JP4211320B2 - Vacuum pump - Google Patents

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JP4211320B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、たとえば半導体製造装置等の真空排気ポンプとして用いられるターボ分子ポンプ等の真空ポンプに関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体の製造は、光学的処理や化学的処理などの様々な工程を経てなされるものである。光学的処理の代表的処理例としては、たとえばウェハ面への回路パターン焼き付けを行う露光処理が挙げられ、また化学的処理の代表的処理例としては、たとえばウェハ面に薄膜を形成する表面処理、エッチング処理、洗浄処理等が挙げられる。
前記表面処理においては、今や半導体製造において必須となった製造技術としてCVD(Chemical Vapor Deposition )技術がある。このCVDは、ウェハ等の基板上に対して原料ガスを供給し、この基板上でのガスの吸着及び化学反応を経て、該基板上に薄膜を形成する技術である。この技術は、半導体高集積化を実現させるためには欠くことのできないものとなっている。
【0003】
上述したCVDの中でも、減圧CVD及びプラズマCVD等は真空雰囲気で行われることから、真空排気装置が必要である。この真空排気装置では、大気圧からの多段階排気を可能とするロータリポンプ、ディフュージョンポンプ、ターボ分子ポンプなど、複数のポンプを適宜組み合わせた構成が一般的に採用されている。
【0004】
ここで、真空ポンプの一種であるターボ分子ポンプの一例を、図5の斜視図に示して簡単に説明する。
同図に示すように、ターボ分子ポンプPは、分割ケーシング1a,1bからなるケーシング1内に、各種部品を収めた構成となっている。一方の分割ケーシング1aには吸気口1cが形成され、また他方の分割ケーシング1bには排気口1dが形成されている。
【0005】
ケーシング1内部のロータ室2には、ポンプ機構を構成するロータとして、回転体4が配設されている。この回転体4は、ロータシャフト4aと、該ロータシャフト4aの一端部の周囲に放射状に配置固定された動翼5とを備えた構成となっている。
また、分割ケーシング1b側には、上述した回転体4と共にポンプ機構を構成する静止体の静翼3が固定されている。上述した回転体4は、たとえば90,000rpm(1,500回転/秒)といった高速で回転する部材であることから、一般的には軽量かつ応力強度の高いアルミニウム合金などがその素材として好適に用いられる。
【0006】
前記ロータシャフト4aの、前記一端側とは反対側の他端部には、スラスト磁気ディスク6が固定されている。このスラスト磁気ディスク6に対応して、その表面及び裏面を間に挟み込むようにスラスト磁気軸受8が配置されている。このスラスト磁気軸受8は、電力供給を受けた場合に、スラスト磁気ディスク6を保持することにより、回転体4の軸線方向位置を保持する磁気軸受である。
【0007】
また、ロータシャフト4aは、分割ケーシング1bの内部に固定された一対のラジアル磁気軸受7a,7bの内部に、保持されるようになっている。これらラジアル磁気軸受7a,7bは、電力供給を受けた場合に、ロータシャフト4aをその軸中心位置に保持する磁気軸受である。
さらに、ロータシャフト4aの両端に保護軸受としてボールベアリング9,10が設けられている。さらに、ロータシャフト4aは、ボールベアリング9,10間に位置して分割ケーシング1b内に固定されたロータ駆動用モータ11(モータ)の内部に挿通されており、このロータ駆動用モータ11によってその軸線回りに回転駆動されるようになっている。
【0008】
このような真空ポンプにおいては、真空ポンプ内部に形成されているガス通路の表面温度が吸引したガスの昇華温度よりも低い場合、ガスが固化してガス通路壁面等に付着することがある。そして、この固化物が回転体側の動翼と静止体側の静翼との間に形成される狭い隙間に付着して堆積すると、ポンプ性能が低下する原因になるのは勿論のこと、回転体が固化物と接触して構成部材を損傷させる原因にもなり、最悪の場合には動翼及び静翼等の破損に至ることがある。
このため、従来の真空ポンプにおいては、たとえば特開平10−205486号公報に開示されているように、ケーシングの外周を直接ヒータにより加熱して固化を防止したり、あるいは、特開平9−72293号公報に開示されているように、昇華温度が高い(圧力が高い)ガス流路の下流側を部分的に加熱することにより固化を防止することが行われている。
【0009】
図6は、加熱手段として放熱板を設けた従来の真空ポンプP’について、要部を拡大して示した図である。
この真空ポンプP’では、通過するガスを昇華温度以上に維持して固化を防止するため、ケーシング1と動翼5を取り付けた回転体4との間に放熱板12を設置して加熱するように構成されている。この場合の真空ポンプP’は、軸流段及びねじ溝段よりなる二段圧縮型であり、下流側で圧縮を行うねじ溝部13の周囲に放熱板12が配設されている。なお、図中の符号14は熱伝導により動翼5を冷却するための冷却水流路であり、冷却水を循環させることにより動翼5の温度上昇を防止している。
【0010】
このような構成では、圧縮するガスの一部が分割ケーシング1bと放熱板12との間にたまたま形成された隙間の空間部容積Sに流入して固化することがあるので、この容積S内における固化物の堆積量が増加すると、上部で高速回転する動翼5等が接触してトラブル発生の原因となる。従って、空間部容積Sがかなり小さいこともあり、トラブル防止のためには頻繁な分解洗浄等のメンテナンスを行う必要がある。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した加熱による固化防止対策は、真空ポンプを構成する部品の許容温度以下に制限されるため、昇華温度の高いガスを扱うプロセスに使用される真空ポンプへの適用には限界があった。このため、特に昇華温度の高いガスを扱う場合には、固化物の蓄積によるトラブルを防止するため運転を停止して分解洗浄のメンテナンスを頻繁(たとえば1ヶ月毎)に行う必要があり、結果として生産性を低下させる要因となるため改善が望まれている。
【0012】
また、高速で回転する動翼には軽量化及び高強度化が求められるため、通常アルミニウム合金製のものが採用されている。しかし、アルミニウム合金は温度上昇に弱く、高温では強度やクリープ寿命の低下が問題となる。このため、電子部品の保護も含めて冷却が必要となり、ケーシング内に冷却水流路を設けて冷却水を循環させるなどして、所望の温度(たとえば40℃〜50℃程度)を維持することが行われている。
従って、このような冷却を行うと、特に昇華温度の高いガスの場合には上述したガスの固化物が堆積しやすくなるので、冷却によるアルミニウム合金製の動翼保護と、加熱による固化物の堆積防止という相反する課題を解決することが必要となってくる。
【0013】
