JP4230244B2 - 形状測定装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光点走査型の形状測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の形状測定装置においては、例えば走査光が被測定物の表面に当たって反射された反射光を電気信号に変換する光電変換素子の結像面上にスリット板を配置し、スリットを通過する像の検出タイミングにより各測定点の基準面からのずれを計算し、被測定物の表面形状を決定していた(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】
特許第3208273号公報(第4−5頁、第1図)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来技術には次のような問題点がある。従来技術では、被測定物の表面形状を求めることはできるが、スリットによってマスクされる部分においては像を検出できないため、端部の位置を正確に求めることができないという問題点があった。また、測定精度がスリットの加工ピッチに制約され、高精度に測定できないとの問題点があった。さらに、走査周期が変動すると測定誤差が大きくなるという問題があった。
【0005】
本発明は上述のような問題点を解決するためになされたもので、複数の光電変換素子に順次入光するビームスポット光の入光のタイミングにより、被測定物の表面形状を求めることができるとともに、端部の位置を確実に検出でき、かつ走査周期の変動を補正できる形状測定装置を得ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る形状測定装置は、光ビームを発生する光発生手段と、所定の基準面もしくは前記基準面上に置かれた被測定物の表面に対して前記光ビームを走査する光走査手段と、走査された前記光ビームの走査周期の基準信号を生成する走査周期基準信号発生手段と、走査された前記光ビームによる前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物の表面からの反射光を受光しビームスポット光を結像させる結像手段と、前記光ビームの走査に伴い移動する前記ビームスポット光を順次受光するように配置され、受光した前記ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を有する光電変換手段と、前記走査周期基準信号発生手段の出力信号及び前記光電変換手段の出力信号から、それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを検出するタイミング検出手段と、予め前記基準面上を走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記走査周期基準信号発生手段の出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータから基準走査周期を算出して記憶しておき、前記基準面上に前記被測定物が置かれた状態で光ビームを走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記走査周期基準信号発生手段の出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータから測定走査周期を算出し、予め記憶されている前記基準走査周期と前記測定走査周期との比較に基づいて走査周期補正データを算出する走査周期補正手段と、予め前記基準面上を走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを基準タイミングデータとして記憶しておき、前記基準面上に前記被測定物が置かれた状態で光ビームを走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを測定タイミングデータとし、予め記憶されている前記基準タイミングデータと前記測定タイミングデータとの比較及び前記走査周期補正手段を介して得られる走査周期補正データに基づいて前記被測定物の表面形状を決定する表面形状決定手段と、前記タイミング検出手段を介して得られる前記測定タイミングデータ及び前記走査周期補正手段を介して得られる走査周期補正データに基づいて、前記被測定物の端部位置を求める端部位置決定手段とを備え、前記走査周期基準信号発生手段は、前記光走査手段により走査された前記光ビームを受光し、走査開始の基準信号を生成する走査開始基準信号発生手段と、前記光走査手段により走査された前記光ビームを受光し、走査終了の基準信号を生成する走査終了基準信号発生手段とを備えているものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【0008】
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1に係る形状測定装置の構成を示す図である。光発生手段2から出力される光ビームは、光走査手段3により基準面H及び基準面H上に置かれた被測定物1に向けて走査される。なお、光走査手段3の具体例としては、ポリゴンスキャナ等を用いることができる。
【0009】
走査開始基準信号発生手段4aは、走査に際し最初の光ビームを受光し、走査開始位置の基準信号を生成する。一方、走査終了基準信号発生手段4bは、基準面H及び被測定物1に向けて走査された後の光ビームを受光し、走査終了位置の基準信号を生成する。
【0010】
結像手段5は、基準面H及び被測定物1から反射された反射光を受光し、光電変換手段6上にビームスポット光を結像させる。図2は、本発明の実施の形態1に係る光電変換手段6の内部構成を示す図である。本実施の形態1においては、光電変換手段6は、入射するビームスポット光の移動軌跡上に直線状に一列に配置された複数の光電変換素子A1,A2,A3,・・,Anを有しており、結像手段5によって結像されたビームスポット光をそれぞれの光電変換素子A1,A2,A3,・・,Anによってそれぞれの電気信号に変換する。光電変換手段6により光電変換されたそれぞれの電気信号は、詳細は図示していないが、電流/電圧変換器を介して増幅器により増幅されたそれぞれの増幅信号として、タイミング検出手段7に入力される。
【0011】
タイミング検出手段7は、走査開始基準信号発生手段4aからの走査開始位置の基準信号及び走査終了基準信号発生手段4bからの走査終了位置の基準信号とともに、光電変換手段6からのそれぞれの増幅信号を入力信号として受け取り、入力信号に対してそれぞれの立ち上がりタイミング及び立ち下がりタイミングを検出する。さらに、タイミング検出手段7は、走査開始位置の基準信号の立ち上がりタイミングを起点として入力信号のそれぞれの立ち上がり及び立ち下がりまでの時間をタイミングデータとして求め、端部位置決定手段8及び表面形状決定手段9に出力する。また、タイミング検出手段7は、走査開始位置の基準信号の立ち上がりタイミングを起点として走査終了位置の基準信号の立ち上がりタイミングまでの時間をタイミングデータとして求め、走査周期補正手段15に出力する。
【0012】
次に、端部位置決定手段8及び表面形状決定手段9で最終的に端部位置及び表面形状を求める測定原理について、図3を用いて説明する。図3は、本発明の実施の形態1に係るタイミング検出手段7に取り込まれる入力信号波形の説明図である。
【0013】
