JP4171371B2 - Double-sided groove processing method for thin plate - Google Patents
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Description
本発明は光スイッチに使用される光ファイバアレイのV溝基板を含む、薄板材の両面溝加工方法に関する。 The present invention relates to a double-sided groove processing method for a thin plate material including a V-groove substrate of an optical fiber array used in an optical switch.
従来の光スイッチに使用される光ファイバアレイのV溝基板としては、例えば特許文献1の図2に開示する片面溝を有するようなものが多いが、図1に示すように両面溝を有する光ファイバアレイのV溝基板 1、2を重ねて使用し、両面溝 3a,3b間の空間5を各光ファイバ収容溝とするものがある。この場合両面V溝 3a,3b間の中心線4が重ねた基板 1、2で整合する必要がある。一般に従来のかかる両面溝を有する光ファイバアレイのV溝加工方法としては、例えば図4に示すように、まず(a)のワーク10の表面をその端面エッジ 11aを基準にして多数の表V溝3aを研削加工し、その後でワーク10を裏返しして(b)のワーク10の裏面をその端面エッジ 11bを基準にして多数の裏V溝3bを研削加工していた。光ファイバアレイのV溝基板ワーク10の形状は例えば30mm〜 150mm角で、厚みが 1mm程度で材質はシリコン又はガラスが多い。
しかしながら従来の図4に示すような両面溝を有する光ファイバアレイのV溝加工方法では、ワーク10の表面と裏面を、表面端面エッジ 11aと裏面端面エッジ 11bを基準にして多数の表V溝3a、裏V溝3bを研削加工していたので、(b)のワーク10の裏面端面エッジ 11bに(c)で拡大図で示すような、エッジの欠け12があると(表面端面エッジ 11aにあっても同じ)、ワーク10の表面と裏面とで、ワーク端面から表V溝3a、裏V溝3bに対する所定の距離の加工位置 da,dbがずれ、画像処理装置のエッジの認識不良となる。
However, in the conventional V-groove processing method for an optical fiber array having double-sided grooves as shown in FIG. 4, the front and back surfaces of the
本発明の課題は、両面溝を有する光ファイバアレイのV溝加工方法において、ワークの表面と裏面とで、各表V溝、裏V溝に対するワーク加工基準位置を共通化して、ワーク加工基準位置から各表V溝、裏V溝までの両者の所定の距離の加工位置がずれることがなく、画像処理装置のエッジの認識不良が起きない、光ファイバアレイのV溝基板を含む薄板材の両面溝加工方法を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a workpiece machining reference position for a front V-groove and a back V-groove in common on the front and back surfaces of the workpiece in a method of machining an optical fiber array having a double-sided groove. Both sides of the thin plate material including the V-groove substrate of the optical fiber array, in which the processing positions of a predetermined distance from the front V-groove to the front V-groove are not shifted, and the edge recognition failure of the image processing apparatus does not occur. It is to provide a groove processing method.
このため本発明は、両面溝を有する光ファイバアレイのV溝加工方法において、垂直面に吸着チャック面を有するブロック治具で、垂直に直立状態で吸着した光ファイバアレイのV溝基板を含む薄板材のワークを、V溝加工研削砥石でワーク上面に垂直面に直交する2箇所のワーク加工基準位置用V溝を加工し、別の光ファイバアレイのV溝加工平面研削盤上にセットし、前記ワークの表面を前記2箇所のワーク加工基準位置用V溝の各下端位置をワーク加工基準位置として画像処理装置に認識させ、画像処理装置が認識した前記2箇所の下端位置をワーク加工基準位置として多数の表V溝を研削加工し、その後でワークを裏返しして、ワーク10裏面の同じ前記2箇所のワーク加工基準位置用V溝の下端位置をワーク加工基準位置として画像処理装置に認識させ、画像処理装置が認識した前記下端位置をワーク加工基準位置として多数の裏V溝を研削加工し、その後で、前記2箇所のワーク加工基準位置用V溝の下端位置までを切り捨てるようにしたことを特徴とする光ファイバアレイのV溝基板を含む薄板材の両面溝加工方法を提供することによって上記した従来方法の課題を解決した。
For this reason, the present invention provides a V-groove processing method for an optical fiber array having a double-sided groove, which is a block jig having a suction chuck surface on a vertical surface and includes a V-groove substrate of an optical fiber array sucked in a vertically upright state. A workpiece of a plate material is machined with two V-grooves for a workpiece machining reference position perpendicular to the vertical surface on the upper surface of the workpiece with a V-groove grinding wheel, and set on a V-grooving surface grinder of another optical fiber array, The image processing apparatus is made to recognize the lower end