JP4190325B2 - 固体レーザ装置及び固体レーザ装置によるレーザ照射方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は固体レーザ装置、特に半導体励起固体レーザ装置の出力を制御する様にした固体レーザ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図５に於いて、半導体励起固体レーザ装置の概略を説明する。
【０００３】
図５中、１は励起光としてλの波長のレーザ光線を発する単一或は複数のレーザダイオードを有する発光部、２はλ1 の波長のレーザ光線を出力する共振器を示している。
【０００４】
該共振器２は主に、反射鏡３、該反射鏡３に対向して配置された出力鏡４、前記出力鏡４、反射鏡３の光軸上に設けられたレーザ結晶５から構成され、前記反射鏡３、出力鏡４にはそれぞれ誘電体反射膜６、誘電体反射膜７が形成されている。
【０００５】
前記共振器２の出力側の光軸上に、ハーフミラー８が配置され、該ハーフミラー８は前記共振器２から出力されるレーザ光線の一部を分割してモニタ用受光器９に入射させる様になっている。該モニタ用受光器９からの受光信号は制御部１１に入力され、該制御部１１は前記共振器２からの出力光の強度の制御、パルス光、連続光等の出力状態の制御を行う為に、前記発光部１を制御する。
【０００６】
尚、前記レーザ結晶５としては、例えばＮｄ：ＹＶＯ4 、Ｎｄ3+ イオンをドープしたＹＡＧ（イットリウム アルミニウム ガーネット）が用いられる。
【０００７】
上記半導体励起固体レーザ装置に於いて、前記発光部１が駆動されると励起光が前記反射鏡３を透して前記共振器２に入射される。励起光は前記レーザ結晶５を通過し、前記誘電体反射膜６と前記誘電体反射膜７間でポンピングされて増幅され、前記出力鏡４を透してλ1 のレーザ光線１２が出力される。
【０００８】
該レーザ光線１２は前記ハーフミラー８を透して射出されると共に該ハーフミラー８で分割され、前記レーザ光１２の一部が前記モニタ用受光器９に入射する。該モニタ用受光器９は前記レーザ光１２の一部を受光することで、受光信号を発し、該受光信号は前記制御部１１に入力され、該制御部１１は前記受光信号に基づき前記レーザ光線１２の強度、出力状態が所定の状態となる様に前記発光部１の駆動を制御する。
【０００９】
本出願人は、先の出願（特願２００２−３３５６８３号）に於いて、光軸を共有する複数の共振器を具備した固体レーザ装置を提案している。
【００１０】
提案された固体レーザ装置では、レーザ光線の出力増大、或は複数の異なる波長のレーザ光線の出力を可能とし、又構造を簡潔にできるという利点を有している。
【００１１】
【特許文献１】
特願２００２−３３５６８３号
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
複数の共振器を具備した固体レーザ装置でレーザ光線の所望の出力状態を得る為には、個々の共振器に於ける制御を可能にしなければならない。
【００１３】
本発明は斯かる実情に鑑み、複数の共振器を具備する固体レーザ装置に於いて、レーザ光線の出力の制御についての改善を図るものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、光軸の一部、出力鏡を共有し、第１レーザ光線を射出する第１共振器と、第２レーザ光線を射出する第２共振器と、第１共振器用第１発光部と、第２共振器用第２発光部と、前記出力鏡から射出されるレーザ光線の内、前記第１レーザ光線λ1 の一部を分割しモニタリングするモニタリング手段と、前記第２レーザ光線λ2 の一部を分割してモニタリングする手段と、モニタリング手段からの検出結果を基に前記第１発光部、第２発光部の少なくとも一方を制御する制御部を具備する固体レーザ装置に係り、又前記モニタリング手段は前記第１レーザ光線をモニタリングする第１モニタリング手段と前記第２レーザ光線をモニタリングする第２モニタリング手段とを有し、前記制御部は前記第１発光部、第２発光部を独立して制御可能な固体レーザ装置に係り、又前記第１レーザ光線と前記第２レーザ光線とは波長が異なる固体レーザ装置に係り、又前記第１レーザ光線と前記第２レーザ光線とは偏光方向が異なる固体レーザ装置に係り、更に又前記制御部は前記第１発光部、第２発光部の一方を出力ピーク値の高い短時間パルスが発せられる様制御し、他方を出力ピーク値の低い連続若しくは長時間パルスに制御する固体レーザ装置に係るものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。
【００１６】
図１は２つの共振器を具備した固体レーザ装置を示しており、２つの前記共振器は光軸の一部を共有し、同軸上にレーザ光線を出力する構成となっている。
【００１７】
第１光軸上に、第１発光部１４、第１凹面鏡１５、第１固体レーザ媒質（第１レーザ結晶）１６、出力鏡１９を配設する。
【００１８】
前記第１レーザ結晶１６と前記出力鏡１９との間で前記第１光軸と所要の角度、例えば９０°で交差する第２光軸上に第２発光部２１、第２凹面鏡２２、第２固体レーザ媒質（第２レーザ結晶）２３を配設し、前記第１光軸と前記第２光軸とが交差する位置には波長分離板２４が配設される。前記第２光軸は前記波長分離板２４により屈曲され、該波長分離板２４と前記出力鏡１９との間を前記第１光軸と共有している。
【００１９】
前記第１凹面鏡１５は励起光である波長λを高透過で、第１基本波の波長λ1 については高反射であり、前記出力鏡１９は波長λ1 、第２基本波の波長λ2 について高反射となっている。
【００２０】
又、前記第２凹面鏡２２は、励起光λについては高透過で、第２基本波λ2 については高反射となっており、前記波長分離板２４は第１基本波λ1 については高透過で、第２基本波λ2 については高反射となっている。前記第１凹面鏡１５と前記出力鏡１９間で第１基本波用の第１共振器２５が構成され、前記第２凹面鏡２２と前記出力鏡１９間で第２基本波用の第２共振器２６が構成される。