まずは基準面内の基準ポイントP1,P2,P3,・・・,Pnにおける反射光を受光して、高さの基準データを得る必要があり、予め基準面Hと同一面上に被測定物1と同等の反射光が得られる被測定物がある状態とし、基準データの収集を行う。走査に際し最初に発せられた光ビームは、走査開始基準信号発生手段4aで受光され、走査開始位置の基準信号s1が生成されタイミング検出手段7に取り込まれる(図3(a)参照)。さらに、光ビームは基準面Hと同一面上の被測定物におけるポイントP1,P2,P3,・・・,Pnを順次走査し、結像手段5を介して結像されたビームスポット光は、光電変換手段6内の光電変換素子A1,A2,A3,・・,Anを順次移動し、それぞれの信号波形が生成されタイミング検出手段7に取り込まれる。例えば光電変換素子A2〜A5を介して得られた信号波形は、それぞれ図3(b)〜(e)におけるa20,a30,a40,a50となり、基準面Hにおける基準信号波形となる。
【0014】
次に、図1に示したように被測定物1が基準面H上にある状態で、測定データの収集を行う。光ビームは基準面H上の点P1からPnに向かって順次走査し、結像手段5を介して結像されたビームスポット光は、光電変換手段6内の光電変換素子A1,A2,A3,・・,Anを順次移動し、それぞれの信号波形が生成されタイミング検出手段7に取り込まれる。図3(b)〜(e)におけるa21,a31,a41,a51は、被測定物1がある状態で、光電変換素子A2〜A5を介して得られた信号波形を示しており、被測定物1がある状態での測定信号波形となる。被測定物1による反射光のみが受光されることとなり、この時の光ビームは、図1に示すように被測定物1上の点P31,P41,P51等で反射される。
【0015】
さらに走査が進むと、走査終了基準信号発生手段4bは、走査に際し最後に発せられた光ビームを受光し、走査終了位置の基準信号s2を生成する(図3(f)参照)。
【0016】
タイミング検出手段7は、走査開始基準信号発生手段4aから入力された走査開始位置の基準信号s1の立ち上がりタイミングを起点として、各光電変換素子A1〜Anを介して得られた信号波形のそれぞれの立ち上がり及び立ち下がりまでの時間をタイミングデータとして検出する。タイミングデータは、被測定物1の端部位置を決定するために端部位置決定手段8に渡されるとともに、被測定物1の表面形状を決定するために表面形状決定手段9に渡される。以下の説明では、図3における基準信号波形a20,a30,a40,a50から検出されるタイミングデータを基準タイミングデータと呼び、測定信号波形a21,a31,a41,a51から検出されるタイミングデータを測定タイミングデータと呼ぶこととする。
【0017】
端部位置決定手段8は、タイミング検出手段7を介して得られた測定タイミングデータをもとに、最も早い立ち上がりまでの時間tE1及び最も遅い立ち下がりまでの時間tE2を検出し、被測定物1の端部位置E1,E2を算出する。
【0018】
一方、表面形状決定手段9は、まずタイミング検出手段7を介して得られた基準タイミングデータを被測定物1がない状態での基準の高さデータとして事前に記憶しておく。さらに、表面形状決定手段9は、被測定物1がある状態でタイミング検出手段7を介して得られた測定タイミングデータを取り込む。図1に示すように、被測定物1がある状態とない状態とでは、光ビームが光電変換手段6に届くまでの経路長が異なる。その結果、図3に示すように、基準タイミングデータと測定タイミングデータとの間には時間差が生じることとなる。
【0019】
そこで、表面形状決定手段9は、基準信号波形a30,a40,a50の立ち上がりまでの基準タイミングデータと、測定信号波形a31,a41,a51の立ち上がりまでの測定タイミングデータとの時間差t3,t4,t5を求める。表面形状決定手段9は、求まった時間差t3,t4,t5から、各光電変換素子A3,A4,A5に対応する被測定物1上のそれぞれの点P31,P41,P51の基準面Hからのずれを算出することにより、被測定物1の表面形状を決定できる。
【0020】
次に、走査周期の補正手段について説明する。一例として光走査手段3にポリゴンスキャナを用いた場合を考えると、ポリゴンスキャナ部の回転ムラや複数のポリゴンミラーの面精度などの影響により、走査周期は必ずしも一定とはならない。この結果、タイミング検出手段7で検出されるタイミングデータにもずれが発生し、端部位置及び表面形状の正確な測定を妨げる要因となる。そこで、走査周期補正手段15を追加し、予め基準となる走査周期を計測するとともに測定時毎の走査周期も計測し、基準となる走査周期に対する測定時毎の走査周期の比率を求め、比率をもとにタイミングデータに補正をかけることにより、端部位置及び表面形状の正確な測定を実現する方法について以下に説明する。
【0021】
タイミング検出手段7は、走査開始位置の基準信号s1の立ち上がりタイミングを起点として走査終了位置の基準信号s2の立ち上がりタイミングまでの時間を求め、周期のタイミングデータとして走査周期補正手段15に出力する。走査周期補正手段15は、予め被測定物1がない状態における基準データ収集時に、タイミング検出手段7から受け取った周期のタイミングデータを基準周期のタイミングデータとして基準周期Tを算出し、基準周期のデータとして記憶する。次に、走査周期補正手段15は、被測定物1がある状態における測定データ収集時に、タイミング検出手段7から受け取った周期のタイミングデータを測定周期のタイミングデータとして測定周期T1を算出する。
【0022】
端部位置決定手段8は、タイミング検出手段7を介して得られた測定タイミングデータをもとに、最も早い立ち上がりまでの時間tE1及び最も遅い立ち下がりまでの時間tE2を検出し、被測定物1の端部位置E1,E2を算出していた。しかし、最も早い立ち上がりまでの時間tE1及び最も遅い立ち下がりまでの時間tE2は走査周期に依存し、測定周期T1が長くなると大きな値として測定され、測定周期T1が短くなると小さな値として測定されるという比例関係にある。
【0023】
従って、tE1及びtE2を補正前の端部タイミングデータとし、tE1’及びtE2’を補正後の端部タイミングデータとすると、先に求めた基準周期T及び測定周期T1を用いて、tE1’及びtE2’は次式で求めることができる。
tE1’=tE1×T/T1 (1)
tE2’=tE2×T/T1 (2)
【0024】
さらに、被測定物1の表面形状を決定するために、表面形状決定手段9は、基準信号波形a30,a40,a50の立ち上がりによる基準タイミングデータと、測定信号波形a31,a41,a51の立ち上がりによる測定タイミングデータとの時間差t3,t4,t5を算出していた。しかし、tE1及びtE2と同様に、時間差t3,t4,t5も走査周期に依存し、測定周期T1が長くなると大きな値として測定され、測定周期T1が短くなると小さな値として測定されるという比例関係にある。
【0025】
従って、t3,t4,t5を補正前の時間差データとし、t3’,t4’,t5’を補正後の時間差データとすると、先に求めた基準周期T及び測定周期T1を用いて、t3’,t4’,t5’は次式で求めることができる。
t3’=t3×T/T1 (3)
t4’=t4×T/T1 (4)
t5’=t5×T/T1 (5)
【0026】
そこで、走査周期補正手段15は、周期の補正係数としてT/T1を算出し、補正係数を端部位置決定手段8及び表面形状決定手段9に対してそれぞれ渡す。端部位置決定手段8及び表面形状決定手段9は、渡された補正係数を用いてそれぞれ上述の補正計算を実施し、補正後の値をもとに端部位置及び表面形状の測定を行う。なお、測定周期は1回目はT1、2回目はT2というように、測定するたびに新たな測定周期が計算され、新たな測定周期をもとに新たな補正係数が算出され、測定周期ごとに正確な補正が行われる。
【0027】
実施の形態1によれば、光ビームの走査に伴い移動するビームスポット光を順次受光するように配置され、ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を用いることにより、基準面から被測定物の表面までの距離を決定することができるとともに、被測定物の端部位置を確実に求めることができる。さらに、走査周期補正手段による走査周期の補正を行うことにより、走査周期の変動に影響されない安定した形状測定が可能となる。
【0028】
実施の形態2.
図4は、本発明の実施の形態2に係る形状測定装置の構成を示す図である。走査周期基準信号発生手段の構成が実施の形態1とは異なり、その他の構成については図1に示した実施の形態1と同様であり、相当するものに同じ符号を付して説明を省略する。
【0029】
走査周期の基準信号を得るために、本実施の形態2では、光走査手段3と基準面Hもしくは基準面H上に置かれた被測定物1との間に光半透過手段21を設けている。光半透過手段21は、基準面Hもしくは基準面H上に置かれた被測定物1の表面に光走査手段21により走査された光ビームを透過するとともに、走査周期の基準信号を生成するために光ビームを反射するものである。透過した光ビームは、実施の形態1で説明したように、被測定物1の形状測定に使われる。一方、反射した光ビームは、複数の基準信号発生手段4c〜4eによって受光され、複数の基準信号発生手段4c〜4eを介して基準信号が生成される。さらに、基準信号はタイミング検出手段7に渡され、実施の形態1で説明したように、タイミングデータの算出及び走査周期の補正に活用される。
【0030】
図5は、本発明の実施の形態2に係るタイミング検出手段7に取り込まれる基準信号発生手段4c〜4eの入力信号波形の説明図である。光半透過手段21を用いることにより、走査開始位置の基準信号s1を取り込むための基準信号発生手段4cと走査終了位置の基準信号s2を取り込むための基準信号発生手段4eとの間に、新たに走査中間位置の基準信号s3を取り込むための基準信号発生手段4dを設置することができる。図5(a)〜(c)はそれぞれ基準信号発生手段4c〜4eの入力信号であり、基準信号がs1、s2、s3の3個になることにより、基準信号がs1、s2の2個であった実施の形態1と比較して、より細かい走査周期の補正が可能となる。
【0031】
すなわち、走査周期補正手段15は、3個の基準信号s1、s2、s3をもとにして、1走査周期内で2個の補正係数を求めることができる。実施の形態1と同様の方法で、図3の基準信号s1から基準信号s3の間に関しては、基準周期Tcd及び測定周期Tcd1を求め、周期の補正係数としてTcd/Tcd1を算出し、補正係数を端部位置決定手段8及び表面形状決定手段9に対してそれぞれ渡す。また、図3の基準信号s3から基準信号s2の間に関しては、基準周期Tde及び測定周期Tde1を求め、周期の補正係数としてTde/Tde1を算出し、補正係数を端部位置決定手段8及び表面形状決定手段9に対してそれぞれ渡す。タイミング信号の発生時間に応じて補正係数Tcd/Tcd1及びTde/Tde1を使い分けて補正をかけることにより、より細かい走査周期の補正が可能となる。また、基準信号発生手段をさらに増やすことにより、さらなる細かい走査周期の補正が可能となる。
【0032】
実施の形態2によれば、光ビームの走査に伴い移動するビームスポット光を順次受光するように配置され、ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を用いることにより、基準面から被測定物の表面までの距離を決定することができるとともに、被測定物の端部位置を確実に求めることができる。さらに、3個以上の基準信号を生成できる走査周期基準信号発生手段を用いて、走査周期補正手段による走査周期の補正を行うことにより、走査周期の変動のみならず走査周期内の走査速度の変動にも影響されない安定した形状測定が可能となる。
【0033】
実施の形態3.
図6は、本発明の実施の形態3に係る形状測定装置の構成を示す図である。走査周期基準信号発生手段の構成が実施の形態1とは異なり、その他の構成については図1に示した実施の形態1と同様であり、相当するものに同じ符号を付して説明を省略する。
【0034】
走査周期の基準信号を得るために、本実施の形態3では、実施の形態2と同様の光半透過手段21を設けている。さらに、基準信号集光手段22は、光半透過手段21により反射された光ビームを集光し、集光された光ビームは基準信号光電変換手段23上で受光され、基準信号が生成される。基準信号は、タイミング検出手段7に渡され、実施の形態1で説明したように、タイミングデータの算出及び走査周期の補正に活用される。
【0035】
図7は、本発明の実施の形態3に係る基準信号光電変換手段23の内部構成を示す図である。基準信号光電変換手段23は、入射する光ビームの移動軌跡上に直線状に一列に配置された複数の光電変換素子X1,X2,X3,・・,Xmを有しており、基準信号集光手段22によって集光された光ビームをそれぞれの光電変換素子X1,X2,X3,・・,Xmによってそれぞれの電気信号に変換する。基準信号光電変換手段23により光電変換されたそれぞれの電気信号は、詳細は図示していないが、電流/電圧変換器を介して増幅器により増幅されたそれぞれの増幅信号として、タイミング検出手段7に入力される。
【0036】
図8は、本発明の実施の形態3に係るタイミング検出手段7に取り込まれる基準信号波形及び基準タイミングデータの説明図である。また、図9は、本発明の本実施の形態3に係るタイミング検出手段7に取り込まれる測定信号波形及び測定タイミングデータの説明図である。図7に示したように、基準信号光電変換手段23は一列に配置されたm個の光電変換素子から構成されており、基準信号としてもm個の信号が生成できる。従って、m個の基準信号をもとに(m−1)個の補正係数を求めることにより、補正係数が1個であった実施の形態1と比較して、より細かい走査周期の補正が可能となる。
【0037】
実施の形態3によれば、光ビームの走査に伴い移動するビームスポット光を順次受光するように配置され、ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を用いることにより、基準面から被測定物の表面までの距離を決定することができるとともに、被測定物の端部位置を確実に求めることができる。さらに、複数個の基準信号を生成できる基準信号光電変換手段を用いて、走査周期補正手段による走査周期の補正を行うことにより、走査周期の変動のみならず走査周期内の走査速度の変動にも影響されない安定した形状測定が可能となる。
【0038】
実施の形態4.