positions of the two workpiece machining reference position V-grooves as the workpiece machining reference positions on the surface of the workpiece, and the two lower end positions recognized by the image processing apparatus are set as the workpiece machining reference positions. After grinding a number of front V-grooves, the workpiece is turned upside down, and the lower end position of the same two workpiece machining reference position V-grooves on the back of the
かかる構成により、本発明の両面溝加工方法によると、垂直に直立状態で吸着した光ファイバアレイのV溝基板を含む薄板材のワークを、V溝加工研削砥石でワーク上面に垂直面に直交する2箇所のワーク加工基準位置用V溝を加工したので、V溝の欠けがなく、ワークの表面と裏面共に、加工した各ワーク加工基準位置用V溝の下端位置をワーク加工基準位置として画像処理装置に認識・アラインメントさせ、共通の前記下端位置のワーク加工基準位置から各表V溝、裏V溝までの両者の所定の距離の加工位置 da,dbがワークの表面と裏面とでずれることがなく、画像処理装置のエッジの認識不良が起きない、光ファイバアレイのV溝基板を含む薄板材の両面溝加工方法を提供するものとなった。
本発明の両面溝加工方法は、各ワーク加工基準位置用V溝の下端位置を薄板材の表面と裏面とで加工基準位置の相互差を小さくできる加工方法となった。垂直面に吸着チャック面を有するブロック治具のワーク吸着チャック面の直角度の影響による表面と裏面との加工基準位置の相互差は、ワーク厚さhとワーク幅Lとの比h/Lに低減されるため、殆ど0にすることができる。例えば、ワーク吸着チャック面の直角度が2μm、ワーク幅Lが50mm、ワーク厚さhが 2mmであれば、表面と裏面との加工基準位置の相互差は、0.08μmとなる(2μm×〔 2mm/50mm〕=0.08μm)。
With this configuration, according to the double-sided groove processing method of the present invention, a thin plate workpiece including a V-groove substrate of an optical fiber array adsorbed in a vertically upright state is perpendicular to the upper surface of the workpiece with a V-groove grinding wheel. Since the two V-grooves for workpiece machining reference position are machined, there is no chipping of the V-groove, and both the front and back surfaces of the workpiece are subjected to image processing with the lower end position of each machined workpiece machining reference position V-groove as the workpiece machining reference position. The machine recognizes and aligns the machining positions da and db at a predetermined distance from the common workpiece machining reference position at the lower end position to each front V-groove and back V-groove. Therefore, the present invention provides a double-sided groove processing method for a thin plate material including a V-groove substrate of an optical fiber array, in which an edge recognition failure of an image processing apparatus does not occur.
The double-sided groove processing method of the present invention has become a processing method in which the lower end position of each workpiece processing reference position V-groove can reduce the difference in processing reference position between the front and back surfaces of the thin plate material. The difference between the processing reference positions of the front and back surfaces due to the perpendicularity of the workpiece chucking chuck surface of the block jig having the chucking chuck surface on the vertical surface is the ratio h / L between the workpiece thickness h and the workpiece width L. Since it is reduced, it can be almost zero. For example, if the perpendicularity of the workpiece chucking chuck surface is 2 μm, the workpiece width L is 50 mm, and the workpiece thickness h is 2 mm, the difference in processing reference position between the front and back surfaces is 0.08 μm (2 μm × [2 mm / 50 mm] = 0.08 μm).
