JP4189046B2 - 半導体製造工程における半導体モデルの表示装置および表示方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造工程に関する表示に係り、特に、略全ての製造工程に亘る工程での3次元半導体モデルの表示に関する技術である。
【0002】
【従来の技術】
半導体メモリは、リソグラフィー工程、拡散工程、積層工程等を順次繰り返す複数の製造工程を経て完成されるものであり、完成した半導体メモリは多数の積層膜で形成されており、その完成品の積層状態を2次元の断面図で表示装置に表示するものは、従来から知られているところである。
【0003】
従来、半導体製造に関わる技術者並びに半導体製造現場への見学者のために、半導体メモリの実物のみならず、薄膜の積層状態をわかりやすくした実物の拡大図による表示によって、半導体製造技術についての理解や教習を行おうとしていた。また、前記積層状態を拡大図面によって表示する外に、ディスプレイで画像表示するものも用いられていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ディスプレイで画像表示する従来技術は、半導体装置の完成品における断面形状を拡大表示するものであって、この拡大表示した2次元モデルを用いて、半導体製品の薄膜積層技術の知識の普及を図ったり、その技術を教習したりするものであった。
【0005】
しかしながら、半導体装置の製造技術について、その知識の普及や教習の目的のためには、半導体装置の完成品の2次元モデルだけでは不十分であって、半導体製造工程の第1の工程から最終工程に至るまでの途中の工程も含めて全ての工程での半導体の薄膜積層状態を拡大した画像で分かり易く表示することが求められていた。
【0006】
更に、製造工程での画像表示において、2次元モデルの断面形状だけでは、製造技術の全体像を把握する上で、物足りない情報となっていた。
【0007】
したがって、本発明の目的は、複数の半導体製造工程を2次元モデルの断面形状と3次元モデルの立体画像等を表示画面上に表示することで半導体製造工程を分かり易く表示する表示方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、本発明は主として次のような構成を採用する。
【0009】
製造する半導体の種類を表示する半導体種類領域と、各製造工程を表示する製造工程領域と、複数の半導体モデルを含む半導体データを表示する半導体データ領域と、前記半導体データ領域に表示すべき半導体データを選択する選択ボタン領域と、を備えた表示装置を有して、半導体製造工程における半導体モデルを前記表示装置に表示する表示方法であって、
前記選択ボタン領域に設けられた「立体画像モデル」機能ボタンを選択押圧することにより、前記製造工程領域の内から選択された所望の1つの製造工程での設計時に予測される3次元半導体モデルを前記半導体データ領域に表示させるとともに、前記3次元半導体モデルを任意の方向から観察できるように前記3次元半導体モデルを回転させる半導体モデルの表示方法。
【0010】
前記半導体モデルの表示方法において、前記製造工程領域の内から所望の1つの製造工程を選択することにより、前記選択された当該製造工程で使用するマスク画像と、設計時に予測される当該製造工程での3次元半導体モデルと、を初期表示画面として、前記半導体データ領域に同時表示する半導体モデルの表示方法。
【0011】
前記半導体モデルの表示方法において、前記選択ボタン領域に設けられた「実物・予測モデル」機能ボタンを選択押圧することにより、前記初期表示画面に代えて、設計時に予測される当該製造工程での2次元半導体モデルと、電子顕微鏡の写真画像と、を前記半導体データ領域に同時表示する半導体モデルの表示方法。
【0012】
半導体製造工程における半導体モデルの表示装置であって、前記表示装置は、製造する半導体の種類を表示する半導体種類領域と、各製造工程を表示する製造工程領域と、複数の半導体モデルを含む半導体データを表示する半導体データ領域と、前記半導体データ領域に表示すべき半導体データを選択する選択ボタン領域と、を備え、