図10は、本発明の実施の形態4に係る形状測定装置の構成を示す図である。走査周期基準信号発生手段の構成が実施の形態1とは異なり、その他の構成については図1に示した実施の形態1と同様であり、相当するものに同じ符号を付して説明を省略する。
【0039】
走査周期の基準信号を得るために、本実施の形態4では、光ビームの発生源として光発生手段2とは別に新たに基準信号用光発生手段2aを設けている。基準信号用光発生手段2aから発生する光ビームは、光発生手段2から発生する光ビームと同様に、光走査手段3によって走査され、複数の基準信号発生手段4u〜4vによって受光される。さらに、複数の基準信号発生手段4u〜4vを介して基準信号が生成され、基準信号はタイミング検出手段7に渡され、実施の形態1で説明したように、タイミングデータの算出及び走査周期の補正に活用される。
【0040】
図11は、本発明の実施の形態4に係るタイミング検出手段7に取り込まれる基準信号発生手段4u〜4vの入力信号波形の説明図である。基準信号用光発生手段2aを新たに設けることにより、光発生手段2からの光ビームが走査される範囲以外の部分に基準信号発生手段4u〜4vを設置することが可能となる。図10では4u及び4vの2個の基準信号発生手段が図示されているが、形状測定用の光ビームとの干渉がないために、基準信号発生手段4uと基準信号発生手段4vとの間に容易に新たな基準信号発生手段を追加することができ、基準信号がs1、s2の2個であった実施の形態1と比較して、より細かい走査周期の補正が可能となる。
【0041】
実施の形態4によれば、光ビームの走査に伴い移動するビームスポット光を順次受光するように配置され、ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を用いることにより、基準面から被測定物の表面までの距離を決定することができるとともに、被測定物の端部位置を確実に求めることができる。さらに、新たに基準信号用光発生手段を付加することにより3個以上の基準信号発生手段を設置可能とし、基準信号発生手段を用いて、走査周期補正手段による走査周期の補正を行うことにより、走査周期の変動のみならず走査周期内の走査速度の変動にも影響されない安定した形状測定が可能となる。
【0042】
実施の形態5.
図12は、本発明の実施の形態5に係る形状測定装置の構成を示す図である。走査周期基準信号発生手段の構成が実施の形態1とは異なり、その他の構成については図1に示した実施の形態1と同様であり、相当するものに同じ符号を付して説明を省略する。
【0043】
走査周期の基準信号を得るために、本実施の形態5では、光ビームの発生源として光発生手段2とは別に新たに基準信号用光発生手段2aを設けている。
基準用光ビームを発生させる基準信号用光発生手段2aの光ビームは、光走査手段3によって走査され、走査周期基準面Bに照射される。走査周期基準面Bは、例えばスリット状の切りかきが設けられており、切りかき部分は光ビームが照射されても、反射しないようになっている。基準信号集光手段22は、走査周期基準面Bにより反射された光ビームを集光し、集光された光ビームは基準信号光電変換手段23上で受光され、基準信号が生成される。基準信号は、タイミング検出手段7に渡され、実施の形態1で説明したように、タイミングデータの算出及び走査周期の補正に活用される。
【0044】
図13は、本発明の実施の形態5に係るタイミング検出手段7に取り込まれる基準信号波形及び基準タイミングデータの説明図である。また、図14は、本発明の実施の形態5に係るタイミング検出手段7に取り込まれる測定信号波形及び測定タイミングデータの説明図である。基準信号光電変換手段23を構成する光電変換素子数に対応した数の基準信号が得られ、基準信号が2個であった実施の形態1と比較して、より細かい走査周期の補正が可能となる。
【0045】
実施の形態5によれば、光ビームの走査に伴い移動するビームスポット光を順次受光するように配置され、ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を用いることにより、基準面から被測定物の表面までの距離を決定することができるとともに、被測定物の端部位置を確実に求めることができる。さらに、複数個の基準信号を発生させる基準信号光電変換手段を用いて、走査周期補正手段による走査周期の補正を行うことにより、走査周期の変動のみならず走査周期内の走査速度の変動にも影響されない安定した形状測定が可能となる。
【0046】
実施の形態6.
図15は、本発明の実施の形態6に係る形状測定装置の構成を示す図である。タイミング検出手段7と表面形状決定手段9との間に新たにタイミング補正手段16が追加されているところが実施の形態1とは異なり、その他の構成については図1に示した実施の形態1と同様であり、相当するものに同じ符号を付して説明を省略する。
【0047】
実施の形態1〜5においては、タイミングデータの算出を信号の立ち上がり部で行った場合について説明してきたが、本実施の形態6は、立ち上がりエッジと立ち下がりエッジとの平均化を行うことにより、タイミング検出の安定化を図るものである。タイミング補正手段16は、タイミング検出手段7からタイミングデータを受け取った後にデータの平均化を行い、その結果を表面形状決定手段9に渡すこととなり、以下に詳細を説明する。
【0048】
図16、17は、本実施の形態6に係るタイミング補正手段16に取り込まれる測定タイミングデータの入力信号波形の説明図の一例である。図16において、タイミング補正手段16は、同一の光電変換素子で得られた信号の立ち上がりエッジと立下りエッジの平均値を求め、平均値データを補正された新たな測定タイミングデータとして採用し、表面形状決定手段9に渡す。立ち上がりエッジ部の時間t31U、t41U及び立ち下がりエッジ部の時間t31D、t41Dと、補正された新たな測定タイミングデータt31及びt41の関係は下式となる。
t31=(t31D+t31U)/2 (6)
t41=(t31D+t31U)/2 (7)
【0049】
また、図17において、タイミング補正手段16は、隣り合った光電変換素子で得られた信号から平均値を求め、平均値データを補正された新たな測定タイミングデータとして採用し、表面形状決定手段9に渡す。すなわち、n番目の光電変換素子の立ち下がりエッジとn+1番目の光電変換素子の立ち上がりエッジとの平均値を取ることにより、補正された新たな測定タイミングデータを算出している。立ち下がりエッジ部の時間t31D、t41D及び立ち上がりエッジ部の時間t41U、t51Uと、補正された新たな測定タイミングデータt31及びt41の関係は下式となる。
t31=(t31D+t41U)/2 (8)
t41=(t41D+t51U)/2 (9)
【0050】
図16,17は、測定タイミングデータに対して図示したものであるが、基準タイミングデータに関しても同一の演算で平均値を求めることにより、補正された新たな基準タイミングデータを得ることとなる。表面形状決定手段9は、平均化された測定タイミングデータ及び平均化された基準タイミングデータをもとに、実施の形態1で述べた方法により被測定物1の形状測定を行う。
【0051】
実施の形態6によれば、光ビームの走査に伴い移動するビームスポット光を順次受光するように配置され、ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を用いることにより、基準面から被測定物の表面までの距離を決定することができるとともに、被測定物の端部位置を確実に求めることができる。さらに、走査周期補正手段による走査周期の補正を行うことにより、走査周期の変動に影響されない安定した形状測定が可能となる。また、タイミング補正手段により、信号波形の立ち上がりエッジと立ち下がりエッジとの平均化を行うことにより、信号波形の形状の影響を緩和した安定した形状測定が可能となる。
【0052】
実施の形態7.
図18は、本発明の実施の形態7に係る形状測定装置の構成を示す図である。基準信号発生手段4aから得られる走査開始基準信号をもとに、光発生手段2から発生する光ビームの光強度を走査周期内で変調する光強度変調手段17を新たに追加したところが実施の形態1とは異なり、その他の構成については図1に示した実施の形態1と同様であり、相当するものに同じ符号を付して説明を省略する。
【0053】
図19は、本発明の実施の形態7に係る光強度変調手段17の作用を示す説明図である。図19において、(a)は基準信号発生手段4aによって生成される走査開始基準信号のタイミングを示している。(b)は光強度変調をしない場合に光強度変調手段17から出力される光強度一定の信号を示している。(c)は光強度変調を行わない際に、走査周期内で光電変換手段6の各光電変換素子で受光される受光信号レベルを示している。(d)は光強度変調を行う場合に光強度変調手段17から出力される光強度変調信号を示しており、(c)の受光信号レベルの逆数に相当する。(e)は(d)に示す光強度変調信号に従って、光発生手段2から発生する光ビームの光強度を走査周期内で変調することにより、光電変換手段6の各光電変換素子で受光される受光信号レベルが均一になる状態を示している。
【0054】
実施の形態7によれば、光ビームの走査に伴い移動するビームスポット光を順次受光するように配置され、ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を用いることにより、基準面から被測定物の表面までの距離を決定することができるとともに、被測定物の端部位置を確実に求めることができる。さらに、走査周期補正手段による走査周期の補正を行うことにより、走査周期の変動に影響されない安定した形状測定が可能となる。また、光ビームの光強度を変調できる光強度変調手段を設けることにより、複数の光電変換素子に均一な受光信号レベルの光を入射させることが可能となり、さらなる安定した形状測定が可能となる。
【0055】
実施の形態8.
図20は、本発明の実施の形態8に係る形状測定装置の構成を示す図である。光電変換手段6とタイミング検出手段7との間に配置された光電変換素子個別増幅手段18を新たに追加したところが実施の形態1とは異なり、その他の構成については図1に示した実施の形態1と同様であり、相当するものに同じ符号を付して説明を省略する。
【0056】
図20において、光電変換素子個別増幅手段18は、光電変換手段6により変換された電気信号を取り込み、基準信号発生手段4aから得られる走査開始基準信号をもとに、光電変換手段6のそれぞれの光電変換素子に対応して増幅率を変更した出力信号を生成し、変更された出力信号をタイミング検出手段7に出力するものである。
【0057】
図21は、本発明の実施の形態8に係る光電変換素子個別増幅手段18の作用を示す説明図である。受光信号個別増幅手段18は、光電変換手段6内に複数個配列された光電変換素子に対応して、それぞれの増幅率を個別に設定できる構成を有している。図21において、(a)は基準信号発生手段4aによって生成される走査開始基準信号のタイミングを示している。(b)は走査周期内で光電変換手段6の各光電変換素子で受光される受光信号レベルをもとに、その逆数に相当する信号レベルを求め、信号レベルに応じて受光信号個別増幅手段18内のそれぞれの増幅器の増幅率を個別設定する状態を示している。その結果、タイミング検出手段7は、レベルが均一化された信号を受けとることができる。
【0058】
実施の形態8によれば、光ビームの走査に伴い移動するビームスポット光を順次受光するように配置され、ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を用いることにより、基準面から被測定物の表面までの距離を決定することができるとともに、被測定物の端部位置を確実に求めることができる。さらに、走査周期補正手段による走査周期の補正を行うことにより、走査周期の変動に影響されない安定した形状測定が可能となる。また、光電変換手段の信号を個別に増幅できる受光信号個別増幅手段を設けることにより、タイミング検出手段に対して均一レベルの信号を出力することが可能となり、さらなる安定した形状測定が可能となる。
【0059】
実施の形態9.
図22は、本発明の実施の形態9に係る形状測定装置の構成を示す図である。3次元形状測定を可能とするため、光ビームを平行移動できる2次元光走査手段24及び2次元光走査手段24の回転角度を検出する走査回転角度検出手段25とを新たに追加したところが実施の形態1とは異なり、その他の構成については図1に示した実施の形態1と同様であり、相当するものに同じ符号を付して説明を省略する。
【0060】
図22において、2次元光走査手段24は、光走査手段3と基準面Hもしくは基準面H上に置かれた被測定物1との間にあるとともに、基準面Hもしくは基準面H上に置かれた被測定物1と結像手段5との間にもまたがって配置されている。2次元光走査手段24は、例えば回転ミラーからなり、回転ミラーが回ることにより、基準面Hもしくは基準面H上に置かれた被測定物1の表面を走査する光ビームの方向を、走査方向と垂直方向に平行移動させることが可能となる。さらに、回転ミラーは、基準面Hもしくは基準面H上に置かれた被測定物1と結像手段5との間にもまたがって配置されているため、平行移動した光ビームの反射光を、結像手段5に結像する役目も同時に果たすこととなる。
【0061】
光電変換手段6は図2と同じ2次元構成のままで、回転ミラーの角度に伴って変化する光ビームの走査ラインの反射光を逐次受光することとなる。そこで、走査回転角度検出手段25は、回転ミラーの回転角度を検出し、角度データをタイミング検出手段7に渡し、タイミング検出手段7は算出したタイミングデータに角度データを付加して、端部位置決定手段8及び表面形状決定手段9に渡すことにより、3次元の形状測定が可能となる。
【0062】
図23は、本発明の実施の形態9に係る形状測定装置の別の構成を示す図である。2次元光走査手段24は、光走査手段3と基準面Hもしくは基準面H上に置かれた被測定物1との間だけにあるところが図22と異なる。2次元光走査手段24は、例えば回転ミラーからなり、回転ミラーが回ることにより、基準面Hもしくは基準面H上に置かれた被測定物1の表面を走査する光ビームの方向を、走査方向と垂直方向に平行移動させることが可能となる。平行移動した光ビームの反射光を、結像手段5で結像し、光電変換手段6で受光するには、光電変換手段6の各光電変換素子の構成は3次元構成になる必要がある。
【0063】
図24は、本発明の実施の形態9に係る光電変換手段6の各光電変換素子の構成を示す図である。図24のような構成の光電変換手段6を用いることにより、3次元の形状測定が可能となる。
【0064】
実施の形態9によれば、光ビームの走査に伴い移動するビームスポット光を順次受光するように配置され、ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を用いることにより、基準面から被測定物の表面までの距離を決定することができるとともに、被測定物の端部位置を確実に求めることができる。さらに、走査周期補正手段による走査周期の補正を行うことにより、走査周期の変動に影響されない安定した形状測定が可能となる。また、2次元光走査手段を用いることにより、基準面上に置かれた被測定物の3次元形状を測定できる。
【0065】
実施の形態10.
図25は、本発明の実施の形態10に係る形状測定装置の構成を示す図である。3次元形状測定を可能とするため、光発生手段2と光走査手段3との間に、スリット光整形手段26を新たに追加したところが実施の形態1とは異なり、その他の構成については図1に示した実施の形態1と同様であり、相当するものに同じ符号を付して説明を省略する。
【0066】
図25において、スリット光整形手段26は、光発生手段2と光走査手段3との間に配置され、光発生手段からの光ビームを、光走査手段3の走査方向と垂直方向にスリット状に整形し、スリット上に整形された光ビームを光走査手段3に与える。スリット状に整形された光ビームは、光走査手段3により基準面Hまたは被測定物1上を走査される。さらに、基準面Hまたは被測定物1からの反射光は、結像手段5を介して結像され、光電変換手段6で受光される。光電変換手段6の各光電変換素子の構成は、実施の形態9の説明に用いた図24と同様に、3次元構成になる必要があり、図24のような構成の光電変換手段6を用いることにより、3次元の形状測定が可能となる。
【0067】
実施の形態10によれば、光ビームの走査に伴い移動するビームスポット光を順次受光するように配置され、ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を用いることにより、基準面から被測定物の表面までの距離を決定することができるとともに、被測定物の端部位置を確実に求めることができる。さらに、走査周期補正手段による走査周期の補正を行うことにより、走査周期の変動に影響されない安定した形状測定が可能となる。また、スリット光整形手段を用いることにより、基準面上に置かれた被測定物の3次元形状を測定できる。
【0068】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、光ビームの走査に伴い移動するビームスポット光を順次受光するように配置され、ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を用いることにより、基準面から被測定物の表面までの距離を決定することができるとともに、被測定物の端部位置を確実に求めることができる。さらに、走査周期補正手段による走査周期の補正を行うことにより、走査周期の変動に影響されない安定した形状測定が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1に係る形状測定装置の構成を示す図である。
【図2】 本発明の実施の形態1に係る光電変換手段の内部構成を示す図である。
【図3】 本発明の実施の形態1に係るタイミング検出手段に取り込まれる入力信号波形の説明図である。
【図4】 本発明の実施の形態2に係る形状測定装置の構成を示す図である。
【図5】 本発明の実施の形態2に係るタイミング検出手段に取り込まれる基準信号発生手段の入力信号波形の説明図である。
【図6】 本発明の実施の形態3に係る形状測定装置の構成を示す図である。
【図7】 本発明の実施の形態3に係る基準信号光電変換手段の内部構成を示す図である。
【図8】 本発明の実施の形態3に係るタイミング検出手段に取り込まれる基準信号波形及び基準タイミングデータの説明図である。
【図9】 本発明の実施の形態3に係るタイミング検出手段に取り込まれる測定信号波形及び測定タイミングデータの説明図である。
【図10】 本発明の実施の形態4に係る形状測定装置の構成を示す図である。
【図11】 本発明の実施の形態4に係るタイミング検出手段に取り込まれる基準信号発生手段の入力信号波形の説明図である。
【図12】 本発明の実施の形態5に係る形状測定装置の構成を示す図である。
【図13】 本発明の実施の形態5に係るタイミング検出手段に取り込まれる基準信号波形及び基準タイミングデータの説明図である。
【図14】 本発明の実施の形態5に係るタイミング検出手段に取り込まれる測定信号波形及び測定タイミングデータの説明図である。
【図15】 本発明の実施の形態6に係る形状測定装置の構成を示す図である。
【図16】 本実施の形態6に係るタイミング補正手段に取り込まれる測定タイミングデータの入力信号波形の説明図の一例である。
【図17】 本実施の形態6に係るタイミング補正手段に取り込まれる測定タイミングデータの入力信号波形の説明図の一例である。
【図18】 本発明の実施の形態7に係る形状測定装置の構成を示す図である。
【図19】 本発明の実施の形態7に係る光強度変調手段の作用を示す説明図である。
【図20】 本発明の実施の形態8に係る形状測定装置の構成を示す図である。
【図21】 本発明の実施の形態8に係る光電変換素子個別増幅手段の作用を示す説明図である。
【図22】 本発明の実施の形態9に係る形状測定装置の構成を示す図である。
【図23】 本発明の実施の形態9に係る形状測定装置の別の構成を示す図である。
【図24】 本発明の実施の形態9に係る光電変換手段の各光電変換素子の構成を示す図である。
【図25】 本発明の実施の形態10に係る形状測定装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
1 被測定物、2 光発生手段、3 光走査手段、4 基準信号発生手段、4a 走査開始基準信号発生手段、4b 走査終了基準発生手段、4c〜4e 基準信号発生手段、4u〜4v 基準信号発生手段、5 結像手段、6 光電変換手段、7 タイミング検出手段、8 端部位置決定手段、9 表面形状決定手段、15 走査周期補正手段、16 タイミング補正手段、17 光強度変調手段、18 光電変換素子個別増幅手段、21 光半透過手段、22 基準信号集光手段、23 基準信号光電変換手段、24 2次元光走査手段、25 走査回転角度検出手段、26 スリット光整形手段、B 走査周期基準面、H 基準面。
Claims (11)
- 光ビームを発生する光発生手段と、
所定の基準面もしくは前記基準面上に置かれた被測定物の表面に対して前記光ビームを走査する光走査手段と、
走査された前記光ビームの走査周期の基準信号を生成する走査周期基準信号発生手段と、
走査された前記光ビームによる前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物の表面からの反射光を受光しビームスポット光を結像させる結像手段と、
前記光ビームの走査に伴い移動する前記ビームスポット光を順次受光するように配置され、受光した前記ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を有する光電変換手段と、
前記走査周期基準信号発生手段の出力信号及び前記光電変換手段の出力信号から、それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを検出するタイミング検出手段と、
予め前記基準面上を走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記走査周期基準信号発生手段の出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータから基準走査周期を算出して記憶しておき、前記基準面上に前記被測定物が置かれた状態で光ビームを走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記走査周期基準信号発生手段の出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータから測定走査周期を算出し、予め記憶されている前記基準走査周期と前記測定走査周期との比較に基づいて走査周期補正データを算出する走査周期補正手段と、
予め前記基準面上を走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを基準タイミングデータとして記憶しておき、前記基準面上に前記被測定物が置かれた状態で光ビームを走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを測定タイミングデータとし、予め記憶されている前記基準タイミングデータと前記測定タイミングデータとの比較及び前記走査周期補正手段を介して得られる走査周期補正データに基づいて前記被測定物の表面形状を決定する表面形状決定手段と、
前記タイミング検出手段を介して得られる前記測定タイミングデータ及び前記走査周期補正手段を介して得られる走査周期補正データに基づいて、前記被測定物の端部位置を求める端部位置決定手段と
を備え、
前記走査周期基準信号発生手段は、
