場合に振幅が大きくなり、逆に4つのMR素子を通過する磁束密度に差異がない場合に振幅が小さくなる。すなわち、Y位置計測用スリット32がY位置計測用磁気センサ17上にある時、位相変調信号49bの振幅が大きくなるため、ピークホールド回路62aでピークホールドした位相変調ピークホールド信号67aはコンパレータ66aの比較電圧より大となり、X位置有効領域判定信号54aは有効信号となる。
逆に、Y位置計測用スリット32がY位置計測用磁気センサ17上にないとき位相変調信号49bの振幅が小さくなるため、ピークホールド回路62aでピークホールドした位相変調ピークホールド信号67aはコンパレータ66aの比較電圧より小となり、X位置有効領域判定信号54aは無効信号となる。このX位置有効領域判定信号54aとB>A信号53aの積をとれば、X位置有効信号63が生成され、X位置有効領域を判定できる。
以上、X位置計測の信号処理回路について説明したが、Y位置計測の信号処理回路も同様な構成となっている。
したがって、本実施例によれば、2次元アブソリュート位置センサは、ロボットのエンドエフェクタにX及びY方向にスリットを形成した磁性スリット薄板を少なくとも一つ設け、磁性スリット薄板と空隙を介して対向配置されるX及びY位置計測用磁気センサと、磁気センサからの信号からアブソリュート位置信号を出力する信号処理回路を設け、さらに信号処理回路にはXおよびY位置有効領域判定回路を構成したので、XおよびY位置有効領域判定回路がそれぞれX、Y位置有効信号を同時に出力するような領域は無限平面内に1ヶ所しか存在しなくなる。すなわち、X位置有効信号とY位置有効信号の積である有効信号を監視することで計測領域を一意に限定することができる。
ところで、図7に示すような磁性スリット薄板71を用い、これと磁気センサヘッドが磁性スリット薄板のエッジ部に位置する場合、磁気センサヘッド13、14がスリット72、73上に位置していないにもかかわらず、X、Y位置有効領域判定回路45a、45bにおいてB>A信号53a、53bとX、Y軸有効領域判定信号54a、54bが出力される。結果として、有効信号65が出力され、本来の計測領域であるスリット72、73上以外で計測が行われてしまう。そこで、本実施例の図3に示す十字型磁性スリット薄板を、図7に示す磁性スリット薄板と比較すると、十字型磁性スリット薄板は、本来の計測領域以外では、常に一方の位置有効信号が出力されても他方の位置有効信号は出力されないため、有効信号65は出力されず、誤認識領域は存在しない。したがって、このような誤認識領域が全く存在しないようにすることができる。
なお、スリット薄板の外形状は、本実施例では略十字型の例を挙げたが、誤認識領域が存在しないような形状であれば任意の形状で良く限定されない。一例として、1枚の磁性スリット薄板で計測を行う場合、図8に示すような略T字型などがある。
また、X及びY位置計測用スリットをそれぞれ別に分割して2枚の磁性スリット薄板で計測を行っても構わず、図9に示すような矩形型の磁性スリット薄板としても良い。なお、磁性スリット薄板は、その取付け位置をエンドエフェクタ付根とした場合は、略十字型あるいはT字型が好ましく、図10のようにエンドエフェクタ先端とした場合は、矩形型が好ましい。
以上のように、有効領域判定回路45a、45bを付加し、スリット外形状を十字型とすることにより、無限平面内でP/2の領域だけが有効と判定されるので、この領域内のアブソリュート位置を計測することができ、位置補正に利用できる
最後に、クリーン/真空ロボットのエンドエフェクタの位置補正方法と再ティーチング方法について説明する。
まず、クリーン/真空ロボットのエンドエフェクタの位置補正方法について説明する。
図11にクリーン/真空ロボットの位置補正システムの構成図を示す。
図において、磁気センサヘッド101は、クリーン/真空ロボットのエンドエフェクタ11がシステム原点計測ポイントにおいて、磁性スリット薄板12に対向するように配置されている。ここで、システム原点とは、ロボットの運動の基準点で、2次元アブソリュート位置センサの計測領域内に定義するものである。システム原点計測ポイントにおけるエンドエフェクタの2次元アブソリュート位置信号105は、ロボットコントローラ103等の上位コントローラにフィードバックされている。従って、このフィードバック信号によりエンドエフェクタのシステム原点からの位置ずれが求まるため、これを基に位置補正を行うことができる。
次に、再ティーチングについて説明する。
本発明による位置センサはアブソリュート式であるため、計測領域内の任意位置と前記システム原点の位置ずれを求めることができる。よって、クリーン/真空ロボットの交換(置き換え)や、何らかの原因で再ティーチングが必要となった場合には、エンドエフェクタ11を2次元アブソリュート位置センサの計測領域の任意位置に移動させるだけで、後はロボット側で前述のシステム原点に復帰でき、最初のティーチングによるシステム原点位置からのティーチングポイントをコントローラ103に記憶させておけば、システム原点以外のティーチングポイントに対する再ティーチングを省略することができる。これにより、エンドエフェクタ11を2次元アブソリュートセンサの計測領域内に移動させるだけで再ティーチングは完了し、これに要する時間は大幅に短縮される。