また、真空ポンプの上流側にトラップを設けて固化物を除去することも考えられるが、このような対策は下記の理由により一般的にはユーザーに好まれていない。
(1)真空ポンプの上流側に固化物を堆積させると、この堆積物がダスト(パーティクル)発生源となり、プロセス側に悪影響を及ぼすおそれがある。
(2)堆積した固化物が流れの抵抗となり、排気効率を低下させる。
【0014】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、アルミニウム合金製等の動翼保護を目的とする冷却の影響を受けることなく、特にポンプ機構の損傷や破損を招く部分における固化物の堆積を防止するという課題の解決を目的とするものである。
【0015】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するため、以下の手段を採用した。
請求項1に記載の真空ポンプは、ガスの吸気口と排気口とを有するケーシング内に動翼を備えた回転体と静翼を備えた静止体とを具備してなるポンプ機構が配設され、前記吸気口から吸引したガスを前記排気口から排出するように構成された真空ポンプであって、前記吸気口から前記排気口に至るケーシング内のガス流路に連通し、前記ケーシング内にもしくは前記ケーシングの外側へ突出させ、前記ガスの昇華温度よりも低い温度となるように冷却手段により冷却される空間であるトラップ部を設けたことを特徴とするものである。
【0016】
このような真空ポンプによれば、吸気口から排気口に至るケーシング内のガス流路に連通し、ガスの昇華温度よりも低い温度となるトラップ部を設けたので、このトラップ部でガスを積極的に固化させてトラップすることができる。
この場合、前記トラップ部の空間容積をできるだけ大きく設定することが好ましく、これにより、固化物の堆積量が増すのでメンテナンス間隔を長く延ばすことができる。
【0017】
請求項1記載の真空ポンプにおいては、前記回転体が軸流段とねじ溝段とを備え、前記トラップ部を前記軸流段と前記ねじ溝段との間のガス流路に連通させて設けることが好ましく、これにより、最も固化しやすい領域の前にトラップ部を設けて固化物をトラップすることができる。
【0018】
請求項1または2記載の真空ポンプにおいては、前記トラップ部が前記ガス流路の主流路を外れた位置に設けられていることが好ましく、これにより、実質的に圧縮機構から離れた位置にトラップ部が設けられることになるので、固化物が堆積しても動翼等ポンプ機構の破損がしにくくなる。
【0019】
請求項4記載の真空ポンプは、前記トラップ部が、固化物除去用の開閉手段を備えていることが好ましく、これにより、堆積した固化物を除去するメンテナンスが容易になる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る真空ポンプの一実施形態を、図面に基づいて説明する。なお、真空ポンプは、大気圧以下の低圧の気体を圧縮して大気中に放出する装置のことである。
図1(a),(b)は、本発明による真空ポンプの構成例を示す略図であり、以下この図に基づいて本発明の技術思想を説明する。この真空ポンプ20はターボ分子ポンプとも呼ばれる形式のもので、たとえば半導体製造に用いられるCVD装置(図示せず)などに、ロータリポンプやディフュージョンポンプ等とともに排気系の一部として装備され、チャンバ内の排気に利用される装置である。このような排気には、たとえばエッチング後のガスには、AlCl のような固化物のガス成分が含まれている。
以下では、固化物のガス成分を含めた真空ポンプの取り扱い流体をガスと呼ぶことにする。
【0021】
さて、上述した真空ポンプ20は、ガスの吸気口22及び排気口23を備えたケーシング21内に、回転体31及び静止体24よりなるポンプ機構30を配設した構成となっている。
一般的にロータと呼ばれている回転体31は、図1(a)に示す構成例においては、図示省略の回転軸と、この回転軸に固定された一または複数段の動翼32と、該動翼32の下流側に設けられたねじ溝部33とを備えている。この回転体31は、図示省略のスラスト磁気軸受及びラジアル磁気軸受を用いて回転軸の適所が回転可能に支持され、同じく図示省略のロータ駆動用モータによって高速で回転するようになっている。すなわち、図示の真空ポンプ20は、回転体31が動翼32及び後述する静翼による圧縮を行う軸流段と、ねじ溝部33により圧縮を行うねじ溝段とを備えた二段圧縮の構成となっている。
なお、図示の例では動翼32を3段設けてあるが、これに限定されるものではない。
【0022】
一方の静止体24は、ケーシング21の内周側に一または複数段固定された静翼25と、上述した回転体31の回転軸を支持するようケーシング21に固定されたステータ26、及びこのステータ26内に設置された図示省略の各種軸受とを備えている。各静翼25は、回転軸の軸方向において、回転体31側に設けられている動翼32と交互に配置されている。
【0023】
この真空ポンプ20では、回転体31が高速で回転することにより、吸気口22から吸引したガスが軸流段において動翼32及び静翼25間を通過して圧縮され、さらに、ねじ溝段を通過して圧縮された後に排気口23から流出する。この結果、吸気口22が高真空になると共に、排気口23が低真空になる。
【0024】
さて、上述した構成の真空ポンプ20に対し、本発明では吸気口22から排気口23へ至るケーシング21内のガス流路(図中に矢印Gで示す)に連通するトラップ部27を設けてある。このトラップ部27は、吸引するガスの昇華温度よりも低い温度となるように設定した空間部であり、たとえばケーシング21の外周側へ突出させた空間部を形成し、外気温度による冷却で壁面等の内部温度を昇華温度以下に維持するものがある。あるいは、トラップ部27の周囲に冷却水の流路を設けて通水し、熱伝導により積極的に冷却するものであってもよい。
また、図1(a)に示したトラップ部27は、回転体31における軸流段とねじ溝段との間のガス流路に連通して設けられている。
【0025】
このような構成の真空ポンプ20とすれば、吸気口22から吸引したガスの一部がトラップ部27に流入して行き、同トラップ部27内において昇華温度以下に冷却される。従って、トラップ部27内ではガスが固化して堆積するようになるので、同トラップ部27は積極的にガスを固化させてトラップする機能を有している空間部分となる。
【0026】
また、このようなトラップ部27は、回転体31が軸流段及びねじ溝段を備えている場合、軸流段とねじ溝段との間のガス流路、すなわち、軸方向において動翼32とねじ溝部33との間に位置するガス流路に連通させて設けることが好ましい。これは、最も固化しやすい領域の前(上流側)にトラップ部27を設けることができるためである。
すなわち、圧力が高いガス流路の下流側ではガスの昇華温度も高くなるため、真空ポンプ20のポンプ機構30において、実質的にガスが大きな圧力上昇をして昇華温度も高くなるため固化物が堆積しやすい領域であるねじ溝段の上流側から積極的に固化物をトラップし、トラップ部27の下流側における固化物の堆積によるトラブルを未然に防止または抑制している。
