JP4231757B2 - 溶液中成分濃度測定方法 - Google Patents

溶液中成分濃度測定方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4231757B2
JP4231757B2 JP2003317131A JP2003317131A JP4231757B2 JP 4231757 B2 JP4231757 B2 JP 4231757B2 JP 2003317131 A JP2003317131 A JP 2003317131A JP 2003317131 A JP2003317131 A JP 2003317131A JP 4231757 B2 JP4231757 B2 JP 4231757B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solution
temperature
spectrum
concentration
wavelength
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2003317131A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005083930A (ja
Inventor
一成 横山
義公 湯原
淳二 小島
隆章 矢田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Horiba Ltd
Original Assignee
Horiba Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Horiba Ltd filed Critical Horiba Ltd
Priority to JP2003317131A priority Critical patent/JP4231757B2/ja
Priority to US10/932,860 priority patent/US6993444B2/en
Priority to EP04021357A priority patent/EP1515133B1/en
Priority to DE602004018081T priority patent/DE602004018081D1/de
Publication of JP2005083930A publication Critical patent/JP2005083930A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4231757B2 publication Critical patent/JP4231757B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/27Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
    • G01N21/274Calibration, base line adjustment, drift correction

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

この発明は、溶液中成分濃度測定方法に関する。
特開平6−43095号公報
様々な温度の溶液の成分濃度を算出するにあたり、従来では、数点の温度T1 ,T2 ,…Tk における校正係数 qj (T1 ), qj (T2 ),… qj (Tk )を求めておき、T≒Tk のとき、
m
q (T)=Σ qj (Tk )S(λj ,T)+ q0 (Tk ) …(1)
j=1
により、溶液中成分濃度 q (T)を算出している。(1)式において、は成分を表す。また、λj は、j番目の波長を表し、S(λj ,T)は、j番目の波長λj における任意の温度Tでの溶液スペクトルを表す。
しかしながら、一番労力を要する校正係数を数点も取得しなければならないので、工数がかかる。
この発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その目的は、少ない工数で様々な温度の溶液の成分濃度を算出できる溶液中成分濃度測定方法を提供することである。
上記目的を達成するために、この発明の溶液中成分濃度測定方法は、任意の温度Tでの溶液の成分濃度を、波長ごとの溶液スペクトルおよび溶媒スペクトルを用いて測定する溶液中成分濃度測定方法であって、基準温度T0 における溶液中成分の濃度 q を測定するための校正係数 qj (T0 )を予め求めておき、j番目の波長λj における前記温度Tでの溶液スペクトルS(λj ,T)とj番目の波長λj における前記温度Tでの溶媒スペクトルB(λj ,T)との差スペクトルに前記校正係数 qj (T0 )を演算させるようにしている(請求項1)。
また、この発明では、 前記溶媒スペクトルB(λj ,T)を、
n
B(λj ,T)=Σki (λj )(T−T0 i
i=1
ただし、ki (λj ):j番目の波長λj における
温度に関するi次の係数
で表すのが好ましい(請求項2)。
この発明では、j番目の波長λj における温度Tでの溶液のスペクトルS(λj ,T)とj番目の波長λj における温度Tでの溶媒のスペクトルB(λj ,T)の差スペクトルに、予め求めていた基準温度T0 における溶液中成分の濃度 q 測定のための校正係数 qj (T0 )を演算させることにより、溶液中成分の濃度を算出するよう構成している(請求項1)。すなわち、この発明では、様々な温度Tにおける溶液のスペクトルS(λj ,T)と溶媒のスペクトルB(λj ,T)は実測される物理量として求めることができるとともに、従来のように様々な温度T1 ,T2 ,…Tk で求めた複数の校正係数 qj (T1 ), qj (T2 ),… qj (Tk )を用いるのではなく、基準温度T0 における一つの前記校正係数 qj (T0 )(は溶液中の成分、jは波長点)だけを用いて様々な温度の溶液の成分濃度を算出することができる。つまり、この発明では、一番労力を要する校正係数が一つで済むことになり、校正係数の取得のための工数を低減できる。
