JP4234703B2 - 欠陥検査装置 - Google Patents
欠陥検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4234703B2 JP4234703B2 JP2005254741A JP2005254741A JP4234703B2 JP 4234703 B2 JP4234703 B2 JP 4234703B2 JP 2005254741 A JP2005254741 A JP 2005254741A JP 2005254741 A JP2005254741 A JP 2005254741A JP 4234703 B2 JP4234703 B2 JP 4234703B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conversion
- signal
- unit
- conversion information
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
Bi=(x×Bo+y)
Wi=(x×Wo+y)
Mi_k=(x×Mo_k+y)
となる。
Bi×R
Wi×R
Mi_k×R
となる。これらの補正値は、各センサ画素に対して画像データのライン数分得ることができる。
Bi×R=Bav
Wi×R=Wav →(x,y)A=b
Mi_k×R=Mav_k
と表記したときの係数行列Aと平均値のベクトルbを用いて、
b×At×(A×At)^(−1)
を計算すれば、平均値からのずれが最小になるようなx,yが求められる。これを用いて、光量センサの特性に対して、画像センサの応答が最適となるような逆特性を計算することができる。ただし、AtはAの転置行列を表す。
Bo’=Wi×R+o
Wo’=Bi×R+o
Mo_k’=Mi_k×R+o
となる。透過率の低い部分の目標値Bt、透過率の高い部分の目標値Wt、中間階調の目標値Mt_kに対して、誤差
(Bt−Bo’)^2+(Wt−Wo’)^2+(Mt_k−Mo_k’)^2
が最小となるように、モデル式のパラメータとオフセット量oを同時に求めることも可能である。
上述した実施形態では、変換部52の変換動作に用いる変換情報は固定されていたが、センサの経時変化等に対処させるために、変換情報を変更するようにしてもよい。本変更例では、図9に示すようにして変換情報を変更するようにしている。以下、図9を参照して、本変更例の構成及び動作を説明する。
本変更例も、変換部52の変換動作に用いる変換情報は固定せずに、変換情報を変更するものである。本変更例では、図10に示すようにして変換情報を変更するようにしている。以下、図10を参照して、本変更例の構成及び動作を説明する。
本変更例では、変換部52の変換動作に用いる変換情報を予め複数用意しておき、それらの中から最適な変換情報を選択する。以下、図11を参照して、本変更例の構成及び動作を説明する。
フォトマスクには、透光性基板上に遮光膜が形成されたものの他、図12に示すように、透光性基板71上にハーフトーン膜72及び遮光膜73が形成された多層構造マスクもある。このような多層構造マスクでは、ハーフトーン膜72のみが形成された領域A1での透過率と、ハーフトーン膜72及び遮光膜73が形成された領域A2での透過率との間には大きな差異がある。
13…光源 14…光学系 15…拡大光学系
16…画像センサ 17…光量センサ 18…演算部
21…制御計算機 22…テーブル制御回路
23a…Xモータ 23b…Yモータ 23c…θモータ
24…レーザ測長システム 25…オートローダ制御回路
26…オートローダ 27…位置回路 28…比較回路
29…磁気ディスク 31…展開回路 32…参照回路
51…変換部 52…変換部
53…乗算部 54…オフセット処理部
61…判定部 62…変換情報算出部 63…信号データ記憶部
64…変換情報更新部 65…変換情報記憶部 66…選択部
71…透光性基板 72…ハーフトーン膜 73…遮光膜
Claims (4)
- 検査対象であるフォトマスクに照明光を照射する照明部と、
前記照明光の光量に応じた第1の検出信号を生成するものであって、入射光量と出力信
号との間の入出力特性が非線形である第1の検出部と、
前記照明光によって照明された前記フォトマスクからの画像光の光量に応じた第2の検
出信号を生成するものであって、入射光量と出力信号との間の入出力特性が非線形であり
且つ前記第1の検出部の入出力特性と異なる第2の検出部と、
前記第1の検出信号を変換式又は変換テーブルから得られる第1の変換情報を用いてデ
ジタル信号である第1の変換信号に変換する第1の変換部であって、前記第1の変換情報
によって前記第1の変換信号が前記照明光の光量に比例又は反比例するように構成された
第1の変換部と、
前記第2の検出信号を変換式又は変換テーブルから得られる第2の変換情報を用いてデ
ジタル信号である第2の変換信号に変換する第2の変換部であって、前記第2の変換情報
によって前記第2の変換信号が前記画像光の光量に比例するように構成された第2の変換
部と、
前記第1の変換信号を用いて前記第2の変換信号を補正する補正部と、
前記補正部で補正された第2の変換信号に基づいて前記フォトマスクの欠陥を検出する
欠陥検出部とを備え、
前記フォトマスクは、基板上に形成された第1の層と、第1の層上に形成された第2の
層とを有し、前記第2の変換部は、前記第1の層が形成された第1の領域と、前記第1の
層及び第2の層が形成された第2の領域とで、互いに異なる第2の変換情報を用いて、前
記第2の検出信号を第2の変換信号に変換することを特徴とするフォトマスクの欠陥検査
装置。 - 前記補正部で補正された第2の変換信号が予め決められた条件を満たしているか否かを
判定する判定部と、
前記補正された第2の変換信号が予め決められた条件を満たしていないと判定された場
合に、新たな第2の変換情報を算出する変換情報算出部と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。 - 前記補正部で補正された第2の変換信号に基づく信号データを記憶する信号データ記憶
部と、
前記信号データ記憶部に記憶された信号データに基づいて前記第2の変換情報を更新す
る変換情報更新部と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。 - 前記第2の変換情報を複数記憶した変換情報記憶部と、
前記変換情報記憶部に記憶された複数の第2の変換情報のなかから所望の第2の変換情
報を選択する選択部と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005254741A JP4234703B2 (ja) | 2005-09-02 | 2005-09-02 | 欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005254741A JP4234703B2 (ja) | 2005-09-02 | 2005-09-02 | 欠陥検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007064921A JP2007064921A (ja) | 2007-03-15 |
