JP4193847B2 - THIN FILM MAGNETIC HEAD HAVING NEAR FIELD LIGHT GENERATING LAYER AND THERMAL EXPANSION PROJECTING LAYER, HEAD GIMBAL ASSY - Google Patents

THIN FILM MAGNETIC HEAD HAVING NEAR FIELD LIGHT GENERATING LAYER AND THERMAL EXPANSION PROJECTING LAYER, HEAD GIMBAL ASSY Download PDF

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Description

本発明は、信号磁界の書き込み及び読み出しを行う薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドを備えたヘッドジンバルアセンブリ(HGA)及びこのHGAを備えた磁気ディスク装置に関する。特に、本発明は、近接場光を利用して熱アシスト磁気記録方式により信号の書き込みを行う垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドを備えたHGA及びこのHGAを備えた磁気ディスク装置に関する。   The present invention relates to a thin film magnetic head for writing and reading a signal magnetic field, a head gimbal assembly (HGA) including the thin film magnetic head, and a magnetic disk device including the HGA. In particular, the present invention relates to a thin film magnetic head for perpendicular magnetic recording in which signals are written by using a near-field light by a heat-assisted magnetic recording method, an HGA including the thin film magnetic head, and a magnetic disk device including the HGA. .

磁気ディスク装置の高記録密度化に伴い、薄膜磁気ヘッドのさらなる性能の向上が要求されている。薄膜磁気ヘッドとしては、読み出し用の磁気抵抗(MR)効果素子と書き込み用の電磁コイル素子とを積層した構造である複合型薄膜磁気ヘッドが広く用いられており、これらの素子によって磁気記録媒体である磁気ディスクに信号データが読み書きされる。   As the recording density of magnetic disk devices increases, further improvements in performance of thin film magnetic heads are required. As a thin film magnetic head, a composite thin film magnetic head having a structure in which a magnetoresistive (MR) effect element for reading and an electromagnetic coil element for writing are stacked is widely used. Signal data is read from and written to a magnetic disk.

磁気記録媒体は、いわば、磁性微粒子が集合した不連続体であり、それぞれの磁性微粒子は単磁区構造となっている。ここで、1つの記録ビットは、複数の磁性微粒子から構成されている。従って、記録密度を高めるためには、磁性微粒子を小さくして、記録ビットの境界の凹凸を減少させなければならない。しかし、磁性微粒子を小さくすると、体積減少に伴う磁化の熱安定性の低下が問題となる。   The magnetic recording medium is a so-called discontinuous body in which magnetic fine particles are aggregated, and each magnetic fine particle has a single magnetic domain structure. Here, one recording bit is composed of a plurality of magnetic fine particles. Therefore, in order to increase the recording density, the magnetic fine particles must be made smaller to reduce the irregularities at the boundaries of the recording bits. However, if the magnetic fine particles are made smaller, a decrease in the thermal stability of magnetization accompanying volume reduction becomes a problem.

磁化の熱安定性の目安は、KV/kTで与えられる。ここで、Kは磁性微粒子の磁気異方性エネルギー、Vは1つの磁性微粒子の体積、kはボルツマン定数、Tは絶対温度である。磁性微粒子を小さくするということは、まさにVを小さくすることであり、そのままではKV/kTが小さくなって熱安定性が損なわれる。この対策として、同時にKを大きくすることが考えられるが、このKの増加は、媒体の保磁力の増加をもたらす。これに対して、磁気ヘッドによる書き込み磁界強度は、ヘッド内の磁極を構成する軟磁性材料の飽和磁束密度でほぼ決定されてしまう。従って、保持力が、この書き込み磁界強度の限界から決まる許容値を超えると書き込みが不可能となってしまう。 A measure of the thermal stability of magnetization is given by K U V / k B T. Here, K U is the magnetic anisotropy energy, V the magnetic microparticle volume of one magnetic particle, k B the Boltzmann constant, T is the absolute temperature. Making the magnetic fine particles smaller means exactly reducing V, and if it is left as it is, K U V / k B T becomes smaller and thermal stability is impaired. As a countermeasure, it is conceivable to increase the K U simultaneously, increase in K U results in an increase in the coercive force of the medium. On the other hand, the write magnetic field strength by the magnetic head is almost determined by the saturation magnetic flux density of the soft magnetic material constituting the magnetic pole in the head. Therefore, if the coercive force exceeds an allowable value determined from the limit of the write magnetic field strength, writing becomes impossible.

この磁化の熱安定性の問題を解決する第1の方法として、面内磁気記録方式から垂直磁気記録方式への移行が考えられる。垂直磁気記録媒体では記録層厚をより大きくすることが可能であり、結果として、Vを大きくして熱安定性を向上させることができる。第2の方法として、パターンドメディアの使用が考えられる。通常の磁気記録では、上述したように1つの記録ビットをN個の磁性微粒子によって構成して記録しているが、パターンドメディアを用いて、1つの記録ビットを体積NVの1つの領域とすることによって、熱安定性の指標がKNV/kTとなり飛躍的に向上する。 As a first method for solving the problem of the thermal stability of magnetization, a shift from the in-plane magnetic recording method to the perpendicular magnetic recording method can be considered. In the perpendicular magnetic recording medium, the recording layer thickness can be increased, and as a result, V can be increased to improve the thermal stability. As a second method, use of patterned media can be considered. In normal magnetic recording, as described above, one recording bit is composed of N magnetic fine particles and recorded, but using a patterned medium, one recording bit is set as one area of volume NV. As a result, the thermal stability index becomes K U NV / k B T, which is dramatically improved.

熱安定性の問題を解決する第3の方法として、Kの大きな磁性材料を用いるが、書き込み磁界印加の直前に、媒体に熱を加えることによって、保磁力を小さくして書き込みを行う、いわゆる熱アシスト磁気記録方式が提案されている。この方式は光磁気記録方式とよく似ているが、光磁気記録方式は空間分解能を光に持たせているのに対し、熱アシスト磁気記録方式は空間分解能を磁界に持たせている。 As a third method for solving the thermal stability problem, uses a large magnetic material K U, just before the write field is applied, by applying heat to the medium, writing is performed by reducing the coercive force, the so-called A heat-assisted magnetic recording method has been proposed. This method is very similar to the magneto-optical recording method, but the magneto-optical recording method gives the spatial resolution to the light, whereas the thermally assisted magnetic recording method gives the spatial resolution to the magnetic field.

従来、提案されている熱アシスト磁気記録方式として、例えば、特許文献1においては、基板上に形成された円錐体等の形状をした金属の散乱体と、その散乱体の周辺に形成された誘電体等の膜とを備えた近接場光プローブを用いる光記録方式に関する技術が開示されている。また、特許文献2においては、記録再生装置において固体イマージョン・レンズを用いたヘッドを利用し、光磁気ディスクに超微細な光ビームスポットで超微細な磁区信号を記録する技術が開示されている。また、特許文献3においては、斜めに切断した光ファイバ等の端面に、ピンホールが形成された金属膜を設けた構成が開示されている。さらに、特許文献4においては、内蔵したレーザ素子部からの光を、媒体に対向した微小光学開口に照射して熱アシストを行う技術が開示されている。さらに、特許文献5には、近接場光プローブを構成する散乱体を、その照射される面が記録媒体に垂直となるように、垂直磁気記録用単磁極書き込みヘッドの主磁極に接して形成された構成が開示されている。さらにまた、非特許文献1には、水晶のスライダ上に形成されたU字状の近接場光プローブを用いて近接場光と磁界とを発生させ、70nm程度のトラック幅を有する記録パターンを形成する技術が開示されている。   As a conventionally proposed thermally assisted magnetic recording system, for example, in Patent Document 1, a metal scatterer having a shape such as a cone formed on a substrate and a dielectric formed around the scatterer are disclosed. A technique relating to an optical recording method using a near-field optical probe provided with a film such as a body is disclosed. Patent Document 2 discloses a technique for recording a superfine magnetic domain signal with a superfine light beam spot on a magneto-optical disk using a head using a solid immersion lens in a recording / reproducing apparatus. Patent Document 3 discloses a configuration in which a metal film having pinholes is provided on an end face of an optical fiber or the like cut obliquely. Further, Patent Document 4 discloses a technique for performing heat assist by irradiating light from a built-in laser element unit to a minute optical aperture facing a medium. Further, in Patent Document 5, a scatterer constituting a near-field optical probe is formed in contact with the main pole of a single magnetic pole write head for perpendicular magnetic recording so that the irradiated surface is perpendicular to the recording medium. The configuration is disclosed. Furthermore, Non-Patent Document 1 forms a recording pattern having a track width of about 70 nm by generating near-field light and a magnetic field using a U-shaped near-field optical probe formed on a quartz slider. Techniques to do this are disclosed.

これらの技術の中でも、近接場光プローブ、微小開口又は散乱体にレーザを照射することにより近接場光を発生させて、この近接場光によって媒体を加熱する方法は、所望の近接場光を比較的容易に得られることから非常に有望と考えられる。   Among these technologies, a method for generating near-field light by irradiating a near-field optical probe, a microscopic aperture, or a scatterer with a laser, and heating the medium by this near-field light compares the desired near-field light. It is considered very promising because it is easily obtained.

特開2001−255254号公報JP 2001-255254 A 特開平10−162444号公報JP-A-10-162444 特開2000−173093号公報JP 2000-173093 A 特開2001−283404号公報JP 2001-283404 A 特開2004−158067号公報JP 2004-158067 A Shintaro Miyanishi等 ”Near-field Assisted Magnetic Recording” IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS, VOL.41,NO.10, 第2817頁〜第2821頁, 2005年Shintaro Miyanishi et al. “Near-field Assisted Magnetic Recording” IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS, VOL.41, NO.10, pp. 2817-2821, 2005

しかしながら、これらの文献に記載されたような従来技術においては、近接場光による記録媒体の記録層部分の加熱が十分に行われない場合が発生し得るという問題が生じていた。   However, in the conventional techniques described in these documents, there has been a problem that the case where the recording layer portion of the recording medium is not sufficiently heated by near-field light may occur.

近接場光は、一般に、近接場光プローブ、微小開口又は散乱体の極近傍にのみ存在し、その実質的な存在範囲は、おおよそ、プローブ若しくは散乱体の層厚若しくは先端幅、又は開口径程度の大きさである。すなわち、近接場光の電界強度は、この実質的な存在範囲から磁気ディスクに向かって急速に減衰する。従って、ヘッドの浮上量が10nm又はそれ以下であって非常に小さい現状においても、場合によっては、近接場光が記録媒体の記録層部分に十分に到達することができない。その結果、記録層部分の保磁力が、書き込み時において十分に低下せず、書き込みエラーが発生し得る。   Near-field light generally exists only in the immediate vicinity of a near-field optical probe, a minute aperture, or a scatterer, and the substantial existence range is approximately the layer thickness or tip width of the probe or scatterer, or the aperture diameter. Is the size of That is, the electric field strength of the near-field light rapidly attenuates from the substantial existence range toward the magnetic disk. Therefore, even in the present situation where the flying height of the head is 10 nm or less and is very small, the near-field light cannot sufficiently reach the recording layer portion of the recording medium in some cases. As a result, the coercive force of the recording layer portion is not sufficiently lowered during writing, and a writing error may occur.

従って、本発明の目的は、近接場光発生手段から発生した近接場光が、記録媒体の記録層部分に十分に到達し、書き込み時において記録層部分の保磁力を十分に低下させ得る薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドを備えたHGA及びこのHGAを備えた磁気ディスク装置を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to achieve a thin film magnetic field in which the near-field light generated from the near-field light generating means can sufficiently reach the recording layer portion of the recording medium and sufficiently reduce the coercivity of the recording layer portion during writing. It is an object of the present invention to provide a head, an HGA including the thin film magnetic head, and a magnetic disk device including the HGA.

本発明について説明する前に、明細書において使用される用語の定義を行う。基板の素子形成面に形成された磁気ヘッド素子の積層構造において、基準となる層よりも基板側にある構成要素を、基準となる層の「下」又は「下方」にあるとし、基準となる層よりも積層される方向側にある構成要素を、基準となる層の「上」又は「上方」にあるとする。   Before describing the present invention, the terms used in the specification are defined. In the laminated structure of magnetic head elements formed on the element formation surface of the substrate, the component on the substrate side with respect to the reference layer is assumed to be “below” or “below” the reference layer, which becomes the reference It is assumed that the component on the side in the direction of stacking from the layer is “above” or “above” the reference layer.

本発明によれば、媒体対向面及びこの媒体対向面に垂直な素子形成面を有する基板と、この素子形成面に形成されており、主磁極層、補助磁極層及びコイル層を有する書き込み用の電磁コイル素子と、近接場光を発生させて書き込みの際に磁気記録媒体の書き込み部分を加熱するための近接場光発生層と、電磁コイル素子及び近接場光発生層を覆うように素子形成面上に形成された被覆層とを備えた薄膜磁気ヘッドであって
接場光発生層が、媒体対向面側のヘッド端面に向かって先細りした形状を有していて、媒体対向面側のヘッド端面に達した先端を含む近接場光発生部を備えており
覆層を構成する材料よりも熱膨張率の高い材料から形成されており、近接場光発生部に近接して設けられていて、自身の一端面が媒体対向面側のヘッド端面に達している熱膨張突出層であって、近接場光発生部から発生する近接場光を受けることにより加熱されて膨張し、ヘッド端面に達した自身の一端面を磁気記録媒体の方向に突出させることによって近接場光発生部のヘッド端面に達した先端を磁気記録媒体の方向に突出させる熱膨張突出層が、さらに設けられている薄膜磁気ヘッドが提供される。ここで、この熱膨張突出層を構成する材料が、非磁性金属材料であることが好ましい。
According to the present invention, a substrate having a medium facing surface and an element forming surface perpendicular to the medium facing surface, and a writing layer formed on the element forming surface and having a main magnetic pole layer, an auxiliary magnetic pole layer, and a coil layer. An electromagnetic coil element; a near-field light generating layer for generating a near-field light to heat a writing portion of the magnetic recording medium during writing; and an element forming surface to cover the electromagnetic coil element and the near-field light generating layer A thin film magnetic head comprising a coating layer formed thereon ,
Proximity field light generation layer, have a shape tapered toward the head end surface of the bearing surface side, has a near-field light generating portion including a distal end reaching the head end surface of the medium facing surface,
It is formed from a material having a high thermal expansion coefficient than the material constituting the object to be covered layer, be provided close to the near-field light generation portion, one end surface of itself reaches the head end surface of the medium facing surface side A thermal expansion projecting layer that is heated and expanded by receiving near-field light generated from the near-field light generating unit, and projects one end surface of the head that has reached the end surface of the head toward the magnetic recording medium. There is provided a thin film magnetic head further provided with a thermal expansion projecting layer for projecting the tip reaching the head end surface of the near-field light generating unit in the direction of the magnetic recording medium . Here, it is preferable that the material which comprises this thermal expansion protrusion layer is a nonmagnetic metal material.

近接場光発生層がレーザ光を受けると、その先端付近から近接場光が発生し、その近接場光の一部は、近接する熱膨張突出層を加熱する。ここで、熱膨張突出層は、より大きな熱膨張率を有しているので、この加熱によって大きく膨張して磁気ディスク方向に大きく突出する。この突出に引きずられて、又は自らも膨張することによって、近接場光発生層の先端及び主磁極層の端もまた、磁気ディスク方向に大きく突出する。このように、近接場光発生層の先端が大きく突出することによって、近接場光が磁気ディスクの記録層部分に十分に到達して、書き込み時に記録層部分の保磁力が十分に必要なだけ低下する。これにより、安定した書き込みが実現する。また、主磁極層の端が大きく突出することによって、この端と磁気ディスク表面との磁気的な実効距離であるマグネティックスペーシングが十分に小さくなる。これにより、書き込み磁界が磁気ディスクの記録層部分に十分に到達するので、書き込み効率が向上する。   When the near-field light generating layer receives laser light, near-field light is generated from the vicinity of the tip, and a part of the near-field light heats the adjacent thermal expansion protruding layer. Here, since the thermal expansion protrusion layer has a larger coefficient of thermal expansion, the thermal expansion protrusion layer expands greatly by this heating and protrudes greatly in the direction of the magnetic disk. By being dragged by this protrusion or expanding itself, the tip of the near-field light generating layer and the end of the main magnetic pole layer also protrude greatly in the direction of the magnetic disk. In this way, the tip of the near-field light generating layer protrudes greatly, so that the near-field light sufficiently reaches the recording layer portion of the magnetic disk, and the coercive force of the recording layer portion is sufficiently reduced during writing. To do. Thereby, stable writing is realized. Further, since the end of the main magnetic pole layer protrudes greatly, the magnetic spacing, which is the magnetic effective distance between this end and the magnetic disk surface, becomes sufficiently small. As a result, the write magnetic field sufficiently reaches the recording layer portion of the magnetic disk, thereby improving the write efficiency.

近接場光発生部が、素子形成面に対して媒体対向面側が上がる又は下がる形で傾いていて、媒体対向面とは反対側のヘッド端面から入射した光が少なくとも一部に照射され得る受光面を有していることが好ましい。また、主磁極層が、この受光面とは反対側に位置しており、熱膨張突出層が、近接場光発生層の近接場光発生部と主磁極層の媒体対向面側の端部との間に位置していて主磁極層の媒体対向面側の端部にも接している又は近接していることが好ましい。   The near-field light generating portion is inclined such that the medium facing surface side is raised or lowered with respect to the element forming surface, and at least part of the light receiving surface can be irradiated with light incident from the head end surface opposite to the medium facing surface It is preferable to have. The main magnetic pole layer is located on the side opposite to the light receiving surface, and the thermal expansion projecting layer is formed between the near-field light generating portion of the near-field light generating layer and the end of the main magnetic pole layer on the medium facing surface side. It is preferable to be in contact with or close to the end of the main pole layer on the medium facing surface side.

さらに、主磁極層が、この受光面の側に位置しており、主磁極層及び近接場光発生層が、主磁極層の媒体対向面側の端と近接場光発生層の媒体対向面側のヘッド端面に達した先端とにおいてのみ、互いに接して又は近接しており、熱膨張突出層が、近接場光発生部の主磁極層とは反対側に位置していることもまた好ましい。   Further, the main magnetic pole layer is located on the light receiving surface side, and the main magnetic pole layer and the near-field light generating layer are arranged at the end of the main magnetic pole layer on the medium facing surface side and the medium facing surface side of the near-field light generating layer. It is also preferable that the thermal expansion projecting layer is located on the side opposite to the main magnetic pole layer of the near-field light generating part, only at the tip that has reached the head end surface of the head.

このような構成によって、近接場光発生層、熱膨張突出層及び主磁極層が、同一トラックの方向に重なって並んでいることになるので、磁気ディスクの記録層の書き込もうとしている部分が確実に加熱可能となる。さらに、熱膨張突出層、さらには主磁極層が、近接場光発生部自身の過度の温度上昇を防止するヒートシンクとしての役割をも果たす。   With such a configuration, the near-field light generating layer, the thermal expansion projecting layer, and the main magnetic pole layer are arranged so as to overlap each other in the same track direction. Can be heated. Further, the thermal expansion projecting layer and the main magnetic pole layer also serve as a heat sink for preventing an excessive temperature rise of the near-field light generating unit itself.

近接場光発生層が、近接場光発生部の媒体対向面とは反対側に、素子形成面と平行な反射面を有する反射部をさらに備えていることも好ましい。このような反射面は、ヘッド端面を介して入射したレーザ光の一部を反射させて、受光面に向けさせることによって、受光面の受光量を補う役割を果たす。これにより、近接場光の発生効率が向上する。   It is also preferable that the near-field light generating layer further includes a reflecting portion having a reflecting surface parallel to the element formation surface on the side opposite to the medium facing surface of the near-field light generating portion. Such a reflecting surface plays a role of compensating the amount of light received by the light receiving surface by reflecting a part of the laser light incident through the head end surface and directing it toward the light receiving surface. Thereby, the generation efficiency of near-field light improves.

被覆層のうち、媒体対向面とは反対側のヘッド端面から入射した光の受光面までの光路を含む領域が、SiO又は少なくとも1つの添加元素が添加されたSiOによって形成されていることが好ましい。 Of the coating layers, it is the medium facing surface area including the optical path to the light receiving surface of the light incident from the head end surface of the opposite side is formed by a SiO 2 to SiO 2 or at least one additive element is added Is preferred.

本発明によれば、さらに、上述した薄膜磁気ヘッドと、この薄膜磁気ヘッドを支持する支持機構と、書き込み用の電磁コイル素子のための信号線と、この薄膜磁気ヘッドが読み出し用の磁気抵抗効果素子を備えている場合はこの磁気抵抗効果素子のための信号線とを備えており、薄膜磁気ヘッドの媒体対向面とは反対側のヘッド端面から光を入射させるための光ファイバをさらに備えているHGAが提供される。   According to the present invention, the thin film magnetic head described above, a support mechanism for supporting the thin film magnetic head, a signal line for the electromagnetic coil element for writing, and the magnetoresistive effect for reading the thin film magnetic head are provided. And a signal line for the magnetoresistive effect element, and further includes an optical fiber for allowing light to enter from the head end surface opposite to the medium facing surface of the thin film magnetic head. HGA is provided.

本発明によれば、さらにまた、上述したHGAを少なくとも1つ備えており、少なくとも1つの磁気ディスクと、光ファイバに光を供給するための光源と、この少なくとも1つの磁気ディスクに対して薄膜磁気ヘッドが行う書き込み及び読み出し動作を制御するとともに、光源の発光動作を制御するための記録再生及び発光制御回路とをさらに備えている磁気ディスク装置が提供される。   Further, according to the present invention, at least one HGA as described above is provided, at least one magnetic disk, a light source for supplying light to the optical fiber, and a thin film magnetic field for the at least one magnetic disk. There is provided a magnetic disk device further comprising a recording / reproducing and light emission control circuit for controlling write and read operations performed by the head and controlling the light emission operation of the light source.

