JP4167307B2 - 高純度塩酸の製造装置及び製造方法 - Google Patents
高純度塩酸の製造装置及び製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4167307B2 JP4167307B2 JP33945697A JP33945697A JP4167307B2 JP 4167307 B2 JP4167307 B2 JP 4167307B2 JP 33945697 A JP33945697 A JP 33945697A JP 33945697 A JP33945697 A JP 33945697A JP 4167307 B2 JP4167307 B2 JP 4167307B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrochloric acid
- supply pipe
- gas supply
- hydrogen chloride
- absorption container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、不純物濃度の極めて低い高純度塩酸を工業的に製造するに適した塩酸の製造装置及びそれを用いた塩酸の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、純度の高い塩酸は例えば図4に示すように、塩化水素ガス生成装置61において合成塩酸法や副生塩酸法等により塩化水素ガスを生成し、これをガス供給管62を介して吸収容器63に送り、この容器63内で超純水に吸収させることにより工業的に製造されている。前記ガス供給管62は、吸収容器63の上流側近傍までは例えば塩化ビニル樹脂により構成されているが、かかる材質は水分を含まない塩化水素には冒されないが、水を含んだ塩酸には冒され、鉄、銅、亜鉛、ニッケル、ナトリウム、カルシウム、カリウムなどの不純物を溶出させてしまうので、吸収容器63の内壁、ガス供給管の該容器内に挿入されている部分及び吸収容器の下流側の製品取出管の材質は、耐酸材料、例えばフッ素樹脂等で構成されている。これによって不純物の溶出はある程度抑えられるが、かかる構成では高純度の塩酸を製造するためにはなお十分ではなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで近年、塩酸を使用した製品の歩留まりの向上という観点から不純物濃度が1ppb以下の高純度塩酸が要求される傾向にあるが、従来の方法では塩酸の不純物濃度はせいぜい5ppb以下程度にできるにすぎず、1ppb以下に除去することは困難であった。しかも不純物濃度が1ppb以下の塩酸を工業的に製造しようとすると品質のよいときだけ製品を得ることになり、生成した塩酸の検査頻度が増し、作業が煩雑になってしまうため、大量の高純度塩酸を安定して得ることは困難であるという問題があった。
従って、本発明の課題は、簡易な構成で不純物濃度の極めて低い高純度の塩酸を大量に効率よく得ることのできる塩酸の製造装置及び製造方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
このような課題を解決すべく本発明者らが鋭意研究を重ねる中で、従来の塩酸製造工程においては、装置停止時等に吸収容器にて合成された塩酸が配管内を塩化水素の流れ方向と逆の方向への移動することにより、または吸収容器内の超純水や合成された塩酸の蒸気がガス供給管内に飛散してガス供給管内で塩酸が生成されることにより、ガス供給管内部での不純物の溶出を抑えることができず、その結果として生成された塩酸は不純物濃度が高いものとなってしまうという現象を究明した。
【0005】
そこで本発明者らは、従来の塩酸製造工程において合成された塩酸の逆流や、塩酸蒸気及び超純水の飛散という現象(以下、「バックマイグレーション」ということがある)によってガス供給管内壁から不純物が溶出するという新たな知見に基づき研究を続けた結果、これに対処できる高純度の塩酸を製造する技術を完成するに至った。
即ち、本発明は、塩化水素ガス発生装置から塩化水素ガスをガス供給管を通して吸収容器内に供給し、吸収容器内の水に吸収させて塩酸を製造する装置において、前記ガス供給管内を、少なくとも合成された塩酸、該塩酸の蒸気又は吸収容器内の水の逆流又は飛散するところまでは、その内壁が塩酸により不純物を溶出しない材料でなることを特徴とするものである。
要すれば、本発明は吸収容器及びその下流側の製品取出管の内壁のみならず、ガス供給管のうち、一定の範囲の内壁をも塩酸により不純物を溶出しない材料で構成することにより、前記の問題を解決し、高純度の塩酸製造を可能とするものである。
ここでガス供給管はいかなる形態にも設計できるが、吸収容器から一定の高さ垂直に延びる部分を設けることがバックマイグレーションの防止に好ましい。そうすることにより、吸収容器内の塩酸等がこのガス供給管内を逆流しようとしても重力に逆らって進まなければならないため逆流しにくくなるためである。いずれにしても、ガス供給管の内壁は少なくともバックマイグレーションが起こる付近まではフッ素樹脂等の塩酸により不純物を溶出しない材料で構成される。
なお、前記材料は、塩酸により不純物を溶出しない材料であればいかなるものでもよいが、一例としてフッ素樹脂のような耐酸材料が挙げられる。
【0006】