また、この発明では、j番目の波長λj における温度Tでの溶媒のスペクトルB(λj ,T)を、
n
B(λj ,T)=Σki (λj )(T−T0 i
i=1
ただし、ki (λj ):j番目の波長λj における
温度に関するi次の係数
で表しており(請求項2)、前記B(λj ,T)を(T−T0 )のn次関数で定義したものを用いることができる。
例えば、半導体製造におけるウエハ等の洗浄工程でパーティクル除去に使われる高温(例えば65℃や75℃等)の薬液の濃度を一定に保つワンバス方式の装置(図4参照)における濃度管理をサポートするのにこの発明は用いられている。図4に示すように、ワンバス方式の装置では、高温の薬液(例えばアンモニア−過酸化水素水溶液;NH3 /H2 2 /H2 O)は循環ポンプによってそのままフローセルに導入され、薬液の濃度が許容範囲(NH3 の濃度測定範囲:例えば0.00〜1.00%、H2 2 の濃度測定範囲:例えば0.0〜5.00%、H2 Oの濃度測定範囲:例えば94.0〜100.0%)に保たれるよう薬液の各成分(NH3 ,H2 2 ,H2 O)の濃度を常時モニタし、この濃度モニタの測定結果をフィードバックして濃度を一定に保つ必要がある。この場合、薬液の濃度変化に対して最適なフィードバック制御をするためには、濃度モニタの速い測定応答性が求められるが、この発明において、
n
Σki (λj )(T−T0 i
i=1
を予め計ってメモリしておけば、濃度モニタ時において速い測定応答性を実現でき、薬液の濃度変化に対する追従性を向上できる利点がある。
以下、この発明の実施形態を、図を参照しながら説明する。なお、それによってこの発明は限定されるものではない。
この発明の溶液中成分濃度測定方法では、まず、基準温度T0 (例えば25℃)における溶液中成分の濃度 q を測定するための校正係数 qj (T0 )を予め求めておく。このとき、
m
q (T0 )=Σ qj (T0 )S(λj ,T0 )+ q0 (T0 ) …(2)
j=1
ここで、S(λj ,T0 )は、j番目の波長λj における基準温度T0 での溶液スペクトル(吸光度スペクトルなど)である。また、 q0 (T0 )は、溶液スペクトルS(λj ,T0 )に依存しない定数で、基準温度T0 での成分に係るものである。
また、溶液の主成分である溶媒(例えばH2 O)のj番目の波長λj における温度Tでの溶媒スペクトルをB(λj ,T)とおく。このとき、j番目の波長λj における基準温度T0 での溶媒スペクトルB(λj ,T0 )が、全ての波長でゼロになるように定義(基準をシフト)しておく。すなわち、
B(λj ,T0 )=0 …(3)
このとき、図1に示すように、j番目の波長λj における温度Tでの溶液スペクトルS(λj ,T)とj番目の波長λj における温度Tでの溶媒スペクトルB(λj ,T)との差スペクトル(図1参照)は、溶媒濃度が高い場合、例えば95%以上の場合、j番目の波長λj における基準温度T0 での溶液スペクトルS(λj ,T0 )とj番目の波長λj における基準温度T0 での溶媒スペクトルB(λj ,T0 )との差に近似的に等しくなることが、我々の実験で分かった。すなわち、
S(λj ,T)−B(λj ,T)≒S(λj ,T0 )−B(λj ,T0
=S(λj ,T0 ) …(4)
したがって、前記(2)式のS(λj ,T0 )に前記(4)式を代入するとともに、前記(2)式の q (T0 )を q (T)に置換してなる温度補正された温度Tにおける成分濃度は次式で表せる。
m
q (T)≒Σ qj (T0 )〔S(λj ,T)−B(λj ,T)〕+ q0 (T0 j=1
…(5)
なお、図1に示す実施形態では、65℃のH2 Oを溶媒とする同じ温度(65℃)の薬液を溶液として用いた。
前記(5)式から、基準温度T0 における溶液の校正係数 qj (T0 )と、様々な温度Tにおける溶液のスペクトルS(λj ,T)および溶媒のスペクトルB(λj ,T)を求めるだけで、溶液の成分濃度を算出でき、一番労力を要する校正係数が一つで済むので、工数の低減を実現できる。
図2は、この発明の温度補正効果を示すもので、この発明を、例えば、ウエハ洗浄に使用される高温の薬液(例えばアンモニア−過酸化水素水溶液)の各成分(NH3 /H2 2 /H2 O)の濃度を算出するのに適用したときの測定結果を示している。なお、この例では、75℃のH2 Oを溶媒とする同じ温度(75℃)の薬液を溶液として用いた。
図2(A)は、温度補正を行ったこの発明の前記(5)式から得られた測定結果を示す。図2(B)は、温度補正を行わない比較例の測定結果を示しており、前記(2)式のS(λj ,T0 )に前記(4)式を代入することなく、(2)式から直接算出した測定結果を示す。
図2(A)から、高温の薬液がほぼ75℃のH2 Oのみを含むものであったことが分かる。また、図2(B)では、実際は、NH3 /H2 2 各成分は含まれていないのに、これら成分およびH2 Oの濃度、温度が時間の経過と共に変動していることが分かる。
図3は、前記溶媒のスペクトルB(λj ,T)を(T−T0 )の2次関数で表した場合の、水温、波長点、吸光度による三次元グラフを示す。図3(A)、図3(B)は同じデータの別断面を示している。
この発明の一実施形態における温度補正の演算を説明するために用いた特性図である。 (A)は、上記実施形態における温度補正を行った測定結果を示す図である。(B)は、温度補正を行わなかった場合の測定結果を示す図である。 (A)は、上記実施形態における溶媒のスペクトルB(λj ,T)を(T−T0 )の2次関数で表した場合の、水温、波長点、吸光度による三次元グラフを示す図である。(B)は、上記実施形態における溶媒のスペクトルB(λj ,T)を(T−T0 )の2次関数で表した場合の、水温、波長点、吸光度による別の角度からみた三次元グラフを示す図である。 上記実施形態が適用されるワンバス方式の装置を示す構成説明図である。
符号の説明
S(λj ,T) 溶液スペクトル
B(λj ,T) 溶媒スペクトル
0 基準温度
λj j番目の波長
S(λj ,T)−B(λj ,T) 差スペクトル
S(λj ,T0 ) 基準温度での溶液スペクトル