さらに、ねじ溝段に近い動翼32の下流段付近は、冷却水等による動翼冷却の影響を受けて温度が低くなる傾向にあるため、この領域に近いトラップ部27で積極的にガスを固化させて固化物を堆積させれば、動翼32等の損傷や破損を防止または抑制することもできる。
【0027】
ところで、上述したトラップ部27は、その空間容積をできるだけ大きくとることが好ましい。これは、大きな空間容積を確保することにより、固化物の堆積許容量が増加してメンテナンス間隔を長くすることができるためである。すなわち、真空ポンプ20の連続運転時間が延びるので、これを用いたプロセスの運転停止間隔を延長して運転停止回数を低減することができるようになる。
【0028】
また、図1(b)は一段圧縮型の真空ポンプ20’であり、ポンプ機構30’の回転体31’にはねじ溝段が設けられておらず、軸流段のみで圧縮するように構成されている。
このように構成された真空ポンプ20’においては、軸方向に複数段配設された静翼32の間、好ましくは下流段となる静翼32の間から、矢印Gで示すガス流路と連通するようにして、トラップ部27となる空間部がケーシング21の外側に設けられている。
【0029】
このような構成としても、ガスが圧縮された高圧側で昇華温度も高い領域のガス流路に連通するよう設けられたトラップ部27において、積極的にガスを固化させて固化物を堆積させるようにしたので、固化物の堆積によるトラブルの発生を未然に防止または抑制することができる。また、動翼32の下流段付近は、冷却水等による動翼冷却の影響を受けて温度が低くなる傾向にあるため、この領域に近いトラップ部27で積極的にガスを固化させて固化物を堆積させれば、動翼32等の損傷や破損を防止することもできる。
なお、この場合においても、トラップ部27の空間容積はメンテナンス間隔を考慮してできるだけ大きく設定することが好ましい。
【0030】
図2は、本発明による真空ポンプの具体的な構成例を示す断面図であり、この真空ポンプには新たな符号20Aを付す。
図中の符号21はケーシングであり、上下の分割ケーシング21a,21bを一体化した構成となっている。このケーシング21には吸気口22及び排気口23が設けられ、吸気口22を設けた分割ケーシング21a側の内部には静翼25が固定して設けられている。この静翼25は、スペーサ28によってその位置が固定されている。
【0031】
上述したケーシング21及び静翼25を備えた静止側に対し、ケーシング21内には回転体31が高速回転可能に設置されている。この回転体31は、回転軸34と一体的に連結されたロータ部35に設けられた複数段の動翼32及びねじ溝部33を備えており、従って、軸流段及びねじ溝段よりなる二段圧縮構造となっている。回転体31側の動翼32は、上述した静翼25と回転軸34の軸方向において交互に配設されている。
回転体31の回転軸34は、分割ケーシング21bに固定されたステータ26の内周面に取り付けられている上部軸受としての磁気軸受29aと、下部軸受としての磁気軸受29bと、軸方向軸受としての磁気軸受29cとにより支持されて高速回転可能となっている。なお、図中の符号Mは、ステータ26の内周面と回転軸34との間に設けられているロータ駆動用モータである。
【0032】
この真空ポンプ20Aには、圧縮されたガスが昇華温度以下になるのを防止するため、加熱手段として加熱部40と連結された放熱板41が設けられている。この放熱板41は、回転体31のねじ溝部33とケーシング21との間に配置され、底面部42を備えた略円筒状の部材である。放熱板41は、底面部42が加熱部40と連結され、熱伝達により加熱されている。なお、放熱板41とねじ溝部33との間の隙間は、圧縮効率を得るため必要最小限に維持されている。
【0033】
一方、放熱板41の外周面と分割ケーシング21bの内周面との間には、ガス流路に連通してトラップ部27Aとなる空間部を全周にわたって形成してある。このトラップ部27Aは、たとえば要部を拡大した図3に示すように、ケーシング21の外径を大きくすると共に、回転軸34の軸方向にも大きな寸法を設定することにより、その容積が大きく確保されている。すなわち、ポンプ機構30を変更することなしにケーシング21の径を大きくして、特にねじ溝部33及び放熱板41の外周部分となるケーシング21を拡径してトラップ部27Aの半径方向寸法Wを確保し、かつ、放熱板41と分割ケーシング21bとの係止位置を下方に下げて軸方向寸法Hを確保することで、結果として大きな空間容積のトラップ部27Aを形成している。
なお、図中の符号45は分割ケーシング21b内の適所を通る冷却水流路であり、動翼32の冷却及びトラップ部27A内をガスの昇華温度以下に冷却するものである。
【0034】
このような構成とすれば、吸気口22から吸引したガスは静翼25及び動翼32の間を通過して軸流段による圧縮を受けた後、ねじ溝部33と放熱板41との間を通過してねじ溝段による圧縮を受けるというガス流路の主流(図3に矢印Gで示す)を流れて排気口23から流出する。
この時、ねじ溝段を通過するガスは放熱板41の加熱により昇華温度以上に維持されるため、固化することなく排気口23から流出する。しかし、軸流段からねじ溝段へ導かれるガスの一部(図3に矢印gで示す)は、ガス流路に連通するトラップ部27Aへ流入して冷却されるので、このトラップ部27A内では、昇華温度以下に冷却されたガスが固化するようになる。従って、トラップ部27Aは、吸引したガスの固化物を積極的に生成して堆積させる機能を有している。なお、図3に示す符号の46はシール部であり、たとえばOリングやメタルタッチなどから適宜選択してトラップ部27Aの底面部側を閉鎖している。
【0035】
図2及び図3に示す構成のトラップ部27Aは、軸流段及びねじ溝段を通るガスの主流路から外れて離れた位置に、換言すれば放熱板41を介して圧縮を行うポンプ機構から離れた位置に設けられているので、固化物の堆積があっても高速回転する動翼等と離れているため、接触による破損がしにくくなる。特に、図6に示した従来構造の空間部容積Sが大幅に拡大されているので、固化物を堆積させる許容量も増加して長期間のメンテナンス間隔を確保することができる。
【0036】
次に、上述したトラップ部27Aの変形例を図4に示して説明する。この変形例では、トラップ部27Aに固化物除去用の開閉手段として、開口部に開閉蓋47を設けてある。
この開閉蓋47は、通常はシール手段としてOリング48等を介在させてトラップ部27Aを密閉しておき、必要時に開閉あるいは着脱して開口部を形成できるように取り付けられたものである。従って、開閉蓋47を開いて開口部を形成すれば、トラップ部27A内に堆積した固化物を容易に掻き出して除去できるようになるので、短時間の運転停止で固化物の除去が可能となり、真空ポンプを分解するメンテナンス回数を大幅に減らすことができる。
【0037】
