JP4175153B2 - 圧力センサ - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体基板からなるダイヤフラムの変位に応じて印加圧力を検出する圧力センサに関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体圧力センサでは、圧力媒体の圧力をシリコンダイヤフラムでそのまま受け、シリコンダイヤフラムに形成されたピエゾ抵抗素子のピエゾ効果により圧力を電気信号として取出している。この際、圧力媒体の測定圧力に応じ、シリコンダイヤフラムの受圧部の面積、厚みを適宜変えるようにしている(特許文献1参照)
【特許文献1】
特開平6−45618号公報
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、印加圧力が微小圧力となると、ダイヤフラムの厚みを薄くする必要があるが、図2に示すようにダイヤフラムの厚みが薄くなると、厚みのばらつきによるセンサ感度のばらつきが非常に大きくなり、誤差が大きくなるという問題がある。
【0004】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ダイヤフラムの厚みを薄くすることなく、微小圧力を検出することができる圧力センサを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明によれば、増圧手段は、印加圧力を増大させた状態でダイヤフラムに作用させるので、微小圧力を検出するために半導体基板からなるダイヤフラムの厚みを薄くする必要がなくなり、従来のものを使用しながら、微小圧力を確実に検出することができる。
【0006】
また、ピストンの組合わせにより印加圧力を増大することができるので、簡単な構成で実施することができる。
【0007】
さらに、第1のピストンにも印加圧力が作用するので、第1のピストンも有効利用することができる。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態を図1に基づいて説明する。
図1は、圧力センサの断面を示している。この図1において、圧力センサ1は、増圧手段2とセンサチップ素子3とを組合せて構成されている。
増圧手段2は、シリンダーブロック4にピストン体5を内蔵して構成されている。シリンダーブロック4において圧力媒体からの圧力を受ける部位には第1の受圧口6及び第2の受圧口7が形成されている。シリンダーブロック4内には第1の駆動室8及び第2の駆動室9が形成されており、第1の受圧口6が第1の駆動室8に連通し、第2の受圧口7が第2の駆動室9に連通している。
【0009】
ピストン体5は、第1のピストン10と第2のピストン11とを連結部12で連結してなり、第1のピストン10の圧力作用面側に第1の駆動室8が位置し、第2のピストン11の圧力作用面側に第2の駆動室9が位置している。この場合、第1のピストン10と第2のピストン11とは圧力媒体による圧力作用方向に連結してなり、圧力媒体の圧力が各ピストン10,11に対して同一方向に作用するようになっている。
【0010】
第1のピストン10の裏面側は増圧室13に設定されており、その増圧室13が第3の受圧口14を介してセンサチップ素子3に連通している。増圧室13及び第3の受圧口14には圧力伝達媒体15が封止されており、第1のピストン10が圧力作用方向に変位することにより増圧室13の容積が変化して圧力伝達媒体15の圧力が変化する。
【0011】
ここで、第1のピストン10に作用する力は、第1のピストン10の圧力作用面に作用する圧力媒体による圧力と第2のピストン11の圧力作用面に作用する圧力媒体による圧力の和である。この場合、第1のピストン10に作用する圧力媒体による圧力は、そのまま圧力伝達媒体15に伝達される。これに対して、第2のピストン11の径は第1のピストン10の径の2倍に設定されており、第2のピストン11に作用する圧力媒体による圧力は圧力伝達媒体15に4倍に増大されて伝達される。
【0012】
尚、第2のピストン11の裏面側は貫通孔16を通じて大気圧となっている。
【0013】
センサチップ素子3は、ガラス台座17にシリコンダイヤフラム18を陽極接合してなり、ガラス台座17に形成された導入孔19を通じて圧力伝達媒体15の圧力がシリコンダイヤフラム18に作用するようになっている。シリコンダイヤフラム18にはピエゾ抵抗素子(検出素子に相当)が形成されており、シリコンダイヤフラム18の変位に応じてピエゾ抵抗素子の抵抗が変化することによりシリコンダイヤフラム18に作用する圧力を検出することができる。
【0014】
センサチップ素子3からの検出信号は回路基板20により処理され、コネクタ21を介して外部に出力される。
そして、センサチップ素子3及び回路基板20は保護カバー22で保護されている。
【0015】
次に上記構成の作用について説明する。
圧力媒体により圧力が圧力センサ1に印加すると、第1のピストン10及び第2のピストン11の圧力作用面に対して圧力媒体の圧力が同時に作用する。これにより、増圧室13には、第1のピストン10に作用する圧力媒体からの圧力と第2のピストン11に作用する圧力媒体からの圧力の和が印加される。この場合、第1のピストン10を押す力は、ピストン径をd1とすると、W1=P・π・d1/4である。また、第2のピストン11を押す力は、ピストン径をd2とすると、W2=P・π・d2/4である。従って、増圧室13の圧力は、Pz=(W1+W2)/π・d1/4となる。
【0016】
ここで、d2=2d1であるから、Pz=5Pとなり、圧力媒体の圧力を5倍に増幅した状態で圧力伝達媒体15を介してシリコンダイヤフラム18に作用させることができる。このことは、例えば測定レンジ100mmH20を500mmH20に増幅できることを意味しており、センサチップ素子3として従来のスペックのものを用いることができる。
【0017】
このような実施の形態によれば、圧力媒体の圧力を増圧手段2により増大させた状態でセンサチップ素子3に与えるようにしたので、センサチップ素子3のシリコンダイヤフラム18の厚みを薄くすることなく圧力媒体の圧力を検出することができる。従って、シリコンダイヤフラムの厚みを薄くすることにより、厚みのばらつきの影響を受け易くなってしまう従来例のものと違って、シリコンダイヤフラム18の厚みのばらつきの影響を受けてしまうことを防止できるので、圧力媒体の微小圧力を確実に検出することができる。
【0018】
しかも、増圧手段2としてピストンを利用するようにしたので、簡単に実施することができる。
また、第1のピストン10にも圧力媒体の圧力が作用するようにしたので、第2のピストン11のみに圧力媒体の圧力を作用する構成に比較して、圧力を一層増大することができる。
【0019】
本発明は、上記実施の形態に限定されることなく、次のように変形または拡張できる。
第2のピストン11の径を第1のピストン10の径の5倍以上に設定するようにしてもよい。
第2のピストン11を複数設け、第2のピストン11による圧力増大機能をさらに高めるようにしてもよい。
増圧手段2を複数連結し、センサチップ素子3に与える圧力を多段階的に増大するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施の形態における圧力センサの断面を示す概略図
【図2】 従来例におけるダイヤフラム厚みと誤差との関係を示す図
【符号の説明】
1は圧力センサ、2は増圧手段、3はセンサチップ素子、10は第1のピストン、11は第2のピストン、15は圧力伝達媒体、18はシリコンダイヤフラムである。

Claims (1)

  1. シリンダーブロックと、
    このシリンダーブロックにおいて裏面側に増圧室を形成するように設けられ、印加圧力が表面側の圧力作用面に作用する第1のピストンと、
    前記第1のピストンと連結され、印加圧力に応じて前記第1のピストンを圧力作用方向に変位するように前記第1のピストンの圧力作用面よりも大なる圧力作用面を有する第2のピストンと、
    前記シリンダーブロックに固定され、前記増圧室と連通する導入孔を有した台座と、
    この台座に前記導入孔を閉鎖するように接合され、印加応力に応じて変位する半導体基板からなるダイヤフラムと、
    このダイヤフラムの変位を検出する検出素子と、
    前記増圧室に封止され、前記第1のピストンの圧力作用方向への変位に応じて前記台座の前記導入孔を通じて前記ダイヤフラムに圧力を作用させる圧力伝達媒体とを備えたことを特徴とする圧力センサ。
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