前記選択ボタン領域に設けられた「立体画像モデル」機能ボタンを選択押圧することにより、前記製造工程領域の内から選択された所望の1つの製造工程での設計時に予測される3次元半導体モデルを前記半導体データ領域に表示させるとともに、前記3次元半導体モデルを任意の方向から観察できるように前記3次元半導体モデルを回転させる半導体モデルの表示装置。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態について以下図面を用いて説明する。図面において、1は表示装置を有したパーソナルコンピュータ等の情報処理装置(以下、パソコンという)、2はデータベースを有するサーバ、3はネットワーク、10はパソコンの表示部にウインドウの形で表示される表示画面、11は製造する半導体タイプ表示欄、12は製造工程表示欄、13はマスク表示欄、14は3次元モデル表示欄、15は走査型電子顕微鏡(以下、SEMという)写真表示欄、16は2次元モデル表示欄、17はSEM/MASKボタン、18はCROSS SECTION(2次元表示)ボタン、19はVRML(Virtual Reality Modeling Language)表示(3次元表示)ボタン、20はMISPROCESS(製造不良事例)表示ボタン、21は全製造工程と現製造工程を示す表示欄、22はバックボタン、をそれぞれ表す。
【0014】
図1は製造する半導体のタイプ(種類)を示す図であり、この図では現在製造している代表的な半導体タイプとして、4MーSRAM、4M−DRAM、16M−DRAM、64MーDRAM、を例示している。
【0015】
図2はパソコンの表示装置に表示する表示対象を示す図であり、表示画面10は主として、半導体タイプ表示欄11、製造工程表示欄12、半導体モデルを含む半導体データを表示する表示欄13,14,15,16、表示データ選択ボタン17,18,19,20、の領域に大きく分けられる。
【0016】
図3はSEM/KASKボタンを押圧した際に表示される画面表示を示す図であり、図4はCROSS SECTIONボタンを押圧した際に表示される画面表示を示す図であり、図5はVRML表示ボタンを押圧した際に表示される画面表示を示す図であり、図6はMISPROCESSボタンを押圧した際に表示される画面表示を示す図である。また、図7は多数のパソコンがサーバのもとにネットワークに接続されていることを示す図である。
【0017】
本実施形態では、図1に示す表示内容を表示し、この表示画面の操作に伴って図2に示す表示内容が表示されるが、図2に示す構成が本発明の実施形態の全貌を最も良く表わしているので、まず、図2を説明する。
【0018】
表示画面10には、例えばその上側に、製造する半導体タイプ11、即ち4Mega bit Dynamic RAMを表示している。表示画面10の右側に、製造工程表示欄12を示していて、特に、全製造工程中の適宜の製造工程、例として、第5、第17、第36工程…を取り上げていて、その内の1つの製造工程を選択できるようになっている。この例では、9つの工程を取り上げているが、全部の工程を取り上げてもよいし、取り上げた工程が1表示画面で表示できないときは、スクロールバー23で順次、製造工程の表示を切り替えるようにすればよい。図2で製造工程表示欄12に「36SG expose」とあるが、この表示の内で、「36」が製造工程の順位を表し、「SG expose」が蒸着、エッチング、露光等の具体的作業を表す。
【0019】
例えばマウスを操作することによって、製造工程表示欄12の適宜の1つを選択すると、選択された製造工程で使用されるマスクの形状13が画面に表示される。更に、画面には当該製造工程における3次元モデル(立体画像)14が表示される。製造工程表示欄12に一覧表示された工程の1つを選択すると、表示装置の表示画面10には、初期的に、マスク形状13と3次元モデル14とが表示されるようになっている。表示画面10上のマスク形状と3次元モデルの表示位置は任意に設定できる。
【0020】
当該製造工程は、リソグラフィー工程、拡散工程、積層工程等が順次繰り返されて複雑な構造をしているので、この構造を3次元(立体)でカラー画像表示すれば、2次元の断面形状に比べて、前記複雑構造の把握がし易く、半導体構造の理解が一層深められることとなる。