さて、上述した構成のトラップ部27,27Aを備えた真空ポンプは、たとえば気相にアルミニウムが混合されていてAlCl 固化物が生成されるエッチング後のガスは勿論のこと、これよりも昇華温度の高い固化物であるInCl などのガス成分を含むガスの処理に特に効果を発揮する。すなわち、動翼32等アルミニウム合金製の回転体を冷却して保護するために加熱温度の上限が制限される場合であっても、換言すれば、昇華温度より高い温度まで加熱できない場合であっても、トラップ部27,27Aにおいて積極的に固化させてトラップするようにしたので、昇華温度の高い固化物のガス成分を含むガスでも処理することが可能になる。
【0038】
また、このようなトラップ部27,27Aは、いずれも真空ポンプのケーシング21内に設けられているので、真空ポンプの上流側(たとえばプロセスチャンバ側)へ固化物が逆流するようなことはなく、同固化物による上流側プロセスのコンタミネーションを防止することができる。
【0039】
なお、本発明の構成は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において適宜変更することができる。
【0040】
【発明の効果】
本発明の真空ポンプによれば、以下の効果を奏する。
請求項1に記載の発明によれば、吸気口から排気口に至るケーシング内のガス流路に連通し、ガスの昇華温度よりも低い温度となるトラップ部を設けたので、このトラップ部でガスを積極的に固化させてトラップすることができるようになる。この結果、特にトラップの下流側ではポンプ機構周辺及び構成部材に固化物が付着しにくくなるので、固化物によるトラブルの発生が生じないよう実施する分解洗浄等のメンテナンスの間隔を延ばすことができ、生産性の向上による経済効果は極めて高い。
従って、アルミニウム合金製等の動翼保護を目的とする冷却の影響を受けることなく固化物を積極的にトラップ部内に堆積させ、ポンプ機構の損傷や破損を招く部分における固化物の堆積を防止することができるようになり、結果的には昇華温度の高い固化物のガス成分を含むガスへの適用も可能になる。
この場合、トラップ部の空間容積を大きく設定することにより固化物の堆積量が増加するので、真空ポンプの小型化とメンテナンス間隔とを考慮して、最適値を定めればよい。
【0041】
また、回転体が軸流段とねじ溝段とを備えている二段圧縮型の真空ポンプにおいては、トラップ部を軸流段とねじ溝段との間のガス流路に連通させて設けることにより、最も固化しやすい領域の前にトラップ部を設けて固化物を効率よくトラップすることができる。
また、上述したトラップ部をガス流路の主流路からはずれた位置に設けることにより、実質的に圧縮機構から離れた位置にトラップ部が設けられることになるので、固化物が堆積しても動翼等ポンプ機構の破損がしにくくなる。
また、トラップ部に固化物除去用の開閉手段を設けておくことにより、分解洗浄を実施しなくても、あるいは、その実施回数を減らしても堆積した固化物を除去することが可能になるので、メンテナンス作業が容易になることによる経済効果も極めて高い。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態として真空ポンプの構成例を示した略図であり、(a)は二段圧縮型、(b)は一段圧縮型である。
【図2】 本発明に係る二段圧縮型の真空ポンプについて、具体的な構成例を示した断面図である。
【図3】 図2の要部拡大図断面図である。
【図4】 図3の変形例を示す要部拡大断面図である。
【図5】 従来の真空ポンプの構成例を示す部分断面斜視図である。
【図6】 従来例を示す真空ポンプの要部断面図である。
【符号の説明】
20,20’,20A 真空ポンプ
21 ケーシング
22 吸気口
23 排気口
24 静止体
25 静翼
27,27A トラップ部
30、30’ ポンプ機構
31、31’ 回転体
32 動翼
33 ねじ溝部
41 放熱板
45 冷却水流路
47 開閉蓋(固化物除去用の開閉手段)
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a vacuum pump such as a turbo molecular pump used as a vacuum exhaust pump of a semiconductor manufacturing apparatus or the like.
[0002]
[Prior art]
Semiconductor manufacturing is performed through various processes such as optical processing and chemical processing. As a typical process example of the optical process, for example, an exposure process for printing a circuit pattern on the wafer surface can be mentioned. As a typical process example of the chemical process, for example, a surface process for forming a thin film on the wafer surface, An etching process, a cleaning process, etc. are mentioned.
In the surface treatment, there is a CVD (Chemical Vapor Deposition) technique as a manufacturing technique indispensable in semiconductor manufacturing. This CVD is a technique in which a raw material gas is supplied onto a substrate such as a wafer, and a thin film is formed on the substrate through gas adsorption and chemical reaction on the substrate. This technology is indispensable for realizing high integration of semiconductors.
[0003]
Among the above-mentioned CVDs, vacuum CVD and plasma CVD are performed in a vacuum atmosphere, so a vacuum exhaust device is required. In this vacuum evacuation device, a configuration in which a plurality of pumps are appropriately combined, such as a rotary pump, a diffusion pump, and a turbo molecular pump, that enable multistage exhaust from atmospheric pressure is generally employed.
[0004]
Here, an example of a turbo molecular pump, which is a type of vacuum pump, will be briefly described with reference to the perspective view of FIG.
As shown in the figure, the turbo molecular pump P has a configuration in which various components are housed in a casing 1 including divided casings 1a and 1b. An intake port 1c is formed in one divided casing 1a, and an exhaust port 1d is formed in the other divided casing 1b.
[0005]
In the rotor chamber 2 inside the casing 1, a rotating body 4 is arranged as a rotor constituting a pump mechanism. The rotating body 4 includes a rotor shaft 4a and moving blades 5 arranged and fixed radially around one end of the rotor shaft 4a.
Further, stationary vanes 3 constituting a pump mechanism together with the above-described rotating body 4 are fixed to the divided casing 1b side. The rotating body 4 described above is a member that rotates at a high speed of, for example, 90,000 rpm (1,500 revolutions / second). Therefore, generally, a lightweight and high stress strength aluminum alloy or the like is preferably used as the material. It is done.
[0006]
A thrust magnetic disk 6 is fixed to the other end of the rotor shaft 4a opposite to the one end. Corresponding to the thrust magnetic disk 6, a thrust magnetic bearing 8 is disposed so that the front and back surfaces are sandwiched between them. The thrust magnetic bearing 8 is a magnetic bearing that holds the axial position of the rotating body 4 by holding the thrust magnetic disk 6 when receiving power supply.
[0007]
The rotor shaft 4a is held inside a pair of radial magnetic bearings 7a and 7b fixed inside the split casing 1b. These radial magnetic bearings 7a and 7b are magnetic bearings that hold the rotor shaft 4a at the axial center position when supplied with electric power.
Further, ball bearings 9 and 10 are provided as protective bearings at both ends of the rotor shaft 4a. Further, the rotor shaft 4a is inserted into a rotor driving motor 11 (motor) positioned between the ball bearings 9 and 10 and fixed in the divided casing 1b. It is designed to rotate around.
[0008]
In such a vacuum pump, when the surface temperature of the gas passage formed inside the vacuum pump is lower than the sublimation temperature of the sucked gas, the gas may solidify and adhere to the gas passage wall surface or the like. And if this solidified material adheres to and accumulates in a narrow gap formed between the rotor blade on the rotating body side and the stationary blade on the stationary body side, it will of course cause a decrease in pump performance. Contacting the solidified material may cause damage to the structural members, and in the worst case, the moving blades and stationary blades may be damaged.
For this reason, in the conventional vacuum pump, for example, as disclosed in JP-A-10-205486, the outer periphery of the casing is directly heated by a heater to prevent solidification, or JP-A-9-72293. As disclosed in the publication, solidification is prevented by partially heating the downstream side of a gas flow path having a high sublimation temperature (high pressure).
[0009]
FIG. 6 is an enlarged view of a main part of a conventional vacuum pump P ′ provided with a heat radiating plate as a heating means.
In this vacuum pump P ′, in order to prevent the solidification by maintaining the passing gas at a temperature higher than the sublimation temperature, a heat radiating plate 12 is installed between the casing 1 and the rotating body 4 to which the rotor blades 5 are attached. It is configured. The vacuum pump P ′ in this case is a two-stage compression type composed of an axial flow stage and a screw groove stage, and a heat radiating plate 12 is disposed around a screw groove portion 13 that performs compression on the downstream side. In addition, the code | symbol 14 in a figure is a cooling water flow path for cooling the moving blade 5 by heat conduction, and the temperature rise of the moving blade 5 is prevented by circulating cooling water.
[0010]
In such a configuration, a part of the gas to be compressed may flow into the space part volume S of the gap formed between the split casing 1b and the heat sink 12 and solidify. When the amount of solidified deposit increases, the moving blade 5 rotating at a high speed in the upper part comes into contact and causes trouble. Therefore, the space part volume S may be quite small, and maintenance such as frequent disassembly and cleaning is necessary to prevent troubles.
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the above-described measures for preventing solidification by heating are limited to a temperature lower than the allowable temperature of components constituting the vacuum pump, there is a limit to application to a vacuum pump used in a process that handles a gas having a high sublimation temperature. . For this reason, especially when handling a gas with a high sublimation temperature, it is necessary to stop the operation and perform maintenance of decomposition cleaning frequently (for example, every month) to prevent troubles due to accumulation of solidified substances. Improvement is desired because it causes a decrease in productivity.
[0012]
In addition, since a moving blade rotating at a high speed is required to be light and strong, an aluminum alloy is usually employed. However, aluminum alloys are vulnerable to temperature rise, and strength and creep life are problematic at high temperatures. For this reason, cooling including protection of electronic components is required, and a desired temperature (for example, about 40 ° C. to 50 ° C.) can be maintained by providing a cooling water flow path in the casing and circulating the cooling water. Has been done.
Therefore, when such cooling is performed, the above-mentioned gas solidified product is likely to be deposited particularly in the case of a gas having a high sublimation temperature. Therefore, the aluminum blade moving blade protection by cooling and the solidified product deposition by heating are performed. It is necessary to solve the conflicting issue of prevention.
[0013]
Although it is conceivable to provide a trap on the upstream side of the vacuum pump to remove the solidified material, such measures are generally not preferred by users for the following reasons.
(1) If a solidified material is deposited on the upstream side of the vacuum pump, the deposited material becomes a dust (particle) generation source, which may adversely affect the process side.
(2) The accumulated solid matter acts as a flow resistance and lowers the exhaust efficiency.
[0014]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is not affected by cooling for the purpose of protecting a moving blade made of an aluminum alloy or the like, and in particular, solidified deposits in a portion that causes damage or breakage of the pump mechanism. The purpose is to solve the problem of preventing the problem.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
The present invention employs the following means in order to solve the above problems.
The vacuum pump according to claim 1 is provided with a pump mechanism including a rotating body provided with moving blades and a stationary body provided with stationary blades in a casing having a gas inlet and an outlet. A vacuum pump configured to discharge the gas sucked from the intake port from the exhaust port, communicated with a gas flow path in the casing from the intake port to the exhaust port, and in the casing or A trap portion that is a space that protrudes to the outside of the casing and is cooled by a cooling means so as to have a temperature lower than the sublimation temperature of the gas is provided.
[0016]
According to such a vacuum pump, a trap portion that is communicated with the gas flow path in the casing from the intake port to the exhaust port and has a temperature lower than the sublimation temperature of the gas is provided. It can be solidified and trapped.
In this case, it is preferable to set the space volume of the trap portion as large as possible. As a result, the amount of solidified deposit increases, so that the maintenance interval can be extended.
[0017]
2. The vacuum pump according to claim 1, wherein the rotating body includes an axial flow stage and a thread groove stage, and the trap portion is provided in communication with a gas flow path between the axial flow stage and the thread groove stage. It is preferable that the trapped portion can be provided in front of the region that is most easily solidified to trap the solidified material.
[0018]
3. The vacuum pump according to claim 1, wherein the trap portion is preferably provided at a position off the main flow path of the gas flow path, whereby the trap is disposed at a position substantially away from the compression mechanism. Therefore, even if the solidified material accumulates, the pump mechanism such as the moving blade is less likely to be damaged.
[0019]
In the vacuum pump according to a fourth aspect of the present invention, it is preferable that the trap portion is provided with an opening / closing means for removing the solidified material, and thereby maintenance for removing the accumulated solidified material is facilitated.
[0020]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of a vacuum pump according to the present invention will be described with reference to the drawings. A vacuum pump is a device that compresses low-pressure gas below atmospheric pressure and releases it to the atmosphere.
1 (a) and 1 (b) are schematic views showing a configuration example of a vacuum pump according to the present invention, and the technical idea of the present invention will be described below based on the drawings. This vacuum pump 20 is of a type called a turbo molecular pump, and is equipped as a part of an exhaust system together with a rotary pump, a diffusion pump, etc., for example, in a CVD apparatus (not shown) used for semiconductor manufacturing, It is a device used for exhaust. In such exhaust, for example, the gas after etching contains a solidified gas component such as AlCl 3 .
Hereinafter, the handling fluid of the vacuum pump including the gas component of the solidified product is referred to as gas.
[0021]
The vacuum pump 20 described above has a configuration in which a pump mechanism 30 including a rotating body 31 and a stationary body 24 is disposed in a casing 21 having a gas inlet 22 and an exhaust 23.
In the configuration example shown in FIG. 1A, the rotating body 31 generally called a rotor includes a rotating shaft (not shown), one or a plurality of moving blades 32 fixed to the rotating shaft, And a thread groove 33 provided on the downstream side of the rotor blade 32. The rotating body 31 is supported by a thrust magnetic bearing and a radial magnetic bearing (not shown) so that an appropriate portion of the rotating shaft can rotate, and is rotated at a high speed by a rotor driving motor (not shown). That is, the illustrated vacuum pump 20 has a two-stage compression configuration in which the rotating body 31 includes an axial flow stage that performs compression by the moving blade 32 and a stationary blade that will be described later, and a thread groove stage that performs compression by the thread groove portion 33. It has become.
In the illustrated example, the three moving blades 32 are provided, but the present invention is not limited to this.
[0022]
One stationary body 24 includes a stationary blade 25 fixed to one or more stages on the inner peripheral side of the casing 21, a stator 26 fixed to the casing 21 so as to support the rotating shaft of the rotating body 31, and the stator. 26 and various bearings (not shown) installed in the interior. Each stationary blade 25 is alternately arranged with the moving blade 32 provided on the rotating body 31 side in the axial direction of the rotating shaft.
[0023]
In this vacuum pump 20, the rotating body 31 rotates at a high speed, so that the gas sucked from the intake port 22 passes between the moving blade 32 and the stationary blade 25 in the axial flow stage and is compressed. After passing through and being compressed, it flows out from the exhaust port 23. As a result, the intake port 22 becomes a high vacuum and the exhaust port 23 becomes a low vacuum.
[0024]
In the present invention, a trap portion 27 that communicates with a gas flow path (indicated by an arrow G in the figure) in the casing 21 from the intake port 22 to the exhaust port 23 is provided for the vacuum pump 20 having the above-described configuration. . The trap portion 27 is a space portion set to be lower than the sublimation temperature of the gas to be sucked. For example, a space portion that protrudes to the outer peripheral side of the casing 21 is formed, and a wall surface or the like is formed by cooling with the outside air temperature. Some maintain the internal temperature below the sublimation temperature. Alternatively, a cooling water flow path may be provided around the trap portion 27 to allow water to flow and actively cool by heat conduction.
Moreover, the trap part 27 shown to Fig.1 (a) is provided in communication with the gas flow path between the axial flow stage in the rotary body 31, and a thread groove step.
[0025]
With the vacuum pump 20 having such a configuration, a part of the gas sucked from the intake port 22 flows into the trap part 27 and is cooled below the sublimation temperature in the trap part 27. Accordingly, since the gas is solidified and accumulated in the trap portion 27, the trap portion 27 becomes a space portion having a function of positively solidifying and trapping the gas.
[0026]
Further, in the case where the rotating body 31 includes an axial flow stage and a thread groove stage, such a trap portion 27 has a gas flow path between the axial flow stage and the thread groove stage, that is, the moving blade 32 in the axial direction. It is preferable to provide a gas flow path located between the screw groove portion 33 and the screw groove portion 33. This is because the trap portion 27 can be provided in front (upstream side) of the region that is most easily solidified.
That is, since the sublimation temperature of the gas also increases on the downstream side of the gas passage having a high pressure, in the pump mechanism 30 of the vacuum pump 20, the gas substantially increases in pressure and the sublimation temperature also increases. The solidified material is positively trapped from the upstream side of the thread groove step, which is an easily depositing region, and troubles due to the accumulation of the solidified material on the downstream side of the trap portion 27 are prevented or suppressed in advance.
Further, since the temperature in the vicinity of the downstream stage of the moving blade 32 close to the thread groove stage tends to be lowered due to the influence of the cooling of the moving blade by cooling water or the like, gas is actively supplied from the trap portion 27 close to this region. By solidifying and depositing the solidified product, damage and breakage of the rotor blade 32 and the like can be prevented or suppressed.
