JP4210601B2 - 下降管反応器ループ内での外部水素異性化を伴うスラリー炭化水素の合成 - Google Patents

Description

本発明は、外部下降管反応ループ内での液体異性化を含むスラリー炭化水素合成法に関する。より詳細には、本発明は、合成反応器内で合成された炭化水素スラリー液体を、少なくとも１つの外部下降管反応器を通して循環させ、そこでそれを水素異性化触媒、好ましくはモノリス触媒の存在下で水素と反応させることにより、液体を水素異性化し、その流動点を減じるスラリーフィッシャー−トロプシュ炭化水素合成法に関する。次いで前記液体を合成反応器へ戻す。

スラリーフィッシャー−トロプシュ炭化水素合成法は、現在よく知られており、特許および技術文献の双方において文書化されている。本方法は、Ｈ_２とＣＯの混合物を含む合成ガスを、炭化水素合成反応器内の高温反応性スラリー内に上向きに送ることを含んでなる。前記スラリーは、合成反応条件下で液体である合成された炭化水素を含んでなり、これにフィッシャー−トロプシュタイプの微粒子状触媒が分散されている。Ｈ_２とＣＯは触媒存在下で反応し、炭化水素を形成する。前記炭化水素液体は、反応器から継続的または断続的に取り出され、下流の１つ以上の品質向上操作にパイプライン輸送される。品質向上された製品としては、例えば、合成原油、種々の燃料および潤滑油留分並びにワックスを挙げることができる。下流の品質向上は、分留操作および炭化水素分子の少なくとも一部の分子構造の一部が変化を受ける転化操作（典型的には水素異性化を含む）を含んでいる。合成された炭化水素スラリー液体を水素異性化し、流動点と溶融点を減少すると、炭化水素スラリー液体が下流操作に移送される前に、そのパイプラインによる輸送性をより増加させる改善がなされることとなる。

本発明は、合成された炭化水素液体の一部を、合成反応器から少なくとも１つの外部下降管反応器に送り、そこでそれを、水素異性化触媒、好ましくはモノリス水素異性化触媒の存在下で水素と反応させて液体を水素異性化し、次いでその液体を合成反応器内の三相スラリー（主スラリー体）に戻すフィッシャー−トロプシュ炭化水素合成法に関する。合成反応条件で液体である合成炭化水素を含んでなるスラリー液体は、大部分がノルマルパラフィンからなり、水素異性化によりその流動点および溶融点が減少し、それによってポンプによる輸送性やパイプライン輸送性を増すことになる。下降管反応器とは、それと合成反応器との間のスラリー循環が、全部または大部分、密度駆動の液圧により達成され、流下スラリーの密度が合成反応器内よりも高いことを意味する。スラリー濃密化は、スラリーからガス気泡の少なくとも一部を除去することにより達成され、それによって、スラリーを下降管反応器内に送る前に濃密化する。１つ以上の下降管反応器はそれぞれ、単純で実質的に垂直の中空の流体導管またはパイプであり得る。この方法は、主スラリー体からの高温スラリーを、スラリー液体からガス気泡（好ましくは、ガス気泡および少なくとも一部の微粒子状固体の双方）を除去する手段と接触させ、次いでスラリー液体を、水素処理ガスと共に合成反応器から流出させて、１つ以上の外部下降管反応器に下向きに送ることを含んでなる。水素異性化触媒は、下降管反応器の内部に配置され、水素異性化域を構成する。流動点を減じたこの水素異性化炭化水素液体は、次に合成反応器内の主スラリー体へ戻される。このように、合成炭化水素液体は、合成反応器から出て１つ以上の外部下降管反応器の内部を下降し、そこを通過して合成反応器に戻る。下降管反応器は、それぞれ合成反応器の上部と下部に向かって開いている上部と下部の導管を経て、合成反応器内の主スラリー体と流体連通している。これは、スラリー液体の水素異性化を（ｉ）合成反応器から垂下し、従って合成反応器の一部である外部反応ループ内で、（ｉｉ）合成反応器で炭化水素を生成しつつ、炭化水素合成反応を妨害することなく行うことを可能にする。合成反応器中の水素異性化炭化水素液体の濃度は、平衡状態に達するまで増加し続ける。反応器が平衡に達すると、それから除かれるスラリー液体が大部分、流動点を減じた水素異性化炭化水素からなることがある。幾つかの場合において、合成反応器から取り出された液体炭化水素生成物のさらなる水素異性化は必要ではない。従って、本発明の方法は、合成反応器の下流における、別個の単独設置の水素異性化反応器およびその関連装置の必要性を減じ、ある場合においてはなくしさえする。下流の水素異性化反応器が必要とされる場合でも、水素異性化反応器は、それに送られる合成炭化水素液体が少なくとも部分的に水素異性化されない場合よりも小型になる。典型的には、全ての水素異性化炭化水素液体は、主スラリー体に戻され、それと混合されるが、幾つかの実施形態においては、水素異性化液体の一部は、下降管反応器から直接下流操作に送られる。

１つ以上の外部ループにおけるスラリー液体の水素異性化は、それと関連する熱交換手段を用いて水素異性化温度を調整し、合成反応器内とは異なる（例えばより高い）ものとすることを可能にする。より高い水素異性化温度により、より高価でない非貴金属の水素異性化触媒の利用が可能となる。ガス気泡、好ましくはスラリーガス気泡および微粒子状固体の除去手段は、好ましくは主スラリー体中に配置され、同一または別の手段を含むことができる。スラリーが下向きに水素異性化域に送られる前に、スラリー液体を少なくとも一部の触媒とその他の粒子から分離するために、種々のろ過手段を用いることができるが、本発明の実施においては、ろ過を使用しない公知のスラリー固体減少手段を用いることによって、ろ過手段の使用を避けることができる。本発明での使用に好適なガス気泡および固体の除去手段は知られており、例えば、特許文献１および特許文献２に開示されており、その開示は参照により本明細書中に組み込まれる。簡便なガス気泡除去手段が、特許文献３、特許文献４および特許文献５に開示されており、その開示もまた参照により本明細書中に組み込まれる。スラリーからのガス気泡除去は、それを濃密にし、このガス気泡除去を濃密化スラリーを下降管反応器に供給しその内部を通して下方に送ることに関連して適切に使用すると（例えば、外部の水素異性化域から垂直に十分上方でスラリーを濃密にする）、スラリーを合成反応器内から外部下降管反応器内を通って下方に、そして合成反応器へ戻して循環させる密度差駆動の液圧ヘッドを提供する。水素異性化前のスラリーからのガス気泡除去により、流体中のＣＯと水蒸気（そうしない場合、水素異性化水素と反応し、さらに水素異性化触媒に悪影響を与える恐れがある）の含量をも減少させる。流体の流動方向に垂直な最小固体断面積を有するモノリス水素異性化触媒は、触媒表面を下向きに横切る流体の圧力損失を最小にする。水素異性化域の上流でスラリーから触媒および他の固体微粒子（不活性熱移動粒子など）を除去することにより、モノリス触媒の摩耗や、水素異性化反応域の詰まりが減少する。