【0021】
3次元画像表示は、或る一定方向からの3次元画像を表示するだけではなくて、表示画面10の下側に配置された「VRML」ボタンを押圧することにより、任意の3次元方向からの3次元画像を表示することができる。具体的には、図5に示すように、「VRML」ボタンを押圧してから、次に左下に表示された回転ボタンをマウス操作することによって、前記操作に連動して3次元画像のカメラアングルが変わり、前記カメラから観察した画像が表示されることとなる。
【0022】
図2の表示画面10の右下には、全製造工程と現製造工程を示す表示欄21があり、選択した製造工程の工程順位と全製造工程数が表示されている。更に、バックボタン22を押圧すると、図1に示すように、製造する半導体のタイプを示すメニュー画面に表示が復帰する。図1において適宜の半導体タイプを選択すると、当該タイプの半導体に特有な製造工程数と半導体データに関する情報が図2に示すように表示されるものである。図1のメニュー画面に示された半導体タイプを順次選択することにより、半導体タイプの差異によって製造工程上で特有の差異(工程数、工程の具体的作業内容、マスクの種類と形状、製造不良の事例など)が存在することについて、表示画面の表示内容を通して、把握、理解を深めることができる。
【0023】
図2において、表示画面10の下側に、表示データ選択ボタンが4個配列されている。以下これらのボタンの機能と作用について説明する。
【0024】
SEM/MASKボタン17は、基本的には、SEM画像、即ち、電子顕微鏡による半導体実物の断面形状を示すSEM写真と、設計条件に基づいて予測される半導体の2次元形状の断面図と、を並列的に画面表示して、その差異を観察しようとするものである。ここにおいて、SEM写真は、半導体の各製造工程において予め観察しておいた実物における断面形状を示すものであり、多数のSEM写真像をデータとして、図7に示すサーバ2のデータベースに蓄積しておく。
【0025】
特に、SEM写真は対象物からの反射像を写真に取っているのでカラー写真でその断面形状を表現することができるので、色彩が付加されて理解がし易く、前記予測断面図のカラー化と合わせれば比較対照をし易くすることができる。一方、設計条件による予測断面図についても、予め設計段階で予測できる図であるから、これも同様に前記データベースに予め蓄積しておく。
【0026】
図3に示すように、表示画面の初期画面は、前述したように、製造工程表示欄12の適宜の製造工程を選択することにより、マスク形状と3次元画像が表示されている。ここで、SEM/MASKボタンを押圧すると、表示画面には、前記適宜の製造工程における2次元の断面形状と当該製造工程におけるSEM写真画像とが対応して表示される。2つの画像を観察することにより、設計条件による予測断面形状と、実際の製造工程における電子顕微鏡による現実の断面形状と、を対比して観察することができるので、当該製造工程における薄膜形成状態の実態を視覚的に把握できて、改善すべき問題点を具体的に摘出することが可能となる。
【0027】
図3に示すように、SEM/MASKボタンを押圧すると、押圧以前に前記ボタンは「SEM」表示されていたのが「MASK」表示となる。更に,「MASK」表示されたボタンを押圧すると、SEM/MASKボタンは当初の「SEM」が表示される状態となり、マスク形状と3次元モデルの表示画面となる。
【0028】
図3に示す初期画面の状態から、図4に示すように,CROSS SECTIONボタンを押圧すると、表示装置の画面には、マスク形状と3次元モデルに加えて、当該製造工程における、設計予測断面形状とSEM画像とが同時に表示される。このような4つの画像を同時に表示することにより、当該製造工程における全体像を視覚的に観察することができることとなる。この画面において、工程選択ボタンを逐次押圧すれば、それぞれの製造工程における4つの画像(マスク形状、3次元モデル、設計予測断面形状、SEM画像)を同時観察できるので、各製造工程毎の特徴を容易に理解、把握できることとなる。CROSS SECTIONボタンを再度押圧すると、表示装置は初期画面に復帰する。
【0029】