Claims (2)

  1. 任意の温度Tでの溶液の成分濃度を、波長ごとの溶液スペクトルおよび溶媒スペクトルを用いて測定する溶液中成分濃度測定方法であって、基準温度T0 における溶液中成分の濃度 q を測定するための校正係数 qj (T0 )を予め求めておき、j番目の波長λj における前記温度Tでの溶液スペクトルS(λj ,T)とj番目の波長λj における前記温度Tでの溶媒スペクトルB(λj ,T)との差スペクトルに前記校正係数 qj (T0 )を演算させることを特徴とする溶液中成分濃度測定方法。
  2. 前記溶媒スペクトルB(λj ,T)を、
    n
    B(λj ,T)=Σki (λj )×(T−T0 i
    i=1
    ただし、ki (λj ):j番目の波長λj における
    温度に関するi次の係数
    で表す請求項1に記載の溶液中成分濃度測定方法。
JP2003317131A 2003-09-09 2003-09-09 溶液中成分濃度測定方法 Expired - Lifetime JP4231757B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003317131A JP4231757B2 (ja) 2003-09-09 2003-09-09 溶液中成分濃度測定方法
US10/932,860 US6993444B2 (en) 2003-09-09 2004-09-02 Measuring method of component concentration in solution
EP04021357A EP1515133B1 (en) 2003-09-09 2004-09-08 Method for determining the concentration of a component in a solution
DE602004018081T DE602004018081D1 (de) 2003-09-09 2004-09-08 Verfahren zur Bestimmung der Komponentenkonzentration in einer Lösung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003317131A JP4231757B2 (ja) 2003-09-09 2003-09-09 溶液中成分濃度測定方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005083930A JP2005083930A (ja) 2005-03-31
JP4231757B2 true JP4231757B2 (ja) 2009-03-04