米国特許第５，８６６，６２１号明細書 米国特許第５，９６２，５３７号明細書 米国特許第５，３８２，７４８号明細書 米国特許第５，８１１，４６８号明細書 米国特許第５，８１７，７０２号明細書 米国特許第５，７５７，９２０号明細書 米国特許第５，７５０，８１９号明細書 英国特許出願公開第２，３２２，６３３Ａ号明細書 米国特許第５，９０８，０９４号明細書 米国特許第４，５６８，６６３号明細書 米国特許第４，６６３，３０５号明細書 米国特許第４，５４２，１２２号明細書 米国特許第４，６２１，０７２号明細書 米国特許第５，５４５，６７４号明細書 クリネス（Ｃｒｙｎｅｓ）ら著、「モノリスフロスリアクター：新規な三相触媒系の開発（Ｍｏｎｏｌｉｔｈｉｃ Ｆｒｏｔｈ Ｒｅａｃｔｏｒ：Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ ｏｆ ａ ｎｏｖｅｌ ｔｈｒｅｅ−Ｐｈａｓｅ Ｃａｔａｌｙｔｉｃ Ｓｙｓｔｅｍ）」、米国化学工学協会誌（ＡＩＣｈＥ Ｊ）、第４１巻、第２号、３３７−３４５頁（１９９５年２月）

本発明の方法は、広い意味で、炭化水素スラリー液体の一部を、炭化水素合成反応器内の主スラリー体から取り出し、そのガス気泡含量を減少させて、合成反応器の外部にあって、合成反応器と流体連通している下降管反応器内の水素異性化域内を下向きに通過させ、そこでそれを、水素異性化触媒の存在下、炭化水素液体の少なくとも一部を水素異性化させ、流動点を減じた水素異性化炭化水素液体を生成するのに有効な反応条件で水素と反応させ、水素異性化体の少なくとも一部を合成反応器に戻すスラリーフィッシャー−トロプシュ炭化水素合成法を含んでなる。スラリーが水素異性化触媒と接触する前に、ガス気泡と微粒子状固体双方の少なくとも一部が、スラリーから除去されることが好ましい。さらなる実施形態において、本発明は、合成ガスから炭化水素液体を生成しつつ、合成反応によって生成される炭化水素液体を水素異性化することを含む炭化水素合成法を含んでなり、前記方法は、
（ａ）Ｈ_２とＣＯの混合物を含んでなる合成ガスを、スラリーフィッシャー−トロプシュ炭化水素合成反応器中の、三相スラリーを含んでなるスラリー体に送る工程であって、前記スラリーは、スラリー炭化水素液体中にガス気泡および微粒子状炭化水素合成触媒を含んでなる工程；
（ｂ）触媒存在下、炭化水素を形成するために有効な反応条件でＨ_２とＣＯを反応させる工程であって、前記炭化水素の一部は反応条件で液体であり、スラリー炭化水素液体を構成する工程；
（ｃ）スラリー体のスラリーの一部と、ガス気泡を除去する手段を接触させて、合成反応器内のスラリー体を構成するスラリーよりも密度が高い、ガス気泡が減少した濃密化スラリー炭化水素液体を形成する工程；
（ｄ）水素処理ガスおよび（ｉｉｉ）において形成された濃密化炭化水素液体を、１つ以上の前記合成反応器の外部にあり、流体接触しており、またそこから垂下する下降管反応器内の水素異性化域へ送り、そこでそれらを、好ましくはモノリス水素異性化触媒存在下で反応させ、流動点の減じた炭化水素液体を形成する工程；および
（ｅ）流動点を減じた液体を全部または一部合成反応器に戻し、そこでそれをその中の主スラリー体と混合する工程
を含んでなる。

合成反応器内で前記液体を合成され、水素異性化しつつ、その一部を継続的または断続的に引き出し、下流操作に送る。

炭化水素合成反応器で合成されたワックス質スラリー液体は、典型的には５００°Ｆ＋炭化水素を含んでなり、その大部分が６５０〜７５０°Ｆ＋範囲の初期沸点を有する。終末沸点は少なくとも８５０°Ｆ、好ましくは少なくとも１０５０°Ｆであり、さらに高い（１０５０°Ｆ＋）ことすらある。この液体はまた、大部分は（５０重量％超）、典型的には９０重量％超、好ましくは９５重量％超、より好ましく９８重量％超のパラフィン性炭化水素を含んでなり、その大部分はノルマルパラフィンであり、これは本発明の文脈中で、特に炭化水素合成触媒がコバルト触媒成分を含んでなる場合に「パラフィン性」が意味するものである。正確な沸点範囲や炭化水素組成などは、合成に使用された触媒およびプロセス変数により決定される。無視できる量（例えば１ｗｐｐｍ未満）の硫黄および窒素化合物が含まれる。これらの性質を有し、本発明の方法に有用なスラリー液体は、触媒コバルト成分を有する触媒を用いて、スラリーフィッシャー−トロプシュ法により製造された。本発明の実施において、スラリーフィッシャー−トロプシュ炭化水素合成触媒は、触媒コバルト成分または鉄成分を含んでなることが好ましい。また、大抵の場合高分子量の炭化水素が好ましいので、合成反応のシュルツ−フローリー（Ｓｃｈｕｌｚ−Ｆｌｏｒｙ）アルファ値は、少なくとも０．９０であることが好ましい。スラリー中のガス気泡は、合成ガス、Ｃ_１〜Ｃ_４炭化水素（特にメタン）などの合成反応の蒸気およびガス状生成物、ＣＯ_２および水蒸気を含んでなる。水素異性化触媒は水蒸気により悪影響を受ける。従って、ガス気泡の除去は、スラリーを濃密化することに加えて、下流の水素異性化触媒に対しても有利である。垂直下降管を通って下降するガス気泡減少スラリーの流速は相当に高いことがあり、下降管反応器内の水素異性化域に注入された水素処理ガスのリフト作用を相殺するために高流速が望ましい。高液体流速は、水素処理ガスが流下スラリーを押し戻して下降管反応器から流出させることを防ぎ、また、水素異性化を生じる前に、ガスが水素異性化域を上昇し、流出することを防ぐ。特許文献３に開示されたタイプの垂直下降管パイプの上部に簡便なガス開放カップを用いた、３０フィート高さのスラリー炭化水素合成反応器での実験においては、３インチの下降管パイプに沿って１２フィート／秒の液体流速降下を生じ、それからガス気泡の６０容量％の半分だけが除去された。