次に、図3に示す初期画面の状態から、図5に示すように、VRMLボタンを押圧すると、表示装置の画面には、3次元モデルが拡大表示される。この3次元モデルは設計条件に基づいて予め予測される立体画像であり、各製造工程毎に予め求めることができ、これらの立体画像をサーバ2のデータベースに蓄積しておく。3次元モデルが拡大表示されると同時に画面には、例えば、左下に回転ボタンが表示され、この回転ボタンの操作によって、立体画像をモニタするカメラの位置を変更するように信号処理することで、画面表示されている立体画像を回転することができ、操作者の希望する方向からの立体画像を観察することができる。このように、あらゆる方向からの立体画像を観察すれことができるので、製造工程における一断面形状を観察するよりも、それぞれの製造工程での状況を的確に把握することができ、製造工程の理解が一層し易くなる。
【0030】
VRMLボタンを再度押圧すると、表示装置は初期画面に復帰する。
【0031】
次に、図3に示す初期画面の状態から、図6に示すように、MISPROSESSボタンを押圧すると、表示装置の画面には、当該製造工程における製造不良事例のデータが一覧表示される。不良事例データは予め製造工程毎にサーバ2のデータベースに蓄積しておく。この場合、全ての製造工程で不良事例が存在するとは限らないので、製造工程表示欄12における適宜の工程選択ボタンを選択したときに、当該製造工程において不良事例(データベース上に)が存在する場合にのみ、MISPROCESSボタンを点灯または点滅させるようにすれば、操作性が向上する。不良事例データは文章による不良の摘示でも良いし、2次元の予測断面形状での不良点の摘示でも良いし、更に文章摘示と画像摘示の双方で不良事例を表示しても良い。このような機能を奏するMISPROCESSボタンを設けることによって、前記ボタンの点灯または点滅で不良事例の発生する製造工程をいち早く見分けることができ、更に、画面表示で具体的な不良事例を特定して把握することができる。MISPROCESSボタンを再度押圧すると表示装置は初期画面に復帰する。
【0032】
図7は示すように、ネットワーク3を介して複数のパソコン1がデータベースを有するサーバ2に接続されている。少なくとも1つの製造工程毎に1つのパソコンが備えられていれば、パソコン1を送信元として、該当する製造工程における、2次元の断面形状、3次元モデル、SEM画像、マスク形状、不良事例に関するデータをサーバ2に発信することができる。サーバ2のデータベースには、図1に示す半導体タイプ毎の全製造工程におけるデータが集積されることになり、サーバ2は半導体製造工程の全てのデータを一括管理することができる。図7に示すようなデータ管理によれば、特定の半導体タイプの製造工程における諸々のデータを逐次更新しながら管理することができるので、最新の詳細データをサーバ2側からパソコン1に配送することでき、個々のパソコンでは図2に示すような任意の半導体タイプの適宜の製造工程における種々の情報を観察することが可能となる。
【0033】
なお、前記実施形態ではサーバを介したネットワークシステムで説明したが、これに限定されるものではない。例えば、一台のパソコンのハードディスク等の記憶装置に前記データを記録して実施することもできる。また、記憶容量の大きな記憶媒体、例えば、MO,CD−ROMに前記データを記録してパソコンで実行しても良い。
【0034】
以上説明したように、本実施形態によれば、半導体製造における全ての製造工程での薄膜積層状況について、設計時での予めの予測状況を立体画像としてパソコンで画面表示するので、半導体製造技術者並びに見学者にとって、非常に理解し易いし、また教習効果も一層期待できる。また、立体画像を任意の方向に回転することで、製造工程での積層構造が一層容易に把握できる。
【0035】
更に、現実の製造工程でのSEM写真画像を用いることで、製造工程での実態を把握することができる。そして、設計条件で予測される2次元モデルとの画面上での同時対比により、半導体断面における実態図と予測図との比較が可能となり、改善すべき問題点の摘出も容易にできる。
【0036】
また、MISPROCESSボタンの点灯または点滅により、それぞれの製造工程における不良事例をたやすく見い出せるとともに、不良事例の具体的内容を画面表示することにより、当該製造工程における問題点を明確に知らせることができる。