Family

ID=34131969

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003317131A Expired - Lifetime JP4231757B2 (ja) 2003-09-09 2003-09-09 溶液中成分濃度測定方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6993444B2 (ja)
EP (1) EP1515133B1 (ja)
JP (1) JP4231757B2 (ja)
DE (1) DE602004018081D1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008058591A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Toshiba Corp 基板処理方法および電子デバイスの製造方法
US8221345B2 (en) 2007-05-30 2012-07-17 Smiths Medical Asd, Inc. Insulin pump based expert system
CN106525700A (zh) * 2016-10-12 2017-03-22 深圳市计量质量检测研究院 一种氙灯老化试验箱的在线校准系统及其校准方法
CN109115699A (zh) * 2017-06-23 2019-01-01 河南农大迅捷测试技术有限公司 一种基于比色测定技术的土壤含水率检测方法
CN110523178B (zh) * 2019-09-16 2020-12-04 固安县朔程燃气有限公司 一种基于超重力的烟雾污染净化装置
JP7438774B2 (ja) * 2020-02-05 2024-02-27 アズビル株式会社 測定装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2934190A1 (de) * 1979-08-23 1981-03-19 Müller, Gerhard, Prof. Dr.-Ing., 7080 Aalen Verfahren und vorrichtung zur molekuelspektroskopie, insbesondere zur bestimmung von stoffwechselprodukten
DE3137658C2 (de) * 1981-09-22 1985-06-05 H. Maihak Ag, 2000 Hamburg Vorrichtung zur Messung der Konzentration eines IR-, NIR-, VIS- oder UV-Strahlung absorbierenden Gases in einer Gasmatrix
EP0418799B1 (en) 1989-09-20 1995-11-29 Kurashiki Boseki Kabushiki Kaisha Quantitative determination method of chemicals for processing semiconductor and an apparatus thereof
US5242602A (en) 1992-03-04 1993-09-07 W. R. Grace & Co.-Conn. Spectrophotometric monitoring of multiple water treatment performance indicators using chemometrics
US5696580A (en) * 1994-05-11 1997-12-09 Kyoto Dai-Ichi Kagaku Co., Ltd. Method of and apparatus for measuring absorbance, component concentration or specific gravity of liquid sample
JP3261264B2 (ja) * 1994-07-13 2002-02-25 株式会社堀場製作所 多成分水溶液の分析方法およびその分析装置
US5796476A (en) * 1995-06-28 1998-08-18 Kyoto Dai-Ichi Kagaku Co., Ltd. Method of optically measuring component in solution
JP3223097B2 (ja) * 1996-01-24 2001-10-29 株式会社堀場製作所 溶液中に含まれる複数成分の濃度分析方法
US5668373A (en) * 1996-04-26 1997-09-16 Trustees Of Tufts College Methods and apparatus for analysis of complex mixtures
JP3706437B2 (ja) 1996-07-13 2005-10-12 株式会社堀場製作所 多成分水溶液の分析方法
JP3754581B2 (ja) 1999-08-31 2006-03-15 株式会社堀場製作所 多成分有機溶液の分析方法
US20030052272A1 (en) 2000-01-17 2003-03-20 Norihiro Kiuchi Liquid concentration detecting method and apparatus
JP3824904B2 (ja) 2001-10-19 2006-09-20 株式会社堀場製作所 アルカリ成分と過酸化水素を含む溶液の濃度測定方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP1515133B1 (en) 2008-12-03
DE602004018081D1 (de) 2009-01-15
EP1515133A1 (en) 2005-03-16
US6993444B2 (en) 2006-01-31
JP2005083930A (ja) 2005-03-31
US20050065750A1 (en) 2005-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100727049B1 (ko) 마이크로전자 디바이스들의 제조시 최적의 공정 목표들을결정하는 방법
US6988017B2 (en) Adaptive sampling method for improved control in semiconductor manufacturing
US6819963B2 (en) Run-to-run control method for proportional-integral-derivative (PID) controller tuning for rapid thermal processing (RTP)
US10192763B2 (en) Methodology for chamber performance matching for semiconductor equipment
US20030199108A1 (en) Method of monitoring and/or controlling a semiconductor manufacturing apparatus and a system therefor
JP4231757B2 (ja) 溶液中成分濃度測定方法
EP1083470B1 (en) Multi-computer chamber control system, method and medium
Zheng et al. Stability and performance analysis of mixed product run-to-run control
Ayoubi et al. Change point estimation in the mean of multivariate linear profiles with no change type assumption via dynamic linear model
JP2009532897A (ja) 時間加重移動平均フィルタ
Fan et al. An integrated advanced process control framework using run-to-run control, virtual metrology and fault detection
Tomic et al. Standardization methods for handling instrument related signal shift in gas-sensor array measurement data
Wang et al. Multi-objective monitoring of closed-loop controlled systems using adaptive LASSO
Cheng et al. Applying the automatic virtual metrology system to obtain tube-to-tube control in a PECVD tool
JP2009076772A (ja) 工程監視方法
Won et al. Identification of a multivariable delta-operator stochastic state-space model with distributed time delays: Application to a rapid thermal processor
Jen et al. Profile monitoring of reflow process using approximations of mixture second‐order polynomials
Juricek et al. Identification of multivariable, linear, dynamic models: Comparing regression and subspace techniques
Capizzi et al. Comparison of phase II control charts based on variable selection methods
JP2000131228A (ja) 紫外線と近赤外線を使用した分光測定方法
US11913662B2 (en) Temperature controller for a temperature control mechanism preventing condensation
CN114577367B (zh) 一种光纤温度传感器标定的方法、装置和计算机设备
KR102306664B1 (ko) 오존용 매스 플로우 컨트롤러의 출력 검사 방법
US20170168172A1 (en) Resolution control in x-ray fluorescence spectroscopy systems
US20220236117A1 (en) Thermal Diode Sensor Self-Correction

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060320

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080207

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080805

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081003

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081202

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081208

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4231757

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141212

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141212

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term