水素異性化触媒は、スラリー炭化水素液体中のノルマルパラフィン性炭化水素を水素異性化するための水素化／脱水素および酸性水素化分解双方の機能を有している。触媒の水素化分解機能により、幾つかのワックス質スラリー液体からの低沸点物質への転化が生じる。合成反応器に接続された外部水素異性化反応域の使用は、水素異性化反応温度が、炭化水素合成反応器の温度（内部水素異性化域についてありうる程度まで）に限定されないことを意味する。従って、水素異性化反応温度は、スラリー炭化水素合成反応器内の温度範囲３２０〜６００°Ｆと比較して、典型的には３００〜９００°Ｆ、好ましくは５５０〜７５０°Ｆの範囲であり得る。しかし、水素異性化反応域内の圧力は、炭化水素合成反応器内の圧力と概ね同一であり、典型的には８０〜６００ｐｓｉｇの範囲となる。水素処理ガス速度は５００〜５０００ＳＣＦ／Ｂであり、２０００〜４０００ＳＣＦ／Ｂが好ましい範囲である。水素処理ガスとは、全てが水素、または好ましくは少なくとも約６０容量％の水素とアルゴンまたはメタンなどの不活性ガスを意味する。水素異性化中は、十分な水素分圧を保証するために、また流下スラリー中に残っているＣＯが水素異性化反応および触媒に悪影響を与えないように、過剰の水素が使用される。水素異性化触媒は、酸性金属酸化物支持体上に担持された１種以上の第ＶＩＩＩ族触媒金属成分を含んでなり、触媒に水素化機能および炭化水素を水素異性化するための酸機能の双方を与える。炭化水素合成反応器内温度のように比較的低い水素異性化温度では、触媒金属成分は、典型的にはＰｔまたはＰｄなどの第ＶＩＩＩ族貴金属、好ましくはＰｔを含んでなるものであってよい。しかし、本発明の方法を用いて使用できるより高い温度では、触媒金属成分は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅなどの、より高価でない１種以上の非貴金属の第ＶＩＩＩ族金属を含んでなることが好ましく、典型的には、第ＶＩＢ族金属酸化物（例えばＭｏまたはＷ）プロモータをも含む。触媒はまた、水素化分解抑制剤として銅などの第ＩＢ族金属を有していてもよい。ここでいう族とは、サージェント・ウェルチ サイエンティフィック社（Ｓｅｒｇｅｎｔ−Ｗｅｌｃｈ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）社により１９６８年に版権のサージェント・ウェルチの元素周期律表に見られる族をいう。知られているように、触媒の分解および水素化活性は、特定の組成物によって決定される。好ましい実施形態において、触媒活性金属は、コバルトおよびモリブデンを含んでなる。酸性酸化物の支持体または担体としては、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、シリカ−アルミナ−ホスフェート、チタニア、ジルコニア、バナジア、および他の第ＩＩ族、第ＩＶ族、第Ｖ族または第ＶＩ族酸化物、ならびに超安定ＹシーブなどのＹシーブを挙げることができる。好ましい支持体としては、シリカ、アルミナおよびシリカ−アルミナ、より好ましくは、バルク支持体中のシリカ濃度（表面シリカに対して）が約５０重量％未満、好ましくは３５重量％未満、より好ましくは１５〜３０重量％未満であるシリカ−アルミナを挙げることができる。公知のように、支持体がアルミナである場合、しばしば少量のフッ素または塩素がそれに組み込まれて酸機能性を増加する。しかし本発明の方法においては、炭化水素合成触媒の損傷を防ぐために触媒中のハロゲンの使用は避けるべきである。

下降管反応器内の少なくとも１つの水素異性化域内において貴金属を含有する触媒を、下降管反応器内の他の少なくとも１つの水素異性化域内において非貴金属を含有する触媒を用いることによって、水素異性化を促進することができる。

本発明の実施において特に好ましい水素異性化触媒は、非晶質低シリカアルミナ−シリカ支持体に担持されたコバルトおよびモリブデン触媒成分を含んでなり、最も好ましくは、コバルト成分が支持体上に堆積され、モリブデン成分が加えられた後で焼成したものである。この触媒は、シリカ含量が支持体の２０〜３０重量％である非晶質アルミナ−シリカ支持体に担持された、１０〜２０重量％のＭｏＯ_３および２〜５重量％のＣｏＯを含有する。この触媒は、良好な選択性保持能と、酸素化物（フィッシャー−トロプシュ法で生成されたワックス質原料に典型的に見出される）による不活化に対する耐性を有することが判明した。銅成分の添加は水素化分解を抑制する。この触媒の調製は、例えば、特許文献６および特許文献７に開示され、その開示は、参照により本明細書中に組み込まれる。

モノリス触媒は、自動車排気ガス用として、また、例えば非特許文献１に記載されているような論文に示される化学反応に関して知られている。さらに、波型タイプのモノリス触媒がフィッシャー−トロプシュ炭化水素合成用に示唆されている（特許文献８）。モノリス触媒は基本的に、その表面に触媒が塗布された、所望の形状のセラミックまたは金属担持構造体を含んでなる。モノリスは、金属発泡体でもよく、触媒組成物自体からも調製でき、またモノリス支持体上に堆積された触媒金属を有する触媒支持体（例えばモレキュラーシーブ）からも調製できる。この後者の場合、モノリスが磨耗しても、触媒はまだ水素異性化反応に利用できる。モノリスにとって好ましいチャンネルサイズは、＞３００μｍ〜６００μｍ未満の範囲である。非常に高い強度のモノリス触媒は、金属土台から、その上に好適なセラミック、次いで触媒を塗布して組立てることができる。触媒材料は、小粒径に粉砕され、水または有機液体などの適切な液体中でスラリー化し、次いで前記スラリーにより、ウォッシュコートとしてモノリス支持体表面に塗布され、焼成された仕上げ触媒であり得る。含浸または初期湿潤により、触媒前駆体材料のセラミック支持体への１回以上を塗布し、次いで乾燥および焼成することも可能である。本発明の実施において、流体の流動方向に垂直な最小固体断面積を有するモノリス触媒は、触媒表面を横切って流れる流体の圧力損失を最小にするために好ましい。このような触媒は、実質的に長手方向に平行な流体の流動チャンネルを含有するものに限定されない。しかし、触媒を横切る圧力損失は重要であるから、これを考慮に入れなければならない。ミクロンサイズのチャンネル開口や、２、３ミクロンオーダーの開口は、本願にとって十分に大きくはないが、一般に３００ミクロンを超える開口は許容できると考えられる。圧力損失を小さくするのに好適な触媒形状としては、連続気泡発泡体構造が挙げられ、流体の流動方向に垂直な断面積が小さい形状も使用できる。このような形状としては、例えば延伸星型（外周壁は有っても無くてもよい）、流体の流動方向に平行な長手方向のチャンネルを有する波型構造、流体の流動方向に実質的に平行な複数の開口流動チャンネルを有するハチの巣状などが挙げられる。多くのこれらの形状は、プレセラミックペーストから押出され、乾燥に次いで、グリーン状態または最終状態まで完全に焼かれ、触媒材料用の土台を提供する。さらにまた、水素異性化域に使用されるモノリス触媒の全部または幾つかは、わずかにねじれるか、または螺旋形をした金属片の形態であるケニックス（Ｋｅｎｉｃｓ（登録商標））静的混合器のような、低圧力損失の静的混合器の形態とすることができる。この形状を有するモノリス触媒は、ねじれた金属片上にセラミックを塗布し、次いでセラミック上に触媒を塗布または形成することにより調製できる。この利点は、水素と液体のより密な混合を提供し、ガスおよび液体が水素異性化域を通って下方へ流れる際の層別化を防ぐことである。

本発明の実施において、下降管反応器内の水素異性化域は、水素異性化域において互いの頂部に垂直に配列された複数のモノリスを含んでなることが好ましい。例えば、垂直に延びた実質的に垂直の下降管導管の場合、複数の円筒状のモノリスが、垂直に配列または下降管導管内の垂直軸の沿って配列されて、水素異性化域を形成できる。流体の流動方向に垂直な触媒モノリスの断面積は、典型的には、導管内部のそれに近い。前記域を通ってガスおよび液体が下方へ流れる際の層別化を防ぐために、少なくとも幾つかのモノリスの間に垂直に間隔があることが好ましい。より好ましくは、前記域を通って下方へ流れる水素処理ガスおよびスラリー液体の十分な混合および再混合を保証するために、少なくとも幾つかのアレイの間の間隔に、ケニックス（Ｋｅｎｉｃｓ（登録商標））静的混合器のような低圧力損失静的混合器が配置される。触媒モノリス自体の幾つかまたは全部が、良好な混合および低圧力損失を保証するために、低圧力損失静的混合器の形態であり得る。水素または水素処理ガスを、水素異性化域に沿って垂直に離れた複数のガス注入手段を経由して水素異性化域に注入することが好ましい。これは、ガスのリフト作用および層別化を減じ、流下する流体と水素の良好な混合を保証するのを助ける。各ガス注入点で注入ガスを流下する液体中に混合するために、水素異性化域内における１つ以上の低圧力損失静的混合器上流のこのような間隔に、水素が注入されることがより好ましい。本発明は、図を参照することによりさらに理解されよう。