本発明による薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドを備えたHGA及びこのHGAを備えた磁気ディスク装置によれば、近接場光発生層から発生した近接場光が、記録媒体の記録層部分に十分に到達するので、書き込み時において記録層部分の保磁力が十分に必要なだけ低下する。これにより、例えば、垂直磁気記録用の薄膜磁気ヘッドにおいても、安定した書き込みが可能であって書き込み効率も高い熱アシスト磁気記録を実現することができる。   According to the thin film magnetic head, the HGA including the thin film magnetic head, and the magnetic disk device including the HGA according to the present invention, the near-field light generated from the near-field light generating layer is sufficiently applied to the recording layer portion of the recording medium. Therefore, the coercive force of the recording layer portion is lowered as much as necessary at the time of writing. Thereby, for example, even in a thin film magnetic head for perpendicular magnetic recording, it is possible to realize heat-assisted magnetic recording that enables stable writing and high writing efficiency.

以下に、本発明を実施するための形態について、添付図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図面において、同一の要素は、同一の参照番号を用いて示されている。また、図面中の構成要素内及び構成要素間の寸法比は、図面の見易さのため、それぞれ任意となっている。   EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, the form for implementing this invention is demonstrated in detail, referring an accompanying drawing. In the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals. In addition, the dimensional ratios in the components in the drawings and between the components are arbitrary for easy viewing of the drawings.

図1は、本発明による磁気ディスク装置の一実施形態における要部の構成を概略的に示す斜視図である。   FIG. 1 is a perspective view schematically showing a configuration of a main part in an embodiment of a magnetic disk apparatus according to the present invention.

同図において、10はスピンドルモータ11の回転軸の回りを回転する複数の垂直磁気記録用の磁気記録媒体である磁気ディスク、12は垂直磁気記録用の薄膜磁気ヘッド(スライダ)21をトラック上に位置決めするためのアセンブリキャリッジ装置、13は、この薄膜磁気ヘッド21の書き込み及び読み出し動作を制御し、さらに後に詳述する熱アシスト用のレーザ光を発生させる光源である半導体レーザ18を制御するための記録再生及び発光制御回路をそれぞれ示している。   In the figure, reference numeral 10 denotes a magnetic disk which is a plurality of magnetic recording media for perpendicular magnetic recording rotating around the rotation axis of a spindle motor 11, and 12 denotes a thin film magnetic head (slider) 21 for perpendicular magnetic recording on a track. The assembly carriage device 13 for positioning controls the writing and reading operations of the thin film magnetic head 21 and further controls the semiconductor laser 18 which is a light source for generating a laser beam for heat assist, which will be described in detail later. The recording / reproducing and light emission control circuits are shown.

アセンブリキャリッジ装置12には、複数の駆動アーム14が設けられている。これらの駆動アーム14は、ボイスコイルモータ(VCM)15によってピボットベアリング軸16を中心にして角揺動可能であり、この軸16に沿った方向にスタックされている。各駆動アーム14の先端部には、HGA17が取り付けられている。各HGA17には、スライダ21が、各磁気ディスク10の表面に対向するように設けられている。磁気ディスク10、駆動アーム14、HGA17及びスライダ21は、単数であってもよい。   The assembly carriage device 12 is provided with a plurality of drive arms 14. These drive arms 14 can be angularly swung about a pivot bearing shaft 16 by a voice coil motor (VCM) 15 and are stacked in a direction along the shaft 16. An HGA 17 is attached to the tip of each drive arm 14. Each HGA 17 is provided with a slider 21 so as to face the surface of each magnetic disk 10. A single magnetic disk 10, drive arm 14, HGA 17, and slider 21 may be provided.

半導体レーザ18は、光ファイバ26にレーザ光を供給するものであり、自身の活性層の位置に、第1のファイバホルダ19によって光ファイバ26の端断面が接続されている。発振レーザの波長は、例えば、800nmである。   The semiconductor laser 18 supplies laser light to the optical fiber 26, and the end cross section of the optical fiber 26 is connected to the position of its active layer by a first fiber holder 19. The wavelength of the oscillation laser is, for example, 800 nm.

図2は、本発明によるHGAの一実施形態を示す斜視図である。ここで、図2(A)は、HGA17の磁気ディスクに対向する側の構成を示しており、図2(B)は、HGA17の磁気ディスクに対向する側とは反対側の構成を示している。   FIG. 2 is a perspective view showing an embodiment of the HGA according to the present invention. Here, FIG. 2A shows the configuration of the HGA 17 facing the magnetic disk, and FIG. 2B shows the configuration of the HGA 17 opposite to the side facing the magnetic disk. .

図2(A)によれば、HGA17は、サスペンション20の先端部に、磁気ヘッド素子を有するスライダ21を固着し、さらにそのスライダ21の端子電極に配線部材25の一端を電気的に接続して構成される。   As shown in FIG. 2A, the HGA 17 has a slider 21 having a magnetic head element fixed to the tip of the suspension 20, and one end of the wiring member 25 is electrically connected to the terminal electrode of the slider 21. Composed.

サスペンション20は、ロードビーム22と、このロードビーム22上に固着され支持された弾性を有するフレクシャ23と、ロードビーム22の基部に設けられたベースプレート24と、フレクシャ23上に設けられておりリード導体及びその両端に電気的に接続された接続パッドからなる配線部材25とから主として構成されている。   The suspension 20 includes a load beam 22, a flexure 23 having elasticity fixedly supported on the load beam 22, a base plate 24 provided at the base of the load beam 22, and a lead conductor provided on the flexure 23. And the wiring member 25 which consists of the connection pad electrically connected to the both ends is comprised mainly.

図2(B)によれば、HGA17は、後に詳述するように、薄膜磁気ヘッド21のヘッド端面からレーザ光を入射させるための光ファイバ26をさらに備えている。光ファイバ26の出光側の端部は、フレクシャ23に設けられた第2のファイバホルダ27によって、レーザ光が薄膜磁気ヘッド21の所定のヘッド端面から入射可能となる位置に固定される。ここで、光ファイバ26の出光側の端部の直径は、約5.0μm〜約500μmであり、放射されるレーザ光のビーム径もまた、約5.0μm〜約500μmである。   As shown in FIG. 2B, the HGA 17 further includes an optical fiber 26 for allowing laser light to enter from the head end face of the thin film magnetic head 21, as will be described in detail later. The end portion on the light output side of the optical fiber 26 is fixed at a position where the laser light can be incident from a predetermined head end surface of the thin film magnetic head 21 by a second fiber holder 27 provided in the flexure 23. Here, the diameter of the end portion on the light output side of the optical fiber 26 is about 5.0 μm to about 500 μm, and the beam diameter of the emitted laser light is also about 5.0 μm to about 500 μm.

なお、本発明のHGA17におけるサスペンションの構造は、以上述べた構造に限定されるものではないことは明らかである。なお、図示されていないが、サスペンション20の途中にヘッド駆動用ICチップ又は光ファイバ26にレーザ光を供給するための半導体レーザを装着してもよい。   It is obvious that the suspension structure in the HGA 17 of the present invention is not limited to the structure described above. Although not shown, a semiconductor laser for supplying laser light to the head driving IC chip or the optical fiber 26 may be mounted in the middle of the suspension 20.

図3(A)は、図2に示すHGAの先端部に装着されている、本発明による薄膜磁気ヘッド(スライダ)の一実施形態を示す斜視図である。また、図3(B)は、この薄膜磁気ヘッドにおける磁気ヘッド素子部分の構成を示す平面図である。   FIG. 3A is a perspective view showing an embodiment of a thin film magnetic head (slider) according to the present invention, which is attached to the tip of the HGA shown in FIG. FIG. 3B is a plan view showing the configuration of the magnetic head element portion in this thin film magnetic head.

図3(A)によれば、本実施形態における薄膜磁気ヘッド21は、適切な浮上量を得るように加工された媒体対向面である浮上面(ABS)30を有するスライダ基板210と、スライダ基板210のABS30に垂直な素子形成面31上に形成された磁気ヘッド素子32と、熱アシスト磁気記録のための近接場光を発生させる近接場光発生層35と、図示されていないが、磁気ヘッド素子32及び近接場光発生層35の間に形成された熱膨張突出層と、素子形成面31上に形成された被覆層40の層面から露出した合計4つの信号端子電極36及び37とを備えている。信号端子電極36及び37は、磁気ヘッド素子32が備えている読み出し用のMR効果素子及び書き込み用の電磁コイル素子にそれぞれ接続されている。なお、これらの信号端子電極の数及び位置は、図3(A)の形態に限定されるものではない。同図において端子電極は4つであるが、例えば、電極を3つとした上でグランドをスライダ基板に接地した形態でもよい。   According to FIG. 3A, the thin film magnetic head 21 in the present embodiment includes a slider substrate 210 having an air bearing surface (ABS) 30 which is a medium facing surface processed so as to obtain an appropriate flying height, and a slider substrate. The magnetic head element 32 formed on the element forming surface 31 perpendicular to the ABS 30 of 210, the near-field light generating layer 35 for generating near-field light for heat-assisted magnetic recording, and a magnetic head (not shown) A thermal expansion projecting layer formed between the element 32 and the near-field light generating layer 35 and a total of four signal terminal electrodes 36 and 37 exposed from the layer surface of the coating layer 40 formed on the element forming surface 31 are provided. ing. The signal terminal electrodes 36 and 37 are connected to the MR effect element for reading and the electromagnetic coil element for writing provided in the magnetic head element 32, respectively. Note that the number and position of these signal terminal electrodes are not limited to the form shown in FIG. In the figure, there are four terminal electrodes. However, for example, a configuration in which three electrodes are provided and the ground is grounded to the slider substrate may be employed.

ここで、光ファイバ26からの光は、ABS30側にあって同じく磁気ディスクに対向する面となっているヘッド端面300とは反対側のヘッド端面301から、近接場光発生層35に向けて入射される。   Here, the light from the optical fiber 26 is incident toward the near-field light generating layer 35 from the head end surface 301 opposite to the head end surface 300 which is on the ABS 30 side and is also a surface facing the magnetic disk. Is done.

図3(B)によれば、磁気ヘッド素子32は、読み出し用のMR効果素子33と、書き込み用の電磁コイル素子34とを備えている。MR効果素子33及び電磁コイル素子34の一端は、ヘッド端面300に達している。書き込み又は読み出し動作時には、薄膜磁気ヘッド21が回転する磁気ディスク表面上において流体力学的に所定の浮上量をもって浮上する。この際、これらの素子端が磁気ディスクと対向することによって、信号磁界の感受による読み出しと信号磁界の印加による書き込みとが行われる。   According to FIG. 3B, the magnetic head element 32 includes an MR effect element 33 for reading and an electromagnetic coil element 34 for writing. One end of the MR effect element 33 and the electromagnetic coil element 34 reaches the head end surface 300. During the writing or reading operation, the thin film magnetic head 21 floats hydrodynamically on the surface of the rotating magnetic disk with a predetermined flying height. At this time, when the element ends face the magnetic disk, reading by sensing the signal magnetic field and writing by applying the signal magnetic field are performed.

近接場光発生層35は、本実施形態において、電磁コイル素子34上に設けられており、磁気ディスクに対向する面であるヘッド端面300に向かって先細りした形状を有している。ここで、近接場光発生層35は、光ファイバ26からレーザ光を受けることにより近接場光を発生させる近接場光発生部350と、光ファイバ26からのレーザ光を近接場光発生部350に向けるための反射面351aを有する反射部351とを備えている。   In the present embodiment, the near-field light generating layer 35 is provided on the electromagnetic coil element 34 and has a tapered shape toward the head end surface 300 that is a surface facing the magnetic disk. Here, the near-field light generating layer 35 includes a near-field light generating unit 350 that generates near-field light by receiving laser light from the optical fiber 26 and a laser beam from the optical fiber 26 to the near-field light generating unit 350. And a reflecting portion 351 having a reflecting surface 351a for directing.

近接場光発生部350は、ヘッド端面300に達した先端を含んでいて、例えば、2等辺三角形の形状を有しており、さらに、受光面350aを有している。光ファイバ26からのレーザ光がこの受光面350aに照射されると、後に詳述するように、近接場光発生部350のヘッド端面300に達した先端から非常に強い電界強度を有する近接場光が発生する。この近接場光を用いて熱アシスト動作が行われる。   The near-field light generating unit 350 includes a tip reaching the head end surface 300, has an isosceles triangular shape, for example, and further has a light receiving surface 350a. When the light receiving surface 350a is irradiated with the laser light from the optical fiber 26, as will be described in detail later, the near-field light having a very strong electric field strength from the tip reaching the head end surface 300 of the near-field light generating unit 350. Occurs. A heat assist operation is performed using the near-field light.

図4(A)は、図3に示した薄膜磁気ヘッドの要部の構成を概略的に示す図3(A)のA−A線断面図である。なお、同図におけるコイル層の巻き数は図を簡略化するため、実際の巻き数より少なく表されている。   4A is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 3A schematically showing the configuration of the main part of the thin film magnetic head shown in FIG. Note that the number of turns of the coil layer in the figure is shown to be smaller than the actual number of turns in order to simplify the drawing.

図4(A)によれば、MR効果素子33は、MR効果積層体332と、この積層体を挟む位置に配置されている下部電極層330及び上部電極層334とを備えている。MR効果積層体332は、磁化自由層と磁化固定層とがトンネルバリア層を挟んで積層されたトンネル磁気抵抗(TMR)効果多層膜、垂直通電型巨大磁気抵抗(CPP(Current Perpendicular to Plain)−GMR)効果多層膜、及び面内通電型巨大磁気抵抗(CIP(Current In Plain)−GMR)効果多層膜のうちのいずれか1つを備えている。いずれであっても、非常に高い感度で磁気ディスクからの信号磁界を感受して読み出しを行う。なお、MR効果積層体332がCIP−GMR多層膜を備えている場合、上下部電極層334及び330の代わりに、MR効果積層体との間にシールドギャップ層を介する上下部シールド層がそれぞれ設けられ、さらにMR効果積層体にセンス電流を供給するための素子リード導体層が設けられることになる。   As shown in FIG. 4A, the MR effect element 33 includes an MR effect multilayer 332 and a lower electrode layer 330 and an upper electrode layer 334 disposed at positions sandwiching the multilayer. The MR effect multilayer 332 is a tunnel magnetoresistive (TMR) effect multilayer film in which a magnetization free layer and a magnetization fixed layer are sandwiched with a tunnel barrier layer sandwiched therebetween, a perpendicular conduction type giant magnetoresistance (CPP (Current Perpendicular to Plain) − Any one of a GMR effect multilayer film and an in-plane energization type giant magnetoresistive (CIP (Current In Plain) -GMR) effect multilayer film is provided. In either case, the signal magnetic field from the magnetic disk is sensed with very high sensitivity and reading is performed. When the MR effect multilayer 332 includes a CIP-GMR multilayer film, upper and lower shield layers are provided between the MR effect multilayer and the MR effect multilayer in place of the upper and lower electrode layers 334 and 330, respectively. In addition, an element lead conductor layer for supplying a sense current to the MR effect laminate is provided.

下部シールド層330は、アルティック(Al−TiC)等からなるスライダ基板210の素子形成面31に積層されており、例えば、厚さ約0.3μm〜約3μmのNiFe、NiFeCo、CoFe、FeN又はFeZrN等から形成されている。上部シールド層334は、例えば、厚さ約0.3μm〜約4μmのNiFe、NiFeCo、CoFe、FeN又はFeZrN等から形成されている。なお、上下部シールド層334及び330の間隔である再生ギャップ長は、約0.02μm〜約1μmである。 The lower shield layer 330 is laminated on the element formation surface 31 of the slider substrate 210 made of AlTiC (Al 2 O 3 —TiC) or the like. For example, NiFe, NiFeCo, CoFe having a thickness of about 0.3 μm to about 3 μm. , FeN or FeZrN. The upper shield layer 334 is made of, for example, NiFe, NiFeCo, CoFe, FeN, or FeZrN having a thickness of about 0.3 μm to about 4 μm. The reproduction gap length, which is the distance between the upper and lower shield layers 334 and 330, is about 0.02 μm to about 1 μm.

電磁コイル素子34は、垂直磁気記録用であり、補助磁極層340、コイル層341、コイル絶縁層342、ギャップ層343及び主磁極層344を備えている。主磁極層344は、コイル層341によって誘導された磁束を、書き込みがなされる磁気ディスクの記録層まで収束させながら導くための導磁路である。ここで、主磁極層344のヘッド端面300側の端部344aの層厚方向の長さ(厚さ)は、他の部分に比べて小さくなっている。この結果、高記録密度化に対応した微細な書き込み磁界が発生可能となる。   The electromagnetic coil element 34 is for perpendicular magnetic recording, and includes an auxiliary magnetic pole layer 340, a coil layer 341, a coil insulating layer 342, a gap layer 343, and a main magnetic pole layer 344. The main magnetic pole layer 344 is a magnetic path for guiding the magnetic flux induced by the coil layer 341 while converging it to the recording layer of the magnetic disk on which writing is performed. Here, the length (thickness) in the layer thickness direction of the end 344a on the head end surface 300 side of the main magnetic pole layer 344 is smaller than the other portions. As a result, it is possible to generate a fine write magnetic field corresponding to an increase in recording density.

ここで、補助磁極層340は、例えば、厚さ約0.5μm〜約5μmのNi、Fe及びCoのうちいずれか2つ若しくは3つからなる合金、又はこれらを主成分として所定の元素が添加された合金等から形成されている。コイル層341は、例えば厚さ約0.5μm〜約3μmのCu等から形成されている。コイル絶縁層342は、例えば、厚さ約0.1μm〜約5μmの熱硬化されたレジスト層等から形成されている。ギャップ層343は、例えば、厚さ約0.01μm〜約0.5μmのAl又はDLC等から形成されている。主磁極層344は、例えば、ABS側の端部での全厚が約0.01μm〜約0.5μmであって、この端部以外での全厚が約0.5μm〜約3.0μmのNi、Fe及びCoのうちいずれか2つ若しくは3つからなる合金、又はこれらを主成分として所定の元素が添加された合金等から形成されている。 Here, the auxiliary magnetic pole layer 340 is, for example, an alloy composed of any two or three of Ni, Fe and Co having a thickness of about 0.5 μm to about 5 μm, or a predetermined element containing these as a main component. It is formed from the alloy etc. which were made. The coil layer 341 is made of, for example, Cu having a thickness of about 0.5 μm to about 3 μm. The coil insulating layer 342 is formed of, for example, a heat-cured resist layer having a thickness of about 0.1 μm to about 5 μm. The gap layer 343 is made of, for example, Al 2 O 3 or DLC having a thickness of about 0.01 μm to about 0.5 μm. The main magnetic pole layer 344 has, for example, a total thickness of about 0.01 μm to about 0.5 μm at an end portion on the ABS side, and a total thickness of other than the end portion is about 0.5 μm to about 3.0 μm. It is formed from an alloy composed of any two or three of Ni, Fe, and Co, or an alloy to which a predetermined element is added as a main component thereof.

なお、MR効果素子33と電磁コイル素子34との間に、さらに、素子間シールド層及び/又はバッキングコイルが形成されていてもよい。バッキングコイルは、電磁コイル素子34から発生してMR効果素子33の上下部電極層を経由する磁束ループを打ち消す磁束を発生させて、磁気ディスクへの不要な書き込み又は消去動作である広域隣接トラック消去(WATE)現象の抑制を図っている。なお、コイル層341は、図4(A)において1層であるが、2層以上又はヘリカルコイルでもよい。   An inter-element shield layer and / or a backing coil may be further formed between the MR effect element 33 and the electromagnetic coil element 34. The backing coil generates a magnetic flux that is generated from the electromagnetic coil element 34 and cancels the magnetic flux loop that passes through the upper and lower electrode layers of the MR effect element 33, thereby erasing a wide area adjacent track that is an unnecessary write or erase operation on the magnetic disk. (WATE) phenomenon is suppressed. Note that the coil layer 341 is one layer in FIG. 4A, but may be two or more layers or a helical coil.

また、同じく図4(A)において、近接場光発生層35は、Au、Pd、Pt、Rh若しくはIr、若しくはこれらのうちのいくつかの組合せからなる合金、又はAl、Cu等が添加されたこれらの合金等からなる近接場光発生部350及び反射部351を備えている。近接場光発生部350が有する受光面350aは、素子形成面31に対してヘッド端面300側が上がる形で傾いていて、光ファイバ26からヘッド端面301を介して入射したレーザ光が少なくとも一部に照射され得る位置に形成されている。実際の熱アシスト動作においては、コヒーレントなレーザ光が、光ファイバ26からヘッド端面301を介して近接場光発生部350の受光面350aに照射されると、Au等の内部の自由電子がレーザ光の電界によって一様に強制振動させられることによりプラズモンが励起される。このプラズモンは、近接場光発生部350の、ヘッド端面300側の頂点である先端35aに向かって伝播し、この先端35aの近傍に非常に強い電界強度を有する近接場光を発生させる。この近接場光によって磁気ディスク表面の対向する局所部分が加熱される。これにより、この局所部分の保磁力が、書き込み磁界による書き込みが可能な大きさまでに低下するので、高密度記録用の高保磁力の磁気ディスクを使用しても、電磁コイル素子34による書き込みが可能となる。   Also in FIG. 4A, the near-field light generating layer 35 is added with Au, Pd, Pt, Rh, Ir, or an alloy made of some combination thereof, Al, Cu, or the like. A near-field light generating part 350 and a reflecting part 351 made of such an alloy are provided. The light receiving surface 350a of the near-field light generating unit 350 is inclined such that the head end surface 300 side is raised with respect to the element forming surface 31, and at least a part of the laser light incident from the optical fiber 26 via the head end surface 301 is included. It is formed at a position where it can be irradiated. In the actual heat assist operation, when coherent laser light is irradiated from the optical fiber 26 to the light receiving surface 350a of the near-field light generating unit 350 via the head end surface 301, internal free electrons such as Au are laser light. Plasmons are excited by being forced to vibrate uniformly by the electric field. This plasmon propagates toward the tip 35a of the near-field light generator 350, which is the apex on the head end surface 300 side, and generates near-field light having a very strong electric field strength in the vicinity of the tip 35a. This near field light heats the opposing local portion of the magnetic disk surface. As a result, the coercive force of this local portion is reduced to a size that allows writing by a write magnetic field, so that even if a high coercivity magnetic disk for high-density recording is used, writing by the electromagnetic coil element 34 is possible. Become.