JP4234703B2 true JP4234703B2 (ja) | 2009-03-04 |
Family
ID=37927268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005254741A Expired - Fee Related JP4234703B2 (ja) | 2005-09-02 | 2005-09-02 | 欠陥検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4234703B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4664996B2 (ja) * | 2008-01-15 | 2011-04-06 | 株式会社東芝 | 試料検査装置及び試料検査方法 |
JP4650813B2 (ja) * | 2008-03-21 | 2011-03-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | レチクル欠陥検査装置およびレチクル欠陥検査方法 |
JP5202462B2 (ja) | 2009-07-23 | 2013-06-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン欠陥検査装置および方法 |
JP5318046B2 (ja) * | 2010-08-26 | 2013-10-16 | 株式会社東芝 | 試料検査装置及び試料検査方法 |
JP2015145922A (ja) * | 2014-01-31 | 2015-08-13 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マスク検査装置及びマスク検査方法 |
-
2005
- 2005-09-02 JP JP2005254741A patent/JP4234703B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007064921A (ja) | 2007-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8260031B2 (en) | Pattern inspection apparatus, pattern inspection method, and computer-readable recording medium storing a program | |
JP4554691B2 (ja) | 補正パターン画像生成装置、パターン検査装置および補正パターン画像生成方法 | |
JP4203498B2 (ja) | 画像補正装置、パターン検査装置、画像補正方法、及び、パターン欠陥検査方法 | |
JP4095621B2 (ja) | 光学画像取得装置、光学画像取得方法、及びマスク検査装置 | |
KR101994524B1 (ko) | 포커싱 장치, 포커싱 방법 및 패턴 검사 방법 | |
JP2009300426A (ja) | レチクル欠陥検査装置およびレチクル欠陥検査方法 | |
JP2008112178A (ja) | マスク検査装置 | |
JP2007085944A (ja) | 画像補正装置、パターン検査装置、画像補正方法、及び、パターン欠陥検査方法 | |
KR101616021B1 (ko) | 검사 장치 및 검사 방법 | |
DE102017200628B4 (de) | Musterprüfvorrichtung | |
JP4234703B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
JP2006266864A (ja) | 試料検査装置及び試料検査方法 | |
JP5178781B2 (ja) | センサ出力データの補正装置及びセンサ出力データの補正方法 | |
KR101731338B1 (ko) | 위치 측정 방법, 위치 이탈 맵의 작성 방법 및 검사 시스템 | |
JP3958328B2 (ja) | 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム | |
JP2011169743A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
JP4206393B2 (ja) | パターン検査方法 | |
JP5684628B2 (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
US6888958B1 (en) | Method and apparatus for inspecting patterns | |
JP4772815B2 (ja) | 補正パターン画像生成装置、パターン検査装置および補正パターン画像生成方法 | |
JP4554661B2 (ja) | パターン検査装置、パターン検査方法及びプログラム | |
JP2018146884A (ja) | マップ作成方法、マスク検査方法およびマスク検査装置 | |
JP2009222611A (ja) | 検査装置及び検査方法 | |
JP4261535B2 (ja) | マスク検査装置におけるアライメント方法および評価方法 | |
US12105026B2 (en) | Image acquisition method and image acquisition apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080123 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080219 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080418 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080603 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080731 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080826 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080918 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20081024 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081209 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081211 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111219 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121219 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |