JPH10238462A - Vacuum evacuation device and maintenance method therefor - Google Patents
Vacuum evacuation device and maintenance method thereforInfo
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- JPH10238462A JPH10238462A JP9043711A JP4371197A JPH10238462A JP H10238462 A JPH10238462 A JP H10238462A JP 9043711 A JP9043711 A JP 9043711A JP 4371197 A JP4371197 A JP 4371197A JP H10238462 A JPH10238462 A JP H10238462A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、真空排気装置とそ
のメンテナンス方法に係り、特にドライ真空ポンプを含
む真空排気装置とそのメンテナンス方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an evacuation apparatus and a maintenance method thereof, and more particularly to an evacuation apparatus including a dry vacuum pump and a maintenance method thereof.
【０００２】ドライ真空ポンプは排気室に油を一切使用
しない機械式真空ポンプであり、油逆流汚染のないクリ
ーンな真空が得られるから、近年、半導体ウェーハを反
応性のプロセスガスを用いて処理する装置等に付帯する
真空排気装置に、多く採用されている。A dry vacuum pump is a mechanical vacuum pump that does not use any oil in an exhaust chamber and can obtain a clean vacuum free of oil backflow contamination. In recent years, a semiconductor wafer is processed using a reactive process gas. It is widely used in vacuum evacuation devices attached to devices and the like.
【０００３】[0003]
【従来の技術】従来の真空排気装置の一例を図５を参照
しながら説明する。図５は従来の真空排気装置の構成図
である。同図において、１はこの真空排気装置の排気対
象となる反応容器であり、この中にプロセスガスを導入
して例えば半導体ウェーハの表面に薄膜を成長させる。
２は排気配管、３はバルブ、４はブースタポンプ、５は
ドライ真空ポンプ、６は排気トラップ、１１及び１２は
Ｎ2 パージ配管、１３は冷却水配管である。2. Description of the Related Art An example of a conventional evacuation apparatus will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a configuration diagram of a conventional evacuation apparatus. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a reaction vessel to be evacuated by the vacuum evacuation apparatus, into which a process gas is introduced to grow a thin film, for example, on the surface of a semiconductor wafer.
2 is an exhaust pipe, 3 is a valve, 4 is a booster pump, 5 is a dry vacuum pump, 6 is an exhaust trap, 11 and 12 are N 2 purge pipes, and 13 is a cooling water pipe.
【０００４】この真空排気装置の主ポンプはドライ真空
ポンプ５であり、前段には必要に応じてブースタポンプ
４が設けられるが、後段に補助ポンプは設けられていな
い。このドライ真空ポンプ５は多段ルーツ型である。こ
のポンプは圧縮熱の発生が大きく、かつ真空下の熱伝達
が悪いため、内部は後段ほど高温になってロータがケー
シングに接触するおそれがある。これを防ぐために水冷
部を有しており（図示は省略）、これに冷却水配管１３
が接続されている。[0004] The main pump of this vacuum evacuation apparatus is a dry vacuum pump 5, and a booster pump 4 is provided at the front stage as required, but no auxiliary pump is provided at the rear stage. This dry vacuum pump 5 is a multi-stage roots type. This pump generates a large amount of heat of compression and has poor heat transfer under vacuum. Therefore, the temperature of the inside of the pump becomes higher at a later stage, and the rotor may come into contact with the casing. To prevent this, a water cooling unit is provided (not shown), and a cooling water pipe 13
Is connected.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
従来の真空排気装置では、ドライ真空ポンプを冷却水で
冷却することによりポンプ内部に反応生成物や未反応ガ
スが固形化した生成物が付着してそのポンプが故障する
ことが多く、その結果、この真空排気装置を備えた処理
装置の稼働率が低下する、という問題があった。また、
この生成物付着の抑制には、Ｎ2 パージ配管から多量の
Ｎ2 ガスをポンプ内に導入して未反応ガスを希釈するこ
とが有効であるが、ポンプの排気能力の点から、Ｎ2 ガ
スを多量に流すことはできなかった。However, in such a conventional evacuation apparatus, when a dry vacuum pump is cooled with cooling water, reaction products and products in which unreacted gas is solidified adhere to the inside of the pump. Then, the pump often breaks down, and as a result, there is a problem that the operating rate of the processing apparatus provided with the vacuum exhaust device is reduced. Also,
The suppression of the product deposited, it is effective to dilute the unreacted gas is introduced from the N 2 purge line a large amount of N 2 gas into the pump, in terms of pumping capacity of the pump, N 2 gas Could not be flowed in large quantities.
【０００６】本発明は、このような問題を解決して、ド
ライ真空ポンプ内の生成物付着を防止することで装置稼
働率を向上させることが可能な真空排気装置を提供する
ことを目的とする。[0006] It is an object of the present invention to provide a vacuum evacuation apparatus capable of solving such problems and preventing the adhesion of products in a dry vacuum pump to improve the operation rate of the apparatus. .
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明は請求項１では、ドライ真空ポンプと、該ド
ライ真空ポンプの後段に位置する補助ポンプと、該補助
ポンプの排気性能を変化させる調節手段とを有する真空
排気装置としている。In order to achieve this object, according to the present invention, a dry vacuum pump, an auxiliary pump located downstream of the dry vacuum pump, and a pumping performance of the auxiliary pump are changed. And a vacuum evacuation device having an adjusting means for causing the evacuation.
【０００８】更に、請求項２では、前記ドライ真空ポン
プの温度を検出する温度センサと、前記調節手段を含み
該ドライ真空ポンプを所定の温度に維持するように制御
する制御手段とを有する真空排気装置としている。更
に、請求項３では、前記補助ポンプを回転式真空ポンプ
としている。更に、請求項４では、前記回転式真空ポン
プを水封ポンプとしている。[0008] Further, according to a second aspect of the present invention, a vacuum pump having a temperature sensor for detecting the temperature of the dry vacuum pump, and control means including the adjusting means for controlling the dry vacuum pump to maintain a predetermined temperature. Equipment. Further, in the third aspect, the auxiliary pump is a rotary vacuum pump. Further, in claim 4, the rotary vacuum pump is a water ring pump.
【０００９】即ち、ドライ真空ポンプを冷却水で冷却す
るのではなく、補助ポンプを設けることでドライ真空ポ
ンプでの発熱を減らしている。補助ポンプの排気性能を
変化させることによりドライ真空ポンプの背圧が変化
し、この背圧に応じてドライ真空ポンプ内の発熱量が変
化するから、ポンプ内温度の制御が容易である。これに
より、ドライ真空ポンプの内部温度を、過熱によるロー
タ接触を引き起こさない範囲で高温に維持することで、
生成物の付着を防止することができ、その結果、装置稼
働率が向上する。また、補助ポンプを設けることで排気
能力に余力を生じるから、ドライ真空ポンプ内に比較的
多量のＮ2 ガスを導入することができるようになる。That is, the heat generated by the dry vacuum pump is reduced by providing an auxiliary pump instead of cooling the dry vacuum pump with cooling water. By changing the exhaust performance of the auxiliary pump, the back pressure of the dry vacuum pump changes, and the amount of heat generated in the dry vacuum pump changes according to the back pressure, so that the temperature inside the pump can be easily controlled. As a result, by maintaining the internal temperature of the dry vacuum pump at a high temperature within a range that does not cause rotor contact due to overheating,
Product adhesion can be prevented, and as a result, the operation rate of the apparatus is improved. In addition, since the provision of the auxiliary pump causes a surplus in the exhaust capacity, a relatively large amount of N 2 gas can be introduced into the dry vacuum pump.
【００１０】この補助ポンプが回転式真空ポンプであれ
ば、モータの回転数を変化させることによりそのポンプ
の排気性能が変化するから、制御が容易である。この回
転式真空ポンプが水封ポンプであれば、水封ポンプが生
成物をトラップするから、ドライ真空ポンプと補助ポン
プとの距離が短い場合等ではこの間の排気トラップを省
略することが可能となる。If the auxiliary pump is a rotary vacuum pump, the control is easy because the pumping performance of the pump changes by changing the rotation speed of the motor. If the rotary vacuum pump is a water-sealed pump, the water-sealed pump traps the product, so that when the distance between the dry vacuum pump and the auxiliary pump is short, the exhaust trap during this time can be omitted. .
【００１１】また、請求項５では、ドライ真空ポンプ
と、該ドライ真空ポンプの後段に位置する補助ポンプ
と、該ドライ真空ポンプと該補助ポンプとの間に位置す
る排気トラップと、該補助ポンプのモータ回転数を変化
させる調節手段とを有する真空排気装置のメンテナンス
方法において、該ドライ真空ポンプが所定の温度に維持
されている状態での該補助ポンプのモータ回転数の長期
的な変化を監視し、該モータ回転数に基づいて該排気ト
ラップの交換を行うようにしている。According to a fifth aspect of the present invention, a dry vacuum pump, an auxiliary pump located downstream of the dry vacuum pump, an exhaust trap located between the dry vacuum pump and the auxiliary pump, In a maintenance method for a vacuum exhaust device having an adjusting means for changing a motor rotation speed, a long-term change in the motor rotation speed of the auxiliary pump while the dry vacuum pump is maintained at a predetermined temperature is monitored. The exhaust trap is replaced based on the motor speed.
【００１２】即ち、排気トラップへの生成物捕捉量の増
加して排気抵抗が増加すると、それに応じて補助ポンプ
のモータ回転数が増加するから、このモータ回転数を監
視することにより、排気トラップの交換時期を的確に判
断することができ、従って長期間の使用が可能となり、
その結果、装置稼働率が向上する。That is, if the exhaust resistance increases due to an increase in the amount of product trapped in the exhaust trap, the motor rotation speed of the auxiliary pump increases accordingly. It is possible to accurately determine the time of replacement, so long-term use is possible,
As a result, the operation rate of the device is improved.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】本発明の真空排気装置の実施の形
態を図１、図２、図３及び図４を参照しながら説明す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a vacuum exhaust device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1, 2, 3 and 4. FIG.
【００１４】図１は本発明の一実施形態を示す装置構成
図である。同図において、１はこの真空排気装置の排気
対象となる反応容器であり、この中にプロセスガスを導
入して例えば半導体ウェーハの表面に薄膜を成長させ
る。２は排気配管、３及び７はバルブ、４はブースタポ
ンプ、５はドライ真空ポンプ、６は排気トラップ、８は
補助ポンプ、９は温度センサ、１０は制御ユニット（制
御手段）、１１及び１２はＮ2 パージ配管である。FIG. 1 is an apparatus configuration diagram showing an embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a reaction vessel to be evacuated by the vacuum evacuation apparatus, into which a process gas is introduced to grow a thin film, for example, on the surface of a semiconductor wafer. 2 is an exhaust pipe, 3 and 7 are valves, 4 is a booster pump, 5 is a dry vacuum pump, 6 is an exhaust trap, 8 is an auxiliary pump, 9 is a temperature sensor, 10 is a control unit (control means), and 11 and 12 are This is an N 2 purge pipe.
【００１５】この真空排気装置の主ポンプはドライ真空
ポンプ５であり、その前段には必要に応じてブースタポ
ンプ４（例えばメカニカルブースタポンプ）が設けら
れ、後段には補助ポンプ８が設けられている。このドラ
イ真空ポンプ５は多段ルーツ型であり、補助ポンプ８は
水封ポンプ又は油回転ポンプである。The main pump of this evacuation apparatus is a dry vacuum pump 5, in which a booster pump 4 (for example, a mechanical booster pump) is provided at a preceding stage as required, and an auxiliary pump 8 is provided at a later stage. . The dry vacuum pump 5 is a multi-stage roots type, and the auxiliary pump 8 is a water ring pump or an oil rotary pump.
【００１６】ルーツ型ポンプは図２に示すように、平行
する二本の軸２１，２２にそれぞれ固定された三葉（又
は二葉）のロータ２３，２４がケーシング２５内を僅か
の隙間を保ちながら互いに逆方向に回転して排気するも
のである。多段ルーツ型ポンプの例を図３に示す。この
例ではケーシング２５内でロータが五段に配設されてお
り、吸気を一段目から順次圧縮して五段目から排気す
る。二乃至四段目にはＮ 2 パージ配管１１が接続されて
おり、それぞれ、管路にオリフィスを挿入する等して、
適宜の流量でＮ2 ガスを導入することができる。尚、多
段ルーツ型ポンプは、通常、圧縮熱を排除するために水
冷部を有しているが、本発明では水冷しない。但し、ポ
ンプ付属のモータ５ａが水冷キャンドモータである場合
にはこれを水冷する必要がある。As shown in FIG. 2, the roots type pump is a parallel type.
