JP4178925B2 - Laminated packaging material - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、積層包装材料に関するもので、特にＩＣやＬＳＩ等の電子部品のように静電気による障害及び水蒸気、酸素による腐蝕が発生し易い物品の包装に適した積層包装材料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ＩＣ及びＬＳＩ等の電子部品や磁気記録媒体などの物品を包装する包装体には、過電流による物品の絶縁破壊などを防止可能であること、開封することなく収容された物品を視認可能であること、静電気帯電によって塵埃が付着するのを防止可能であること等が望まれる。透明で、帯電防止性や静電シールド性が付与された包装材料としては、例えば、基材フィルムの一方の面に帯電防止コート層を形成し、他方の面に極薄のアルミニウム蒸着薄膜層及び帯電防止性を有するシーラント層を順次積層した構造の静電シールド性包装材料がある。
【０００３】
さらに、電子部品などを収容する包装体に使用される積層包装材料には、上記の性能に加え、外気からの水蒸気や酸素の侵入を遮断して電子部品などの腐蝕を防止するガスバリア性が要求されており、これらの要求に応える為に、例えば、エチレン・ビニルアルコール共重合体フィルムを前記静電シールド性包装材料に積層する方法があるが、この構成のものはエチレン・ビニルアルコール共重合体フィルムを使用している為に酸素バリア性及び水蒸気バリア性の双方が不足しており、それらの中でも、水蒸気バリア性が特に不足している。
【０００４】
そこで、このエチレン・ビニルアルコール共重合体フィルムの代替えとして、二軸延伸ポリエステルフィルムあるいは二軸延伸ナイロンフィルム等の基材フィルムの一方の面に酸化アルミニウムや酸化珪素などの金属酸化物蒸着薄膜層、ガスバリア性被膜層を積層したバリア性積層フィルムを使用することにより、静電シールド性やガスバリア性などに優れた積層包装材料を得ることが出来る。しかしながら、酸化アルミニウムや酸化珪素などの金属酸化物蒸着薄膜層、ガスバリア性被膜層を各々一層のみ積層したものは、ガスバリア性、特に水蒸気透過度が０．１ｇ／ｍ2 ・２４ｈを超え、バリア性が不十分であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、良好な静電シールド性及び優れたガスバリア性、特に水蒸気透過度０．１ｇ／ｍ2 ・２４ｈ以下の高いバリア性を有する積層包装材料を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係る発明は、少なくとも、高分子フィルム層の片面に金属酸化物蒸着薄膜層、ガスバリア性被膜層、厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層を順次積層したバリア性積層フィルムＡの一方の高分子フィルム層側に、高分子フィルム層の片面に金属酸化物蒸着薄膜層、ガスバリア性被膜層を順次積層したバリア性積層フィルムＢのガスバリア性被膜層側を接着剤層を介して積層し、バリア性積層フィルムＡの他方の厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層側にシーラント層を積層した積層体のシーラント層の反対側の最外面のバリア性積層フィルムＢの高分子フィルム面に帯電防止コート層が積層されていることを特徴とする積層包装材料である。
本発明の請求項２に係る発明は、少なくとも、高分子フィルム層の片面に金属酸化物蒸着薄膜層、ガスバリア性被膜層、厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層を順次積層したバリア性積層フィルムＡの一方の高分子フィルム層側に、高分子フィルム層の片面に金属酸化物蒸着薄膜層、ガスバリア性被膜層を順次積層したバリア性積層フィルムＢのガスバリア性被膜層側を接着剤層を介して積層し、バリア性積層フィルムＡの他方の厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層側にシーラント層を積層した積層体の前記シーラント層に帯電防止性が付与されていることを特徴とする積層包装材料である。
【０００７】
本発明の請求項３に係る発明は、少なくとも、高分子フィルム層の片面に金属酸化物蒸着薄膜層、ガスバリア性被膜層、厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層を順次積層したバリア性積層フィルムＡの一方の高分子フィルム層側に、同一構成の他のバリア性積層フィルムＡ′の厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層側を接着剤層を介して積層し、バリア性積層フィルムＡの他方の厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層側にシーラント層を積層した積層体のシーラント層の反対側の最外面のバリア性積層フィルムＢの高分子フィルム面に帯電防止コート層が積層されていることを特徴とする積層包装材料である。
本発明の請求項４に係る発明は、少なくとも、高分子フィルム層の片面に金属酸化物蒸着薄膜層、ガスバリア性被膜層、厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層を順次積層したバリア性積層フィルムＡの一方の高分子フィルム層側に、同一構成の他のバリア性積層フィルムＡ′の厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層側を接着剤層を介して積層し、バリア性積層フィルムＡの他方の厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層側にシーラント層を積層した積層体の前記シーラント層に帯電防止性が付与されていることを特徴とする積層包装材料である。
【００１２】
本発明の請求項５に係る発明は、上記請求項１乃至請求項４のいずれか１項に係る発明に於いて、前記金属酸化物が酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム又はそれらの混合物であることを特徴とする積層包装材料である。
【００１３】
本発明の請求項６に係る発明は、上記請求項１乃至請求項５のいずれか１項に係る発明に於いて、前記ガスバリア性被膜層が水溶性高分子と、（ａ）一種以上の金属アルコキシド及びその加水分解物又は（ｂ）塩化錫の少なくとも一方を含むものからなることを特徴とする積層包装材料である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の積層包装材料を実施の形態に沿って以下に詳細に説明する。
【００１５】