図１を参照すると、スラリー炭化水素合成反応器１０は、底部に合成ガス供給ライン１４、頂部にガス生成物ライン１６を備えた円筒形容器１２を含んでなるように示されている。Ｈ_２とＣＯの混合物を含んでなる合成ガスは、供給ライン１４を経由して容器底部のプレナム間隔２２に導入され、次いで点線１８により簡単に示されるガス注入手段を通して上向きに注入され、スラリー体２０へ入るが、これは、反応器内の温度および圧力で液体である合成炭化水素を含んでなる炭化水素スラリー液体中に、上昇する合成ガスの気泡、合成反応のガスおよび蒸気生成物と共に、フィッシャー−トロプシュ触媒の固体微粒子を含んでなる三相スラリーである。好適なガス注入手段は、例えば特許文献９（その開示は参照により本明細書中に組み込まれる）に開示されるように、複数のガスインジェクタを含んでなり、これらは水平トレイまたはプレート（ガスインジェクタ以外の部分ではガスおよび液体不浸透性）に水平に配列され、且つそれを横切って延びる。スラリー中のＨ_２とＣＯは、微粒子状触媒の存在下で反応して、主としてパラフィン性の炭化水素を形成し、特に触媒が触媒コバルト成分を含んでいる場合、その大部分は反応条件において液体である。未反応合成ガスおよび炭化水素合成反応のガス状生成物が上昇し、スラリーの頂部から出て反応器頂部のガス回収空間２４に入り、そこからライン１６を経てテールガスとして炭化水素合成反応器から除去される。ボックス２６により簡単に示される、スラリーに浸漬されたフィルタ手段は、反応器内の炭化水素液体を触媒粒子から分離し、合成・水素異性化された炭化水素液体をライン２８を経て反応器から流出させる。フィルタ２６は、焼結金属、巻かれたワイヤなどから組立てることができ、液体生成物をスラリー中の微粒子状固体から分離し、ライン２８を経て取り出された水素異性化スラリー液体は、典型的にはさらなる処理に送られるか、流動点の減じた高精製シンクルードとして販売される。オーバーヘッド除去およびフィルタ交換手段は示していない。外部反応器ループ３０は、示されるように、スラリー入口および出口導管３４および３５を備えた垂直下降管３２を含んでなる、合成反応器内の三相スラリー２０と自由に流体連通する中空液体導管として示されている。便宜上、このような水素異性化ループが１つだけ示されているが、このようなループを複数使用してもよい。導管３４に対する流体入口は、スラリー体２０の頂部近くで上向きに開いている上向き開口カップの形態の、ガス解放手段３６を含んでなる。これは、特許文献３に開示されているような簡単なガス気泡解放カップであり得る。３４に入るガス気泡減少スラリーの液圧ヘッドを最大にするために、またスラリー２０内の触媒濃度が、典型的には頂部で最も低いことから、手段３６は、全体がスラリーに浸漬され、スラリーの上部に配置される。簡単のため、簡便なガス気泡除去手段のみを図示しているが、導管３４に対する流体入口に近いか、またはそれを含んでなる、ガス気泡と微粒子状固体の双方を除去する手段が使用されることが好ましい。導管３４は、下向きに曲げられた下降管を含んでなるものとして示され、３６のようなガス気泡および／またはガス気泡除去手段と組み合わせた場合、垂直から離れた角度以外、特許文献３、特許文献１および特許文献２に開示されたものと同様である。簡単のため、簡便な脱気手段のみを図示しているが、スラリーが３４を通って流下し３８に送られる前に、手段３６でスラリーを脱気し、かつ固体含量を減じることが好ましい。従来のフィルター、磁気式または遠心分離式固体分離手段などの手段にとっては、上記に引用の特許文献１および特許文献２に開示されたもののような、簡単なガス（好ましくはガスおよび固体）解放手段が好ましい。なぜならば、それらはポンプあるいは高価な装置を必要としないからである。それらはまた、密度差液圧ヘッドを提供し、スラリーを合成反応器から水素異性化ループ３０へ下降させ、そこから排出させて循環させる。手段３６において形成された、ガス（好ましくはガスと固体）が減少したスラリーは導管３４を流下し、ボックス３８として示される熱交換器を通過して、そこで間接的熱交換手段により冷却されるか、加熱される（より典型的には加熱される）。水素異性化する炭化水素液体を加熱または冷却する熱交換手段の使用は任意であり、また水素異性化触媒、および水素異性化に望ましい温度に対しての合成反応器内のスラリーの温度と圧力に依存する。水素異性化域と下降管の流体出口４６の間の他の熱交換器は示していないが、これは、必要ならば、水素異性化炭化水素液体が下降管を出て、導管３５を経て合成反応器に送られ、主スラリー体２０に入り、それと混合する際に、水素異性化スラリーを加熱または冷却する。ループ３０の垂直部分３２の内部は水素異性化域を含んでなり、１つ以上のモノリス水素異性化触媒セクション４０を含んでなる１つ以上のセクションを含んでいる。典型的には、また好ましくは、水素異性化域は、複数のモノリス触媒セクション４０を含んでなり、それぞれ１つ以上の別個の本体を含んでなり、また垂直に離れており、各段階の上流で注入された水素異性化水素ガスが、下流の触媒セクションと接触する前に流下液体と混ざり合うことが可能である。水素処理ガスは、複数のガス注入ライン４２により水素異性化域に注入される。水素処理ガスのこの複数のガス注入により、示された５段階の水素異性化セクションまたは域それぞれの前に、水素と流下液体のより効率的かつ完全な混合を提供し、ガス／液体層別化を減少し、また、外部ループ３０と合成反応器１０の間の液圧循環を妨害しがちな注入ガスのリフト作用を減じて、全部の水素が一点で下降管に注入された場合に遭遇する妨害よりも少なくする。水素異性化の間、水素は一部消費される。従って、水素異性化域の垂直軸に沿って垂直に離れた複数の水素注入点は、ガスのリフト作用を最小にし、ガスと液体のより効率的な混合を提供する。各触媒セクション間の垂直間隔に位置している、低圧力損失の静的混合器（例えば、金属板のねじれた細片を含んでなるケニックス（Ｋｅｎｉｃｓ（登録商標））静的混合器）は図１に示していない。１つ以上のこのような静的混合器が、各水素注入点の下流であり、且つ次の連続的な触媒セクションの上流である位置にあり、流下するスラリーが次の触媒セクションに入る前に、水素ガスとスラリーを混合、再混合する。ループ通過１回当たりの、炭化水素液体の水素異性化の程度は、触媒の種類、触媒表面積の大きさ、反応条件、水素ガスと炭化水素液体の流速、液体中の残留水分量および残留ＣＯ量（あれば）、炭化水素液体中のノルマルパラフィン性成分の濃度などによって変わる。水素異性化反応域から流出する炭化水素液体は、ノルマルパラフィンと流動点の減少した水素異性化成分の混合物を含んでなる。これらは、導管３５を経て合成反応器に流下し、その中でスラリーと混合する。所望ならば、この混合物の一部を、示されていない手段により、水素異性化合成反応器の生成物液体として外部ループから取り出し、残りを合成反応器に戻すことができる。出口導管３５の流体出口末端４６近くの簡単なバッフルプレート４４は、合成ガスの気泡および合成反応水が外部ループに入らないようにする。所望ならば、ループ３０から合成反応器に入る液体混合物に対して、矢印により示された水平な流れ成分を付与するために、他の簡単なバッフル４８をバッフル４４の上方に置いてもよい。すなわち、バッフル４４は、合成ガスの気泡および合成反応水が外部ループに入らないようにすることに加えて、液体に対して上向きの流れ成分を付与でき、次いで液体は、合成反応器底部のより近くで、より完全かつ効率的に流体を混合するために、バッフルプレート４８によって再度より水平に方向付けされる。また、水素異性化液体は、中にガスの気泡を有し、それがバッフル４４にかかわりなく前記液体を上昇する傾向にさせることとなる。バッフル４４の末端と合成反応器内壁の間に間隔が残り、解放触媒粒子が主スラリー体に落下することを可能にし、上昇する合成ガス原料によりスラリー液体にそれらが再分散される。また、スラリーに浸漬された頂部に上向き開口ガス解放カップ５２を有するガス気泡解放下降管５０が、合成反応器１０に示されている。これは、特許文献３に開示されたものに類似しており、スラリー２０の頂部と底部の間のより均一な触媒粒子分布を生じさせることを意図するものである。このような下降管が複数使用できる。複数の水素異性化ループは、合成反応器の外周を取り巻いて、合成反応器の外壁からも、また互いにも横に離れた配列とすることができる。反応器温度を所望の合成反応温度に維持するために、発熱性炭化水素合成反応の熱をいくらか除去する熱交換手段は、合成反応器内に示されていない。水素異性化域上方の、モノリス触媒を除去し、交換するための手段（ロッド、触媒除去ポートなど）も示されていない。