Three leaves fixed to two shafts 21 and 22
Is a two-leaf) rotor 23, 24
While rotating in the opposite directions while maintaining the gap between
It is. FIG. 3 shows an example of a multi-stage roots pump. this
In the example, the rotors are arranged in five stages in the casing 25.
To compress the intake air sequentially from the first stage and exhaust it from the fifth stage.
You. N in the second to fourth stage TwoThe purge pipe 11 is connected
And insert an orifice into the pipeline, etc.
N at appropriate flow rateTwoGas can be introduced. In addition, many
Stage roots pumps usually use water to eliminate the heat of compression.
Although it has a cold part, it is not water-cooled in the present invention. However,
When the motor 5a attached to the pump is a water-cooled canned motor
Need to be water cooled.
【００１７】温度センサ９はドライ真空ポンプ５の温度
（例えばケーシングの排気口付近）を測定する。制御ユ
ニット１０はインバータにより補助ポンプ８付属のモー
タ８ａの電源周波数を変化させてその回転数を変える調
節手段を有し、温度センサ９の出力値に応じてインバー
タを制御し、モータ８ａの回転数を変えることで補助ポ
ンプ８の排気能力を調整し、温度センサ９の出力値が所
望の範囲内となるように制御する。これにより、ドライ
真空ポンプ５の内部温度を、過熱によるロータ接触を引
き起こさない範囲で高温に維持することで、生成物の付
着を防止することができる。The temperature sensor 9 measures the temperature of the dry vacuum pump 5 (for example, near the exhaust port of the casing). The control unit 10 has an adjusting means for changing the power frequency of the motor 8a attached to the auxiliary pump 8 by an inverter to change the number of revolutions thereof. The control unit 10 controls the inverter according to the output value of the temperature sensor 9 to control the number of revolutions of the motor 8a. Is changed, the exhaust capacity of the auxiliary pump 8 is adjusted, and the output value of the temperature sensor 9 is controlled to be within a desired range. Thus, by keeping the internal temperature of the dry vacuum pump 5 at a high temperature within a range that does not cause rotor contact due to overheating, it is possible to prevent the adhesion of products.
【００１８】排気トラップ６はドライ真空ポンプ５の排
気側の排気配管２が生成物で閉塞するのを防止するため
のものであり、使用中、徐々に生成物が溜まって次第に
排気抵抗が増加するから、時々これを交換しなければな
らない。本発明の真空排気装置では、この排気抵抗が増
加してドライ真空ポンプ５の温度が上昇し、温度センサ
９の出力が増加すると、制御ユニット１０は補助ポンプ
８のモータ回転数を上げてドライ真空ポンプ５の温度を
設定値まで下げる。従って、モータ８ａの回転数（又は
その電源周波数）を監視することにより、一つの排気ト
ラップ６を、モータ８ａの回転数が許容される上限値に
達する程度まで使用することができる。モータ８ａの回
転数（又はその電源周波数）が一定値に達することによ
りアラームを発するようにしてもよい。The exhaust trap 6 is for preventing the exhaust pipe 2 on the exhaust side of the dry vacuum pump 5 from being clogged with the product. During use, the product gradually accumulates and the exhaust resistance gradually increases. From time to time this has to be replaced. In the evacuation apparatus of the present invention, when the evacuation resistance increases and the temperature of the dry vacuum pump 5 increases and the output of the temperature sensor 9 increases, the control unit 10 increases the motor rotation speed of the auxiliary pump 8 to increase the dry vacuum. Lower the temperature of the pump 5 to the set value. Therefore, by monitoring the rotation speed of the motor 8a (or its power supply frequency), one exhaust trap 6 can be used until the rotation speed of the motor 8a reaches an allowable upper limit. An alarm may be issued when the number of rotations of the motor 8a (or its power supply frequency) reaches a certain value.
【００１９】図４は本発明の他の実施形態を示す装置構
成図である。同図において、図１と同じものには同一の
符号を付与した。ここでは、補助ポンプ８は水封ポンプ
に限る。ドライ真空ポンプ５の後に排気トラップを設け
ず、補助ポンプ８（水封ポンプ）に生成物を捕捉させ
る。補助ポンプ８をドライ真空ポンプ５の近くに（排気
配管２内に生成物が付着しない程度に）配置できる場合
等に、このような構成が可能である。FIG. 4 is a diagram showing the configuration of an apparatus according to another embodiment of the present invention. In the figure, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. Here, the auxiliary pump 8 is limited to a water ring pump. An exhaust trap is not provided after the dry vacuum pump 5, and the auxiliary pump 8 (water ring pump) captures the product. Such a configuration is possible when the auxiliary pump 8 can be arranged near the dry vacuum pump 5 (to the extent that products do not adhere to the exhaust pipe 2).