図１（ａ）は本発明の一実施例の積層包装材料の側断面図であり、厚み方向に順に、高分子フィルム層（２１）と金属酸化物蒸着薄膜層（２２）とガスバリア性被膜層（２３）を順次積層したバリア性積層フィルムＢ（２０）、接着層（５１）、高分子フィルム層（１１）と金属酸化物蒸着薄膜層（１２）とガスバリア性被膜層（１３）と厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層（１４）を順次積層したガスバリア性積層フィルムＡ（１０）、接着層（５２）、シーラント層（４０）を順次積層した構成になっており、（ｂ）は他の実施例の積層包装材料の側断面図であり、厚み方向に順に、高分子フィルム層（１１′）と金属酸化物蒸着薄膜層（１２′）とガスバリア性被膜層（１３′）と厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層（１４′）を順次積層したバリア性積層フィルムＡ′（１０′）、接着層（５１）、高分子フィルム層（１１）と金属酸化物蒸着薄膜層（１２）とガスバリア性被膜層（１３）と厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層（１４）を順次積層したバリア性積層フィルムＡ（１０）、接着層（５２）、シーラント層（４０）を積層した構成になっており、（ｃ）はさらに他の実施例の積層包装材料の側断面図であり、厚み方向に順に、高分子フィルム層（２１）と金属酸化物蒸着薄膜層（２２）とガスバリア性被膜層（２３）を順次積層したバリア性積層フィルムＢ（２０）、接着層（５１）、厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層（３４）とガスバリア性被膜層（３３）と金属酸化物蒸着薄膜層（３２）と高分子フィルム層（３１）を積層したバリア性積層フィルムＣ（３０）、接着層（５２）、シーラント層（４０）が順次積層されており、（ｄ）はさらに他の実施例の積層包装材料の側断面図であり、厚み方向に順に、高分子フィルム層（１１）と金属酸化物蒸着薄膜層（１２）とガスバリア性被膜層（１３）と厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層（１４）を順次積層したバリア性積層フィルムＡ（１０）、接着層（５１）、厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層（３４）とガスバリア性被膜層（３３）と金属酸化物蒸着薄膜層（３２）と高分子フィルム層（３１）を積層したバリア性積層フィルムＣ（３０）、接着層（５２）、シーラント層（４０）が順次積層されている。
【００１６】
前記図１の（ａ）〜（ｄ）の積層包装材料は、積層構成中に金属酸化物蒸着薄膜層とガスバリア性被膜層が各々二層積層されているので、優れたガスバリア性、特に高い水蒸気バリア性を有すると共に、厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層が少なくとも一層積層されているので、良好な静電シールド性を有している。
【００１７】
図２（ａ）は本発明のさらに他の実施例の積層包装材料の側断面図であり、前記図１（ａ）の構成のシーラント層（４０）の反対側の最外面に、さらに帯電防止コート層（６０）が積層された構成になっており、（ｂ）は本発明のさらに他の実施例の積層包装材料の側断面図であり、前記図１（ｂ）の構成のシーラント層（４０）の反対側の最外面に、さらに帯電防止コート層（６０）が積層された構成になっており、（ｃ）は本発明のさらに他の実施例の積層包装材料の側断面図であり、前記図１（ｃ）の構成のシーラント層（４０）の反対側の最外面に、さらに帯電防止コート層（６０）が積層された構成になっており、（ｄ）は本発明のさらに他の実施例の積層包装材料の側断面図であり、前記図１（ｄ）の構成のシーラント層（４０）の反対側の最外面に、さらに帯電防止コート層（６０）が積層された構成になっている。
【００１８】
前記図２の（ａ）〜（ｄ）の積層包装材料は、同様に積層構成中に金属酸化物蒸着薄膜層とガスバリア性被膜層が各々二層積層されているので、優れたガスバリア性、特に高い水蒸気バリア性を有すると共に、厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層が少なくとも一層積層されているので、良好な静電シールド性を有し、さらに、最外面に帯電防止コート層が積層されているので表面の帯電防止性が優れている。
【００１９】
前記各積層構成の最外層に使用した各種バリア性積層フィルムの接着層側の裏面にさらに印刷層を設けても良い。
【００２０】
前記高分子フィルム層（１１、１１′、２１、３１）は高分子材料からなり、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂、ナイロン（Ｎｙ）樹脂などの機械的強度、寸法安定性を有するものが好ましく、これらをフィルム状に加工、さらには二軸方向に延伸したものが用いられる。また、この高分子フィルム層（１１、１１′、２１、３１）の表面に接着性を良くするために、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理を施しておいてもよく、さらに薬品処理、溶剤処理などを施してもよい。
【００２１】
前記高分子フィルム層（１１、１１′、２１、３１）の厚さは特に制限を受けるものではないが、包装材料としての適性、他のフィルムを積層あるいは蒸着薄膜層を形成する場合の加工性等を考慮すると、６〜５０μｍの範囲が好ましい。
【００２２】
また、量産性を考慮すれば、連続的に蒸着薄膜層を形成できるように長尺状フィルムとすることが望ましい。
【００２３】
前記金属酸化物蒸着薄膜層（１２、１２′、２２、３２）に使用される金属酸化物は、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム若しくはそれらの混合物である。薄膜層の膜厚は５〜３００ｎｍの範囲内であることが望ましく、その値は適宜選択される。ただし、膜厚が５ｎｍ以下であると高分子フィルム層の全面に均一な薄膜が形成されないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また、膜厚が３００ｎｍを超えた場合は蒸着薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、蒸着薄膜に亀裂を生じる恐れがあるため良くない。形成方法は公知の真空成膜方法で薄膜形成を行う。
【００２４】
前記ガスバリア性被膜層（１３、１３′、２３、３３）は、金属酸化物蒸着薄膜層（１２、１２′、２２、３２）を保護すると共に、より高いガスバリア性を付与するために形成されるものであり、その成分は水溶性高分子と、（ａ）１種以上の金属アルコキシド及び加水分解物または（ｂ）塩化錫の少なくとも一方を含むものであり、その成分の水溶液あるいは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を積層して形成する。水溶性高分子と塩化錫を水系（水あるいは水／アルコール混合）溶媒で溶解させた溶液、あるいはこれに金属アルコキシドを直接または予め加水分解させるなど処理を行ったものを混合した溶液を蒸着薄膜層の上に積層し、加熱乾燥し形成したものである。
【００２５】
前記ガスバリア性被膜層（１３、１３′、２３、３３）に用いられる水溶性高分子は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。特にポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡとする）を用いた場合にガスバリア性が最も優れる。ここでいうＰＶＡは、一般にポリ酢酸ビニルを鹸化して得られるもので、酢酸基が数十％残存している、いわゆる部分鹸化ＰＶＡから酢酸基が数％しか残存していない完全鹸化ＰＶＡまでを含み、特に限定されない。
【００２６】
また、前記塩化錫は塩化第一錫（ＳｎＣｌ2）、塩化第二錫（ＳｎＣｌ4）あるいはこれらの混合物であっても良く、無水物でも水和物でも良い。
【００２７】
さらに、前記金属アルコキシドはテトラエトキシシラン又はトリイソプロポキシアルミニウムあるいはそれらの混合物が好ましい。
【００２８】