図２は、２つのモノリス触媒体４０を含有し、各モノリスのすぐ上流に圧力損失の非常に低い静的混合器９０を備えた水素異性化域の一部を示す簡易略側面図である。水素または水素処理ガスは、水素と流下液体との密な混合を保証するために、各静的混合器の上のライン４２を経て、各モノリスの上の間隔４１に注入され、混合物は次いで下のモノリス触媒に送られる。便宜上、モノリス体と静的混合器を２つだけ示してある。モノリス触媒体は、各々単一体として示されているが、各々互いに頂部に積み重ねられた複数の本体から作成でき、また典型的にはそのように作成される。静的混合器は、流下するガス−液体混合物の層別化をも減じる。従って、水素が各静的混合器の上に導入されなかった場合でも、静的混合器が、密なガス−液体混合物を、下のモノリス触媒体を通過する前に再確立する。図４−ａおよび４−ｂは、本発明の使用に好適なモノリス触媒体の形状の上部平面図と側面図であり、六方稠密ハニカム９２を含んでなる。複数の垂直な六角形チャンネル９４が、モノリスを貫通して下方に延び、その直径は各々約１／２インチで等しい。モノリスの外側周辺部９６は、外側の触媒表面積を増加させるように縦溝が彫られている。六方稠密充填は、面積対質量比を最大にする。しかし、使用できる他の多くの形状がある。

フィッシャー・トロプシュ炭化水素合成法においては、Ｈ_２とＣＯの混合物を含んでなる合成ガスをフィッシャー・トロプシュ触媒と接触させることによって、液状およびガス状の炭化水素生成物が形成されることが知られており、ここでＨ_２とＣＯは、シフト条件下または非シフト条件下で反応して炭化水素を形成するが、特に触媒金属がＣｏ、Ｒｕまたはその混合物を含んでなる場合、水性ガスシフト反応がほとんど、または全く生じない非シフト条件下が好ましい。好適なフィッシャー・トロプシュ反応タイプの触媒は、例えばＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｕなどの１種以上の第ＶＩＩＩ族触媒金属を含んでなる。一実施形態において、触媒は、Ｃｏと共に、Ｒｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｔｈ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｕ、ＭｇおよびＬａのうち１種以上を、触媒として効果的な量、好適な無機支持物質、好ましくは１種以上の耐熱性金属酸化物を含んでなるものに担時されて含んでなる。Ｃｏ含有触媒のための好ましい支持体は、特に、高分子量の主としてパラフィン性の液体炭化水素生成物が望まれるスラリー炭化水素合成法を用いる場合、チタニアを含んでなる。有用な触媒とそれらの調製は公知であり、その具体例は、例えば特許文献１０、特許文献１１、特許文献１２、特許文献１３および特許文献１４に見出だすことができるが、これらに限定されない。固定床、流動床およびスラリー炭化水素合成法は周知であり、文献に文書化されている。これら全ての方法において、好適なフィッシャー・トロプシュ型の炭化水素合成触媒の存在下、炭化水素を形成させるのに効果的な反応条件で合成ガスを反応させる。特に、触媒コバルト成分を有する触媒を使用する場合、標準室温条件（温度２５℃、圧力１気圧）において、これらの炭化水素のいくらかは液体、いくらかは固体（例えばワックス）、いくらかは気体である。スラリーフィッシャー−トロプシュ炭化水素合成法は、触媒コバルト成分を有する触媒を使用する場合、比較的高分子量のパラフィン性炭化水素を生成することができるために、しばしば好まれている。スラリー炭化水素合成法（好ましくは、本発明の実施に用いられる非シフト条件下で実施）においては、Ｈ_２とＣＯの混合物を含んでなる合成ガスを、炭化水素合成反応器内のスラリー中に上向きにバブリングさせる。スラリーは、反応条件で液体である合成反応の炭化水素生成物を含んでなる炭化水素スラリー液体中に、微粒子状フィッシャー−トロプシュ炭化水素合成触媒を含んでなる。水素対一酸化炭素のモル比は、約０．５〜４の広範囲であり得るが、より典型的には、約０．７〜２．７５の範囲内であり、好ましくは約０．７〜２．５の範囲である。フィッシャー−トロプシュ反応の化学量論的なモル比は２．０であるが、本発明の実施においては、炭化水素合成反応以外で所望の水素量を合成ガスから得るために、このモル比を増加することができる。スラリー法において、特に触媒コバルト成分を含んでなる合成触媒を使用する場合、Ｈ_２対ＣＯのモル比は、典型的には約２．１／１である。スラリー炭化水素合成法の条件は、触媒および所望の生成物に依存していくらか変わる。担持されたコバルト成分を含んでなる触媒を使用するスラリー法において、大部分がＣ_５＋パラフィン（例えば、Ｃ_５＋〜Ｃ_２００）、好ましくは、Ｃ_１０＋パラフィンを含んでなる炭化水素を形成するのに有効な典型的な条件には、例えば、それぞれ３２０〜６００°Ｆの温度、８０〜６００ｐｓｉの圧力および１００〜４０，０００Ｖ／時間／Ｖのガス空間速度（毎時）（１時間当たり、触媒１容積当たりの、ＣＯとＨ_２のガス状混合物の標準状態（６０°Ｆ、１気圧）における容積として表したもの）が含まれる。

合成反応条件において液体であり、本発明の実施によって水素異性化するスラリー液体を含んでなる炭化水素は、典型的には分留され、生じた留分の１種以上は１つ以上のさらなる転化操作を受ける。転化とは、炭化水素の少なくとも一部の分子構造が変化する１つ以上の操作を意味し、非触媒的方法（例えばスチームクラッキング）、および水素または他の共反応体の存在下または非存在下、留分を好適な触媒と接触させる触媒法の双方を含む。水素が反応物として存在している場合、このような方法の工程は、典型的には水素化転化と称され、例えばさらなる水素異性化、水素化分解、水素化精製および水素化処理と称されるより過酷な水素化精製を含む。品質改良により形成される好適な生成物の具体的な例としては、合成原油、液体燃料、オレフィン、溶媒、潤滑油、工業用油、医療用油、ワックス質炭化水素、窒素および酸素含有化合物などのうちの１種以上が挙げられるが、これらに限定されない。液体燃料としては、自動車ガソリン、ディーゼル燃料、ジェット燃料および灯油のうちの１種以上が挙げられ、潤滑油としては、例えば自動車油、ジェット油、タービン油および金属加工油が挙げられる。工業用油としては、削井流体、農業用油、伝熱流体などが挙げられる。

本発明は、下記の実施例を参照して、さらに理解されるであろう。

実施例１
各々酸性分解成分と水素化／脱水素化金属成分からなる、４つの二官能性モノリス水素異性化触媒を、市販の円筒形連続気泡α−アルミナ発泡体をモノリス支持体として用いて調製した。円筒形アルミナ発泡体は、各々直径０．５インチ、長さ１インチであった。２つの異なるセルサイズを用い、１つは１インチ当たり（ｐｐｉ）２０細孔、他方は６５ｐｐｉを有した。平均細孔サイズは約１０００μｍと３００μｍであった。酸性成分として２つの異なるゼオライトを用い、２種類の水素異性化触媒を作製した。これらのゼオライトは、ＬＺＹ−８２とゼオライトベータであった。まず、標準的な初期湿潤法を用いて、各ゼオライトに０．５重量％Ｐｔを含浸し、乾燥し、４００℃で４時間焼成した。このゼオライト物質を水／酢酸（５％）中でスラリー化し、次に複数回浸すことにより、ウォッシュコートとして、α−アルミナ発泡体上に塗布し、続いて焼成（６００℃、２時間）した。仕上げた４つのモノリス触媒を表１にまとめた。

実施例２
フィッシャー−トロプシュ合成炭化水素液体を代表する原料としてヘキサデカン（ｎ−Ｃ_１６Ｈ_３８）を用い、これら４つの触媒を、重質ワックス質パラフィン性炭化水素に対する水素化転化の有効性について評価した。水素化転化実験は、水素圧７５０ｐｓｉｇ、公称処理ガス速度２５００ＳＣＦ／Ｂ、重量空間速度（ＷＨＳＶ）２．３〜３．１で操作する小型の上方流パイロットプラントにおいて実施した。転化の程度は、温度を４００°Ｆから５５０°Ｆに調整することで変化した。各反応器には、円筒状触媒モノリスを５つ直列に充填し、反応域の前部と後部にｐｐｉ等級が同様のα−アルミナ発泡体を装備した。各実験に関する反応器条件を表２にまとめた。

操作の結果は、図３と図４とに示している。図３は、Ｐｔ／ベータ触媒を用いるヘキサデカン転化のプロットを、温度の関数として示している。図４は、Ｐｔ／ベータ触媒に関するヘキサデカンからＣ_１６イソパラフィンへの転化選択性のプロット（ガスクロマトグラフィで決定）を、反応器温度の関数として示している。Ｐｔ／ＬＺＹ−８２触媒の結果は示していない。これは、比較的高温の５５０°Ｆにおいても、この触媒が本質的に不活性であったからである。図４に示されたＰｔ／ベータ触媒に関する結果は、ヘキサデカンからイソパラフィンへの転化を明らかに証明している。触媒の分解活性は、所望より高かったが、それでもこの結果は、モノリス水素異性化触媒を用いたｎ−パラフィンからイソパラフィンへの水素異性化の有効性を証明している。

本発明の一実施形態による、内部に水素異性化域を含有する炭化水素合成反応器を示す簡易模式的工程系統図である。 水素異性化域における静的混合器を示す略図である。 モノリス触媒体の略上部平面図である。 モノリス触媒体の略側面図である。 パイロットプラント管状反応器における、モノリス水素異性化触媒の存在下でのヘキサデカン転化率の、温度の関数としてのプロットを示す図である。 パイロットプラント管状反応器における、モノリス水素異性化触媒上でのヘキサデカン水素異性化選択性を示すグラフである。

Claims (27)