【0006】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、磁気式であるため、非接触かつ耐環境性に優れた2次元アブソリュート位置センサを提供できるという効果がある。
さらに、本発明による2次元アブソリュート位置センサは被計測物体に小型軽量の磁性薄板スケールを取付けるだけで計測が可能なため、被計測物体に大幅な加工を必要とせず、クリーン/真空ロボットのエンドエフェクタの2次元アブソリュート位置センサとして適用できる。その結果、エンドエフェクタの位置を補正できると同時に、ロボットの再ティーチングが容易になり、スループットが向上するという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示すエンドエフェクタに取り付けた状態における2次元アブソリュート位置センサの構成図であって、(a)はその平面図、(b)は(a)の側面図である。
【図2】磁気センサヘッドに設けた基本検出回路を説明する図であって、(a)は基本検出回路の回路図、(b)はMR素子の配置図である。
【図3】磁性スリット薄板の外形図である。
【図4】信号処理回路を示すブロック図である。
【図5】X位置計測におけるスリット位置と信号出力の関係を示す説明図である。
【図6】有効領域判定回路を示すブロック図である。
【図7】本来の計測領域外で有効信号が出力される場合の、磁性スリット薄板とセンサヘッドの位置関係を示す配置図である。
【図8】T型磁性スリット薄板の外形図である。
【図9】矩形型磁性スリット薄板の外形図である。
【図10】矩形型磁性スリット薄板を有するエンドエフェクタの外形図である。
【図11】クリーン/真空ロボットの位置補正システムの構成図である。
【符号の説明】
11 エンドエフェクタ(可動体)
12 磁性スリット薄板(十字型)
13 X位置計測用磁気センサヘッド
14 Y位置計測用磁気センサヘッド
16 X位置計測用磁気センサ
17 Y位置計測用磁気センサ
18a X位置計測用バイアス磁石
18b Y位置計測用バイアス磁石
21、22、23、24 MR素子
31 X位置計測用スリット
32 Y位置計測用スリット
41a、41b 増幅器
42a、42b 位相変調回路
43 位相変調基準信号発生回路
44a、44b位相差検出回路
45a X位置有効領域判定回路
45b Y位置有効領域判定回路
46 位相変調基準信号
47a、47b A相増幅信号
48a、48b B相増幅信号
49a、49b 位相変調信号
400a X位置信号
400b Y位置信号
401a X有効位置信号
401b Y有効位置信号
53a、53b B>A信号
54a X位置有効領域判定信号
54b Y位置有効領域判定信号
61a、61b、66a、66b コンパレータ
62a、62b ピークホールド回路 (振幅検出回路)
63 X位置有効信号
64 Y位置有効信号
65 有効信号
67a、67b 位相変調ピークホールド信号
71 磁性スリット薄板(矩形型)
72 X位置計測用スリット
73 Y位置計測用スリット
81 磁性スリット薄板(T字型)
91 磁性スリット薄板(矩形型)
101 磁気センサヘッド
102 信号処理回路
103 ロボットコントローラ
104 A、B相センサ信号
105 エンドエフェクタ2次元アブソリュート位置信号
106 指令信号
107 各軸角度位置信号

Claims (3)

  1. 磁性体と、前記磁性体に対向して配置される第1および第2の磁気検出手段と、前記第1および第2の磁気検出手段がそれぞれ出力する信号を処理する信号処理手段と、を備え、可動体が移動する第1の方向および第2の方向のアブソリュート位置を計測する2次元アブソリュート位置センサにおいて、
    前記磁性体は、前記第1の方向および第2の方向の位置をそれぞれ計測するためのスリットを備え、
    前記第1および第2の磁気検出手段は、それぞれ前記スリットとの対向位置に応じて位相の異なるA相信号およびB相信号を出力し、
    前記信号処理手段は、前記第1の磁気検出手段が出力するA相信号とB相信号とのレベルを比較する第1のコンパレータと、前記第2の磁気検出手段が出力する信号の振幅を検出する振幅検出回路と、前記振幅検出回路の出力信号と比較信号とのレベルを比較する第2のコンパレータと、を備え、前記第1のコンパレータの出力と前記第2のコンパレータの出力とに基づいて位置有効信号を出力して前記第1の方向の位置計測領域を特定することを特徴とする2次元アブソリュート位置センサ。
  2. 前記磁性は、略十字型またはT字型の外形状を有することを特徴とする請求項記載の2次元アブソリュート位置センサ。
  3. 請求項1または2に記載の2次元アブソリュート位置センサを備えたことを特徴とするロボット。
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