前記ガスバリア性被膜層（１３、１３′、２３、３３）の形成方法は、通常用いられるディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法などの従来公知の手段を用いて実施する。乾燥後の被膜厚さが０．０１μｍ以上あればよいが、厚さが５０μｍを超えると膜にクラックが生じ易くなるため、０．０１〜５０μｍの範囲が好ましい。
【００２９】
前記アルミニウム蒸着薄膜層（１４、１４′、３４）は、その膜厚が２〜１５ｎｍの極薄になっているので透明性も良く、かつ、良好な静電シールド性を有している。
【００３０】
前記接着層（５１）及び（５２）は、一般的な包装材料で使用されるものと同様に水酸基を持った主剤とイソシアネート基を持った硬化剤とを２液混合して使用する２液型あるいはイソシアネート基を持ったものを単独で使用する１液型の接着剤やポリエチレンイミン、有機チタネートなどのアンカーコート剤等を使用し、グラビアコート法あるいはロールコート法等の公知のコート法で形成する。塗布量は０．５〜５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）が好ましい。
【００３１】
なお、アンカーコート剤を使用する場合は、アンカーコート剤の塗布面にさらに接着力を強くする為に低密度ポリエチレン樹脂層を設けても良い。
【００３２】
前記シーラント層（４０）は、通常はポリオレフィフィン系樹脂を使用して形成する。使用するポリオレフィン系樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、中密度ポリエチレン樹脂、高密度ポリエチレン樹脂、エチレン・α−オレフィン共重合体樹脂などのエチレン系樹脂や、ホモポリプロピレン樹脂、プロピレン・エチレンランダム共重合体、プロピレン・エチレンブロック共重合体、プロピレン・α−オレフィン共重合体などのポリプロピレン系樹脂などの選択が可能であり、また、これらのオレフィン系樹脂をグラフト重合などにより酸変成した変成ポリオレフィン樹脂も使用可能である。上述したポリオレフィン系樹脂の単体又は２種以上からなるブレンド物でもかまわない。厚みは適宜選定する。
【００３３】
前記シーラント層（４０）に帯電防止性を付与させる場合は、前記記載のポリオレフィン系樹脂に対して帯電防止剤を５００〜３０００ｐｐｍ添加し、混練した混合樹脂を使用する。帯電防止剤としては、四級アンモニウム塩などのカチオン系、脂肪酸多価アルコ−ルエステル、ポリオキシエチレン付加物などの非イオン系、ベタイン塩、アラニン塩などの両性系、ホスフェート塩、スルホン酸塩などのアニオン系の界面活性剤を単独あるいは混合して使用する。これらの混合樹脂を使用し、シーラント層（４０）の表面固有抵抗を１０11 Ω／□以下にするのが好ましい。厚みは適宜選定する。
【００３４】
前記帯電防止コート層（６０）は、四級アンモニウム塩系の界面活性剤溶液、脂肪酸多価アルコールエステル系の界面活性剤溶液あるいはポリエステルオリゴマー溶液を塗布、乾燥し形成する。塗布量は０．０１〜０．０５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）が好ましく、表面固有抵抗を１０11 Ω／□以下にするのが好ましい。
【００３５】
【実施例】
本発明の積層包装材料を具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明がこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３６】
〈ガスバリア性被膜層の塗布液の調整〉
テトラエトキシシラン１０．４ｇに０．１Ｎ塩酸を８９．６ｇ加え、３０分攪拌し加水分解させた固形分３重量％（ＳｉＯ2 換算）の溶液とポリビニルアルコール３重量％水／イソプロピルアルコール溶液（水／イソプロピルアルコ−ルは重量％比で９０／１０）を重量％比で６０／４０に混合し、塗布液を調整した。
【００３７】
〈実施例１〉
厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエステルフイルム（ＰＥＴフイルム）の片面に、真空成膜装置を用いて、厚さ５０ｎｍの酸化珪素蒸着薄膜層を積層して、二層構成の積層フィルムを作成し、前記二層構成の積層フィルムの酸化珪素蒸着薄膜層面上にグラビアコーター機を用いて前記記載の塗布液をコーティングして厚さ０．５μｍのガスバリア性被膜層を積層して、三層構成のバリア性積層フィルムＢを作成した。引き続き、厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエステルフイルム（ＰＥＴフイルム）の片面に、真空成膜装置を用いて、厚さ５０ｎｍの酸化珪素蒸着薄膜層を積層して、二層構成の積層フィルムを作成し、前記二層構成の積層フィルムの酸化珪素蒸着薄膜層面上にグラビアコーター機を用いて前記記載の塗布液をコーティングして厚さ０．５μｍのガスバリア性被膜層を積層して、三層構成の積層フィルムを作成し、前記三層構成の積層フィルムのガスバリア性被膜層面上に、真空成膜装置を用いて、厚さ７ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層を積層し、四層構成のバリア性積層フィルムＡを作成した。
【００３８】
次に、ドライラミネート機を用いて、前記作成したバリア性積層フィルムＢのガスバリア性被膜層面に塗布量５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）のポリウレタン系接着剤を介してバリア性積層フィルムＡのＰＥＴフィルム面側を積層し、バリア性積層フィルムＢ／接着層／バリア性積層フィルムＡ構成の積層フィルムを作成した。、さらに、その積層フィルムのアルミニウム蒸着薄膜層面に塗布量５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）のポリウレタン系接着剤を介して厚さ６０μｍの直鎖状低密度ポリエチレンフィルムを積層し、本発明の積層包装材料を作成した。
【００３９】
〈実施例２〉
厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエステルフイルム（ＰＥＴフイルム）の片面に、真空成膜装置を用いて、厚さ５０ｎｍの酸化珪素蒸着薄膜層を積層して、二層構成の積層フィルムを作成し、前記二層構成の積層フィルムの酸化珪素蒸着薄膜層面上にグラビアコーター機を用いて前記記載の塗布液をコーティングして厚さ０．５μｍのガスバリア性被膜層を積層して、三層構成の積層フィルムを作成し、前記三層構成の積層フィルムのガスバリア性被膜層面上に、真空成膜装置を用いて、厚さ７ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層を積層し、四層構成のバリア性積層フィルムＡを作成した。
【００４０】
次に、前記と同様の材料及び装置を用いて、さらに、同一構成の四層構成のバリア性積層フィルムＡ′を作成した。
【００４１】
次に、ドライラミネート機を用いて、前記作成したバリア性積層フィルムＡ′のアルミニウム蒸着薄膜層面に塗布量５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）のポリウレタン系接着剤を介して他のバリア性積層フィルムＡのＰＥＴフィルム面側を積層し、バリア性積層フィルムＡ′／接着層／バリア性積層フィルムＡ構成の積層フイルムを作成し、その積層フィルムのアルミニウム蒸着薄膜層面に塗布量５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）のポリウレタン系接着剤を介して厚さ６０μｍの直鎖状低密度ポリエチレンフィルムを積層し、本発明の積層包装材料を作成した。