[0027]
By the way, it is preferable that the trap part 27 mentioned above takes the space volume as large as possible. This is because by securing a large space volume, the solidified material deposition allowance increases and the maintenance interval can be lengthened. That is, since the continuous operation time of the vacuum pump 20 is extended, the operation stop interval of a process using the vacuum pump 20 can be extended to reduce the number of operation stops.
[0028]
FIG. 1B shows a single-stage compression type vacuum pump 20 ′, in which the rotating body 31 ′ of the pump mechanism 30 ′ is not provided with a thread groove step and is compressed only by an axial flow step. Has been.
In the vacuum pump 20 ′ thus configured, the gas flow path indicated by the arrow G communicates between the stationary blades 32 arranged in a plurality of stages in the axial direction, preferably between the stationary blades 32 that are downstream. In this way, a space serving as the trap portion 27 is provided outside the casing 21.
[0029]
Even in such a configuration, the trap portion 27 provided to communicate with the gas flow path in the region where the gas is compressed and on the high pressure side has a high sublimation temperature so as to positively solidify the gas and deposit the solidified product. Therefore, the occurrence of troubles due to the accumulation of solidified substances can be prevented or suppressed in advance. Further, since the temperature in the vicinity of the downstream stage of the moving blade 32 tends to be lowered due to the cooling effect of the moving blade by cooling water or the like, the gas is positively solidified by the trap portion 27 near this region. Can be prevented from being damaged or broken.
Even in this case, it is preferable to set the space volume of the trap portion 27 as large as possible in consideration of the maintenance interval.
[0030]
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a specific configuration example of the vacuum pump according to the present invention, and a new reference numeral 20A is given to the vacuum pump.
Reference numeral 21 in the figure denotes a casing, which has a configuration in which upper and lower divided casings 21a and 21b are integrated. The casing 21 is provided with an intake port 22 and an exhaust port 23, and a stationary blade 25 is fixedly provided inside the divided casing 21 a side where the intake port 22 is provided. The position of the stationary blade 25 is fixed by a spacer 28.
[0031]
A rotating body 31 is installed in the casing 21 so as to be capable of high-speed rotation with respect to the stationary side including the casing 21 and the stationary blade 25 described above. The rotating body 31 includes a plurality of rotor blades 32 and a thread groove portion 33 provided in a rotor portion 35 integrally connected to a rotating shaft 34. Accordingly, the rotor 31 includes two axial flow stages and a thread groove stage. It has a stage compression structure. The moving blades 32 on the rotating body 31 side are alternately arranged in the axial direction of the stationary blade 25 and the rotating shaft 34 described above.
The rotating shaft 34 of the rotating body 31 includes a magnetic bearing 29a as an upper bearing, a magnetic bearing 29b as a lower bearing, and an axial bearing as an upper bearing attached to the inner peripheral surface of the stator 26 fixed to the split casing 21b. It is supported by the magnetic bearing 29c and can rotate at high speed. In addition, the code | symbol M in a figure is the motor for a rotor drive provided between the internal peripheral surface of the stator 26 and the rotating shaft 34. FIG.
[0032]
The vacuum pump 20A is provided with a heat radiating plate 41 connected to the heating unit 40 as a heating means in order to prevent the compressed gas from becoming below the sublimation temperature. The heat radiating plate 41 is a substantially cylindrical member that is disposed between the screw groove portion 33 of the rotating body 31 and the casing 21 and includes a bottom surface portion 42. The heat radiating plate 41 is heated by heat transfer, with the bottom surface portion 42 connected to the heating unit 40. In addition, the clearance gap between the heat sink 41 and the thread groove part 33 is maintained to the minimum necessary in order to obtain compression efficiency.
[0033]
On the other hand, between the outer peripheral surface of the heat radiating plate 41 and the inner peripheral surface of the divided casing 21b, a space portion that communicates with the gas flow path and becomes the trap portion 27A is formed over the entire circumference. For example, as shown in FIG. 3 in which the main portion is enlarged, the trap portion 27A has a large volume by securing a large dimension in the axial direction of the rotary shaft 34 while increasing the outer diameter of the casing 21. Has been. That is, the diameter of the casing 21 is increased without changing the pump mechanism 30, and in particular, the diameter of the casing 21 serving as the outer peripheral portion of the thread groove portion 33 and the heat radiating plate 41 is increased to ensure the radial dimension W of the trap portion 27A. In addition, by lowering the locking position between the heat radiating plate 41 and the divided casing 21b to ensure the axial dimension H, the trap portion 27A having a large space volume is formed as a result.
In addition, the code | symbol 45 in a figure is the cooling water flow path which passes through the appropriate place in the division | segmentation casing 21b, and cools the moving blade 32 and the trap part 27A to below the sublimation temperature of gas.
[0034]
With such a configuration, the gas sucked from the intake port 22 passes between the stationary blade 25 and the moving blade 32 and is compressed by the axial flow stage, and then between the screw groove portion 33 and the heat radiating plate 41. It flows through the main flow (indicated by arrow G in FIG. 3) of the gas flow path that passes through and is compressed by the thread groove step, and flows out from the exhaust port 23.
At this time, the gas passing through the thread groove step is maintained at a temperature higher than the sublimation temperature by heating the heat radiating plate 41, and therefore flows out from the exhaust port 23 without solidifying. However, a part of the gas (indicated by the arrow g in FIG. 3) guided from the axial flow stage to the thread groove stage flows into the trap part 27A communicating with the gas flow path and is cooled. Then, the gas cooled below the sublimation temperature is solidified. Accordingly, the trap portion 27A has a function of positively generating and depositing the solidified substance of the sucked gas. Note that reference numeral 46 shown in FIG. 3 denotes a seal portion, which is appropriately selected from, for example, an O-ring or a metal touch, and closes the bottom surface portion side of the trap portion 27A.
[0035]
The trap portion 27A having the configuration shown in FIGS. 2 and 3 is separated from the main flow path of the gas passing through the axial flow stage and the thread groove stage, in other words, from a pump mechanism that performs compression via the heat radiating plate 41. Since it is provided at a distant position, it is difficult to be damaged by contact because it is separated from a moving blade rotating at high speed even if solidified material is accumulated. In particular, since the space portion volume S of the conventional structure shown in FIG. 6 is greatly expanded, the allowable amount for depositing the solidified material can be increased and a long-term maintenance interval can be secured.