実際には、このような熱アシスト磁気記録方式を適用することにより、高保磁力の磁気ディスクに垂直磁気記録用の薄膜磁気ヘッドを用いて書き込みを行い、記録ビットを極微細化することによって、1Tbits/in級の記録密度を達成することが可能となる。 Actually, by applying such a heat-assisted magnetic recording system, writing is performed on a magnetic disk having a high coercive force by using a thin film magnetic head for perpendicular magnetic recording, and the recording bits are made extremely fine, thereby obtaining 1 Tbits. / In Second class recording density can be achieved.

反射部351は、近接場光発生部350のヘッド端面300とは反対側に設けられており、素子形成面31と平行な反射面351aを有する。反射面351aは、光ファイバ26からヘッド端面301を介して入射したレーザ光の一部を反射させて、受光面350aに向けさせることによって、受光面350aの受光量を補う役割を果たす。これにより、近接場光の発生効率が向上する。   The reflection portion 351 is provided on the side opposite to the head end surface 300 of the near-field light generation portion 350 and has a reflection surface 351 a parallel to the element formation surface 31. The reflecting surface 351a plays a role of supplementing the amount of light received by the light receiving surface 350a by reflecting a part of the laser light incident from the optical fiber 26 through the head end surface 301 and directing it toward the light receiving surface 350a. Thereby, the generation efficiency of near-field light improves.

なお、近接場光発生層35は、上述したように、Au等から形成されているが、層厚は、例えば、約50nm〜約500nmである。また、ヘッド端面300から反対側の端までの距離は、例えば、約10μm〜約500μmである。また、反射部351でのトラック幅方向の幅は、例えば、約20μm〜約500μmである。さらに、先端35aの幅は、約15nm〜約40nmである。このような近接場光発生層の先端35aからは、上記の層厚又は先端の幅程度の幅の近接場光が発生する。この近接場光の電界強度は、この幅以上の領域では指数関数的に減衰するので、非常に局所的に記録層部分を加熱することができる。また、近接場光は、先端から磁気ディスク方向に向かって、同じく上記の層厚又は先端の幅程度までの領域に存在する。従って、10nm又はそれ以下の浮上量である現状において、近接場光は、十分に記録層部分に到達する。   The near-field light generating layer 35 is made of Au or the like as described above, and the layer thickness is, for example, about 50 nm to about 500 nm. The distance from the head end surface 300 to the opposite end is, for example, about 10 μm to about 500 μm. Further, the width in the track width direction at the reflecting portion 351 is, for example, about 20 μm to about 500 μm. Further, the width of the tip 35a is about 15 nm to about 40 nm. From the tip 35a of such a near-field light generating layer, near-field light having a width approximately equal to the layer thickness or the width of the tip is generated. Since the electric field intensity of the near-field light is exponentially attenuated in a region of this width or more, the recording layer portion can be heated very locally. Further, the near-field light is present in the region from the tip toward the magnetic disk direction up to the layer thickness or the width of the tip. Accordingly, in the present situation where the flying height is 10 nm or less, the near-field light sufficiently reaches the recording layer portion.

被覆層40は、MR効果素子33、電磁コイル素子34及び近接場光発生層35を覆うように、素子形成面31上に形成されている。この被覆層40は、積層方向(素子形成面31に垂直である方向)において、素子形成面から主磁極層344の端部344aを除く上面までの領域を占める第1の被覆層400と、この上面から近接場光発生部よりも上方までの領域を占める第2の被覆層401と、この領域上の領域を占める第3の被覆層402との積層構造となっている。   The covering layer 40 is formed on the element forming surface 31 so as to cover the MR effect element 33, the electromagnetic coil element 34, and the near-field light generating layer 35. The covering layer 40 includes a first covering layer 400 that occupies a region from the element forming surface to the upper surface excluding the end portion 344a of the main magnetic pole layer 344 in the stacking direction (direction perpendicular to the element forming surface 31). It has a laminated structure of a second coating layer 401 that occupies a region from the upper surface to above the near-field light generating portion, and a third coating layer 402 that occupies a region on this region.

ここで、第2の被覆層401は、ヘッド端面301から入射した光の受光面350aまでの光路をすべて含んでおり、半導体レーザ18(図1)から発生するレーザ光の透過率が十分に高い、SiO又はSiOを主成分とする酸化物によって形成されている。これにより、薄膜磁気ヘッドに入射したレーザ光の減衰をできるだけ小さくすることができるので、結果として受光面350aが受ける光量が増加して近接場光発生効率が向上する。なお、第1及び第3の被覆層400及び402は、被覆用として通常用いられるAlから形成されている。なお、第2の被覆層401は、受光面350aまでの光路を含んでおればよいので、例えば、この光路を含む所定のトラック幅方向の幅を有する層であってもよい。この場合、この層のトラック幅方向の両側に、Alからなる層を形成することにより、この層を挟む第1及び第3の被覆層間の密着強度が高まり、被覆層の機械的強度を十分に維持することができる。 Here, the second coating layer 401 includes all of the optical path from the head end surface 301 to the light receiving surface 350a, and has a sufficiently high transmittance of the laser light generated from the semiconductor laser 18 (FIG. 1). , SiO 2 or an oxide containing SiO 2 as a main component. As a result, the attenuation of the laser light incident on the thin film magnetic head can be made as small as possible. As a result, the amount of light received by the light receiving surface 350a is increased and the near-field light generation efficiency is improved. The first and third coating layers 400 and 402 are made of Al 2 O 3 that is usually used for coating. Note that the second coating layer 401 only needs to include an optical path to the light receiving surface 350a. For example, the second coating layer 401 may be a layer having a width in a predetermined track width direction including the optical path. In this case, by forming a layer made of Al 2 O 3 on both sides in the track width direction of this layer, the adhesion strength between the first and third coating layers sandwiching this layer is increased, and the mechanical strength of the coating layer is increased. Can be maintained sufficiently.

熱膨張突出層41は、近接場光発生層35の近接場光発生部350と主磁極層344の端部344aとの間に位置していて、近接場光発生部350とは、厚さ約3nm〜約20nmのSiO、Al等からなる絶縁層42を介して近接しており、主磁極層344の端部344aとは直接、接している。ここで、本実施形態において、主磁極層344は、近接場光発生層35の受光面350aとは反対側に位置していて、近接場光発生層35のリーディング側に設けられている。さらに、熱膨張突出層41は、被覆層40を構成するAl、SiO等の絶縁材料よりも熱膨張率の高い、Al、Cu、Au、Ti、Ta、Mo、W若しくはRu、又はこれらの元素のうちの幾つかからなる合金等の非磁性金属材料から構成されている。なお、熱膨張突出層41と主磁極層の端部344aとの間に絶縁層が設けられていてもよい。 The thermal expansion protruding layer 41 is located between the near-field light generating part 350 of the near-field light generating layer 35 and the end 344a of the main magnetic pole layer 344. The near-field light generating part 350 has a thickness of about It is in close proximity via an insulating layer 42 made of SiO 2 , Al 2 O 3, etc. with a thickness of 3 nm to about 20 nm, and is in direct contact with the end 344 a of the main magnetic pole layer 344. Here, in the present embodiment, the main magnetic pole layer 344 is located on the side opposite to the light receiving surface 350 a of the near-field light generating layer 35 and is provided on the leading side of the near-field light generating layer 35. Furthermore, the thermal expansion protruding layer 41 has a higher coefficient of thermal expansion than an insulating material such as Al 2 O 3 and SiO 2 constituting the coating layer 40, and has Al, Cu, Au, Ti, Ta, Mo, W or Ru, Or it is comprised from nonmagnetic metal materials, such as an alloy which consists of some of these elements. An insulating layer may be provided between the thermal expansion protruding layer 41 and the end portion 344a of the main magnetic pole layer.

図4(B)は、近接場光発生層35、熱膨張突出層41及び主磁極層344の端部の構成を示す斜視図である。   4B is a perspective view showing the configuration of the end portions of the near-field light generating layer 35, the thermal expansion protruding layer 41, and the main magnetic pole layer 344. FIG.

同図によれば、レーザ光43を受けることにより近接場光発生層35に発生した近接場光の一部は、近接する熱膨張突出層41を加熱する。熱膨張突出層41は、上述したように大きな熱膨張率を有しているので、この加熱によって大きく膨張し、特に、ヘッド端面300となっている端面は、磁気ディスク方向に大きく突出する。この突出に引きずられて、又は自らも膨張することによって、近接場光発生層35の先端及び主磁極層344の端もまた、磁気ディスク方向に大きく突出する。近接場光発生層35の先端が大きく突出することによって、近接場光が磁気ディスクの記録層部分に十分に到達して、書き込み時に記録層部分の保磁力が十分に必要なだけ低下する。また、主磁極層344の端が大きく突出することによって、この端と磁気ディスク表面との磁気的な実効距離であるマグネティックスペーシングが十分に小さくなる。これにより、書き込み磁界が磁気ディスクの記録層部分に十分に到達するので、書き込み効率が向上する。   According to the figure, a part of the near-field light generated in the near-field light generating layer 35 by receiving the laser beam 43 heats the adjacent thermal expansion protruding layer 41. Since the thermal expansion protruding layer 41 has a large coefficient of thermal expansion as described above, it expands greatly by this heating, and in particular, the end surface serving as the head end surface 300 protrudes greatly in the magnetic disk direction. By being dragged by this protrusion or expanding itself, the tip of the near-field light generating layer 35 and the end of the main magnetic pole layer 344 also protrude greatly in the magnetic disk direction. Since the tip of the near-field light generating layer 35 protrudes greatly, the near-field light sufficiently reaches the recording layer portion of the magnetic disk, and the coercive force of the recording layer portion is sufficiently reduced when writing. Further, since the end of the main magnetic pole layer 344 protrudes greatly, the magnetic spacing, which is the magnetic effective distance between this end and the magnetic disk surface, becomes sufficiently small. As a result, the write magnetic field sufficiently reaches the recording layer portion of the magnetic disk, thereby improving the write efficiency.

また、近接場光発生層35、熱膨張突出層41及び主磁極層344が、同一トラックの方向に並んで重なっているので、磁気ディスクの記録層の書き込もうとしている部分(トラック)が確実に加熱可能となる。さらに、熱膨張突出層41、さらには主磁極層344が、近接場光発生部350自身の過度の温度上昇を防止するヒートシンクとしての役割をも果たす。   Further, since the near-field light generating layer 35, the thermal expansion projecting layer 41, and the main magnetic pole layer 344 overlap each other in the same track direction, the portion (track) to be written on the recording layer of the magnetic disk is surely formed. Heating becomes possible. Further, the thermal expansion protruding layer 41 and the main magnetic pole layer 344 also serve as a heat sink that prevents an excessive temperature rise of the near-field light generating unit 350 itself.

なお、本実施形態においては、書き込み磁界の主要発生箇所である主磁極層344の端部344aが、近接場光の主要発生箇所である近接場光発生部350の先端35aのリーディング側に位置しているので、熱アシスト動作と書き込み動作をほぼ同時に行うか、又は熱アシスト作用を受けた記録層部分が少なくとも1回転してヘッド位置に戻った後、書き込み動作を行うことになる。   In the present embodiment, the end 344a of the main magnetic pole layer 344, which is the main generation location of the write magnetic field, is positioned on the leading side of the tip 35a of the near-field light generation portion 350, which is the main generation location of the near-field light. Therefore, the heat assist operation and the write operation are performed almost simultaneously, or the write operation is performed after the recording layer portion that has received the heat assist action has rotated at least once and returned to the head position.