【００４２】
〈実施例３〉
厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエステルフイルム（ＰＥＴフイルム）の片面に、真空成膜装置を用いて、厚さ５０ｎｍの酸化珪素蒸着薄膜層を積層して、二層構成の積層フィルムを作成し、前記二層構成の積層フィルムの酸化珪素蒸着薄膜層面上にグラビアコーター機を用いて前記記載の塗布液をコーティングして厚さ０．５μｍのガスバリア性被膜層を積層して、三層構成のバリア性積層フィルムＢを作成した。引き続き、厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエステルフイルム（ＰＥＴフイルム）の片面に、真空成膜装置を用いて、厚さ５０ｎｍの酸化珪素蒸着薄膜層を積層して、二層構成の積層フィルムを作成し、前記二層構成の積層フィルムの酸化珪素蒸着薄膜層面上にグラビアコーター機を用いて前記記載の塗布液をコーティングして厚さ０．５μｍのガスバリア性被膜層を積層して、三層構成の積層フィルムを作成し、前記三層構成の積層フィルムのガスバリア性被膜層面上に、真空成膜装置を用いて、厚さ７ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層を積層し、四層構成のバリア性積層フィルムＡを作成した。
【００４３】
次に、ドライラミネート機を用いて、前記作成したバリア性積層フィルムＢのガスバリア性被膜層面に塗布量５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）のポリウレタン系接着剤を介してバリア性積層フィルムＡのＰＥＴフィルム面側を積層し、バリア性積層フィルムＢ／接着層／バリア性積層フィルムＡ構成の積層フィルムを作成した。さらに、その積層フィルムのバリア性積層フィルムＢの外表面に四級アンモニウム塩系界面活性剤を塗布量０．０１ｇ／ｍ2 （乾燥状態）塗布し、他方のバリア性積層フィルムＡのアルミニウム蒸着薄膜層面に塗布量５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）のポリウレタン系接着剤を介して四級アンモニウム塩系界面活性剤を３００ｐｐｍ添加した厚さ６０μｍ低密度ポリエチレンフィルムを積層し、本発明の積層包装材料を作成した。
【００４４】
〈比較例１〉
厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエステルフイルム（ＰＥＴフイルム）の片面に、真空成膜装置を用いて、厚さ５０ｎｍの酸化珪素蒸着薄膜層を積層して、二層構成の積層フィルムを作成し、前記二層構成の積層フィルムの酸化珪素蒸着薄膜層面上にグラビアコーター機を用いて前記記載の塗布液をコーティングして厚さ０．５μｍのガスバリア性被膜層を積層して、三層構成の積層フィルムを作成し、前記三層構成の積層フィルムのガスバリア性被膜層面上に、真空成膜装置を用いて、厚さ７ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層を積層し、四層構成のバリア性積層フィルムを作成し、引き続き、ドライラミネート機を用いて、前記四層構成のバリア性積層フィルムのアルミニウム蒸着薄膜層面に塗布量５ｇ／ｍ2 （乾燥状態）のポリウレタン系接着剤を介して厚さ６０μｍの直鎖状低密度ポリエチレンフィルムを積層し、比較用の積層包装材料を作成した。
【００４５】
〈評価〉
実施例１〜３及び比較例１の積層包装材料を用いて、その積層包装材料の水蒸気透過度を以下の測定方法で測定すると共に静電シールド性を評価した。その結果を表１に示す。
（１）水蒸気透過度
モダンコントロール社製の水蒸気透過度測定装置（Ｍｏｃｏｎ Ｐｅｒｍａｔｒａｎ Ｗ６）を用いて、４０℃、９０％ＲＨの雰囲気下で測定した。
【００４６】
【表１】
表１の結果から、実施例１〜３の積層包装材料は、水蒸気透過度が０．１ｇ／ｍ2 ・２４ｈより小さく、優れた水蒸気バリア性を有しており、静電シールド性も良好である。一方比較例１の積層包装材料は水蒸気透過度が大きい。
【００４８】
【発明の効果】
本発明の積層包装材料は、少なくとも、高分子フィルム層の片面に酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム又はそれらの混合物からなる金属酸化物蒸着薄膜層、水溶性高分子を主成分とするガスバリア性被膜層を積層したバリア性積層フィルムと、高分子フィルム層の片面に酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム又はそれらの混合物からなる金属酸化物蒸着薄膜層、水溶性高分子を主成分とするガスバリア性被膜層、厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層を積層したバリア性積層フィルムが積層されているか、又は高分子フィルム層の片面に酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム又はそれらの混合物からなる金属酸化物蒸着薄膜層、水溶性高分子を主成分とするガスバリア性被膜層、厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層を積層したバリア性積層フィルムと、同一構成のバリア性積層フィルムが積層されているので、良好な静電シールド性を有すると共に、優れたガスバリア性、特に高い水蒸気バリア性を有している。さらに、最外面に帯電防止コート層を積層するか、シーラント層に帯電防止性を付与することにより、優れた表面の帯電防止性が得られる。従って、ＩＣやＬＳＩ等の電子部品のように静電気による障害及び水蒸気、酸素による腐蝕が発生し易い物品の包装に最適である。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は本発明の一実施例の積層包装材料の側断面図であり、（ｂ）は他の実施例の積層包装材料の側断面図であり、（ｃ）はさらに他の実施例の積層包装材料の側断面図であり、（ｄ）はさらに他の実施例の積層包装材料の側断面図である。
【図２】（ａ）は本発明のさらに他の実施例の積層包装材料の側断面図であり、（ｂ）はさらに他の実施例の積層包装材料の側断面図であり、（ｃ）はさらに他の実施例の積層包装材料の側断面図であり、（ｄ）はさらに他の実施例の積層包装材料の側断面図である。
【符号の説明】
１０…バリア性積層フィルムＡ
１０′…バリア性積層フィルムＡ′
２０…バリア性積層フィルムＢ
３０…バリア性積層フィルムＣ
１１，１１′，２１，３１…高分子フィルム層
１２，１２′，２２，３２…金属酸化物蒸着薄膜層
１３，１３′，２３，３３…ガスバリア性被膜層
１４，１４′、３４…厚さ２〜１５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層
４０…シーラント層
５１，５２…接着層
６０…帯電防止コート層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a laminated packaging material, and more particularly to a laminated packaging material suitable for packaging articles such as electronic components such as ICs and LSIs, which are easily damaged by static electricity and corroded by water vapor and oxygen.