【００２０】本発明は以上の例に限定されることなく、
更に種々変形して実施することができる。例えば、ドラ
イ真空ポンプとして、ルーツ型に代えてクロー型、スク
リュー型、ターボ型、又はスクロール型とした場合であ
っても、本発明は有効である。The present invention is not limited to the above examples,
Further, various modifications can be made. For example, the present invention is effective even when the dry vacuum pump is a claw type, a screw type, a turbo type, or a scroll type instead of the roots type.
【００２１】[0021]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ドライ真空ポンプ内の生成物付着を防止することで装置
稼働率を向上させることが可能な真空排気装置を提供す
ることができる。As described above, according to the present invention,
It is possible to provide a vacuum evacuation apparatus capable of improving the operation rate of the apparatus by preventing adhesion of products in the dry vacuum pump.
【図１】 本発明の一実施形態を示す装置構成図であ
る。FIG. 1 is an apparatus configuration diagram showing an embodiment of the present invention.
【図２】 ルーツ型真空ポンプの説明図である。FIG. 2 is an explanatory view of a roots type vacuum pump.
【図３】 多段ルーツ型真空ポンプの説明図である。FIG. 3 is an explanatory view of a multi-stage roots vacuum pump.
【図４】 本発明の他の実施形態を示す装置構成図であ
る。FIG. 4 is an apparatus configuration diagram showing another embodiment of the present invention.
【図５】 従来例の真空排気装置の構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram of a conventional vacuum exhaust device.
【符号の説明】 １ 反応容器 ２ 排気配管 ３，７ バルブ ４ ブースタポンプ ４ａ，５ａ モータ ５ ドライ真空ポンプ ６ 排気トラップ ８ 補助ポンプ ８ａ モータ ９ 温度センサ １０ 制御ユニット（制御手段） １１，１２ Ｎ2 パージ配管 １３ 冷却水配管 ２１，２２ 軸 ２３，２４ ロータ ２５ ケーシング[Description of Signs] 1 Reaction vessel 2 Exhaust pipe 3, 7 Valve 4 Booster pump 4a, 5a Motor 5 Dry vacuum pump 6 Exhaust trap 8 Auxiliary pump 8a Motor 9 Temperature sensor 10 Control unit (control means) 11, 12 N 2 purge Piping 13 Cooling water pipe 21, 22 Shaft 23, 24 Rotor 25 Casing
Claims (5)
プの後段に位置する補助ポンプと、該補助ポンプの排気
性能を変化させる調節手段と、を有することを特徴とす
る真空排気装置。1. An evacuation apparatus comprising: a dry vacuum pump; an auxiliary pump located downstream of the dry vacuum pump; and adjusting means for changing the exhaust performance of the auxiliary pump.
温度センサと、前記調節手段を含み該ドライ真空ポンプ
を所定の温度に維持するように該補助ポンプの排気性能
を変化させる制御手段と、を有することを特徴とする請
求項１記載の真空排気装置。2. A temperature sensor for detecting a temperature of the dry vacuum pump, and a control means including the adjusting means for changing the exhaust performance of the auxiliary pump so as to maintain the dry vacuum pump at a predetermined temperature. The evacuation apparatus according to claim 1, further comprising:
り、前記調節手段が該補助ポンプのモータ回転数を調節
するものであることを特徴とする請求項１又は２記載の
真空排気装置。3. The vacuum evacuation apparatus according to claim 1, wherein said auxiliary pump is a rotary vacuum pump, and said adjusting means adjusts a motor rotation speed of said auxiliary pump.
ることを特徴とする請求項３記載の真空排気装置。4. The vacuum evacuation apparatus according to claim 3, wherein the rotary vacuum pump is a water ring pump.
プの後段に位置する補助ポンプと、該ドライ真空ポンプ
と該補助ポンプとの間に位置する排気トラップと、該補
助ポンプのモータ回転数を変化させる調節手段と、を有
する真空排気装置のメンテナンス方法であって、 該ドライ真空ポンプが所定の温度に維持されている状態
での該補助ポンプのモータ回転数の長期的な変化を監視
し、該モータ回転数に基づいて該排気トラップの交換を
行うことを特徴とする真空排気装置のメンテナンス方
法。5. A dry vacuum pump, an auxiliary pump located downstream of the dry vacuum pump, an exhaust trap located between the dry vacuum pump and the auxiliary pump, and changing a motor rotation speed of the auxiliary pump. Adjusting means for causing the vacuum pump to maintain the dry vacuum pump at a predetermined temperature, monitoring a long-term change in the number of revolutions of the motor of the auxiliary pump, A maintenance method for a vacuum exhaust device, wherein the exhaust trap is replaced based on a motor rotation speed.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04371197A JP3941147B2 (en) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | Vacuum exhaust apparatus and maintenance method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04371197A JP3941147B2 (en) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | Vacuum exhaust apparatus and maintenance method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10238462A true JPH10238462A (en) | 1998-09-08 |
| JP3941147B2 JP3941147B2 (en) | 2007-07-04 |
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ID=12671397
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP04371197A Expired - Lifetime JP3941147B2 (en) | 1997-02-27 | 1997-02-27 | Vacuum exhaust apparatus and maintenance method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3941147B2 (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004514465A (en) * | 2000-05-24 | 2004-05-20 | テラ・チツプス・ベー・ブイ | Apparatus and method for frying product |
| JP2008008302A (en) * | 2001-09-06 | 2008-01-17 | Ulvac Japan Ltd | Energy saving method of multistage system volume transfer type dry vacuum pump |
| JP2015500944A (en) * | 2011-12-14 | 2015-01-08 | ステアリング・インダストリー・コンサルト・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングＳｔｅｒｌｉｎｇ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ Ｃｏｎｓｕｌｔ ＧｍｂＨ | Apparatus and method for emptying a chamber and purifying gases taken from the chamber |
| JP6120469B1 (en) * | 2016-09-21 | 2017-04-26 | 株式会社テクノス | Operation method to extend the life of the vacuum pump |
| CN112032021A (en) * | 2020-09-10 | 2020-12-04 | 北京通嘉宏瑞科技有限公司 | Temperature regulation and control device for vacuum pump and use method |
| JP2021020302A (en) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | 株式会社デンソーウェーブ | Adsorption hand for robot |
-
1997
- 1997-02-27 JP JP04371197A patent/JP3941147B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004514465A (en) * | 2000-05-24 | 2004-05-20 | テラ・チツプス・ベー・ブイ | Apparatus and method for frying product |
| JP4903970B2 (en) * | 2000-05-24 | 2012-03-28 | テラ・チツプス・ベー・ブイ | Apparatus and method for frying product |
| JP2008008302A (en) * | 2001-09-06 | 2008-01-17 | Ulvac Japan Ltd | Energy saving method of multistage system volume transfer type dry vacuum pump |
| JP2015500944A (en) * | 2011-12-14 | 2015-01-08 | ステアリング・インダストリー・コンサルト・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングＳｔｅｒｌｉｎｇ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ Ｃｏｎｓｕｌｔ ＧｍｂＨ | Apparatus and method for emptying a chamber and purifying gases taken from the chamber |
| US11802562B2 (en) | 2011-12-14 | 2023-10-31 | Sterling Industry Consult Gmbh | Device and method for evacuating a chamber and purifying the gas extracted from said chamber |
| JP6120469B1 (en) * | 2016-09-21 | 2017-04-26 | 株式会社テクノス | Operation method to extend the life of the vacuum pump |
| WO2018055780A1 (en) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | 株式会社テクノス | Operation method for extending service life of fluid-drawing unit and vacuum pump |
| JP2018048586A (en) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | 株式会社テクノス | Operation method of increasing life of vacuum pump |
| JP2021020302A (en) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | 株式会社デンソーウェーブ | Adsorption hand for robot |
| CN112032021A (en) * | 2020-09-10 | 2020-12-04 | 北京通嘉宏瑞科技有限公司 | Temperature regulation and control device for vacuum pump and use method |
| CN112032021B (en) * | 2020-09-10 | 2024-04-26 | 北京通嘉宏瑞科技有限公司 | Temperature regulation and control device for vacuum pump and use method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3941147B2 (en) | 2007-07-04 |
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