【0037】
更に、複数のパソコンを管理するサーバに製造工程のすべてのデータを集積し、逐次のパソコンからのデータ更新をサーバで行うことにより、最新のデータを一括管理できて、各パソコンにそのデータを配信することができる。
【0038】
また、半導体製造工程の全ての工程において、3次元モデル、SEM写真画像、2次元モデル、マスク形状、不良事例などを画面表示することで、製造技術者並びに見学者にとって、製造工程の理解、把握が一層深まることとなる。
【0039】
更に、任意の製造工程を選択することにより、当該製造工程における半導体モデルの3次元画像と、当該製造工程で使用されるマスク画像とが同時に表示されるので、半導体特有のマスクとこれを利用した製造物を比較しながら理解することができる。
【0040】
【発明の効果】
本発明によれば、半導体製造における全ての製造工程での薄膜積層状況について、設計時での予めの予測状況を立体画像としてパソコンで画面表示するので、半導体製造技術者並びに見学者にとって、非常に理解し易いし、また教習効果も一層期待できる。また、立体画像を任意の方向に回転することで、製造工程での積層構造が一層容易に把握できる。
【0041】
更に、現実の製造工程でのSEM写真画像を用いることで、製造工程での実態を把握することができる。そして、設計条件で予測される2次元モデルとの画面上での同時対比により、半導体断面における実態図と予測図との比較が可能となり、改善すべき問題点の摘出も容易にできる。
【0042】
また、MISPROCESSボタンの点灯または点滅により、それぞれの製造工程における不良事例をたやすく見い出せるとともに、不良事例の具体的内容を画面表示することにより、当該製造工程における問題点を明確に知らせることができる。
【0043】
更に、複数のパソコンを管理するサーバに製造工程のすべてのデータを集積し、逐次のパソコンからのデータ更新をサーバで行うことにより、最新のデータを一括管理できて、各パソコンにそのデータを配信することができる。
【0044】
また、半導体製造工程の全ての工程において、3次元モデル、SEM写真画像、2次元モデル、マスク形状、不良事例などを画面表示することで、製造技術者並びに見学者にとって、製造工程の理解、把握が一層深まることとなる。
【0045】
更に、本発明によれば、任意の製造工程を選択することにより、当該製造工程における半導体モデルの3次元画像と、当該製造工程で使用されるマスク画像とが同時に表示されるので、半導体特有のマスクとこれを利用した製造物を比較しながら理解することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】製造する半導体のタイプを示す図である。
【図2】本発明の実施形態における、パソコンの表示装置に表示される基本的な表示画面を示す図である。
【図3】SEM/KASKボタンを押圧した際に表示される画面表示の状態を示す図である。
【図4】CROSS SECTIONボタンを押圧した際に表示される画面表示の状態を示す図である。
【図5】VRMLボタンを押圧した際に表示される画面表示の状態を示す図である。
【図6】MISPROCESSボタンを押圧した際に表示される画面表示の状態を示す図である。
【図7】多数のパソコンがサーバのもとにネットワークに接続されていることを示す図である。
【符号の説明】
1 表示装置を有したパソコン
2 データベースを有するサーバ
3 ネットワーク
10 パソコン表示画面
11 製造する半導体タイプ表示欄
12 製造工程表示欄
13 マスク表示欄
14 3次元モデル表示欄
15 電子顕微鏡SEM写真表示欄
16 2次元モデル表示欄
17 SEM/MASKボタン
18 CROSS SECTION(2次元表示)ボタン
19 VRML表示(3次元表示)ボタン
20 MISPROCESS(不良事例)表示ボタン
21 全製造工程と現製造工程を示す表示
22 バックボタン
23 スクロールバー
Claims (9)
- 製造する半導体の種類を表示する半導体種類領域と、各製造工程を表示する製造工程領域と、複数の半導体モデルを含む半導体データを表示する半導体データ領域と、前記半導体データ領域に表示すべき半導体データを選択する選択ボタン領域と、を備えた表示装置を有して、半導体製造工程における半導体モデルを前記表示装置に表示する表示方法であって、
前記選択ボタン領域に設けられた「立体画像モデル」機能ボタンを選択押圧することにより、前記製造工程領域の内から選択された所望の1つの製造工程での設計時に予測される3次元半導体モデルを前記半導体データ領域に表示させるとともに、前記3次元半導体モデルを任意の方向から観察できるように前記3次元半導体モデルを回転させる
ことを特徴とする半導体モデルの表示方法。 - 請求項1に記載の半導体モデルの表示方法において、
前記製造工程領域の内から所望の1つの製造工程を選択することにより、前記選択された当該製造工程で使用するマスク画像と、設計時に予測される当該製造工程での3次元半導体モデルと、を初期表示画面として、前記半導体データ領域に同時表示する
ことを特徴とする半導体モデルの表示方法。 - 請求項2に記載の半導体モデルの表示方法において、
前記選択ボタン領域に設けられた「実物・予測モデル」機能ボタンを選択押圧することにより、前記初期表示画面に代えて、設計時に予測される当該製造工程での2次元半導体モデルと、電子顕微鏡の写真画像と、を前記半導体データ領域に同時表示する
ことを特徴とする半導体モデルの表示方法。 - 請求項2に記載の半導体モデルの表示方法において、
前記選択ボタン領域に設けられた「断面形状モデル」機能ボタンを選択押圧することにより、前記初期表示画面に代えて、設計時に予測される当該製造工程での2次元半導体モデルと、走査型電子顕微鏡で撮影した写真画像と、を併せて前記半導体データ領域に同時表示する
ことを特徴とする半導体モデルの表示方法。 - 請求項2に記載の半導体モデルの表示方法において、
前記選択ボタン領域に設けられた「製造不良事例モデル」機能ボタンを選択押圧することにより、前記初期表示画面に代えて、当該製造工程での製造不良事例を表示する
ことを特徴とする半導体モデルの表示方法。 - 半導体製造工程における半導体モデルの表示装置であって、
前記表示装置は、製造する半導体の種類を表示する半導体種類領域と、各製造工程を表示する製造工程領域と、複数の半導体モデルを含む半導体データを表示する半導体データ領域と、前記半導体データ領域に表示すべき半導体データを選択する選択ボタン領域と、を備え、
前記選択ボタン領域に設けられた「立体画像モデル」機能ボタンを選択押圧することにより、前記製造工程領域の内から選択された所望の1つの製造工程での設計時に予測される3次元半導体モデルを前記半導体データ領域に表示させるとともに、前記3次元半導体モデルを任意の方向から観察できるように前記3次元半導体モデルを回転させる
ことを特徴とする半導体モデルの表示装置。 - 請求項6に記載の半導体モデルの表示装置において、
前記製造工程領域の内から所望の1つの製造工程を選択することにより、前記選択された当該製造工程で使用するマスク画像と、設計時に予測される当該製造工程での3次元半導体モデルと、を、前記半導体データ領域に同時表示する
ことを特徴とする半導体モデルの表示装置。 - 請求項6に記載の半導体モデルの表示装置において、
前記選択ボタン領域には、「実物・予測モデル」機能ボタンと、「断面形状モデル」機能ボタンと、「立体画像モデル」機能ボタンと、「製造不良事例モデル」機能ボタンと、を設け、
前記製造工程領域に表示された多数の製造工程の内で、製造不良事例モデルが存在する製造工程を選択した場合には、「製造不良事例モデル」機能ボタンが点灯または点滅することを特徴とする半導体モデルの表示装置。 - 請求項6に記載の半導体モデルの表示装置において、
前記表示装置はパソコンにおける表示手段であり、各製造工程で使用するマスク画像と、設計時に予測される各製造工程での3次元半導体モデルと、は、ネットワークを介したサーバから送信されたデータに基づいて作成される
ことを特徴とする半導体モデルの表示装置。
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1997
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