[0002]
[Prior art]
In packaging bodies that wrap articles such as IC and LSI electronic parts and magnetic recording media, it is possible to prevent dielectric breakdown of articles due to overcurrent, and it is possible to visually recognize stored articles without opening them. In addition, it is desired that dust can be prevented from adhering due to electrostatic charging. As a packaging material that is transparent and has antistatic properties and electrostatic shielding properties, for example, an antistatic coating layer is formed on one surface of a base film, and an ultra-thin aluminum vapor deposition thin film layer and There is an electrostatic shielding packaging material having a structure in which sealant layers having antistatic properties are sequentially laminated.
[0003]
Furthermore, in addition to the above performance, laminated packaging materials used for packaging bodies that contain electronic components are required to have gas barrier properties that prevent the entry of water vapor and oxygen from the outside air to prevent corrosion of electronic components. In order to meet these requirements, for example, there is a method of laminating an ethylene / vinyl alcohol copolymer film on the electrostatic shielding packaging material, but this configuration is an ethylene / vinyl alcohol copolymer. Since the film is used, both the oxygen barrier property and the water vapor barrier property are insufficient, and among them, the water vapor barrier property is particularly insufficient.
[0004]
Therefore, as an alternative to this ethylene-vinyl alcohol copolymer film, a metal oxide vapor-deposited thin film layer such as aluminum oxide or silicon oxide on one surface of a base film such as a biaxially stretched polyester film or a biaxially stretched nylon film, By using a barrier laminate film in which a gas barrier coating layer is laminated, a laminated packaging material having excellent electrostatic shielding properties, gas barrier properties, and the like can be obtained. However, a metal oxide vapor-deposited thin film layer such as aluminum oxide or silicon oxide and a gas barrier coating layer each having only one layer laminated have a gas barrier property, particularly a water vapor permeability of more than 0.1 g / m 2 · 24 h, and a barrier property. Was insufficient.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a laminated packaging material having good electrostatic shielding properties and excellent gas barrier properties, in particular, high barrier properties with a water vapor permeability of 0.1 g / m 2 · 24 h or less.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The invention according to
The invention according to
[0007]
The invention according to
The invention according to
[0012]
The invention according to
[0013]
The invention according to
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The laminated packaging material of the present invention will be described in detail below along the embodiments.
[0015]
FIG. 1A is a side cross-sectional view of a laminated packaging material according to an embodiment of the present invention, and a polymer film layer (21), a metal oxide vapor-deposited thin film layer (22), and a gas barrier coating layer in the thickness direction. Barrier laminated film B (20) in which (23) is laminated in sequence, adhesive layer (51), polymer film layer (11), metal oxide vapor-deposited thin film layer (12), gas barrier coating layer (13) and thickness Gas barrier laminate film A (10) in which 2-15 nm aluminum vapor-deposited thin film layer (14) is sequentially laminated, adhesive layer (52), and sealant layer (40) are sequentially laminated. It is a sectional side view of the laminated packaging material of Example of this, and is a polymer film layer (11 '), a metal oxide vapor deposition thin film layer (12'), a gas-barrier coating layer (13 '), and thickness in order of thickness direction. 2-15 nm aluminum deposited thin film layer 14 ′), a barrier laminate film A ′ (10 ′), an adhesive layer (51), a polymer film layer (11), a metal oxide vapor-deposited thin film layer (12), and a gas barrier coat layer (13). It has the structure which laminated | stacked the barrier property laminated | multilayer film A (10) which laminated | stacked the aluminum vapor deposition thin film layer (14) of thickness 2-15 nm in order, the adhesive layer (52), and the sealant layer (40), (c) Furthermore, it is a sectional side view of the laminated packaging material of still another embodiment, in which a polymer film layer (21), a metal oxide vapor-deposited thin film layer (22), and a gas barrier coating layer (23) are sequentially laminated in the thickness direction. Barrier laminated film B (20), adhesive layer (51), aluminum vapor deposited thin film layer (34) having a thickness of 2 to 15 nm, gas barrier coated film layer (33), metal oxide vapor deposited thin film layer (32), and polymer film Layer (31) Laminated barrier laminated film C (30), adhesive layer (52), and sealant layer (40) are laminated in sequence, (d) is a side sectional view of a laminated packaging material of still another embodiment, thickness A barrier laminate in which a polymer film layer (11), a metal oxide deposited thin film layer (12), a gas barrier coating layer (13), and an aluminum deposited thin film layer (14) having a thickness of 2 to 15 nm are sequentially laminated in the direction. Film A (10), adhesive layer (51), aluminum deposited thin film layer (34) having a thickness of 2 to 15 nm, gas barrier coating layer (33), metal oxide deposited thin film layer (32), and polymer film layer (31 ), A bonding layer (52), and a sealant layer (40) are sequentially laminated.
[0016]
1 (a) to 1 (d), the metal oxide vapor-deposited thin film layer and the gas barrier film layer are each laminated in a laminated structure, so that excellent gas barrier properties, particularly high water vapor, are obtained. In addition to having a barrier property, at least one aluminum deposited thin film layer having a thickness of 2 to 15 nm is laminated, so that it has a good electrostatic shielding property.
[0017]
FIG. 2 (a) is a side sectional view of a laminated packaging material of still another embodiment of the present invention. Further, on the outermost surface on the opposite side of the sealant layer (40) having the structure shown in FIG. The coating layer (60) is laminated, (b) is a side sectional view of a laminated packaging material of still another embodiment of the present invention, and the sealant layer (Fig. 40) is a structure in which an antistatic coating layer (60) is further laminated on the outermost surface on the opposite side of 40), and (c) is a side sectional view of a laminated packaging material of still another embodiment of the present invention. The antistatic coating layer (60) is further laminated on the outermost surface on the opposite side of the sealant layer (40) having the structure shown in FIG. 1 (c), and (d) is still another embodiment of the present invention. It is a sectional side view of the laminated packaging material of the Example of, and is the sealant layer (40 of the structure of said FIG.1 (d). Of the outermost surface of the opposite side, and further the antistatic coating layer (60) becomes configurations stacked.
[0018]
2 (a) to 2 (d), the metal oxide vapor-deposited thin film layer and the gas barrier coating layer are each laminated in the laminated structure, so that excellent gas barrier properties, particularly, Since it has a high water vapor barrier property and at least one layer of an aluminum vapor-deposited thin film layer having a thickness of 2 to 15 nm is laminated, it has a good electrostatic shielding property, and an antistatic coating layer is laminated on the outermost surface. Therefore, the antistatic property of the surface is excellent.
[0019]
You may provide a printing layer further in the back surface by the side of the adhesive layer of the various barrier property laminated | multilayer film used for the outermost layer of each said laminated structure.
[0020]
The polymer film layers (11, 11 ', 21, 31) are made of a polymer material. For example, mechanical strength and dimensional stability of polyethylene terephthalate (PET) resin, polypropylene (PP) resin, nylon (Ny) resin, etc. Those having properties are preferable, and these are processed into a film and further stretched biaxially. Further, in order to improve the adhesion to the surface of the polymer film layer (11, 11 ′, 21, 31), corona treatment, low temperature plasma treatment, ion bombardment treatment may be performed as pretreatment, Chemical treatment, solvent treatment, and the like may be performed.
[0021]
The thickness of the polymer film layer (11, 11 ', 21, 31) is not particularly limited, but is suitable as a packaging material and processability when laminating other films or forming a deposited thin film layer. In consideration of the above, the range of 6 to 50 μm is preferable.
[0022]
In consideration of mass productivity, it is desirable to use a long film so that the deposited thin film layer can be continuously formed.
[0023]
The metal oxide used for the metal oxide vapor-deposited thin film layer (12, 12 ', 22, 32) is aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide or a mixture thereof. The film thickness of the thin film layer is preferably in the range of 5 to 300 nm, and the value is appropriately selected. However, if the film thickness is 5 nm or less, a uniform thin film may not be formed on the entire surface of the polymer film layer, and the function as a gas barrier material may not be sufficiently achieved. On the other hand, when the film thickness exceeds 300 nm, the deposited thin film cannot be kept flexible, and the deposited thin film may be cracked due to external factors such as bending and pulling after the deposition. As a forming method, a thin film is formed by a known vacuum film forming method.
[0024]
The gas barrier coating layer (13, 13 ', 23, 33) is formed to protect the metal oxide vapor-deposited thin film layer (12, 12', 22, 32) and to provide a higher gas barrier property. The component contains a water-soluble polymer and at least one of (a) one or more metal alkoxides and hydrolysates or (b) tin chloride. An aqueous solution of the component or a water / alcohol mixture A coating agent mainly composed of a solution is laminated to form. Evaporation thin film layer: A solution in which water-soluble polymer and tin chloride are dissolved in an aqueous (water or water / alcohol mixed) solvent, or a solution in which metal alkoxide is directly or previously hydrolyzed is mixed. It is formed by laminating and heating and drying.
[0025]
Examples of the water-soluble polymer used in the gas barrier coating layer (13, 13 ′, 23, 33) include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, starch, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, and sodium alginate. In particular, when polyvinyl alcohol (hereinafter referred to as PVA) is used, gas barrier properties are most excellent. PVA as used herein is generally obtained by saponifying polyvinyl acetate, from a so-called partially saponified PVA in which several tens percent of acetic acid groups remain to completely saponified PVA in which only several percent of acetic acid groups remain. Including, but not limited to.
[0026]
The tin chloride may be stannous chloride (SnCl 2 ), stannic chloride (SnCl 4 ), or a mixture thereof, and may be an anhydride or a hydrate.
[0027]
Further, the metal alkoxide is preferably tetraethoxysilane, triisopropoxyaluminum or a mixture thereof.
[0028]
The gas barrier coating layer (13, 13 ', 23, 33) is formed by using a conventionally known means such as a dipping method, a roll coating method, a screen printing method, or a spray method. The film thickness after drying may be 0.01 μm or more, but if the thickness exceeds 50 μm, cracks are likely to occur in the film, so the range of 0.01 to 50 μm is preferable.
[0029]
The aluminum vapor-deposited thin film layers (14, 14 ', 34) are very thin with a thickness of 2 to 15 nm, so that they have good transparency and good electrostatic shielding properties.
[0030]
The adhesive layers (51) and (52) are a two-component type in which two components of a main component having a hydroxyl group and a curing agent having an isocyanate group are mixed in the same manner as that used in general packaging materials. Alternatively, it is formed by a known coating method such as a gravure coating method or a roll coating method using a one-component adhesive that uses an isocyanate group alone, or an anchor coating agent such as polyethyleneimine or organic titanate. . The coating amount is preferably 0.5 to 5 g / m 2 (dry state).
[0031]
When using an anchor coating agent, a low density polyethylene resin layer may be provided on the surface to which the anchor coating agent is applied in order to further strengthen the adhesive force.
[0032]
The sealant layer (40) is usually formed using a polyolefin resin. Examples of polyolefin resins to be used include ethylene resins such as low density polyethylene resins, linear low density polyethylene resins, medium density polyethylene resins, high density polyethylene resins, ethylene / α-olefin copolymer resins, and homopolymers. Selection of polypropylene resins such as polypropylene resins, propylene / ethylene random copolymers, propylene / ethylene block copolymers, propylene / α-olefin copolymers, and graft polymerization of these olefin resins is possible. It is also possible to use a modified polyolefin resin that has been acid-modified by such means. The above-mentioned polyolefin resin may be a single substance or a blend of two or more kinds. The thickness is appropriately selected.
[0033]
In the case of imparting antistatic properties to the sealant layer (40), a mixed resin obtained by adding 500 to 3000 ppm of an antistatic agent to the polyolefin resin described above and kneading is used. Antistatic agents include cationic systems such as quaternary ammonium salts, nonionic systems such as fatty acid polyhydric alcohol esters and polyoxyethylene adducts, amphoteric systems such as betaine salts and alanine salts, phosphate salts, sulfonates, etc. These anionic surfactants are used alone or in combination. It is preferable that the surface resistivity of the sealant layer (40) is 10 11 Ω / □ or less using these mixed resins. The thickness is appropriately selected.
[0034]
The antistatic coat layer (60) is formed by applying and drying a quaternary ammonium salt surfactant solution, a fatty acid polyhydric alcohol ester surfactant solution or a polyester oligomer solution. The coating amount is preferably 0.01 to 0.05 g / m 2 (dry state), and the surface resistivity is preferably 10 11 Ω / □ or less.
[0035]
【Example】
The laminated packaging material of the present invention will be described with specific examples, but the present invention is not limited to these examples.
[0036]
<Adjustment of coating solution for gas barrier coating layer>
89.6 g of 0.1N hydrochloric acid was added to 10.4 g of tetraethoxysilane, and the mixture was stirred for 30 minutes and hydrolyzed to obtain a solid content solution of 3 wt% (in terms of SiO 2 ) and a
[0037]
<Example 1>
Using a vacuum film-forming device on one side of a biaxially stretched polyester film (PET film) having a thickness of 12 μm, a silicon oxide vapor-deposited thin film layer having a thickness of 50 nm is laminated to form a laminated film having a two-layer structure, Barrier property of a three-layer structure is formed by coating the above-described coating solution on the surface of a silicon oxide vapor-deposited thin film layer of a two-layer structure using a gravure coater and laminating a gas barrier coating layer having a thickness of 0.5 μm. A laminated film B was prepared. Subsequently, a silicon oxide vapor-deposited thin film layer having a thickness of 50 nm is laminated on one side of a 12 μm-thick biaxially stretched polyester film (PET film) using a vacuum film forming apparatus to form a laminated film having a two-layer structure. Then, the above-mentioned coating solution is coated on the silicon oxide vapor-deposited thin film layer surface of the two-layered laminated film using a gravure coater, and a gas barrier coating layer having a thickness of 0.5 μm is laminated. A laminated film was prepared, and an aluminum vapor-deposited thin film layer having a thickness of 7 nm was laminated on the gas barrier coating layer surface of the three-layer laminated film by using a vacuum film-forming apparatus, thereby forming a four-layer barrier laminated film A It was created.
[0038]
Next, using a dry laminating machine, the PET film of the barrier laminate film A is applied to the surface of the gas barrier coat layer of the barrier laminate film B thus prepared via a polyurethane adhesive having a coating amount of 5 g / m 2 (dry state). The surface side was laminated | stacked and the laminated film of barriering laminated film B / adhesive layer / barrier laminated film A structure was created. Further, a linear low-density polyethylene film having a thickness of 60 μm is laminated on the surface of the laminated film on the aluminum vapor-deposited thin film layer via a polyurethane adhesive having a coating amount of 5 g / m 2 (dry state), and the laminated packaging of the present invention. Made the material.
[0039]
<Example 2>
Using a vacuum film-forming device on one side of a biaxially stretched polyester film (PET film) having a thickness of 12 μm, a silicon oxide vapor-deposited thin film layer having a thickness of 50 nm is laminated to form a laminated film having a two-layer structure, The above-mentioned coating solution is coated on the surface of the silicon oxide vapor-deposited thin film layer of the two-layer structure using a gravure coater, and a gas barrier coating layer having a thickness of 0.5 μm is laminated to form a three-layer structure film. A four-layer barrier laminated film A is prepared by laminating a 7 nm thick aluminum vapor deposited thin film layer on the gas barrier coating layer surface of the three-layer laminated film using a vacuum film forming apparatus. did.
[0040]
Next, using the same material and apparatus as described above, a barrier laminate film A ′ having a four-layer structure having the same structure was prepared.
[0041]
Next, using a dry laminating machine, another barrier laminate film A is applied to the surface of the aluminum deposited thin film layer of the prepared barrier laminate film A ′ via a polyurethane adhesive having a coating amount of 5 g / m 2 (dry state). The film side of the PET film is laminated to prepare a laminated film of the constitution of barrier laminated film A ′ / adhesive layer / barrier laminated film A, and the coating amount is 5 g / m 2 (dried state) on the aluminum deposited thin film layer surface of the laminated film. The linear low density polyethylene film having a thickness of 60 μm was laminated through the polyurethane-based adhesive, and the laminated packaging material of the present invention was produced.
