JP4208249B2 - Coパルス法を用いた触媒粒子測定方法およびその装置 - Google Patents
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Description
このようにすれば,容器中へのCO2 ガスの供給によって触媒粒子の表面にCO2 ガスが吸着した場合でも,H2 ガスを供給することによって還元される。このとき,CO2 ガスの供給やH2 ガスの供給を70℃以下の温度で行うので,サンプルのうち担体では,CO2 ガス吸着サイトが被毒された状態が保たれる。一方,触媒粒子では,吸着したCO2 ガスがH2 ガスによって還元され,きれいな状態となる。
このようにすれば,本発明のCOパルス法を用いた触媒粒子測定方法を実施することができる。
このようにすれば,本発明のCOパルス法を用いた触媒粒子測定方法を実施することができ,さらに,触媒粒子の表面に吸着したCO2 ガスの影響を取り除くことができる。
以下,本発明を具体化した第1の形態について,添付図面を参照しつつ詳細に説明する。本形態は,COパルス法の改良であり,セリアを含む担体上に白金等の貴金属粒子を担持させた触媒について,その触媒粒子の状態を測定するのに適した触媒粒子測定装置である。
以下,本発明を具体化した第2の形態について説明する。本形態では,第1の形態と同様の触媒粒子測定装置1を使用し,その測定方法は,第1の形態に1工程追加したものである。
11 CO2 パージライン(CO2 ガス供給ライン)
12 O2 パージライン(酸化ガス供給ライン)
13 H2 パージライン(還元ガス供給ライン)
14 Heガスライン(キャリアガス供給ライン)
15 COガスライン(COガス供給ライン)
17 6ポートバルブ(断続装置)
18 制御部
25 U字管(容器)
26 TCD検出器(ガス成分検出装置)
Claims (5)
- 担持体と触媒粒子とを含むサンプル中の触媒粒子の状態をCOパルス法により測定する触媒粒子測定方法において,
容器中に収容されたサンプルに酸化処理および還元処理を含む前処理を施し,
前処理後に容器中にCO2 ガスを供給し,
容器中へのCO2 ガスの供給を絶ってからCOパルス法を実施することを特徴とするCOパルス法を用いた触媒粒子測定方法。 - 請求項1に記載のCOパルス法を用いた触媒粒子測定方法において,
担持体がセリアを含み触媒粒子が白金粒子であるサンプルを対象とし,
容器中へのCO2 ガスの供給を70℃以下の温度で行い,
容器中へのCO2 ガスの供給を絶ってから容器中にH2 ガスを供給し,
容器中へのH2 ガスの供給を絶ってからCOパルス法を実施することを特徴とするCOパルス法を用いた触媒粒子測定方法。 - 担持体と触媒粒子とを含むサンプル中の触媒粒子の状態をCOパルス法により測定する触媒粒子測定装置において,
サンプルを収容する容器と,
前記容器内にキャリアガスを供給するキャリアガス供給ラインと,
前記容器内に酸化ガスを供給する酸化ガス供給ラインと,
前記容器内に還元ガスを供給する還元ガス供給ラインと,
前記容器内にCOガスを供給するCOガス供給ラインと,
前記容器内にCO2 ガスを供給するCO2 ガス供給ラインと,
前記COガス供給ラインによるCOガスの供給を断続させる断続装置と,
前記容器からの排出ガス中のCOガス成分を検出するガス成分検出装置とを有することを特徴とするCOパルス法を用いる触媒粒子測定装置。 - 請求項3に記載のCOパルス法を用いる触媒粒子測定装置において,
前記各ガス供給ラインによる前記容器内へのガス供給を制御する制御部を有し,
前記制御部は,
前記酸化ガス供給ラインと前記還元ガス供給ラインとを用いて前記容器内のサンプルに酸化処理および還元処理を含む前処理を施し,
前処理後に前記容器中に前記CO2 ガス供給ラインからCO2 ガスを供給し,
前記容器中へのCO2 ガスの供給を絶ってから前記容器中に前記COガス供給ラインからCOガスをパルス状に供給することを特徴とするCOパルス法を用いる触媒粒子測定装置。 - 請求項4に記載のCOパルス法を用いる触媒粒子測定装置において,
前記容器は加熱機能を有するものであり,
前記還元ガス供給ラインは前記容器内にH2 ガスを供給するものであり,
前記制御部は,
前処理後に前記容器の温度が70℃以下に下がってから前記容器中にCO2 ガスを供給し,
前記容器中へのCO2 ガスの供給を絶ってから前記容器中に前記還元ガス供給ラインからH2 ガスを供給し,
前記容器中へのH2 ガスの供給を絶ってから前記容器中へのCOガスのパルス状の供給を行うことを特徴とするCOパルス法を用いる触媒粒子測定装置。
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