本発明の好適態様では、ガス供給管のいずれかの位置に、合成された塩酸、その蒸気又は吸収容器の水の逆流や飛散を防止し、それ以上、上流側へのバックマイグレーションを阻止する機能を有する縁切りが設けられる。これによりバックマイグレーションが阻止されるほか、ガス供給管上流からの塩化水素ガスが濾過、精製され、不純物を除去できることにもなる。
このような縁切りを設ける場合には、縁切りから吸収容器内に至るガス供給管の内壁のみを、塩酸により不純物を溶出しない材料とすることが経済的である。そうすることにより、塩酸により不純物を溶出しないフッ素樹脂などの高価な材料を使用する距離を短縮することができるからである。
また、該縁切りはガス供給管の如何なる位置に設置してもよいが、吸収容器の上流側近傍に設けることにより高価なフッ素樹脂の必要量を最小限に抑えることができ、さらに経済的である。
【0007】
また、前記縁切りは塩酸により不純物を溶出しない材料で構成されたフィルターであることが好ましい。これによってフィルター自体から不純物が溶出されるのを防止することができる。さらにそのフィルターは疎水性であることが好ましい。それにより、フィルターを逆に通過した水蒸気や塩酸の蒸気により溶出した不純物を含む液状の塩酸がフィルターを通過しにくくなるからである。このような材料としては、フッ素樹脂が挙げられる。
上記構成により、前記バックマイグレーションに関連する不純物の溶出を抑制し、またフィルタが一種の逆止弁の作用をなしてガス供給管上流側への塩酸等の流入を防止し、高純度の塩酸の製造を簡便な手段により実現できる。
【0008】
【発明の実施の形態】
次に本発明の実施の形態について説明するが、本発明がこれに限定されるものでないことはいうまでもない。図1は本発明の高純度塩酸の製造装置の実施の一形態を示す構成図である。図中1は液化塩化水素を貯留するための液化塩化水素貯槽である。この液化塩化水素貯槽1の下流側には、例えば塩化ビニル樹脂製のガス供給管20を介してフィルター2を設けることができる。
【0009】
前記フィルター2は塩酸により浸食されて不純物が溶出しない材料例えばポリテトラフルオロエチレン(テフロン)等のフッ素樹脂により構成することが好ましく、テフロン製のプリーツ構造の膜により形成される。このフィルター2の下流側には、例えばフッ素樹脂製の密閉容器からなる吸収容器3が設けられる。
【0010】
ガス供給管21の先端部は吸収容器3の底部付近まで延びるように設けられている。吸収容器3には、供給管41を介して例えば比抵抗が17.7×106Ωcm以上の超純水を貯留するための超純水貯槽4が接続される。図中32、42はバルブである。
【0011】
次に、このような塩酸の製造装置で実施される塩酸の製造工程について説明する。先ず原料塩化水素ガスを液化装置にて例えば加圧圧縮することにより液化し、次いで液化された塩化水素を液化塩化水素貯槽1に貯留する。液化塩化水素貯槽1内では液化された塩化水素の気化が起こり、気化する塩化水素ガスの量が多くなって容器内の圧力が高くなってくると、塩化水素ガスはガス供給管20を介して通気していく。
塩化水素ガスはフィルター2を通過すると、塩化水素ガス中に粒子状で存在している不純物がフィルター2により除去され、不純物濃度が低くなる。
【0012】
また吸収容器3には、超純水貯槽4から予め所定量の超純水が供給されており、ここにガス供給管21を介して塩化水素ガスが供給されると、該ガスは超純水に吸収され塩酸が製造される。ここで前記超純水は、比抵抗が17.7×106Ωcm以上の純水、特に18×106Ωcm程度であることが望ましく、このような極めて純度が高い超純水に、前記フィルター2による濾過により精製されフッ素樹脂製のガス供給管21を通ってきた塩化水素ガスを吸収させることにより、吸収容器3にて得られる塩酸は不純物濃度が1ppb以下の極めて純度が高いものとなる。
【0013】
ガス供給管20の上流側所定の位置まではその内壁がフッ素樹脂等により構成されているので、仮に吸収容器3で合成された塩酸が逆流したり、吸収容器3中の超純水や合成された塩酸の蒸気が飛散してきたとしても、ガス供給管20が塩酸により浸食されることはない。このためガス供給管20から不純物が溶出して、後からガス供給管20を通過して吸収容器3に通気される塩化水素ガスの不純物濃度が高くなることはない。
【0014】
またガス供給管にフィルターを設けることにより、仮に吸収容器3内の超純水や合成された塩酸がフィルター2の上流側まで逆流したり、超純水等の蒸気が飛散して、フィルター2の上流側のガス供給管20が塩酸により浸蝕され、ガス供給管20から不純物が溶出してきたとしても、生じた不純物はフィルター2により除去されるため、吸収容器3へ通気される塩化水素ガスの不純物濃度が高くなることはない。
【0015】
このように本発明は簡易な構成で高純度塩酸を製造することができるので、高純度塩酸の工業的製造に適したものであり、高純度塩酸を安定して大量に製造することができる。
以上において本発明では、原料ガスとしては合成塩酸法や副生塩酸法によって製造された塩化水素ガスや塩素と水素とを燃焼させて得た塩化水素ガスを用いることができる。また本発明では、原料ガスを一旦液化させずに、直接フィルターを介して吸収容器に通気させるようにしてもよい。
【0016】
【実験例】
本発明の効果を確認するために図2に示す本願発明の装置(装置A)及び図3に示す従来の装置(装置B)を用いて次の比較実験を行った。
実験に用いた装置
装置Aとしては、内径15mm、長さ30mのガス供給管50(斜線部)は塩化ビニル樹脂製であり、フィルター51、ガス供給管52、吸収容器53、余剰ガス排出用配管54及び余剰ガス吸収容器55は全てテフロン製であるものを用いた。フィルター51としては、大きさが130mm×80mmφの、テフロン製のプリーツ構造の膜により形成されているものを用いた。
なお、本実験は、図2又は図3から明らかなとおり、バッチ式で行なうことから、吸収容器53に導入された塩化水素の余剰ガスを排出、吸収するための前記余剰ガス排出用配管54及び余剰ガス吸収容器55が設けられている。
一方、装置Bとしては、ガス供給管50(斜線部)は吸収容器53に接触するところまで塩ビ製であり、かつフィルター51が存在しないこと以外は、装置Aと同様のものを用いた。
【0017】
実験例1
装置A、装置Bそれぞれに対し、吸収容器から超純水が逆流した状態と同様の状態にするために、予め水蒸気を5分間吹き込み、その後下記の不純物を含む塩化水素ガスを、吸収容器55内の塩酸濃度が39%になるまで通気した。次いで、それぞれの塩酸中の不純物濃度を測定した。
鉄 1ppb以下、銅 0.1ppb以下、亜鉛 0.1ppb以下、ニッケル 0.1ppb以下、ナトリウム 0.1ppb以下、カルシウム 0.5ppb以下、アルミニウム 0.1ppb以下、カリウム 0.1ppb以下。
【0018】
実験例2
装置A、装置Bそれぞれに対し、水蒸気を吹き込むことなく、下記の不純物を含む塩化水素ガスを、吸収容器55内の塩酸濃度が39%になるまで通気した。次いで、それぞれの塩酸中の不純物濃度を測定した。
鉄 1ppb以下、銅 1ppb以下、亜鉛 1ppb以下、ニッケル 1ppb以下、ナトリウム 2ppb以下、カルシウム 2ppb以下、アルミニウム 1ppb以下、カリウム 2ppb以下。
【0019】
実験結果
実験例1及び実験例2の結果を表1及び表2にそれぞれ示す。
実験例1の結果からテフロン製のフィルター及び/又はフィルター下流側のテフロン配管の存在により、バックマイグレーションによる純度の低下を防ぎ、合成された塩酸の純度を有意に向上できることが認められる。また、実験例2の結果からは、バックマイグレーションの有無に拘らず、テフロン製フィルターが合成された塩酸の純度を向上せしめるのに有効であることが認められる。
【0020】
【表1】
表1
【0021】
【表2】
表2
【0022】
【発明の効果】
本発明によって、簡易な構成で不純物濃度の極めて低い高純度の塩酸を大量に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高純度塩酸の製造装置の一実施の形態を示す模式図である。
【図2】本発明の効果を確認するために行なった実験例で用いた本願発明の装置(装置A)を示す模式図である。
【図3】本発明の効果を確認するために行なった実験例で用いた従来の装置(装置B)を示す模式図である。
【図4】従来の塩酸の製造装置の一部を示す模式図である。
【符号の説明】
1 液化塩化水素貯槽
2、51 フィルター
3、53、63 吸収容器
4 超純水貯槽
20、21、50、52、62 ガス供給管
31、64 塩酸取り出し用配管
32、42、65 バルブ
41 超純水供給管
54 余剰ガス排出用配管
55 余剰ガス吸収容器
61 塩化水素ガス発生装置
Claims (3)
- 塩化水素ガス発生装置から塩化水素ガスをガス供給管を通して吸収容器内に供給し、吸収容器内の水に吸収させて塩酸を製造する装置において、
前記ガス供給管の内壁が、少なくとも合成された塩酸、該塩酸の蒸気又は吸収容器内の水が逆流又は飛散するところまでは、塩酸により不純物を溶出しない材料でなり、
前記ガス供給管のいずれかの位置に、合成された塩酸、その蒸気又は吸収容器の水の逆流や飛散を防止する、塩酸により不純物を溶出しない材料で構成された疎水性のフィルターを設けたことを特徴とする、前記装置。 - 塩酸により不純物を溶出しない材料が、フッ素樹脂であることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 請求項1または2に記載の装置を用いて塩酸を製造する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33945697A JP4167307B2 (ja) | 1996-12-16 | 1997-11-26 | 高純度塩酸の製造装置及び製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35320096 | 1996-12-16 | ||
JP8-353200 | 1996-12-16 | ||
JP33945697A JP4167307B2 (ja) | 1996-12-16 | 1997-11-26 | 高純度塩酸の製造装置及び製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10231103A JPH10231103A (ja) | 1998-09-02 |
JP4167307B2 true JP4167307B2 (ja) | 2008-10-15 |
Family
ID=26576422