さらに、近接場光発生部350は、上述したように、素子形成面31に対してヘッド端面300側が上がる形で傾いている。この傾きをθとすると、近接場光発生部350の熱アシスト作用による磁気ディスクの記録層部分の温度上昇分は、傾きθが大きくなるに従って、受光面による受光量が増加するので大きくなる。これに対して、傾きθが大きくなるほど、近接場光発生部350の先端と主磁極層344の端との間の距離が大きくなり、加熱及び突出部分と書き込み磁界発生部分とのずれが大きくなり得る。このずれが大きくなると、特にスキューが大きい場合に、加熱及び突出動作によっても書き込みが安定せず、さらに書き込み効率も向上しない可能性があり、好ましくない。すなわち、傾きθの値は、記録層の保磁力を熱アシストによって十分に低減させる条件と、加熱突出部分と書き込み部分とを一致させる条件との間で、ある程度の幅を持って選択可能である。なお、θ値の設計の際、フレクシャの振動等によって光ファイバからのレーザ光が所定範囲内で変動しても、近接場光発生層の受光面が、ある程度のマージンを持って確実に必要な量を受光可能とするように、θ値をある程度大きくすることも考慮される。なお、図4の実施形態において、θは、約40度〜約50度である。   Further, as described above, the near-field light generator 350 is inclined with respect to the element forming surface 31 such that the head end surface 300 side is raised. Assuming that the inclination is θ, the temperature rise in the recording layer portion of the magnetic disk due to the heat assisting action of the near-field light generator 350 increases as the amount of light received by the light receiving surface increases as the inclination θ increases. In contrast, as the inclination θ increases, the distance between the tip of the near-field light generating unit 350 and the end of the main magnetic pole layer 344 increases, and the deviation between the heating and protruding portion and the writing magnetic field generating portion increases. obtain. If this deviation becomes large, writing may not be stabilized even by heating and protruding operations, and writing efficiency may not be improved, especially when the skew is large, which is not preferable. That is, the value of the inclination θ can be selected with a certain width between the condition for sufficiently reducing the coercive force of the recording layer by thermal assist and the condition for matching the heating protruding portion and the writing portion. . When designing the θ value, even if the laser light from the optical fiber fluctuates within a predetermined range due to flexure vibration or the like, the light receiving surface of the near-field light generating layer is surely required with a certain margin. It is also considered to increase the θ value to some extent so that the quantity can be received. In the embodiment of FIG. 4, θ is about 40 degrees to about 50 degrees.

図5は、本発明による薄膜磁気ヘッドが備えている近接場光発生層及び熱膨張突出層についての種々の実施形態を示す断面図である。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing various embodiments of the near-field light generating layer and the thermal expansion protruding layer provided in the thin film magnetic head according to the present invention.

図5(A)によれば、熱膨張突出層52は、図4(A)と同じく、近接場光発生層51の近接場光発生部510と主磁極層50の端部50aとの間に位置しており、近接場光発生部510とは絶縁層53を介して近接している。しかしながら、本実施形態では、主磁極層50の端部50aは、図4(A)の端部344aよりも近接場光発生部510寄りに形成されており、端部50aの上面が主磁極層50の上面と一致している。これにより、ヘッド端面300における加熱突出部分と書き込み部分との距離がより小さくなり、書き込みの安定性及び書き込み効率がより向上する。   According to FIG. 5A, the thermal expansion protruding layer 52 is formed between the near-field light generating portion 510 of the near-field light generating layer 51 and the end 50a of the main magnetic pole layer 50, as in FIG. Located near the near-field light generator 510 via the insulating layer 53. However, in this embodiment, the end portion 50a of the main magnetic pole layer 50 is formed closer to the near-field light generating portion 510 than the end portion 344a of FIG. 4A, and the upper surface of the end portion 50a is the main magnetic pole layer. 50 coincides with the upper surface. As a result, the distance between the heating protruding portion and the writing portion on the head end surface 300 becomes smaller, and the writing stability and writing efficiency are further improved.

図5(B)によれば、熱膨張突出層56は、図4(A)と同じく、近接場光発生層55の近接場光発生部550と主磁極層54の端部54aとの間に位置しており、近接場光発生部550とは絶縁層57を介して近接している。しかしながら、本実施形態では、近接場光発生部550のヘッド端面300側の部分が、他の部分から折れ曲がっており、素子形成面31と平行になっている。その結果、近接場光発生部550において、受光面550aの面積を十分に確保することによって必要な近接場光を発生させた上で、ヘッド端面300における加熱突出部分と書き込み部分との距離がさほど大きくならないので、書き込みの安定性及び書き込み効率がより向上する。   According to FIG. 5B, the thermal expansion protruding layer 56 is formed between the near-field light generating part 550 of the near-field light generating layer 55 and the end 54a of the main magnetic pole layer 54, as in FIG. Located near the near-field light generator 550 via the insulating layer 57. However, in the present embodiment, the part on the head end surface 300 side of the near-field light generating unit 550 is bent from the other part and is parallel to the element forming surface 31. As a result, the near-field light generating unit 550 generates a necessary near-field light by sufficiently securing the area of the light-receiving surface 550a, and the distance between the heating protruding portion and the writing portion on the head end surface 300 is small. Since it does not increase, the writing stability and writing efficiency are further improved.

図5(C)によれば、近接場光発生層59の近接場光発生部590が有する受光面590aは、素子形成面31に対してヘッド端面300側が下がる形で傾いていて、ヘッド端面301を介して入射したレーザ光が少なくとも一部に照射され得る位置に形成されている。また、主磁極層58が、近接場光発生層59の受光面590aの側であってリーディング側に位置している。さらに、主磁極層58及び近接場光発生層59が、主磁極層58のヘッド端面300側の端58bと近接場光発生層59のヘッド端面300側の先端59aとにおいてのみ、互いに接して又は近接している。さらに、熱膨張突出層60は、近接場光発生部590の主磁極層58とは反対側において、近接場光発生部590に絶縁層61を介して近接した位置に設けられている。以上に述べた構成により、近接場光発生部590の先端59a近傍から発生する近接場光によって、磁気ディスクの記録層部分が、熱アシスト作用を確実に受けることができる。その上、熱膨張突出層60による突出の中心が、近接場光発生層の先端59a及び主磁極層の端部58aの両方に近い位置となるので、これら先端59a及び端部58aを十分に突出させることが可能となり、書き込みの安定性及び書き込み効率がより確実に向上する。   According to FIG. 5C, the light receiving surface 590 a of the near-field light generating part 590 of the near-field light generating layer 59 is inclined so that the head end surface 300 side is lowered with respect to the element forming surface 31. Is formed at a position where at least a part of the laser beam incident through can be irradiated. The main magnetic pole layer 58 is positioned on the leading side of the near-field light generating layer 59 on the light receiving surface 590a side. Further, the main magnetic pole layer 58 and the near-field light generating layer 59 are in contact with each other only at the end 58b of the main magnetic pole layer 58 on the head end surface 300 side and the front end 59a of the near-field light generating layer 59 on the head end surface 300 side. It is close. Further, the thermal expansion projecting layer 60 is provided at a position close to the near-field light generating unit 590 via the insulating layer 61 on the side opposite to the main magnetic pole layer 58 of the near-field light generating unit 590. With the configuration described above, the recording layer portion of the magnetic disk can surely receive the heat assist action by the near-field light generated from the vicinity of the tip 59a of the near-field light generating portion 590. In addition, since the center of protrusion by the thermal expansion protrusion layer 60 is close to both the front end 59a of the near-field light generating layer and the end portion 58a of the main magnetic pole layer, the front end 59a and the end portion 58a are sufficiently protruded. This makes it possible to improve the writing stability and the writing efficiency more reliably.

なお、本実施形態においては、光ファイバ26からの光は、主磁極層58及び近接場光発生層59の反射部591の間の領域に向けて放射されることになる。この際、反射面591aのみならず、主磁極層58の上面が、入射した光の一部を反射させて、受光面590aに向けさせることによって、受光面590aの受光量を補う役割を果たす。また、主磁極層58とは独立して、Au、Al、Cu又はそれらのうちのいくつかの組合せの合金等からなる反射層が、主磁極層58の上面に接して又は上方に設けてもよい。   In the present embodiment, the light from the optical fiber 26 is emitted toward the region between the main magnetic pole layer 58 and the reflection portion 591 of the near-field light generating layer 59. At this time, not only the reflecting surface 591a but also the upper surface of the main magnetic pole layer 58 reflects part of the incident light and directs it toward the light receiving surface 590a, thereby supplementing the amount of light received by the light receiving surface 590a. Independent of the main magnetic pole layer 58, a reflective layer made of Au, Al, Cu, or an alloy of some combination thereof may be provided in contact with or above the upper surface of the main magnetic pole layer 58. Good.

また、以上に示した図5(A)〜(C)の実施形態の変更態様として、主磁極層が、補助磁極層の下側(リーディング側)に設けられていて、さらに、近接場光発生層が、主磁極層の下側(リーディング側)に設けられていてもよい。このような変更態様においても上述した実施形態の効果と同様の効果が得られることは明らかである。この変更態様の場合、実際の書き込みにおいて、書き込まれるべき記録層部分が熱アシスト作用を受けた直後に、書き込み動作が、同部分に安定して書き込み効率良く行われることになる。   Further, as a modification of the embodiment shown in FIGS. 5A to 5C described above, the main magnetic pole layer is provided on the lower side (leading side) of the auxiliary magnetic pole layer, and the near-field light is generated. The layer may be provided on the lower side (leading side) of the main magnetic pole layer. It is obvious that the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained even in such a modified mode. In the case of this change mode, in actual writing, immediately after the recording layer portion to be written is subjected to the heat assist action, the writing operation is stably performed on the same portion with high writing efficiency.

図6は、熱膨張突出層及び素子形成面に対して傾いている近接場光発生部の形成方法の一実施形態を説明する断面図である。具体的には、図6(A)〜(C)において、図4(A)に示した薄膜磁気ヘッドの製造工程のうち、熱膨張突出層52及び近接場光発生部350の形成工程部分を順次示している。   FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining an embodiment of a method for forming a near-field light generating part inclined with respect to the thermal expansion protruding layer and the element formation surface. Specifically, in FIGS. 6A to 6C, in the manufacturing process of the thin film magnetic head shown in FIG. 4A, the formation process part of the thermal expansion protruding layer 52 and the near-field light generator 350 is shown. Shown sequentially.

図6(A)において、最初に、主磁極主要膜80を形成し、次いで、主磁極補助膜81を形成する。ここで、主磁極主要膜80の端部が、後に主磁極層のヘッド端面側の端部となる。その後、主磁極補助膜81上に、リフトオフ用のレジストパターン82を形成し、その後、スパッタリング法等を用いて、Al、Cu、Au、Ti、Ta、Mo、W若しくはRu、又はこれらの元素のうちの幾つかからなる合金等の非磁性金属膜を成膜して、傾斜した側面を有する熱膨張突出膜83を形成する。この後、レジストパターン82及びその上の非磁性金属膜が、いわゆるリフトオフにより除去される。   In FIG. 6A, first, the main magnetic pole main film 80 is formed, and then the main magnetic pole auxiliary film 81 is formed. Here, the end portion of the main magnetic pole main film 80 becomes an end portion on the head end face side of the main magnetic pole layer later. Thereafter, a resist pattern 82 for lift-off is formed on the main magnetic pole auxiliary film 81, and then Al, Cu, Au, Ti, Ta, Mo, W, Ru, or these elements are formed by sputtering or the like. A nonmagnetic metal film such as an alloy made of some of these is formed to form a thermal expansion protruding film 83 having inclined side surfaces. Thereafter, the resist pattern 82 and the nonmagnetic metal film thereon are removed by so-called lift-off.

次いで、図6(B)に示すように、主磁極補助膜81及び熱膨張突出膜83上に、SiO、Al等からなる絶縁膜84と、近接場光発生層となるべき、Au、Pd、Pt、Rh若しくはIr、若しくはこれらのうちのいくつかの組合せからなる合金、又はAl、Cu等が添加されたこれらの合金等の近接場光発生膜85とを形成する。さらに、それらの上に、被覆層となるべき誘電体膜86を成膜する。 Next, as shown in FIG. 6B, an insulating film 84 made of SiO 2 , Al 2 O 3, etc. and a near-field light generating layer on the main magnetic pole auxiliary film 81 and the thermal expansion protrusion film 83, A near-field light generating film 85 made of Au, Pd, Pt, Rh or Ir, or an alloy made of some combination thereof, or an alloy of these alloys to which Al, Cu or the like is added is formed. Further, a dielectric film 86 to be a coating layer is formed thereon.

以上の形成工程を含む、薄膜磁気ヘッドのウエハ基板工程が終了した後、形成工程が終了したウエハ基板を切断して複数の磁気ヘッド素子が一列状に並んだバー部材を形成する。次いで、このバー部材を研磨することによって所望のMRハイトを得るべく、MRハイト加工を行う。その後、MRハイト加工が施されたバー部材を個々のスライダ(薄膜磁気ヘッド)に切断分離することによって薄膜磁気ヘッドの製造工程が終了する。   After the wafer substrate process of the thin film magnetic head including the above formation process is completed, the wafer substrate after the formation process is cut to form a bar member in which a plurality of magnetic head elements are arranged in a line. Next, MR height processing is performed to obtain a desired MR height by polishing the bar member. Thereafter, the bar member that has been subjected to MR height processing is cut and separated into individual sliders (thin film magnetic heads), thereby completing the manufacturing process of the thin film magnetic head.

ここで、図6(C)によれば、上述のMRハイト加工によって、主磁極主要膜80、熱膨張突出膜83、絶縁膜84、近接場光発生膜85及び誘電体膜86が研削されることにより、主磁極層344、熱膨張突出層41、絶縁層42、近接場光発生層35及び被覆層40が完成される。ここで、近接場光発生部350は、熱膨張突出膜83の傾斜した側面上に形成されていた結果として、素子形成面に対して傾いている。   Here, according to FIG. 6C, the main magnetic pole main film 80, the thermal expansion protruding film 83, the insulating film 84, the near-field light generating film 85, and the dielectric film 86 are ground by the MR height processing described above. Thus, the main magnetic pole layer 344, the thermal expansion protruding layer 41, the insulating layer 42, the near-field light generating layer 35, and the covering layer 40 are completed. Here, the near-field light generator 350 is inclined with respect to the element formation surface as a result of being formed on the inclined side surface of the thermal expansion protrusion film 83.

図7は、図1に示した磁気ディスク装置の記録再生及び発光制御回路13の回路構成を示すブロック図である。   FIG. 7 is a block diagram showing a circuit configuration of the recording / reproducing and light emission control circuit 13 of the magnetic disk apparatus shown in FIG.

図7において、90は制御LSI、91は、制御LSI90から記録データを受け取るライトゲート、92はライト回路、93は、半導体レーザ18に供給する動作電流値の制御用テーブル等を格納するROM、95は、MR効果素子33へセンス電流を供給する定電流回路、96は、MR効果素子33の出力電圧を増幅する増幅器、97は、制御LSI90に対して再生データを出力する復調回路、98は温度検出器、99は、半導体レーザ18の制御回路をそれぞれ示している。   In FIG. 7, 90 is a control LSI, 91 is a write gate that receives recording data from the control LSI 90, 92 is a write circuit, 93 is a ROM that stores a control table for operating current values supplied to the semiconductor laser 18, etc. Is a constant current circuit that supplies a sense current to the MR effect element 33, 96 is an amplifier that amplifies the output voltage of the MR effect element 33, 97 is a demodulation circuit that outputs reproduction data to the control LSI 90, and 98 is a temperature. A detector 99 indicates a control circuit for the semiconductor laser 18.

制御LSI90から出力される記録データは、ライトゲート91に供給される。ライトゲート91は、制御LSI90から出力される記録制御信号が書き込み動作を指示するときのみ、記録データをライト回路92へ供給する。ライト回路92は、この記録データに従ってコイル層341に書き込み電流を流し、電磁コイル素子34により磁気ディスク上に書き込みを行う。   The recording data output from the control LSI 90 is supplied to the write gate 91. The write gate 91 supplies recording data to the write circuit 92 only when a recording control signal output from the control LSI 90 instructs a writing operation. The write circuit 92 causes a write current to flow through the coil layer 341 in accordance with this recording data, and the electromagnetic coil element 34 writes on the magnetic disk.

制御LSI90から出力される再生制御信号が読み出し動作を指示するときのみ、定電流回路95からMR積層体332に定電流が流れる。このMR効果素子33により再生された信号は増幅器96で増幅された後、復調回路97で復調され、得られた再生データが制御LSI90に出力される。   A constant current flows from the constant current circuit 95 to the MR multilayer 332 only when the reproduction control signal output from the control LSI 90 instructs a read operation. The signal reproduced by the MR effect element 33 is amplified by the amplifier 96 and then demodulated by the demodulation circuit 97, and the obtained reproduction data is output to the control LSI 90.

レーザ制御回路99は、制御LSI90から出力されるレーザON/OFF信号及び動作電流制御信号を受け取る。このレーザON/OFF信号がオン動作指示である場合、発振しきい値以上の動作電流が半導体レーザに印加される。この際の動作電流値は、動作電流制御信号に応じた値に制御される。制御LSI90は、記録再生動作とのタイミングに応じてレーザON/OFF信号を発生させ、磁気ディスクの記録層及び半導体レーザ18の、温度検出器98による温度測定値等を考慮し、ROM93内の制御テーブルに基づいて、動作電流値制御信号の値を決定する。この際、近接場光発生層35からの近接場光による熱膨張突出層41の突出、さらにこれに伴う近接場光発生層35及び主磁極層344の突出は、レーザ照射開始に対して若干のタイムラグを有することが考慮される。具体的には、レーザ照射後、オーバーライト特性が十分に回復するだけの小さなマグネティックスペーシングが確保された後、書き込みが開始される。   The laser control circuit 99 receives a laser ON / OFF signal and an operating current control signal output from the control LSI 90. When this laser ON / OFF signal is an on operation instruction, an operating current equal to or higher than the oscillation threshold is applied to the semiconductor laser. The operating current value at this time is controlled to a value corresponding to the operating current control signal. The control LSI 90 generates a laser ON / OFF signal according to the timing of the recording / reproducing operation, and takes into account the temperature measurement values of the recording layer of the magnetic disk and the semiconductor laser 18 by the temperature detector 98, and the like, and controls the ROM 93. The value of the operating current value control signal is determined based on the table. At this time, the protrusion of the thermal expansion protrusion layer 41 due to the near-field light from the near-field light generation layer 35, and the protrusion of the near-field light generation layer 35 and the main magnetic pole layer 344 accompanying this, are slightly different from the start of laser irradiation. It is considered to have a time lag. Specifically, after the laser irradiation, writing is started after a small magnetic spacing sufficient to sufficiently recover the overwrite characteristic is secured.

ここで、制御テーブルは、発振しきい値及び光出力−動作電流特性の温度依存性のみならず、動作電流値と、熱膨張突出層41による近接場光発生層35及び主磁極層344の突出量並びに熱アシスト作用を受けた記録層の温度上昇分との関係、さらには保磁力の温度依存性についてのデータを含んでもよい。   Here, the control table includes not only the temperature dependence of the oscillation threshold value and the optical output-operating current characteristic, but also the operating current value and the protrusion of the near-field light generating layer 35 and the main magnetic pole layer 344 by the thermal expansion protruding layer 41. Data on the relationship between the amount and the temperature rise of the recording layer subjected to the heat assisting action, and further the temperature dependence of the coercive force may be included.

このように、記録/再生動作制御信号系とは独立して、レーザON/OFF信号及び動作電流値制御信号系を設けることによって、単純に記録動作に連動した半導体レーザへの通電のみならず、より多様な通電モードを実現することができる。なお、記録再生及び発光制御回路13の回路構成は、図7に示したものに限定されるものでないことは明らかである。記録制御信号及び再生制御信号以外の信号で書き込み動作及び読み出し動作を特定してもよい。また、少なくとも書き込み動作時又はその直前において半導体レーザ18に通電することが望ましいが、書き込み動作及び読み出し動作のシーケンスにおいて、所定の期間だけ通電することも可能である。   In this way, by providing the laser ON / OFF signal and the operating current value control signal system independently of the recording / reproducing operation control signal system, not only the energization to the semiconductor laser simply linked to the recording operation, More various energization modes can be realized. It is apparent that the circuit configuration of the recording / reproducing and light emission control circuit 13 is not limited to that shown in FIG. The write operation and the read operation may be specified by a signal other than the recording control signal and the reproduction control signal. In addition, it is desirable to energize the semiconductor laser 18 at least during or immediately before the write operation, but it is also possible to energize for a predetermined period in the sequence of the write operation and the read operation.

以上述べた実施形態は全て本発明を例示的に示すものであって限定的に示すものではなく、本発明は他の種々の変形態様及び変更態様で実施することができる。従って本発明の範囲は特許請求の範囲及びその均等範囲によってのみ規定されるものである。   All the embodiments described above are illustrative of the present invention and are not intended to be limiting, and the present invention can be implemented in other various modifications and changes. Therefore, the scope of the present invention is defined only by the claims and their equivalents.

本発明による磁気ディスク装置の一実施形態における要部の構成を概略的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing a configuration of a main part in an embodiment of a magnetic disk device according to the present invention. FIG. 本発明によるHGAの一実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows one Embodiment of HGA by this invention. 図2に示すHGAの先端部に装着されている、本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施形態を示す斜視図、及びこの薄膜磁気ヘッドにおける磁気ヘッド素子部分の構成を示す平面図である。FIG. 3 is a perspective view showing an embodiment of a thin film magnetic head according to the present invention mounted on the tip of the HGA shown in FIG. 2, and a plan view showing a configuration of a magnetic head element portion in the thin film magnetic head. 図3に示した薄膜磁気ヘッドの要部の構成を概略的に示す図3(A)のA−A線断面図、及び近接場光発生層、熱膨張突出層及び主磁極層の端部の構成を示す斜視図である。FIG. 3A is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 3A schematically showing the configuration of the main part of the thin film magnetic head shown in FIG. It is a perspective view which shows a structure. 本発明による薄膜磁気ヘッドが備えている近接場光発生層及び熱膨張突出層についての種々の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows various embodiment about the near-field light generation layer and thermal expansion protrusion layer with which the thin film magnetic head by this invention is provided. 熱膨張突出層及び素子形成面に対して傾いている近接場光発生部の形成方法の一実施形態を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining one Embodiment of the formation method of the near-field light generation part inclined with respect to a thermal expansion protrusion layer and an element formation surface. 図1に示した磁気ディスク装置の記録再生及び発光制御回路の回路構成を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing a circuit configuration of a recording / reproducing and light emission control circuit of the magnetic disk device shown in FIG. 1.

符号の説明Explanation of symbols

10 磁気ディスク
11 スピンドルモータ
12 アセンブリキャリッジ装置
13 記録再生及び発光制御回路
14 駆動アーム
15 ボイスコイルモータ(VCM)
16 ピボットベアリング軸
17 ヘッドジンバルアセンブリ(HGA)
18 半導体レーザ
19、27 ファイバホルダ
20 サスペンション
21 スライダ
210 スライダ基板
22 ロードビーム
23 フレクシャ
24 ベースプレート
25 配線部材
26 光ファイバ
30 浮上面(ABS)
300、301 ヘッド端面
31 素子形成面
32 磁気ヘッド素子
33 MR効果素子
330 下部電極層
332 MR効果積層体
334 上部電極層
34 電磁コイル素子
340、710 補助磁極層
341 コイル層
342 コイル絶縁層
343 ギャップ層
344、50、54、58 主磁極層
344a、50a、54a、58a 端部
35、51、55、59 近接場光発生層
35a、59a 先端
350、510、550、590 近接場光発生部
350a、550a、590a 受光面
351、591 反射部
351a 反射面
36、37 信号端子電極
40、400、401、402 被覆層
41、52、56、60 熱膨張突出層
42、53、57、61 絶縁層
43 レーザ光
58b 端
80 主磁極主要膜
81 主磁極補助層
82 レジストパターン
83 熱膨張突出膜
84 絶縁膜
85 近接場光発生膜
86 誘電体膜
90 制御LSI
91 ライトゲート
92 ライト回路
93 ROM
95 定電流回路
96 増幅器
97 復調回路
98 温度検出器
99 レーザ制御回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Magnetic disk 11 Spindle motor 12 Assembly carriage apparatus 13 Recording / reproduction | regeneration and light emission control circuit 14 Drive arm 15 Voice coil motor (VCM)
16 Pivot bearing shaft 17 Head gimbal assembly (HGA)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 18 Semiconductor laser 19, 27 Fiber holder 20 Suspension 21 Slider 210 Slider substrate 22 Load beam 23 Flexure 24 Base plate 25 Wiring member 26 Optical fiber 30 Air bearing surface (ABS)
300, 301 Head end surface 31 Element formation surface 32 Magnetic head element 33 MR effect element 330 Lower electrode layer 332 MR effect laminate 334 Upper electrode layer 34 Electromagnetic coil element 340, 710 Auxiliary magnetic pole layer 341 Coil layer 342 Coil insulation layer 343 Gap layer 344, 50, 54, 58 Main magnetic pole layer 344a, 50a, 54a, 58a End portion 35, 51, 55, 59 Near-field light generating layer 35a, 59a Tip 350, 510, 550, 590 Near-field light generating portion 350a, 550a 590a Light receiving surface 351, 591 Reflecting portion 351a Reflecting surface 36, 37 Signal terminal electrode 40, 400, 401, 402 Covering layer 41, 52, 56, 60 Thermal expansion protruding layer 42, 53, 57, 61 Insulating layer 43 Laser light 58b end 80 main magnetic pole main film 81 main magnetic pole auxiliary layer 82 resist Pattern 83 thermally expand and protrude film 84 insulating film 85 near-field light generating layer 86 a dielectric layer 90 controls LSI
91 Write gate 92 Write circuit 93 ROM
95 constant current circuit 96 amplifier 97 demodulation circuit 98 temperature detector 99 laser control circuit

Claims (9)

媒体対向面及び該媒体対向面に垂直な素子形成面を有する基板と、該素子形成面に形成されており、主磁極層、補助磁極層及びコイル層を有する書き込み用の電磁コイル素子と、近接場光を発生させて書き込みの際に磁気記録媒体の書き込み部分を加熱するための近接場光発生層と、該電磁コイル素子及び該近接場光発生層を覆うように該素子形成面上に形成された被覆層とを備えた薄膜磁気ヘッドであって、
前記近接場光発生層が、媒体対向面側のヘッド端面に向かって先細りした形状を有していて、該媒体対向面側のヘッド端面に達した先端を含む近接場光発生部を備えており、
前記被覆層を構成する材料よりも熱膨張率の高い材料から形成されており、前記近接場光発生部に近接して設けられていて、自身の一端面が前記媒体対向面側のヘッド端面に達している熱膨張突出層であって、該近接場光発生部から発生する近接場光を受けることにより加熱されて膨張し、該ヘッド端面に達した自身の一端面を磁気記録媒体の方向に突出させることによって該近接場光発生部の該ヘッド端面に達した先端を磁気記録媒体の方向に突出させる熱膨張突出層が、さらに設けられていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
A substrate having a medium facing surface and an element forming surface perpendicular to the medium facing surface, and an electromagnetic coil element for writing formed on the element forming surface and having a main magnetic pole layer, an auxiliary magnetic pole layer, and a coil layer, A near-field light generating layer for heating the writing portion of the magnetic recording medium during writing by generating field light, and formed on the element forming surface so as to cover the electromagnetic coil element and the near-field light generating layer A thin film magnetic head comprising a coated layer,
The near-field light generating layer has a shape tapered toward the head end surface on the medium facing surface side, and includes a near-field light generating portion including a tip reaching the head end surface on the medium facing surface side. ,
Wherein is formed of a high thermal expansion coefficient material than the material constituting the coating layer, it is provided in proximity to the near-field light generation portion, the head end surface of one end surface of its own the medium facing surface A thermal expansion projecting layer that has reached its head end surface in the direction of the magnetic recording medium by being heated and expanded by receiving the near-field light generated from the near-field light generating unit. A thin-film magnetic head, further comprising a thermal expansion projecting layer that projects the tip of the near-field light generating unit that has reached the head end surface in the direction of the magnetic recording medium .
前記近接場光発生部が、前記素子形成面に対して媒体対向面側が上がる又は下がる形で傾いていて、媒体対向面とは反対側のヘッド端面から入射した光が少なくとも一部に照射され得る受光面を有していることを特徴とする請求項1に記載の薄膜磁気ヘッド。   The near-field light generating portion is inclined such that the medium facing surface side is raised or lowered with respect to the element forming surface, and at least a part of the light incident from the head end surface opposite to the medium facing surface can be irradiated. The thin film magnetic head according to claim 1, further comprising a light receiving surface. 前記主磁極層が、前記近接場光発生層の前記受光面とは反対側に位置しており、前記熱膨張突出層が、該近接場光発生層の近接場光発生部と該主磁極層の媒体対向面側の端部との間に位置していて該主磁極層の媒体対向面側の端部にも接している又は近接していることを特徴とする請求項2に記載の薄膜磁気ヘッド。   The main magnetic pole layer is located on a side opposite to the light receiving surface of the near-field light generating layer, and the thermal expansion projecting layer includes a near-field light generating part of the near-field light generating layer and the main magnetic pole layer. 3. The thin film according to claim 2, wherein the thin film is positioned between the end of the main pole layer and the end of the main magnetic pole layer on the side of the medium facing surface. Magnetic head. 前記主磁極層が、前記近接場光発生層の前記受光面の側に位置しており、該主磁極層及び該近接場光発生層が、該主磁極層の媒体対向面側の端と該近接場光発生層の媒体対向面側のヘッド端面に達した先端とにおいてのみ、互いに接して又は近接しており、前記熱膨張突出層が、該近接場光発生部の該主磁極層とは反対側に位置していることを特徴とする請求項2に記載の薄膜磁気ヘッド。   The main magnetic pole layer is positioned on the light receiving surface side of the near-field light generating layer, and the main magnetic pole layer and the near-field light generating layer are connected to the end of the main magnetic pole layer on the medium facing surface side and the Only the tip of the near-field light generating layer reaching the head end surface on the medium facing surface side is in contact with or close to each other, and the thermal expansion protruding layer is the main magnetic pole layer of the near-field light generating unit. The thin film magnetic head according to claim 2, wherein the thin film magnetic head is located on an opposite side. 前記近接場光発生層が、前記近接場光発生部の前記媒体対向面とは反対側に、前記素子形成面と平行な反射面を有する反射部をさらに備えていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の薄膜磁気ヘッド。   The near-field light generation layer further includes a reflection portion having a reflection surface parallel to the element formation surface on a side opposite to the medium facing surface of the near-field light generation portion. 5. The thin film magnetic head according to any one of 1 to 4. 前記熱膨張突出層を構成する材料が、非磁性金属材料であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の薄膜磁気ヘッド。   6. The thin film magnetic head according to claim 1, wherein the material constituting the thermal expansion protruding layer is a nonmagnetic metal material. 前記被覆層のうち、前記媒体対向面とは反対側のヘッド端面から入射した光の前記受光面までの光路を含む領域が、SiO又は少なくとも1つの添加元素が添加されたSiOによって形成されていることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の薄膜磁気ヘッド。 Among the covering layer, wherein the bearing surface area including the optical path to the light receiving surface of the light incident from the head end surface of the opposite side is formed by SiO 2 of SiO 2 or at least one additive element is added The thin film magnetic head according to claim 1, wherein the thin film magnetic head is provided. 請求項1から7のいずれか1項に記載の薄膜磁気ヘッドと、該薄膜磁気ヘッドを支持する支持機構と、書き込み用の前記電磁コイル素子のための信号線と、該薄膜磁気ヘッドが読み出し用の磁気抵抗効果素子を備えている場合は該磁気抵抗効果素子のための信号線とを備えており、前記薄膜磁気ヘッドの媒体対向面とは反対側のヘッド端面から光を入射させるための光ファイバをさらに備えていることを特徴とするヘッドジンバルアセンブリ。   8. The thin film magnetic head according to claim 1, a support mechanism for supporting the thin film magnetic head, a signal line for the electromagnetic coil element for writing, and the thin film magnetic head for reading. The magnetoresistive effect element is provided with a signal line for the magnetoresistive effect element, and light for allowing light to enter from the head end surface opposite to the medium facing surface of the thin film magnetic head. A head gimbal assembly, further comprising a fiber. 請求項8に記載のヘッドジンバルアセンブリを少なくとも1つ備えており、少なくとも1つの磁気ディスクと、前記光ファイバに光を供給するための光源と、該少なくとも1つの磁気ディスクに対して前記薄膜磁気ヘッドが行う書き込み及び読み出し動作を制御するとともに、前記光源の発光動作を制御するための記録再生及び発光制御回路とをさらに備えていることを特徴とする磁気ディスク装置。   9. A head gimbal assembly according to claim 8, comprising at least one magnetic disk, a light source for supplying light to the optical fiber, and the thin film magnetic head for the at least one magnetic disk. And a recording / reproducing and light emission control circuit for controlling the light emission operation of the light source and the magnetic disk apparatus.
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