JP4237204B2 - マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
この発明によれば、マイクロ波導入手段から処理装置本体内に導入されたマイクロ波が、樹脂容器の胴部を照射する前に、誘電被膜およびマイクロ波透過管を照射することにより、このマイクロ波を、マイクロ波透過管の全周にわたって均一なエネルギ量に分散させた状態で、樹脂容器の胴部に向けて照射することが可能になり、樹脂容器に局所的な電磁波エネルギが集中するのを抑制することができる。
さらに、マイクロ波透過管と前記樹脂容器の胴部との間に、この胴部を、その外周面に当接した状態で全周にわたって囲繞するマイクロ波透過部材が設けられているので、マイクロ波透過管を透過したマイクロ波のエネルギを減退させることなく樹脂容器に到達させることが可能になり、樹脂容器内で発生するプラズマ状態がばらつくのを抑制することができる。また、このようにマイクロ波透過部材とマイクロ波透過管とを別部材としているので、被膜を形成する樹脂容器のサイズが多種にわたる場合、マイクロ波透過部材およびマイクロ波透過管を両者ともに交換しなくても、樹脂容器の胴部外周面に当接するマイクロ波透過部材のみを交換すれば足り、このマイクロ波プラズマ処理装置の取り扱い性を向上させることができる。
この場合、前記マイクロ波透過部材の外周面と前記マイクロ波透過管の内周面との間に設けられた隙間に前記マイクロ波透過性材料からなる充填材が設けられているので、マイクロ波透過管を透過したマイクロ波の有するエネルギが前記隙間で減退するのを抑えることができる。また、マイクロ波透過部材の外周面とマイクロ波透過管の内周面との間に隙間が設けられているので、マイクロ波透過部材およびマイクロ波透過管をともに高い寸法精度で形成する必要がなく、マイクロ波プラズマ処理装置の高コスト化も抑えることができる。
なお、図示の例では、誘電被膜16aの外周面と、処理装置本体11の内面のうち、樹脂容器Wの胴部W2と対向する側面との間には隙間が設けられている。また、マイクロ波透過部材15の内周面形状は、樹脂容器Wの外周面形状に沿った形状とされている。マイクロ波透過管16は筒状とされ、その両端開口部はそれぞれ、処理装置本体11における天板11cおよび底蓋11bの各内面によって閉塞されている。さらに、処理装置本体11の開口部11aは、誘電被膜16aの外周面に向けて開口している。また、マイクロ波透過部材15の内周面は、樹脂容器Wの胴部W2の外周面の略全域にわたって当接している。
ここで、マイクロ波導入手段12から前記開口部11aを介して処理装置本体11内に導入されたマイクロ波を、樹脂容器Wの胴部W2に照射する前に誘電被膜16aに照射することにより、このマイクロ波を、マイクロ波透過管16の外周面上でその全周にわたって均一なエネルギ量に分散した状態でこのマイクロ波透過管16を透過させる。そして、この分散したマイクロ波が、マイクロ波透過部材15の外周面とマイクロ波透過管16の内周面との間に隙間なく充填された充填材17、および樹脂容器Wの胴部W2の外周面に当接したマイクロ波透過部材15をこの順に透過することにより、樹脂容器Wの胴部W2にその全周にわたって均一なエネルギ量のマイクロ波を減退なく導入する。
例えば、マイクロ波導入手段12と処理装置本体11の開口部11aとの間に導波管を介在させてもよい。
また、マイクロ波透過部材15、マイクロ波透過管16、充填材17および樹脂容器Wの材質は前記実施形態で示したものに限られるものではない。
11 処理装置本体
11a 開口部
11b 底蓋
11c 天板
12 マイクロ波導入手段
12a マイクロ波発生器
12b アンテナ
13 処理ガス導入管
14 排気管
15 マイクロ波透過部材
16 マイクロ波透過管
16a 誘電被膜
17 充填材
G 処理ガス
W 樹脂容器
W1 上端開口部
W2 胴部
Claims (3)
- 有底筒状の樹脂容器が内部に配置される処理装置本体と、この処理装置本体内にマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、処理装置本体内に配置される樹脂容器の内部に処理ガスを導入可能な処理ガス導入管とが備えられたマイクロ波プラズマ処理装置であって、
処理装置本体内には、前記樹脂容器の胴部を、その外周面に当接した状態で全周にわたって囲繞するマイクロ波透過部材と、このマイクロ波透過部材を全周にわたって囲繞するマイクロ波透過管とが備えられ、前記マイクロ波透過管の外周面には、その全周にわたって、このマイクロ波透過管を形成する材質よりも誘電率の高い材質からなる誘電被膜が設けられていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。 - 請求項1記載のマイクロ波プラズマ処理装置において、
前記マイクロ波透過部材の外周面と前記マイクロ波透過管の内周面との間に隙間が設けられ、この隙間にマイクロ波透過性材料からなる充填材が充填されていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。 - 処理装置本体内にマイクロ波を導入して処理ガスをプラズマ化することにより、処理装置本体内に配置された樹脂容器の内面に被膜を形成するマイクロ波プラズマ処理方法であって、
請求項1または2に記載のマイクロ波プラズマ処理装置を用い、前記マイクロ波導入手段から処理装置本体内に導入されたマイクロ波を、前記マイクロ波透過管およびマイクロ波透過部材をこの順に透過させることによって、前記樹脂容器の胴部にその全周にわたって略均等なエネルギ量に分散して照射し、この樹脂容器の内面に被膜を形成することを特徴とするマイクロ波プラズマ処理方法。
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JP2006178401A JP4237204B2 (ja) | 2006-06-28 | 2006-06-28 | マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理方法 |
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JP2006178401A JP4237204B2 (ja) | 2006-06-28 | 2006-06-28 | マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理方法 |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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