本発明を実施するための最良の形態の一例を図1〜図3を参照して説明する。図1は本発明の薄板材の両面溝加工方法により加工される完成製品例を示す一部拡大側面図で、両面溝を有する基板 1、2を重ねて使用し、両面溝 3a,3b間の空間5を各光ファイバ収容溝とするものである。図2(a)は本発明を実施するための最良の形態の一例である、図1に示すような、両面溝を有する基板 1、2を重ねて使用し、両面溝 3a,3b間の空間5を各光ファイバ収容溝とする光ファイバアレイのV溝加工方法示す概略側面ブロック図、(b)は(a)のB矢視左側面ブロック図で、加工後の2箇所のワーク加工基準位置用V溝8を図示する。図3(a)は図示しない真空吸着面を上面に設けた別の光ファイバアレイのV溝加工平面研削盤上に吸着支持された図2(b)の加工後の2箇所のワーク加工基準位置用V溝8を有するワーク10の表面を示し、(b)はその後でワークを裏返されてV溝加工平面研削盤上に吸着支持されたワーク10の裏面を示す。
An example of the best mode for carrying out the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a partially enlarged side view showing an example of a finished product processed by the double-sided groove processing method for a thin plate material according to the present invention. The
図2(a)に示すように、本発明を実施するための最良の形態の一例の両面溝を有する光ファイバアレイのV溝加工方法は、垂直面に吸着チャック面6を有するブロック治具7で、垂直に直立状態で吸着した光ファイバアレイのV溝基板を含む薄板材のワーク10を、V溝加工研削砥石13でワーク上面14に垂直面に直交する2箇所のワーク加工基準位置用V溝8を加工し、図2(b)に示すように、2箇所のワーク加工基準位置用V溝8の下端位置9をワーク加工基準位置とするものである。
As shown in FIG. 2 (a), a V-groove processing method for an optical fiber array having double-sided grooves, which is an example of the best mode for carrying out the present invention, is a
図3(a)に示すように、図1に示すような、両面溝を有する基板 1、2を重ねて使用し、両面溝 3a,3b間の空間5を各光ファイバ収容溝とする薄板材を、図2(b)の2箇所のワーク加工基準位置用V溝8を加工した薄板材のワーク10の表面を、別の光ファイバアレイのV溝加工平面研削盤上にセットし、ワーク10のの表面の2箇所のワーク加工基準位置用V溝8の下端位置9をワーク加工基準位置として図示しない画像処理装置に認識させ、画像処理装置が認識した前記2箇所の下端位置9をワーク加工基準位置とし、2箇所の下端位置9から各表V溝までの所定の距離の加工位置daで、多数の表V溝3aを研削加工する。その後で図3(b)に示すように、ワーク10を裏返しして、ワーク10の裏面の同じ2箇所のワーク加工基準位置用V溝8の下端位置9をワーク加工基準位置として画像処理装置に認識させ、画像処理装置が認識した前記下端位置9をワーク加工基準位置として2箇所の下端位置9から各表V溝までの所定の距離の加工位置dbで、多数の裏V溝3bを研削加工する。その後で、2箇所のワーク加工基準位置用V溝8の下端位置9までを切り捨てるようにした。
As shown in FIG. 3 (a) , a thin plate material in which
以上述べたように、本発明の最良の実施形態の図1に示すような、両面溝を有する基板 1、2を重ねて使用し、両面溝 3a,3b間の空間5を各光ファイバ収容溝とする薄板材の両面溝加工方法によると、垂直に直立状態で吸着した光ファイバアレイのV溝基板を含む薄板材のワークを、V溝加工研削砥石でワーク上面に垂直面に直交する2箇所のワーク加工基準位置用V溝8を加工したので、V溝の欠けがなく、ワークの表面と裏面共に、加工した各ワーク加工基準位置用V溝8の下端位置9をワーク加工基準位置として画像処理装置に認識・アラインメントさせ、共通の前記下端位置9のワーク加工基準位置から各表V溝、裏V溝までの両者の所定の距離の加工位置 da,dbがワーク10の表面と裏面とでずれることがなく、画像処理装置のエッジの認識不良が起きない、光ファイバアレイのV溝基板を含む薄板材の両面溝加工方法を提供するものとなった。
As described above, as shown in Figure 1 of the best embodiment of the present invention, using
1、2 完成製品例の両面溝を有する基板
3a 表V溝 3b裏V溝
6 吸着チャック面
7 垂直面に吸着チャック面を有するブロック治具
8 2箇所のワーク加工基準位置用V溝
9 2箇所のワーク加工基準位置用V溝の下端位置
10 ワーク
13 V溝加工研削砥石
14 ワーク上面
da ワーク加工基準位置から表V溝までの所定の距離の加工位置
db ワーク加工基準位置から裏V溝までの所定の距離の加工位置
1, 2 Substrate with double-sided grooves in finished product example
3a Front V-
10 work
13 V-grooving grinding wheel
14 Work surface
da Machining position at a predetermined distance from workpiece machining reference position to Table V groove
db Machining position at a predetermined distance from the workpiece machining reference position to the back V-groove
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