1. スラリーフィッシャー−トロプシュ炭化水素合成反応器内で、合成ガスからスラリー炭化水素液体を生成しつつ、生成された前記スラリー炭化水素液体を水素異性化する方法であって、前記合成反応器中の前記スラリーは、前記液体中にガス気泡および触媒粒子を含んでなり、
   前記方法は、
   （ａ）前記スラリーの一部と、ガス気泡を除去するための手段を接触させて、前記合成反応器中の前記スラリーよりも高い密度を有するガス気泡減少スラリーを生成する工程；
   （ｂ）前記合成反応器の外部にあって前記反応器内の前記スラリーと流体的に連通し、水素異性化域を定める水素異性化触媒を各々含む、１つ以上の下降管反応器内の水素異性化域に、水素処理ガスおよび前記濃密化されたガス気泡減少スラリーを送り、下向きに通す工程；
   （ｃ）前記水素異性化触媒の存在下、前記液体の少なくとも一部を水素異性化し、水素異性化液体を生成するのに有効な反応条件で、前記ガス気泡減少スラリーと水素を反応させる工程；および
   （ｄ）前記水素異性化炭化水素液体の全部または一部を前記合成反応器に戻し、そこでそれをその中の前記スラリーと混合し、前記スラリー液体の一部を形成する工程
   を含んでなることを特徴とするスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
2. ２つ以上の下降管反応器があることを特徴とする請求項１に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
3. 少なくとも１つの下降管は、貴金属を含む水素異性化触媒を含有し、少なくとも１つの他の下降管は、非貴金属水素異性化触媒を含有することを特徴とする請求項２に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
4. 前記下降管反応器を通って下降し、前記合成反応器へ戻る前記ガス気泡減少スラリーの循環は、少なくとも部分的に、前記スラリーの密度差による密度駆動液圧により発生することを特徴とする請求項１に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
5. 前記合成反応器で前記炭化水素スラリー液体を生成しつつ、前記スラリー炭化水素液体を、前記合成反応器から生成物液体として断続的または連続的に取り出すことを特徴とする請求項４に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
6. 前記スラリーを前記水素異性化域へ下向きに送る前に、ガス気泡の除去に加えて、前記触媒粒子の少なくとも一部もまた前記スラリーから除去されることを特徴とする請求項５に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
7. 前記水素異性化触媒は、モノリス触媒を含んでなることを特徴とする請求項６に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
8. 前記水素異性化触媒は、モノリスの形態であることを特徴とする請求項７に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
9. 前記モノリス触媒は、前記域内に垂直に配列された複数のモノリス触媒体を含んでなることを特徴とする請求項７に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
10. 前記合成反応器から除かれた前記スラリー液体の少なくとも一部は、少なくとも分留および／または１つ以上の転化操作を含んでなる少なくとも１つの品質向上操作に送られることを特徴とする請求項９に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
11. 前記１つ以上の下降管反応器は、前記合成反応器に連結し、そこから垂下することを特徴とする請求項１０に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
12. 前記モノリス体の少なくとも一部は、前記水素異性化域内で垂直に間隔をあけて配置されていることを特徴とする請求項１１に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
13. 前記水素処理ガスを、前記域に沿って垂直に間隔をあけて配置され、各々がモノリス触媒体の上流にある少なくとも２つの別個のガス注入手段を通して前記域へ送ることを特徴とする請求項１２に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
14. 前記モノリス体間の前記間隔の少なくとも一部に、静的混合手段が位置することを特徴とする請求項１３に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
15. 前記水素の少なくとも一部は、少なくとも１つの前記混合手段の上流にある前記水素異性化域に注入されることを特徴とする請求項１４に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
16. 前記ガス気泡および微粒子状固体は、前記合成反応器中の前記スラリーに浸漬されるガス気泡および固体の除去手段により前記スラリーから除去されることを特徴とする請求項１５に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
17. 前記ガス気泡および微粒子状固体は、前記水素異性化域の上流で密度差により前記スラリー液体から除去されることを特徴とする請求項１６に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
18. 前記ガス気泡減少スラリー液体は、前記合成反応器中の前記スラリーに浸漬される下降管手段により前記１つ以上の下降管反応器に供給されることを特徴とする請求項１７に記載のスラリー炭化水素液体を水素異性化する方法。
19. 合成ガスから炭化水素液体を生成しつつ、合成反応により生成される炭化水素液体を水素異性化することを含むスラリー炭化水素を合成する方法であって、
    （ａ）Ｈ_２とＣＯの混合物を含んでなる前記合成ガスを、スラリーフィッシャー−トロプシュ炭化水素合成反応器内の３相系主要スラリー体を含むスラリー体に送る工程であって、前記スラリー体は、スラリー炭化水素液体中にガス気泡および微粒子状炭化水素合成触媒を含む工程；
    （ｂ）前記触媒の存在下、炭化水素を生成させるのに有効な反応条件において前記Ｈ_２とＣＯを反応させる工程であって、前記炭化水素の一部は、前記反応条件で液体であり、前記スラリー炭化水素液体を構成する工程；
    （ｃ）前記スラリー体からの前記スラリーの一部をガス気泡除去手段と接触させて、前記スラリー体を含んでなる前記スラリーよりも高い密度に濃密化されたガス気泡減少スラリーを形成する工程；
    （ｄ）水素処理ガスおよび前記濃密化されたスラリーを、前記合成反応器の外部にあって、それと流体的に接触しており、それから垂下する１つ以上の下降管反応器内の水素異性化域に下向きに送り、そこでそれらをモノリス水素異性化触媒存在下で反応させて、流動点の減少した水素異性化炭化水素液体を形成する工程であって、前記１つ以上の下降管反応器を通して下降し、前記合成反応器へ戻る前記濃密化スラリーの循環は、少なくとも一部、前記スラリー密度差による密度駆動液圧利用により発生する工程；および
    （ｅ）前記水素異性化炭化水素液体の少なくとも一部を前記合成反応器に戻し、そこでその中の前記スラリー体と混合する工程
    を含んでなることを特徴とするスラリー炭化水素を合成する方法。
20. 前記合成反応器で前記スラリー炭化水素液体を生成しつつ、前記スラリー炭化水素液体を前記合成反応器から生成物液体として断続的または連続的に取り出し、前記生成物液体の少なくとも一部を、少なくとも分留および／または１つ以上の転化操作を含んでなる少なくとも１つの品質向上操作に送ることを特徴とする請求項１９に記載のスラリー炭化水素を合成する方法。
21. 前記ガス気泡減少スラリーを前記水素異性化域内で前記水素と反応させる前に、前記ガス気泡減少スラリーの温度を前記スラリー反応器とは異なる値に変えるために熱交換手段を通過させることを特徴とする請求項２０に記載のスラリー炭化水素を合成する方法。
22. モノリス水素異性化触媒は、複数の垂直に配列されたモノリス触媒体を含んでなり、その少なくとも一部が垂直に間隔をあけて配置されていることを特徴とする請求項２１に記載のスラリー炭化水素を合成する方法。
23. 前記域に沿って垂直に間隔をあけて配置され、各々がモノリス触媒体の上流にある少なくとも２つの別個のガス注入手段によって前記水素処理ガスを前記域に送ることを特徴とする請求項２２に記載のスラリー炭化水素を合成する方法。
24. 前記スラリー液体を前記水素異性化触媒と接触させる前に、固体微粒子状もまた前記スラリーから除去し、前記ガス気泡および微粒子状固体は、前記スラリー体に浸漬されたガス気泡および固体を除去する手段により前記スラリーから除去されることを特徴とする請求項２３に記載のスラリー炭化水素を合成する方法。
25. 前記触媒体間の前記間隔の少なくとも一部に、静的混合手段が配置されていることを特徴とする請求項２４に記載のスラリー炭化水素を合成する方法。
26. 前記反応器内で生成され、水素異性化されたスラリー液体の少なくとも一部を、少なくとも１つの品質向上操作に送ることを特徴とする請求項２５に記載のスラリー炭化水素を合成する方法。
27. 前記品質向上は、分留および／または１つ以上の転化操作を含んでなることを特徴とする請求項２６に記載のスラリー炭化水素を合成する方法。

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