【００２１】
前記出力鏡１９の出力側の光軸上に、ハーフミラー等の光束を分割する第１光束分割部材３４、第２光束分割部材３５が配置される。前記第１光束分割部材３４は、前記出力鏡１９から射出される波長λ1 のレーザ光線１２の光束の一部を分割し、分割した光束１２ａを第１モニタ用受光器２７に向ける。該第１モニタ用受光器２７は前記光束１２ａを受光することで固体レーザ装置から射出される前記レーザ光線１２をモニタリングし、前記第１モニタ用受光器２７からの受光信号２９ａは制御部３０に送出され、該制御部３０は前記受光信号２９ａに基づき前記第１発光部１４の発光状態を制御する。
【００２２】
又、前記第２光束分割部材３５は、前記出力鏡１９から射出される波長λ2 の前記レーザ光線１２の光束の一部を分割し、分割した光束１２ｂを第２モニタ用受光器２８に向ける。該第２モニタ用受光器２８は前記光束１２ｂを受光し、前記第２モニタ用受光器２８からの受光信号２９ｂは前記制御部３０に送出され、該制御部３０は前記受光信号２９ｂに基づき前記第２発光部２１の発光状態を制御する。
【００２３】
前記第１光束分割部材３４、第２光束分割部材３５、第１モニタ用受光器２７、第２モニタ用受光器２８は射出される前記レーザ光線１２のモニタリング手段を構成する。
【００２４】
上記構成に於いて、例えば前記第１発光部１４、前記第２発光部２１は励起光としてλ＝８０９nmを射出し、第１レーザ結晶１６、第２レーザ結晶２３として１３４２nm、１０６４nmの発振線を有するＮｄ：ＹＶＯ4 が使用される。
【００２５】
前記第１発光部１４から射出されたレーザビームは前記第１凹面鏡１５を透過し、更に前記第１共振器２５内で前記第１凹面鏡１５に反射されて前記第１レーザ結晶１６に集光し、前記第１凹面鏡１５と前記出力鏡１９間で第１基本波λ1 ＝１３４２nmのレーザビームが発振される。
【００２６】
又、前記第２発光部２１から射出されたレーザビームは前記第２凹面鏡２２を透過し、更に前記第２共振器２６内で前記出力鏡１９、前記第２凹面鏡２２で反射されて前記第２レーザ結晶２３に集光し、前記第２凹面鏡２２と前記出力鏡１９間で第２基本波λ2 ＝１０６４nmのレーザビームが発振される。
【００２７】
上記した固体レーザ装置の構成で、前記第１共振器２５と第２共振器２６とは前記出力鏡１９以外は分離した構成となっているので、前記第１発光部１４から前記第１共振器２５内に入射したレーザビームは図中では前記第１凹面鏡１５と前記波長分離板２４との間に集光点を形成し、この集光点が前記第１レーザ結晶１６内又は近傍となる位置に設けられる。又、同様に前記第２発光部２１から前記第２共振器２６内に入射したレーザビームは図中では前記第２凹面鏡２２と前記波長分離板２４との間に集光点を形成し、この集光点が前記第２レーザ結晶２３内又は近傍となる位置に設けられる。
【００２８】
前記第１レーザ結晶１６、第２レーザ結晶２３の励起効率は、レーザビームのエネルギ密度、或は偏光方向に影響されるが、前記第１レーザ結晶１６、第２レーザ結晶２３の位置調整は個々に行えるので、最適な位置に設定でき、又偏光方向の調整についても、前記第１発光部１４、第２発光部２１それぞれ個別に行えるので、調整が容易である。又、光学部材の位置調整、例えば前記第１凹面鏡１５、第２凹面鏡２２の光軸合せについても、一方の調整が他方に影響しないので、一方の調整を完了した後、他方が調整できる等調整が容易である。
【００２９】
又、前記第１光軸、第２光軸の共通部分を完全に合致させることが可能である。
【００３０】
又、上記した様に、前記第１共振器２５から射出されるレーザ光線λ1 は、前記第１モニタ用受光器２７を介してモニタリングされ、前記制御部３０により前記第１発光部１４の発光状態が独立して制御され、又前記第２共振器２６から射出されるレーザ光線λ2 は、前記第２モニタ用受光器２８を介してモニタリングされ、前記制御部３０により前記第２発光部２１の発光状態が独立して制御される。
【００３１】
又、前記第１共振器２５、第２共振器２６の一方又は両方を内部共振器型波長変化により第２高調波を得る構成にしてもよい。例えば、図４に示される様に、前記第１レーザ結晶１６と波長分離板２４の間に波長変換用結晶（例えばＫＴＰ）３６を挿入して６７１nmを得る共振器としてもよく、同様に前記第２レーザ結晶２３と波長分離板２４の間に波長変換用結晶（ＫＴＰ）３７を挿入して５３２nmを得ることもできる。
【００３２】
尚、前記第１共振器２５、第２共振器２６の一方、例えば該第２共振器２６に於いて前記第２レーザ結晶２３と前記波長分離板２４との間にＱ−ｓｗを設ける（光軸に対して挿脱可能としてもよい）ことで、鋭利なパルス光を発する様にすることができる。要は前記出力ミラー１９を共通にする２つの共振器２５，２６を独立に駆動できる構成となっている。
【００３３】
図２（Ａ）、図２（Ｂ）は前記第１共振器２５、第２共振器２６から射出されるレーザ光線の制御の態様を示すものであり、前記第１共振器２５を、例えば出力ピーク値は低いが連続出力、又は長時間パルスに制御し（図２（Ａ））、前記第２共振器２６からの出力は、例えば出力ピーク値は大きいが短時間パルスに制御した状態（図２（Ｂ））を示している。
【００３４】
更に、図３（Ａ）〜（Ｈ）は、他の制御状態により射出されるレーザ光線のパルス状態を示している。
【００３５】
図３（Ａ）は、前記第１共振器２５、第２共振器２６から射出されるレーザ光線を、共に出力ピーク値は低いが連続出力、又は長時間パルスに制御し、レーザ光線λ1 で加熱した後、レーザ光線λ2 でクリーニング処理等の処理を行う場合、又はレーザ光線λ1 により距離測定し、条件に合った時点でレーザ光線λ2 により加熱、クリーニング等の処理を行う場合を示している。
【００３６】
図３（Ｂ）は、前記第１共振器２５、第２共振器２６から射出されるレーザ光線を、共に出力ピーク値は大きいが短時間パルスに制御し、レーザ光線λ1 で加熱した後、レーザ光線λ2 でクリーニング処理等の処理を行う場合、又はレーザ光線λ1 により距離測定し、条件に合った時点でレーザ光線λ2 により加熱、クリーニング等の処理を行う場合を示している。
【００３７】
図３（Ｃ）は、前記第１共振器２５から射出されるレーザ光線λ1 を連続光とし、第２共振器２６から射出されるレーザ光線λ2 を出力ピーク値は大きいが短時間パルスとしたものであり、レーザ光線λ1 で加熱をしながら、レーザ光線λ2 で孔明け加工を行う場合、或はレーザ光線λ1 で加工表面をクリーニングしながらレーザ光線λ2 で孔明け加工を行う場合、レーザ光線λ1 で距離測定を行いながら、条件に合った時点でレーザ光線λ2 で孔明け加工を行う場合等を示している。
【００３８】
図３（Ｄ）は、前記第１共振器２５から射出されるレーザ光線λ1 を長時間パルスとし、第２共振器２６から射出されるレーザ光線λ2 を出力ピーク値は大きいが短時間パルスとしたものであり、レーザ光線λ1 で加熱をしながら、レーザ光線λ2 で孔明け加工を行う場合、或はレーザ光線λ1 で加工表面をクリーニングしながらレーザ光線λ2 で孔明け加工を行う場合、レーザ光線λ1 で距離測定を行いながら、条件に合った時点でレーザ光線λ2 で孔明け加工を行う場合等を示している。
【００３９】
図３（Ｅ）は、前記第１共振器２５から射出されるレーザ光線λ1 を出力ピーク値は大きいが短時間パルスとし、第２共振器２６から射出されるレーザ光線λ2 を出力ピーク値が低く長時間パルスとしたものであり、レーザ光線λ1 で孔明け加工をし、レーザ光線λ2 によりアニールを行う場合、或はレーザ光線λ1 で孔明け加工をし、レーザ光線λ2 により加工表面のクリーニングを行う場合等を示している。
【００４０】
図３（Ｆ）は、前記第１共振器２５、第２共振器２６からの一方のレーザ光線を例えば出力ピーク値は低いが連続出力、又は長時間パルスに制御し、他方からの出力は、例えば出力ピーク値は大きいが短時間パルスに制御した状態とし、孔明け加工とアニール処理、或は孔明け加工とクリーニングとを交互に行う場合を示している。
【００４１】
図３（Ｇ）は、前記第１共振器２５を、例えば出力ピーク値は低いが連続出力、又は長時間パルスに制御し、前記第２共振器２６からの出力を出力ピーク値は大きいが短時間パルスに制御し、レーザ光線λ1 で加熱した後、レーザ光線λ2 のみで孔明け加工等を行う場合、或は、レーザ光線λ1 で距離測定を行い、条件に合った時点で、レーザ光線λ2 のみで孔明け加工等の処理を行う場合を示している。
【００４２】
図３（Ｈ）は、前記第１共振器２５からの出力を出力ピーク値は大きいが短時間パルスに制御し、前記第２共振器２６からの出力を出力ピーク値は低いが連続出力、又は長時間パルスに制御し、レーザ光線λ1 で距離測定を行い、条件に合った時点で、レーザ光線λ2 で加熱、クリーニング等の処理を行う場合を示している。
【００４３】
尚、上記説明では前記第１光束分割部材３４、第２光束分割部材３５として波長を分離する光学部材を用いたが、前記第１共振器２５のレーザ光線λ1 、前記第２共振器２６のレーザ光線λ2 はそれぞれ偏光方向が９０°異なる。従って、前記第１光束分割部材３４、第２光束分割部材３５に偏光板を用い、前記レーザ光線１２からｓ成分と、ｐ成分とを分割しモニタリングして前記第１共振器２５、前記第２共振器２６から射出されるレーザ光線を独立して定電力制御（ＡＰＣ）等で制御する様にしてもよい。
【００４４】
又、ピークの高いレーザ光線を出力する時間だけピークの低いレーザ光線を定電力制御し、モニタで検出するレーザ光線、制御する発光部を１組としてもよい。斯かる制御は、例えば図３（Ｃ）に於いて、高いピークの直前迄、低いピークの制御（ＡＰＣ）を前記第１共振器２５で行う。高いピークの制御に移る直前の該第１共振器２５の前記第１発光部１４を定電流制御（ＡＣＣ）し、ＡＰＣ制御は前記第２共振器２６に移行する。高いピークが終了すると同時に該第２共振器２６のＡＰＣ制御を停止し、前記第１共振器２５の制御をＡＰＣ制御に戻す等である。尚、ＡＰＣ、ＡＣＣの切替え、データの保持を考慮すると、ＣＰＵ等によるデジタル制御が好ましい。
【００４５】
次に、本発明の固体レーザ装置の応用について説明する。
【００４６】
レーザ光線を照射した場合、レーザ光線の波長によりエネルギの吸収特性、レーザ光線の表面からの到達距離が異なる。従って、レーザ光線のレーザ光線λ1 、レーザ光線λ2 の波長を適宜選択することで、医療に応用することができる。
【００４７】
例えば、レーザ光線λ1 で活性化する薬物を病変部に注入し、レーザ光線λ1 を病変部に照射することで、薬物の吸収係数を選択的に増加させることができる。その後、レーザ光線λ2 を照射すると、病変部のみでレーザ光線λ2 の吸収が行われて発熱する。従って、病変部のみを集中して施術することができ、病変部以外の部位にダメージを与えない様にする治療が可能となる。
【００４８】
具体例を挙げると、癌治療に於いては光増感剤として、フォトフリンを用いた場合は６３０nmのレーザ光線が用いられ、ＢＰＤ−ＭＡを用いた場合は６８９nmのレーザ光線が用いられ、ＮＰｅ6 を用いた場合は６６４nmのレーザ光線が用いられる。又、光線角化症治療用としてＡＬＡを用いた場合は６３３nmのレーザ光線が用いられ、更に蛍光診断用としてＡＬＡを用いた場合は４０５nmのレーザ光線が用いられる。
【００４９】
治療部位、病変部のレーザ光線の吸収特性を利用した治療として、母斑治療があり、茶アザ、青アザ、刺青、太田母斑、皮膚の深い層に対して６９４nmと１０６４nmのレーザ光線が用いられ、皮膚の浅い層、扁平母斑、赤アザ、ほくろ、いぼ等については５８５nm、５９０nmのレーザ光線が用いられる。
【００５０】
更に、２波長のレーザ光線を射出できることから以下の治療に応用が可能である。
【００５１】
例えば、網膜病変の１つである黄斑変性症に対する、マイクロパルス波による選択的光凝固治療に於いて、高頻度にパルス照射を行うことで治療部位の温度が徐々に上昇するが、治療光とは別のレーザ光線を照射し、光音響信号を測定し、治療部位の温度のモニタリングを行い、治療部位の熱的損傷を防止する。
【００５２】
又、光凝固治療を行うと同時に、ＯＣＴ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）用のレーザ光線を同軸で照射し、治療部位の画像取得と光凝固による治療とをリアルタイムで行うことができる。又、波長の選択で角膜の画像化とその治療をリアルタイムで行うことも可能となる。
【００５３】
光感受性物質である前記ＮＰｅ6 を体内に投与すると、該ＮＰｅ6 は病巣部位より正常組織からの排泄が早い特性を持っている。従って、所定の時間が経過すると、該ＮＰｅ6 は病変部位に多く集積するので、該ＮＰｅ6 の吸収帯である波長４０５nm及び６６４nmのレーザ光線を照射することで、蛍光スペクトル或はその画像を観察できる。例えば、大動脈粥状動脈硬化、食道の粘膜下腫瘍の蛍光画像が得られる。
【００５４】
２波長のレーザ光線を照射することで、蛍光画像の観察とＰＤＴ（Ｐｈｏｔｏｄｙｎａｍｉｃ ｔｈｅｒａｐｙ）を同時に行うことができる。
【００５５】
又、レーザ手術に於いて、精細な切開が可能な３μｍレーザ光線（水の吸収率が高い）、凝固・止血作用のある２μｍレーザ光線（タンパク質凝固に伴う止血作用）を同軸に治療部位に照射することで、レーザ光線による切開と止血とを同時に行え、患者の負担を軽減できる。例えば、整形外科、耳鼻科、内視鏡下手術に有用である。
【００５６】
更に、細胞やタンパク質に損傷、変性を起さない低出力の近赤外レーザ（波長８３０nm、９０４nm）が種々の痛みを軽減することが知られている。レーザ手術が痛覚神経が有る部位、例えば皮膚に対して行われる場合、前記近赤外レーザを施術前、施術中、施術後に手術用レーザ光線とは別に照射することで、痛みの緩和が実現できる。
【００５７】
又、レーザ光線手術に於いて、基本的に短波長のレーザ光線は浅い層で、長波長のレーザ光線は深い層で吸収が起る。２波長のレーザ光線で手術することで、深さの異なる病変部を同時に治療でき患者の負担を軽減できる。
【００５８】
更に、同じ治療部位に吸収の異なる色素がある場合、色素に対応する２波長のレーザ光線を用いることで、同一部位を同時に治療でき、治療精度が向上できると共に施術時間が短縮し、患者の負担が軽減できる。
【００５９】
【発明の効果】
以上述べた如く本発明によれば、光軸の一部、出力鏡を共有し、第１レーザ光線を射出する第１共振器と、第２レーザ光線を射出する第２共振器と、第１共振器用第１発光部と、第２共振器用第２発光部と、前記出力鏡から射出されるレーザ光線の内、前記第１レーザ光線λ1 の一部を分割しモニタリングするモニタリング手段と、前記第２レーザ光線λ2 の一部を分割してモニタリングする手段と、モニタリング手段からの検出結果を基に前記第１発光部、第２発光部の少なくとも一方を制御する制御部を具備するので、２組の共振器から射出されるレーザ光線を個別に制御可能であり、種々の態様のレーザ光線を射出することが可能である。
【００６０】
又前記第１レーザ光線と前記第２レーザ光線とは波長が異なるので、２つの波長のレーザ光線により同時に異なった処理を行うことが可能となる。
【００６１】
又、前記制御部は前記第１発光部、第２発光部の一方を出力ピーク値の高い短時間パルスが発せられる様制御し、他方を出力ピーク値の低い連続若しくは長時間パルスに制御するので、異なった処理を略同時に行うことができる等の優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す概略骨子図である。
【図２】（Ａ）（Ｂ）は、本発明の実施の形態でのレーザ光線の出力状態を示す説明図である。
【図３】（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）（Ｅ）（Ｆ）（Ｇ）（Ｈ）は、それぞれ本発明の実施の形態でのレーザ光線の種々の出力状態を示す説明図である。
【図４】本発明の他の実施の形態を示す概略骨子図である。
【図５】従来例の説明図である。
【符号の説明】
１２ レーザ光線
１４ 第１発光部
１５ 第１凹面鏡
１６ 第１レーザ結晶
１９ 出力鏡
２１ 第２発光部
２２ 第２凹面鏡
２３ 第２レーザ結晶
２４ 波長分離板
２５ 第１共振器
２６ 第２共振器
２７ 第１モニタ用受光器
２８ 第２モニタ用受光器
３０ 制御部
３４ 第１光束分割部材
３５ 第２光束分割部材
【発明の属する技術分野】
本発明は固体レーザ装置、特に半導体励起固体レーザ装置の出力を制御する様にした固体レーザ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図５に於いて、半導体励起固体レーザ装置の概略を説明する。
【０００３】
図５中、１は励起光としてλの波長のレーザ光線を発する単一或は複数のレーザダイオードを有する発光部、２はλ1 の波長のレーザ光線を出力する共振器を示している。
【０００４】
該共振器２は主に、反射鏡３、該反射鏡３に対向して配置された出力鏡４、前記出力鏡４、反射鏡３の光軸上に設けられたレーザ結晶５から構成され、前記反射鏡３、出力鏡４にはそれぞれ誘電体反射膜６、誘電体反射膜７が形成されている。
【０００５】
前記共振器２の出力側の光軸上に、ハーフミラー８が配置され、該ハーフミラー８は前記共振器２から出力されるレーザ光線の一部を分割してモニタ用受光器９に入射させる様になっている。該モニタ用受光器９からの受光信号は制御部１１に入力され、該制御部１１は前記共振器２からの出力光の強度の制御、パルス光、連続光等の出力状態の制御を行う為に、前記発光部１を制御する。
【０００６】
尚、前記レーザ結晶５としては、例えばＮｄ：ＹＶＯ4 、Ｎｄ3+ イオンをドープしたＹＡＧ（イットリウム アルミニウム ガーネット）が用いられる。
【０００７】
上記半導体励起固体レーザ装置に於いて、前記発光部１が駆動されると励起光が前記反射鏡３を透して前記共振器２に入射される。励起光は前記レーザ結晶５を通過し、前記誘電体反射膜６と前記誘電体反射膜７間でポンピングされて増幅され、前記出力鏡４を透してλ1 のレーザ光線１２が出力される。
【０００８】
該レーザ光線１２は前記ハーフミラー８を透して射出されると共に該ハーフミラー８で分割され、前記レーザ光１２の一部が前記モニタ用受光器９に入射する。該モニタ用受光器９は前記レーザ光１２の一部を受光することで、受光信号を発し、該受光信号は前記制御部１１に入力され、該制御部１１は前記受光信号に基づき前記レーザ光線１２の強度、出力状態が所定の状態となる様に前記発光部１の駆動を制御する。
【０００９】
本出願人は、先の出願（特願２００２−３３５６８３号）に於いて、光軸を共有する複数の共振器を具備した固体レーザ装置を提案している。
【００１０】
提案された固体レーザ装置では、レーザ光線の出力増大、或は複数の異なる波長のレーザ光線の出力を可能とし、又構造を簡潔にできるという利点を有している。
【００１１】
【特許文献１】
特願２００２−３３５６８３号
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
複数の共振器を具備した固体レーザ装置でレーザ光線の所望の出力状態を得る為には、個々の共振器に於ける制御を可能にしなければならない。
【００１３】
本発明は斯かる実情に鑑み、複数の共振器を具備する固体レーザ装置に於いて、レーザ光線の出力の制御についての改善を図るものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、光軸の一部、出力鏡を共有し、第１レーザ光線を射出する第１共振器と、第２レーザ光線を射出する第２共振器と、第１共振器用第１発光部と、第２共振器用第２発光部と、前記出力鏡から射出されるレーザ光線の内、前記第１レーザ光線λ1 の一部を分割しモニタリングするモニタリング手段と、前記第２レーザ光線λ2 の一部を分割してモニタリングする手段と、モニタリング手段からの検出結果を基に前記第１発光部、第２発光部の少なくとも一方を制御する制御部を具備する固体レーザ装置に係り、又前記モニタリング手段は前記第１レーザ光線をモニタリングする第１モニタリング手段と前記第２レーザ光線をモニタリングする第２モニタリング手段とを有し、前記制御部は前記第１発光部、第２発光部を独立して制御可能な固体レーザ装置に係り、又前記第１レーザ光線と前記第２レーザ光線とは波長が異なる固体レーザ装置に係り、又前記第１レーザ光線と前記第２レーザ光線とは偏光方向が異なる固体レーザ装置に係り、更に又前記制御部は前記第１発光部、第２発光部の一方を出力ピーク値の高い短時間パルスが発せられる様制御し、他方を出力ピーク値の低い連続若しくは長時間パルスに制御する固体レーザ装置に係るものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。
【００１６】
図１は２つの共振器を具備した固体レーザ装置を示しており、２つの前記共振器は光軸の一部を共有し、同軸上にレーザ光線を出力する構成となっている。
【００１７】
第１光軸上に、第１発光部１４、第１凹面鏡１５、第１固体レーザ媒質（第１レーザ結晶）１６、出力鏡１９を配設する。
【００１８】
前記第１レーザ結晶１６と前記出力鏡１９との間で前記第１光軸と所要の角度、例えば９０°で交差する第２光軸上に第２発光部２１、第２凹面鏡２２、第２固体レーザ媒質（第２レーザ結晶）２３を配設し、前記第１光軸と前記第２光軸とが交差する位置には波長分離板２４が配設される。前記第２光軸は前記波長分離板２４により屈曲され、該波長分離板２４と前記出力鏡１９との間を前記第１光軸と共有している。
【００１９】
前記第１凹面鏡１５は励起光である波長λを高透過で、第１基本波の波長λ1 については高反射であり、前記出力鏡１９は波長λ1 、第２基本波の波長λ2 について高反射となっている。
【００２０】
又、前記第２凹面鏡２２は、励起光λについては高透過で、第２基本波λ2 については高反射となっており、前記波長分離板２４は第１基本波λ1 については高透過で、第２基本波λ2 については高反射となっている。前記第１凹面鏡１５と前記出力鏡１９間で第１基本波用の第１共振器２５が構成され、前記第２凹面鏡２２と前記出力鏡１９間で第２基本波用の第２共振器２６が構成される。
【００２１】
前記出力鏡１９の出力側の光軸上に、ハーフミラー等の光束を分割する第１光束分割部材３４、第２光束分割部材３５が配置される。前記第１光束分割部材３４は、前記出力鏡１９から射出される波長λ1 のレーザ光線１２の光束の一部を分割し、分割した光束１２ａを第１モニタ用受光器２７に向ける。該第１モニタ用受光器２７は前記光束１２ａを受光することで固体レーザ装置から射出される前記レーザ光線１２をモニタリングし、前記第１モニタ用受光器２７からの受光信号２９ａは制御部３０に送出され、該制御部３０は前記受光信号２９ａに基づき前記第１発光部１４の発光状態を制御する。
【００２２】
又、前記第２光束分割部材３５は、前記出力鏡１９から射出される波長λ2 の前記レーザ光線１２の光束の一部を分割し、分割した光束１２ｂを第２モニタ用受光器２８に向ける。該第２モニタ用受光器２８は前記光束１２ｂを受光し、前記第２モニタ用受光器２８からの受光信号２９ｂは前記制御部３０に送出され、該制御部３０は前記受光信号２９ｂに基づき前記第２発光部２１の発光状態を制御する。
【００２３】
前記第１光束分割部材３４、第２光束分割部材３５、第１モニタ用受光器２７、第２モニタ用受光器２８は射出される前記レーザ光線１２のモニタリング手段を構成する。
【００２４】
上記構成に於いて、例えば前記第１発光部１４、前記第２発光部２１は励起光としてλ＝８０９nmを射出し、第１レーザ結晶１６、第２レーザ結晶２３として１３４２nm、１０６４nmの発振線を有するＮｄ：ＹＶＯ4 が使用される。
【００２５】
前記第１発光部１４から射出されたレーザビームは前記第１凹面鏡１５を透過し、更に前記第１共振器２５内で前記第１凹面鏡１５に反射されて前記第１レーザ結晶１６に集光し、前記第１凹面鏡１５と前記出力鏡１９間で第１基本波λ1 ＝１３４２nmのレーザビームが発振される。
【００２６】
又、前記第２発光部２１から射出されたレーザビームは前記第２凹面鏡２２を透過し、更に前記第２共振器２６内で前記出力鏡１９、前記第２凹面鏡２２で反射されて前記第２レーザ結晶２３に集光し、前記第２凹面鏡２２と前記出力鏡１９間で第２基本波λ2 ＝１０６４nmのレーザビームが発振される。
【００２７】
上記した固体レーザ装置の構成で、前記第１共振器２５と第２共振器２６とは前記出力鏡１９以外は分離した構成となっているので、前記第１発光部１４から前記第１共振器２５内に入射したレーザビームは図中では前記第１凹面鏡１５と前記波長分離板２４との間に集光点を形成し、この集光点が前記第１レーザ結晶１６内又は近傍となる位置に設けられる。又、同様に前記第２発光部２１から前記第２共振器２６内に入射したレーザビームは図中では前記第２凹面鏡２２と前記波長分離板２４との間に集光点を形成し、この集光点が前記第２レーザ結晶２３内又は近傍となる位置に設けられる。
【００２８】
前記第１レーザ結晶１６、第２レーザ結晶２３の励起効率は、レーザビームのエネルギ密度、或は偏光方向に影響されるが、前記第１レーザ結晶１６、第２レーザ結晶２３の位置調整は個々に行えるので、最適な位置に設定でき、又偏光方向の調整についても、前記第１発光部１４、第２発光部２１それぞれ個別に行えるので、調整が容易である。又、光学部材の位置調整、例えば前記第１凹面鏡１５、第２凹面鏡２２の光軸合せについても、一方の調整が他方に影響しないので、一方の調整を完了した後、他方が調整できる等調整が容易である。
【００２９】
又、前記第１光軸、第２光軸の共通部分を完全に合致させることが可能である。
【００３０】
又、上記した様に、前記第１共振器２５から射出されるレーザ光線λ1 は、前記第１モニタ用受光器２７を介してモニタリングされ、前記制御部３０により前記第１発光部１４の発光状態が独立して制御され、又前記第２共振器２６から射出されるレーザ光線λ2 は、前記第２モニタ用受光器２８を介してモニタリングされ、前記制御部３０により前記第２発光部２１の発光状態が独立して制御される。
【００３１】
又、前記第１共振器２５、第２共振器２６の一方又は両方を内部共振器型波長変化により第２高調波を得る構成にしてもよい。例えば、図４に示される様に、前記第１レーザ結晶１６と波長分離板２４の間に波長変換用結晶（例えばＫＴＰ）３６を挿入して６７１nmを得る共振器としてもよく、同様に前記第２レーザ結晶２３と波長分離板２４の間に波長変換用結晶（ＫＴＰ）３７を挿入して５３２nmを得ることもできる。
【００３２】
尚、前記第１共振器２５、第２共振器２６の一方、例えば該第２共振器２６に於いて前記第２レーザ結晶２３と前記波長分離板２４との間にＱ−ｓｗを設ける（光軸に対して挿脱可能としてもよい）ことで、鋭利なパルス光を発する様にすることができる。要は前記出力ミラー１９を共通にする２つの共振器２５，２６を独立に駆動できる構成となっている。
【００３３】
図２（Ａ）、図２（Ｂ）は前記第１共振器２５、第２共振器２６から射出されるレーザ光線の制御の態様を示すものであり、前記第１共振器２５を、例えば出力ピーク値は低いが連続出力、又は長時間パルスに制御し（図２（Ａ））、前記第２共振器２６からの出力は、例えば出力ピーク値は大きいが短時間パルスに制御した状態（図２（Ｂ））を示している。
【００３４】
更に、図３（Ａ）〜（Ｈ）は、他の制御状態により射出されるレーザ光線のパルス状態を示している。
【００３５】
図３（Ａ）は、前記第１共振器２５、第２共振器２６から射出されるレーザ光線を、共に出力ピーク値は低いが連続出力、又は長時間パルスに制御し、レーザ光線λ1 で加熱した後、レーザ光線λ2 でクリーニング処理等の処理を行う場合、又はレーザ光線λ1 により距離測定し、条件に合った時点でレーザ光線λ2 により加熱、クリーニング等の処理を行う場合を示している。
【００３６】
図３（Ｂ）は、前記第１共振器２５、第２共振器２６から射出されるレーザ光線を、共に出力ピーク値は大きいが短時間パルスに制御し、レーザ光線λ1 で加熱した後、レーザ光線λ2 でクリーニング処理等の処理を行う場合、又はレーザ光線λ1 により距離測定し、条件に合った時点でレーザ光線λ2 により加熱、クリーニング等の処理を行う場合を示している。
【００３７】
図３（Ｃ）は、前記第１共振器２５から射出されるレーザ光線λ1 を連続光とし、第２共振器２６から射出されるレーザ光線λ2 を出力ピーク値は大きいが短時間パルスとしたものであり、レーザ光線λ1 で加熱をしながら、レーザ光線λ2 で孔明け加工を行う場合、或はレーザ光線λ1 で加工表面をクリーニングしながらレーザ光線λ2 で孔明け加工を行う場合、レーザ光線λ1 で距離測定を行いながら、条件に合った時点でレーザ光線λ2 で孔明け加工を行う場合等を示している。
【００３８】
図３（Ｄ）は、前記第１共振器２５から射出されるレーザ光線λ1 を長時間パルスとし、第２共振器２６から射出されるレーザ光線λ2 を出力ピーク値は大きいが短時間パルスとしたものであり、レーザ光線λ1 で加熱をしながら、レーザ光線λ2 で孔明け加工を行う場合、或はレーザ光線λ1 で加工表面をクリーニングしながらレーザ光線λ2 で孔明け加工を行う場合、レーザ光線λ1 で距離測定を行いながら、条件に合った時点でレーザ光線λ2 で孔明け加工を行う場合等を示している。
【００３９】
図３（Ｅ）は、前記第１共振器２５から射出されるレーザ光線λ1 を出力ピーク値は大きいが短時間パルスとし、第２共振器２６から射出されるレーザ光線λ2 を出力ピーク値が低く長時間パルスとしたものであり、レーザ光線λ1 で孔明け加工をし、レーザ光線λ2 によりアニールを行う場合、或はレーザ光線λ1 で孔明け加工をし、レーザ光線λ2 により加工表面のクリーニングを行う場合等を示している。
【００４０】
図３（Ｆ）は、前記第１共振器２５、第２共振器２６からの一方のレーザ光線を例えば出力ピーク値は低いが連続出力、又は長時間パルスに制御し、他方からの出力は、例えば出力ピーク値は大きいが短時間パルスに制御した状態とし、孔明け加工とアニール処理、或は孔明け加工とクリーニングとを交互に行う場合を示している。
【００４１】
図３（Ｇ）は、前記第１共振器２５を、例えば出力ピーク値は低いが連続出力、又は長時間パルスに制御し、前記第２共振器２６からの出力を出力ピーク値は大きいが短時間パルスに制御し、レーザ光線λ1 で加熱した後、レーザ光線λ2 のみで孔明け加工等を行う場合、或は、レーザ光線λ1 で距離測定を行い、条件に合った時点で、レーザ光線λ2 のみで孔明け加工等の処理を行う場合を示している。
【００４２】
図３（Ｈ）は、前記第１共振器２５からの出力を出力ピーク値は大きいが短時間パルスに制御し、前記第２共振器２６からの出力を出力ピーク値は低いが連続出力、又は長時間パルスに制御し、レーザ光線λ1 で距離測定を行い、条件に合った時点で、レーザ光線λ2 で加熱、クリーニング等の処理を行う場合を示している。
【００４３】
尚、上記説明では前記第１光束分割部材３４、第２光束分割部材３５として波長を分離する光学部材を用いたが、前記第１共振器２５のレーザ光線λ1 、前記第２共振器２６のレーザ光線λ2 はそれぞれ偏光方向が９０°異なる。従って、前記第１光束分割部材３４、第２光束分割部材３５に偏光板を用い、前記レーザ光線１２からｓ成分と、ｐ成分とを分割しモニタリングして前記第１共振器２５、前記第２共振器２６から射出されるレーザ光線を独立して定電力制御（ＡＰＣ）等で制御する様にしてもよい。
【００４４】
又、ピークの高いレーザ光線を出力する時間だけピークの低いレーザ光線を定電力制御し、モニタで検出するレーザ光線、制御する発光部を１組としてもよい。斯かる制御は、例えば図３（Ｃ）に於いて、高いピークの直前迄、低いピークの制御（ＡＰＣ）を前記第１共振器２５で行う。高いピークの制御に移る直前の該第１共振器２５の前記第１発光部１４を定電流制御（ＡＣＣ）し、ＡＰＣ制御は前記第２共振器２６に移行する。高いピークが終了すると同時に該第２共振器２６のＡＰＣ制御を停止し、前記第１共振器２５の制御をＡＰＣ制御に戻す等である。尚、ＡＰＣ、ＡＣＣの切替え、データの保持を考慮すると、ＣＰＵ等によるデジタル制御が好ましい。
【００４５】
次に、本発明の固体レーザ装置の応用について説明する。
【００４６】
レーザ光線を照射した場合、レーザ光線の波長によりエネルギの吸収特性、レーザ光線の表面からの到達距離が異なる。従って、レーザ光線のレーザ光線λ1 、レーザ光線λ2 の波長を適宜選択することで、医療に応用することができる。
【００４７】
例えば、レーザ光線λ1 で活性化する薬物を病変部に注入し、レーザ光線λ1 を病変部に照射することで、薬物の吸収係数を選択的に増加させることができる。その後、レーザ光線λ2 を照射すると、病変部のみでレーザ光線λ2 の吸収が行われて発熱する。従って、病変部のみを集中して施術することができ、病変部以外の部位にダメージを与えない様にする治療が可能となる。
【００４８】
具体例を挙げると、癌治療に於いては光増感剤として、フォトフリンを用いた場合は６３０nmのレーザ光線が用いられ、ＢＰＤ−ＭＡを用いた場合は６８９nmのレーザ光線が用いられ、ＮＰｅ6 を用いた場合は６６４nmのレーザ光線が用いられる。又、光線角化症治療用としてＡＬＡを用いた場合は６３３nmのレーザ光線が用いられ、更に蛍光診断用としてＡＬＡを用いた場合は４０５nmのレーザ光線が用いられる。
【００４９】
治療部位、病変部のレーザ光線の吸収特性を利用した治療として、母斑治療があり、茶アザ、青アザ、刺青、太田母斑、皮膚の深い層に対して６９４nmと１０６４nmのレーザ光線が用いられ、皮膚の浅い層、扁平母斑、赤アザ、ほくろ、いぼ等については５８５nm、５９０nmのレーザ光線が用いられる。
【００５０】
更に、２波長のレーザ光線を射出できることから以下の治療に応用が可能である。
【００５１】
例えば、網膜病変の１つである黄斑変性症に対する、マイクロパルス波による選択的光凝固治療に於いて、高頻度にパルス照射を行うことで治療部位の温度が徐々に上昇するが、治療光とは別のレーザ光線を照射し、光音響信号を測定し、治療部位の温度のモニタリングを行い、治療部位の熱的損傷を防止する。
【００５２】
又、光凝固治療を行うと同時に、ＯＣＴ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）用のレーザ光線を同軸で照射し、治療部位の画像取得と光凝固による治療とをリアルタイムで行うことができる。又、波長の選択で角膜の画像化とその治療をリアルタイムで行うことも可能となる。
【００５３】
光感受性物質である前記ＮＰｅ6 を体内に投与すると、該ＮＰｅ6 は病巣部位より正常組織からの排泄が早い特性を持っている。従って、所定の時間が経過すると、該ＮＰｅ6 は病変部位に多く集積するので、該ＮＰｅ6 の吸収帯である波長４０５nm及び６６４nmのレーザ光線を照射することで、蛍光スペクトル或はその画像を観察できる。例えば、大動脈粥状動脈硬化、食道の粘膜下腫瘍の蛍光画像が得られる。
【００５４】
２波長のレーザ光線を照射することで、蛍光画像の観察とＰＤＴ（Ｐｈｏｔｏｄｙｎａｍｉｃ ｔｈｅｒａｐｙ）を同時に行うことができる。
【００５５】
又、レーザ手術に於いて、精細な切開が可能な３μｍレーザ光線（水の吸収率が高い）、凝固・止血作用のある２μｍレーザ光線（タンパク質凝固に伴う止血作用）を同軸に治療部位に照射することで、レーザ光線による切開と止血とを同時に行え、患者の負担を軽減できる。例えば、整形外科、耳鼻科、内視鏡下手術に有用である。
【００５６】
更に、細胞やタンパク質に損傷、変性を起さない低出力の近赤外レーザ（波長８３０nm、９０４nm）が種々の痛みを軽減することが知られている。レーザ手術が痛覚神経が有る部位、例えば皮膚に対して行われる場合、前記近赤外レーザを施術前、施術中、施術後に手術用レーザ光線とは別に照射することで、痛みの緩和が実現できる。
【００５７】
又、レーザ光線手術に於いて、基本的に短波長のレーザ光線は浅い層で、長波長のレーザ光線は深い層で吸収が起る。２波長のレーザ光線で手術することで、深さの異なる病変部を同時に治療でき患者の負担を軽減できる。
【００５８】
更に、同じ治療部位に吸収の異なる色素がある場合、色素に対応する２波長のレーザ光線を用いることで、同一部位を同時に治療でき、治療精度が向上できると共に施術時間が短縮し、患者の負担が軽減できる。
【００５９】
【発明の効果】
以上述べた如く本発明によれば、光軸の一部、出力鏡を共有し、第１レーザ光線を射出する第１共振器と、第２レーザ光線を射出する第２共振器と、第１共振器用第１発光部と、第２共振器用第２発光部と、前記出力鏡から射出されるレーザ光線の内、前記第１レーザ光線λ1 の一部を分割しモニタリングするモニタリング手段と、前記第２レーザ光線λ2 の一部を分割してモニタリングする手段と、モニタリング手段からの検出結果を基に前記第１発光部、第２発光部の少なくとも一方を制御する制御部を具備するので、２組の共振器から射出されるレーザ光線を個別に制御可能であり、種々の態様のレーザ光線を射出することが可能である。
【００６０】
又前記第１レーザ光線と前記第２レーザ光線とは波長が異なるので、２つの波長のレーザ光線により同時に異なった処理を行うことが可能となる。
【００６１】
又、前記制御部は前記第１発光部、第２発光部の一方を出力ピーク値の高い短時間パルスが発せられる様制御し、他方を出力ピーク値の低い連続若しくは長時間パルスに制御するので、異なった処理を略同時に行うことができる等の優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す概略骨子図である。
【図２】（Ａ）（Ｂ）は、本発明の実施の形態でのレーザ光線の出力状態を示す説明図である。
【図３】（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）（Ｅ）（Ｆ）（Ｇ）（Ｈ）は、それぞれ本発明の実施の形態でのレーザ光線の種々の出力状態を示す説明図である。
【図４】本発明の他の実施の形態を示す概略骨子図である。
【図５】従来例の説明図である。
【符号の説明】
１２ レーザ光線
１４ 第１発光部
１５ 第１凹面鏡
１６ 第１レーザ結晶
１９ 出力鏡
２１ 第２発光部
２２ 第２凹面鏡
２３ 第２レーザ結晶
２４ 波長分離板
２５ 第１共振器
２６ 第２共振器
２７ 第１モニタ用受光器
２８ 第２モニタ用受光器
３０ 制御部
３４ 第１光束分割部材
３５ 第２光束分割部材
Claims (5)
- 光軸の一部、出力鏡を共有し、第１レーザ光線を射出する第１共振器と、第２レーザ光線を射出する第２共振器と、第１共振器用の励起光を発する第１発光部と、第２共振器用の励起光を発する第２発光部と、前記出力鏡から射出されるレーザ光線の内、前記第１レーザ光線λ1 の一部を分割し前記第１レーザ光線をモニタリングする第１モニタリング手段と、前記第２レーザ光線λ2 の一部を分割して前記第２レーザ光線をモニタリングする第２モニタリング手段と、前記第１モニタリング手段及び前記第２モニタリング手段からの検出結果を基に前記第１発光部、前記第２発光部の出力ピーク値及び出力時間を前記第１発光部、前記第２発光部それぞれを独立して制御する制御部を具備することを特徴とする固体レーザ装置。
- 前記第１レーザ光線と前記第２レーザ光線とは波長が異なる請求項１の固体レーザ装置。
- 前記制御部は前記第１発光部、第２発光部の一方を他方より出力ピーク値の高く且つ短時間のパルスが発せられる様制御し、他方をもう一方より出力ピーク値が低く、且つ長時間のパルス若しくは所定時間連続するパルスに制御する請求項１の固体レーザ装置。
- 前記第１レーザ光線と前記第２レーザ光線とは偏光方向が異なる請求項１の固体レーザ装置。
- 光軸の一部、出力鏡を共有し、第１レーザ光線を射出する第１共振器と、第２レーザ光線を射出する第２共振器と、第１共振器用の励起光を発する第１発光部と、第２共振器用の励起光を発する第２発光部と、前記出力鏡から射出されるレーザ光線の内、前記第１レーザ光線λ1 の一部を分割し前記第１レーザ光線をモニタリングする第１モニタリング手段と、前記第２レーザ光線λ2 の一部を分割して前記第２レーザ光線をモニタリングする第２モニタリング手段と、前記第１モニタリング手段及び前記第２モニタリング手段からの検出結果を基に前記第１発光部、前記第２発光部の出力ピーク値及び出力時間を前記第１発光部、前記第２発光部それぞれを独立して制御する制御部を具備する固体レーザ装置であって、前記第１発光部から発せられるレーザ光線をパルス照射し、照射部位の温度のモニタリングを行う様に第２発光部からレーザ光線を照射することを特徴とする前記固体レーザ装置によるレーザ照射方法。
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