[0036]
Next, a modified example of the trap part 27A described above will be described with reference to FIG. In this modification, an opening / closing lid 47 is provided at the opening portion as an opening / closing means for removing the solidified substance in the trap portion 27A.
The opening / closing lid 47 is usually attached so that the trap portion 27A is hermetically sealed with an O-ring 48 or the like as a sealing means, and can be opened / closed or detached when necessary to form an opening. Therefore, if the opening / closing lid 47 is opened to form an opening, the solidified material accumulated in the trap portion 27A can be easily scraped and removed, so that the solidified material can be removed with a short shutdown. The maintenance frequency for disassembling the vacuum pump can be greatly reduced.
[0037]
Now, the vacuum pump provided with the trap portions 27 and 27A having the above-described configuration is, for example, a gas after etching in which aluminum is mixed in a gas phase and an AlCl 3 solidified product is generated. This is particularly effective for the treatment of gas containing gas components such as InCl 3 which is a highly solidified product. That is, even when the upper limit of the heating temperature is limited in order to cool and protect the rotating body made of an aluminum alloy such as the rotor blade 32, in other words, it is not possible to heat to a temperature higher than the sublimation temperature. However, since the trap portions 27 and 27A are positively solidified and trapped, it is possible to treat even a gas containing a solidified gas component having a high sublimation temperature.
[0038]
In addition, since the trap portions 27 and 27A are both provided in the casing 21 of the vacuum pump, the solidified material does not flow backward to the upstream side (for example, the process chamber side) of the vacuum pump. Contamination of the upstream process due to the solidified product can be prevented.
[0039]
In addition, the structure of this invention is not limited to embodiment mentioned above, In the range which does not deviate from the summary of this invention, it can change suitably.
[0040]
【The invention's effect】
The vacuum pump of the present invention has the following effects.
According to the first aspect of the present invention, since the trap portion that communicates with the gas flow path in the casing from the intake port to the exhaust port and has a temperature lower than the sublimation temperature of the gas is provided, Can be solidified and trapped. As a result, since the solidified material is less likely to adhere to the pump mechanism periphery and components on the downstream side of the trap, it is possible to extend the maintenance interval such as disassembly and cleaning performed so that troubles due to the solidified material do not occur, The economic effect of improving productivity is extremely high.
Therefore, the solidified material is positively deposited in the trap part without being affected by cooling for the purpose of protecting the rotor blade made of aluminum alloy or the like, and the solidified material is prevented from being deposited in a part that causes damage or breakage of the pump mechanism. As a result, it can be applied to a gas containing a gas component of a solidified product having a high sublimation temperature.
In this case, since the amount of solidified deposit increases by setting the space volume of the trap portion large, the optimum value may be determined in consideration of the miniaturization of the vacuum pump and the maintenance interval.
[0041]
Further, in a two-stage compression type vacuum pump in which the rotating body includes an axial flow stage and a thread groove stage, a trap portion is provided in communication with a gas flow path between the axial flow stage and the thread groove stage. Thus, the trapped portion can be provided in front of the region that is most likely to be solidified to trap the solidified material efficiently.
In addition, by providing the trap part at a position away from the main flow path of the gas flow path, the trap part is provided at a position substantially away from the compression mechanism. Damage to pump mechanisms such as blades is difficult.
Moreover, by providing an opening / closing means for removing the solidified substance in the trap part, it is possible to remove the accumulated solidified substance without carrying out decomposition cleaning or reducing the number of executions. The economic effect due to the ease of maintenance work is extremely high.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration example of a vacuum pump as one embodiment of the present invention, in which (a) is a two-stage compression type and (b) is a one-stage compression type.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a specific configuration example of a two-stage compression type vacuum pump according to the present invention.
3 is an enlarged cross-sectional view of the main part of FIG. 2;
4 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a modified example of FIG. 3;
FIG. 5 is a partial sectional perspective view showing a configuration example of a conventional vacuum pump.
FIG. 6 is a cross-sectional view of a main part of a vacuum pump showing a conventional example.
[Explanation of symbols]
20, 20 ', 20A Vacuum pump 21 Casing 22 Intake port 23 Exhaust port 24 Stationary body 25 Stationary blades 27, 27A Trap unit 30, 30' Pump mechanism 31, 31 'Rotating body 32 Rotor blade 33 Screw groove portion 41 Heat sink 45 Cooling Water channel 47 Opening / closing lid (opening / closing means for removing solidified material)

Claims (4)

ガスの吸気口と排気口とを有するケーシング内に動翼を備えた回転体と静翼を備えた静止体とを具備してなるポンプ機構が配設され、前記吸気口から吸引したガスを前記排気口から排出するように構成された真空ポンプであって、
前記吸気口から前記排気口に至るケーシング内のガス流路に連通し、前記ケーシング内にもしくは前記ケーシングの外側へ突出させ、前記ガスの昇華温度よりも低い温度となるように冷却手段により冷却される空間であるトラップ部を設けたことを特徴とする真空ポンプ。
A pump mechanism comprising a rotating body having a moving blade and a stationary body having a stationary blade is disposed in a casing having a gas inlet and an exhaust port, and the gas sucked from the inlet is A vacuum pump configured to exhaust from an exhaust port,
It communicates with the gas flow path in the casing from the intake port to the exhaust port, protrudes into the casing or the outside of the casing, and is cooled by the cooling means so that the temperature becomes lower than the sublimation temperature of the gas. A vacuum pump characterized in that a trap part is provided.
前記回転体が軸流段とねじ溝段とを備え、前記トラップ部を前記軸流段と前記ねじ溝段との間のガス流路に連通させて設けたことを特徴とする請求項1記載の真空ポンプ。  The rotary body includes an axial flow step and a thread groove step, and the trap portion is provided in communication with a gas flow path between the axial flow step and the screw groove step. Vacuum pump. 前記トラップ部が前記ガス流路の主流路を外れた位置に設けられていることを特徴とする請求項1または2記載の真空ポンプ。  The vacuum pump according to claim 1 or 2, wherein the trap portion is provided at a position outside the main flow path of the gas flow path. 前記トラップ部が、固化物除去用の開閉手段を備えていることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の真空ポンプ。  The vacuum pump according to any one of claims 1 to 3, wherein the trap section includes an opening / closing means for removing a solidified substance.
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