[0042]
<Example 3>
Using a vacuum film-forming device on one side of a biaxially stretched polyester film (PET film) having a thickness of 12 μm, a silicon oxide vapor-deposited thin film layer having a thickness of 50 nm is laminated to form a laminated film having a two-layer structure, Barrier property of a three-layer structure is formed by coating the above-described coating solution on the surface of a silicon oxide vapor-deposited thin film layer of a two-layer structure using a gravure coater and laminating a gas barrier coating layer having a thickness of 0.5 μm. A laminated film B was prepared. Subsequently, a silicon oxide vapor-deposited thin film layer having a thickness of 50 nm is laminated on one side of a 12 μm-thick biaxially stretched polyester film (PET film) using a vacuum film forming apparatus to form a laminated film having a two-layer structure. Then, the above-mentioned coating solution is coated on the silicon oxide vapor-deposited thin film layer surface of the two-layered laminated film using a gravure coater, and a gas barrier coating layer having a thickness of 0.5 μm is laminated. A laminated film was prepared, and an aluminum vapor-deposited thin film layer having a thickness of 7 nm was laminated on the gas barrier coating layer surface of the three-layer laminated film by using a vacuum film-forming apparatus, thereby forming a four-layer barrier laminated film A It was created.
[0043]
Next, using a dry laminating machine, the PET film of the barrier laminate film A is applied to the surface of the gas barrier coat layer of the barrier laminate film B thus prepared via a polyurethane adhesive having a coating amount of 5 g / m 2 (dry state). The surface side was laminated | stacked and the laminated film of barriering laminated film B / adhesive layer / barrier laminated film A structure was created. Furthermore, a coating amount of 0.01 g / m 2 (dried) is applied to the outer surface of the barrier laminate film B of the laminate film, and the aluminum deposited thin film of the other barrier laminate film A is applied. A layered packaging material of the present invention is laminated on a layer surface by laminating a 60 μm-thick low-density polyethylene film to which 300 ppm of a quaternary ammonium salt-based surfactant is added via a polyurethane adhesive having a coating amount of 5 g / m 2 (dry state). Created.
[0044]
<Comparative example 1>
Using a vacuum film-forming device on one side of a biaxially stretched polyester film (PET film) having a thickness of 12 μm, a silicon oxide vapor-deposited thin film layer having a thickness of 50 nm is laminated to form a laminated film having a two-layer structure, The above-mentioned coating solution is coated on the surface of the silicon oxide vapor-deposited thin film layer of the two-layer structure using a gravure coater, and a gas barrier coating layer having a thickness of 0.5 μm is laminated to form a three-layer structure film. Using a vacuum film forming apparatus, an aluminum vapor-deposited thin film layer having a thickness of 7 nm is laminated on the gas barrier coating layer surface of the three-layer laminated film to prepare a four-layer barrier laminated film. Subsequently, using a dry laminating machine, a polyurethane adhesive having a coating amount of 5 g / m 2 (dried state) on the aluminum vapor deposited thin film layer surface of the four-layered barrier laminate film. A linear low-density polyethylene film having a thickness of 60 μm was laminated through a laminate packaging material for comparison.
[0045]
<Evaluation>
Using the laminated packaging materials of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, the moisture permeability of the laminated packaging material was measured by the following measuring method and the electrostatic shielding property was evaluated. The results are shown in Table 1.
(1) Water vapor permeability The water vapor permeability was measured in an atmosphere of 40 ° C and 90% RH using a water vapor permeability measuring device (Mocon Permatran W6) manufactured by Modern Control.
[0046]
[Table 1]
From the results in Table 1, the laminated packaging materials of Examples 1 to 3 have a water vapor permeability smaller than 0.1 g / m 2 · 24 h, an excellent water vapor barrier property, and an excellent electrostatic shielding property. is there. On the other hand, the laminated packaging material of Comparative Example 1 has a high water vapor permeability.
[0048]
【The invention's effect】
The laminated packaging material of the present invention comprises at least a metal oxide vapor-deposited thin film layer made of aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide or a mixture thereof on one side of a polymer film layer, and a gas barrier coating mainly composed of a water-soluble polymer. A barrier laminate film in which layers are laminated, a metal oxide vapor-deposited thin film layer made of aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide or a mixture thereof on one side of the polymer film layer, and a gas barrier coating mainly composed of a water-soluble polymer A metal oxide made of aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof, on which a barrier laminated film in which an aluminum vapor-deposited thin film layer having a thickness of 2 to 15 nm is laminated is laminated. Vapor-deposited thin film layer, gas barrier coating layer mainly composed of water-soluble polymer, 2-15 nm thick Since the barrier laminated film with the laminated ruminium thin film layer and the barrier laminated film with the same configuration are laminated, it has excellent electrostatic shielding properties and excellent gas barrier properties, particularly high water vapor barrier properties. ing. Furthermore, an excellent antistatic property on the surface can be obtained by laminating an antistatic coating layer on the outermost surface or imparting an antistatic property to the sealant layer. Therefore, it is most suitable for packaging of articles that are easily damaged by static electricity and corroded by water vapor and oxygen, such as electronic parts such as IC and LSI.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1A is a side sectional view of a laminated packaging material according to an embodiment of the present invention, FIG. 1B is a sectional side view of a laminated packaging material according to another embodiment, and FIG. It is a sectional side view of the laminated packaging material of the Example of this, (d) is a sectional side view of the laminated packaging material of another Example.
2A is a side sectional view of a laminated packaging material of still another embodiment of the present invention, FIG. 2B is a side sectional view of a laminated packaging material of still another embodiment, and FIG. Is a side sectional view of a laminated packaging material of still another embodiment, and (d) is a sectional side view of a laminated packaging material of still another embodiment.
[Explanation of symbols]
10 ... Barrier laminated film A
10 '... Barrier laminated film A'
20 ... Barrier laminated film B
30 ... Barrier laminated film C
11, 11 ', 21, 31 ... polymer film layers 12, 12', 22, 32 ... metal oxide deposition thin film layers 13, 13 ', 23, 33 ... gas barrier coating layers 14, 14', 34 ... thickness 2-15 nm aluminum vapor-deposited
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