前記光走査手段により走査された前記光ビームを受光し、走査開始の基準信号を生成する走査開始基準信号発生手段と、
前記光走査手段により走査された前記光ビームを受光し、走査終了の基準信号を生成する走査終了基準信号発生手段と
を備えていることを特徴とする形状測定装置。 - 光ビームを発生する光発生手段と、
所定の基準面もしくは前記基準面上に置かれた被測定物の表面に対して前記光ビームを走査する光走査手段と、
走査された前記光ビームの走査周期の基準信号を生成する走査周期基準信号発生手段と、
走査された前記光ビームによる前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物の表面からの反射光を受光しビームスポット光を結像させる結像手段と、
前記光ビームの走査に伴い移動する前記ビームスポット光を順次受光するように配置され、受光した前記ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を有する光電変換手段と、
前記走査周期基準信号発生手段の出力信号及び前記光電変換手段の出力信号から、それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを検出するタイミング検出手段と、
予め前記基準面上を走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記走査周期基準信号発生手段の出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータから基準走査周期を算出して記憶しておき、前記基準面上に前記被測定物が置かれた状態で光ビームを走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記走査周期基準信号発生手段の出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータから測定走査周期を算出し、予め記憶されている前記基準走査周期と前記測定走査周期との比較に基づいて走査周期補正データを算出する走査周期補正手段と、
予め前記基準面上を走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを基準タイミングデータとして記憶しておき、前記基準面上に前記被測定物が置かれた状態で光ビームを走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを測定タイミングデータとし、予め記憶されている前記基準タイミングデータと前記測定タイミングデータとの比較及び前記走査周期補正手段を介して得られる走査周期補正データに基づいて前記被測定物の表面形状を決定する表面形状決定手段と、
前記タイミング検出手段を介して得られる前記測定タイミングデータ及び前記走査周期補正手段を介して得られる走査周期補正データに基づいて、前記被測定物の端部位置を求める端部位置決定手段と
を備え、
前記走査周期基準信号発生手段は、
前記光走査手段と前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物との間に配置され、前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物の表面に前記光走査手段により走査される前記光ビームを透過するとともに、走査周期の基準信号を生成するために前記光ビームを反射する光半透過手段と、
前記光半透過手段により反射された光ビームを受光し、走査周期の基準信号を生成する複数の基準信号発生手段と
を備えていることを特徴とする形状測定装置。 - 光ビームを発生する光発生手段と、
所定の基準面もしくは前記基準面上に置かれた被測定物の表面に対して前記光ビームを走査する光走査手段と、
走査された前記光ビームの走査周期の基準信号を生成する走査周期基準信号発生手段と、
走査された前記光ビームによる前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物の表面からの反射光を受光しビームスポット光を結像させる結像手段と、
前記光ビームの走査に伴い移動する前記ビームスポット光を順次受光するように配置され、受光した前記ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を有する光電変換手段と、
前記走査周期基準信号発生手段の出力信号及び前記光電変換手段の出力信号から、それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを検出するタイミング検出手段と、
予め前記基準面上を走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記走査周期基準信号発生手段の出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータから基準走査周期を算出して記憶しておき、前記基準面上に前記被測定物が置かれた状態で光ビームを走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記走査周期基準信号発生手段の出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータから測定走査周期を算出し、予め記憶されている前記基準走査周期と前記測定走査周期との比較に基づいて走査周期補正データを算出する走査周期補正手段と、
予め前記基準面上を走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを基準タイミングデータとして記憶しておき、前記基準面上に前記被測定物が置かれた状態で光ビームを走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを測定タイミングデータとし、予め記憶されている前記基準タイミングデータと前記測定タイミングデータとの比較及び前記走査周期補正手段を介して得られる走査周期補正データに基づいて前記被測定物の表面形状を決定する表面形状決定手段と、
前記タイミング検出手段を介して得られる前記測定タイミングデータ及び前記走査周期補正手段を介して得られる走査周期補正データに基づいて、前記被測定物の端部位置を求める端部位置決定手段と
を備え、
前記走査周期基準信号発生手段は、
前記光走査手段と前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物との間に配置され、前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物の表面に前記光走査手段により走査される前記光ビームを透過するとともに、走査周期の基準信号を生成するために前記光ビームを反射する光半透過手段と、
前記光半透過手段により反射された前記光ビームを集光する基準信号集光手段と、
前記光半透過手段により反射された前記光ビームの走査に伴い移動するビームスポット光を順次受光するように配置され、受光した前記ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を有する基準信号光電変換手段と
を備えていることを特徴とする形状測定装置。 - 光ビームを発生する光発生手段と、
所定の基準面もしくは前記基準面上に置かれた被測定物の表面に対して前記光ビームを走査する光走査手段と、
走査された前記光ビームの走査周期の基準信号を生成する走査周期基準信号発生手段と、
走査された前記光ビームによる前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物の表面からの反射光を受光しビームスポット光を結像させる結像手段と、
前記光ビームの走査に伴い移動する前記ビームスポット光を順次受光するように配置され、受光した前記ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を有する光電変換手段と、
前記走査周期基準信号発生手段の出力信号及び前記光電変換手段の出力信号から、それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを検出するタイミング検出手段と、
予め前記基準面上を走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記走査周期基準信号発生手段の出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータから基準走査周期を算出して記憶しておき、前記基準面上に前記被測定物が置かれた状態で光ビームを走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記走査周期基準信号発生手段の出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータから測定走査周期を算出し、予め記憶されている前記基準走査周期と前記測定走査周期との比較に基づいて走査周期補正データを算出する走査周期補正手段と、
予め前記基準面上を走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを基準タイミングデータとして記憶しておき、前記基準面上に前記被測定物が置かれた状態で光ビームを走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを測定タイミングデータとし、予め記憶されている前記基準タイミングデータと前記測定タイミングデータとの比較及び前記走査周期補正手段を介して得られる走査周期補正データに基づいて前記被測定物の表面形状を決定する表面形状決定手段と、
前記タイミング検出手段を介して得られる前記測定タイミングデータ及び前記走査周期補正手段を介して得られる走査周期補正データに基づいて、前記被測定物の端部位置を求める端部位置決定手段と
を備え、
前記走査周期基準信号発生手段は、
基準信号用光ビームを発生する基準信号用光発生手段と、
前記光走査手段により走査された前記基準信号用光ビームを受光し、走査周期の基準信号を生成する複数の基準信号発生手段と
を備えていることを特徴とする形状測定装置。 - 光ビームを発生する光発生手段と、
所定の基準面もしくは前記基準面上に置かれた被測定物の表面に対して前記光ビームを走査する光走査手段と、
走査された前記光ビームの走査周期の基準信号を生成する走査周期基準信号発生手段と、
走査された前記光ビームによる前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物の表面からの反射光を受光しビームスポット光を結像させる結像手段と、
前記光ビームの走査に伴い移動する前記ビームスポット光を順次受光するように配置され、受光した前記ビームスポット光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を有する光電変換手段と、
前記走査周期基準信号発生手段の出力信号及び前記光電変換手段の出力信号から、それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを検出するタイミング検出手段と、
予め前記基準面上を走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記走査周期基準信号発生手段の出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータから基準走査周期を算出して記憶しておき、前記基準面上に前記被測定物が置かれた状態で光ビームを走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記走査周期基準信号発生手段の出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータから測定走査周期を算出し、予め記憶されている前記基準走査周期と前記測定走査周期との比較に基づいて走査周期補正データを算出する走査周期補正手段と、
予め前記基準面上を走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを基準タイミングデータとして記憶しておき、前記基準面上に前記被測定物が置かれた状態で光ビームを走査することにより、前記タイミング検出手段を介して得られる前記それぞれの出力信号の立ち上がり又は立ち下がりのタイミングデータを測定タイミングデータとし、予め記憶されている前記基準タイミングデータと前記測定タイミングデータとの比較及び前記走査周期補正手段を介して得られる走査周期補正データに基づいて前記被測定物の表面形状を決定する表面形状決定手段と、
前記タイミング検出手段を介して得られる前記測定タイミングデータ及び前記走査周期補正手段を介して得られる走査周期補正データに基づいて、前記被測定物の端部位置を求める端部位置決定手段と
を備え、
前記走査周期基準信号発生手段は、
基準信号用光ビームを発生する基準信号用光発生手段と、
前記光走査手段によって走査される前記基準信号用光ビームの走査経路に配置され、前記基準信号用光ビームの走査方向と垂直方向に複数のスリットを有する走査周期基準面と、
前記走査された前記基準信号用光ビームによる前記走査周期基準面の表面からの反射光を集光する基準信号集光手段と、
前記基準信号集光手段により集光された光を受光し電気信号に変換する基準信号光電変換手段と
を備えていることを特徴とする形状測定装置。 - 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の形状測定装置において、
前記タイミング検出手段と前記表面形状決定手段との間に配置され、前記タイミング検出手段を介して得られる前記基準タイミングデータ及び前記測定タイミングデータに対し、立ち上がり及び立ち下がりのデータを用いて補正をかけた新たなタイミングデータを算出し、前記補正をかけた新たなタイミングデータを前記表面形状決定手段に出力するタイミング補正手段をさらに備えたことを特徴とする形状測定装置。 - 請求項1ないし6のいずれか1項に記載の形状測定装置において、
前記走査周期基準信号発生手段から得られる走査基準信号をもとに、前記光発生手段から発生する光ビームの光強度を走査周期内で変調する光強度変調手段をさらに備えたことを特徴とする形状測定装置。 - 請求項1ないし6のいずれか1項に記載の形状測定装置において、
前記光電変換手段と前記タイミング検出手段との間に配置され、前記光電変換手段により変換された電気信号を取り込み、前記走査周期基準信号発生手段を介して得られる基準信号をもとに、前記光電変換手段のそれぞれの光電変換素子に対応して増幅率を変更した出力信号を生成し、前記変更された出力信号を前記タイミング検出手段に出力する光電変換素子個別増幅手段をさらに備えたことを特徴とする形状測定装置。 - 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の形状測定装置において、
前記光走査手段と前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物との間に配置されるとともに、前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物と前記結像手段との間にも配置され、回転することにより、前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物の表面に前記光走査手段により走査される前記光ビームの方向を走査方向と垂直方向に平行移動させるとともに、平行移動した前記光ビームの反射光を受光し前記結像手段にビームスポット光を結像する2次元光走査手段と、
前記2次元光走査手段が回転することによって前記光ビームが平行移動する際の回転角度を検出する走査回転角度検出手段と
をさらに備えたことを特徴とする形状測定装置。 - 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の形状測定装置において、
前記光走査手段と前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物との間に配置され、回転することにより、前記基準面もしくは前記基準面上に置かれた前記被測定物の表面に前記光走査手段により走査される前記光ビームの方向を走査方向と垂直方向に平行移動させる2次元光走査手段をさらに備えたことを特徴とする形状測定装置。 - 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の形状測定装置において、
前記光発生手段と前記光走査手段との間に配置され、前記光発生手段からの光ビームを、前記光走査手段の走査方向と垂直方向にスリット状に整形し、前記スリット上に整形された光ビームを前記光走査手段に与えるスリット光整形手段をさらに備えたことを特徴とする形状測定装置。
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