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33945697A Expired - Lifetime JP4167307B2 (ja) | 1996-12-16 | 1997-11-26 | 高純度塩酸の製造装置及び製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4167307B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19948206A1 (de) * | 1999-10-07 | 2001-04-12 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur Herstellung hochreiner Salzsäure |
-
1997
- 1997-11-26 JP JP33945697A patent/JP4167307B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10231103A (ja) | 1998-09-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5180403A (en) | Method for vacuum deaeration | |
US8128792B2 (en) | Fluorine gas generator | |
JP2006046646A (ja) | ガス用の低圧貯蔵及び送給システム | |
US5426944A (en) | Chemical purification for semiconductor processing by partial condensation | |
JP4718077B2 (ja) | 高純度の塩酸の製造 | |
KR101775888B1 (ko) | 불소 함유수의 처리 방법 및 처리 장치 | |
TWI308602B (en) | Fluorine gas generator | |
JP4167307B2 (ja) | 高純度塩酸の製造装置及び製造方法 | |
US5246556A (en) | Process and apparatus for producing high concentrating ozone water | |
KR100502706B1 (ko) | 고순도염산의제조장치및제조방법 | |
WO2011111538A1 (ja) | フッ素ガス生成装置 | |
JP5739687B2 (ja) | アルコールの精製方法、装置及びシステム | |
JP2006206989A (ja) | 高純度水素の製造方法およびそれに用いる装置 | |
JPH0760002A (ja) | 蒸留装置及びそれを用いた有機溶媒の精製方法 | |
CN211920951U (zh) | 一种pcb工业废水用树脂吸附罐 | |
JP2007167816A (ja) | 超純水の製造方法および製造装置 | |
CN216344328U (zh) | 一种油田采油厂管道安全防喷支架 | |
JP2022187607A (ja) | 塔洗浄用のバキュームホース、及びイオン交換樹脂塔の洗浄方法 | |
JP2011206722A (ja) | イオン交換装置及び超純水製造装置用サブシステム | |
JP2001293341A (ja) | 超高濃度のオゾン溶解装置 | |
JP6517314B2 (ja) | 放射性廃液の処理方法及び処理装置 | |
JPH06206069A (ja) | イオンの除去方法 | |
JPH08119626A (ja) | アンモニア水の製造装置 | |
JP2024005005A (ja) | イオン交換樹脂カラム | |
US3281212A (en) | Salt dissolver apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041125 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070424 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080415 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080612 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080715 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080801 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120808 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130808 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130808 Year of fee payment: 5 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130808 Year of fee payment: 5 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |