JP4161131B2 - Method for forming light shielding pattern of microlens array sheet - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光することで粘着性が変化し基材(支持体)への密着力が変化する性質を利用して、黒色感光層からなる遮光層(遮光パターン)を形成する方法、特に液晶プロジェクター等に用いられる背面投射型スクリーンに用いられる遮光層を形成したマイクロレンズアレイシートの遮光パターン形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、液晶プロジェクター等に用いられる背面投射型スクリーンとして、フレネルレンズシートと組み合わせて用いられる凸シリンドリカルレンズは1次元的に並設されてなるレンチキュラーシートが主流であり、遮光層を形成するパターンは、シリンドリカルレンズの非集光部に相当するストライプ状のパターン(ブラック・ストライプ「BS」という)である。
【0003】
画素数の多い高精細な映像を視覚する上で、レンチキュラーシートの凸シリンドリカルレンズピッチをファイン化することも行われており、それに伴い遮光パターン(BS)もファインピッチ化が行われる。高精細な遮光パターンを実現するには、解像度の高い、精細なパターンで転移可能な転写層を実現する必要がある。
すなわち、レンチキュラーシートのレンズ部とは反対側の平坦面に遮光層を形成するにあたっては前記平坦面に感光層(感光することで粘着性が消失するような既知の材料)を全面に形成した後、レンズ側より露光することで、集光部分にあたる部分の感光層を変性させ、非集光部にあたる粘着性の残る部分に、インキやトナーを付着させたり、あるいは転写層を転移させるなどの手法(所謂、レンズ自身の集光特性によるセルフアライメントと呼ばれる公知の手法)により正確な位置に遮光層を形成する上で好ましく実施されている。特に、上記転写形成法による遮光層を形成するパターンは遮光層やパターン輪郭の鮮明性に優れている(例えば、特許文献1参照)。
【0004】
【特許文献1】
特開平9−120102号公報
【0005】
一方、液晶プロジェクター等に用いられる背面照射型スクリーンとして、レンチキュラーシートに代えて、単位凸レンズが2次元的にマトリクス状に配列されてなる構成のマイクロレンズシートを採用した場合、遮光パターンは、スポット状の単位凸レンズの集光部を除いたパターンとなる。
【0006】
視覚される表示映像のコントラストを向上させるためには、レンズアレイ部とは反対側(観察者側)の平坦部に、各単位レンズによる非集光部にあたる個所に遮光層(ブラック・マトリクス「BM」という)を形成することが好適であり、慣用的に行われている。
【0007】
微少な単位レンズがファインピッチに2次元的にマトリクス状に配列されてなる構成のマイクロレンズシートにおいても、映像を高いコントラストで視覚する上では、高い遮光率でパターンを形成することが好ましいが、微少なスポットである単位凸レンズの集光部を除いたパターンとする必要があるが、レンチキュラーシートを用いたストライプ状の遮光層を形成する場合に比較して、より一層、解像度の高い、精細なパターンで転移可能な転写層からなる遮光層を形成できる技術が求められていた。
【0008】
前記のようにレンチキュラーを用いたレンズには、ブラックストライプ(BS)、ブラックマトリクス(BM)のような遮光パターンを形成するが、従来の形成方法である感光性の樹脂の粘着性を利用しインキやトナーを付着させる方法が好ましく実施されていたが、BSのファインピッチ化やBMのようなマトリクス状な場合、特に転写法においては転写箔のインキ層の切れ性が悪く剥離方向に対する方向性が発生し、剥離時の尾引きやギザツキ現象が起こり精細なパターンが形成できないという問題がある。このような箔切れ性を考慮する場合、従来、インキ層単層で構成する場合の方法としては、被転写基材上の粘着性のある感光性樹脂とインキ層の密着力を強くしかつ転写シートの支持体とインキ層密着力を強くし、インキ層の凝集力を下げる方法を用いてきたが連続的な剥離動作において剥離強度が高いことが原因であるジッピングと呼ばれる剥離ムラが発生する問題があった。すなわち、感光性樹脂層上で露光により規定された粘着部/非粘着部が交互に現れるストライプパターンの表面に、転写/非転写を忠実に行なう際、剥離時の尾引きやギザツキ現象を回避する上で、凝集剥離(インキ層の内部で破壊して転移させる手法)が有効であった。ただし、この手法では、破壊位置の制御が困難なため、転写層に厚さムラが生じ、黒濃度にバラツキが生じやすい問題があった。また、インキ層と転写シート基材の界面で剥離させる界面剥離の手法によると、黒濃度は確保できるが、凝集剥離に比べて剥離強度が必要であり、ジッピングなる不具合を招くといった問題点があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の技術的背景を考慮してなされたものであって、ムラがなく高濃度な遮光層を形成した凸レンズが2次元的にマトリクス状に配列されてなるマイクロレンズアレイシートの遮光パターン形成方法を提供することを課題とする。
【0010】
【発明を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項1に係る発明は、電離放射線が透過可能とされた支持体の一方の面にレンズを形成し、反対面に粘着性を有する電離放射線硬化型樹脂層を形成する段階と、前記レンズの側より電離放射線を照射して、前記電離放射線硬化型樹脂層の前記レンズにより集光した部分を硬化させて粘着性を喪失させ、非集光部分の粘着性は維持させる段階と、前記電離放射線硬化型樹脂層の側より、少なくとも二層からなる着色層が形成された転写シートを圧着、剥離することにより遮光パターンを形成する段階と、を具備するマイクロレンズアレイシートの遮光パターン形成方法であって、
少なくとも二層からなる着色層間は互いに密着し、前記転写シートの基材に最も近い着色層が界面剥離しないよう、かつ次層以降が凝集破壊しないように積層されており、前記転写シートの基材に最も近い着色層の顔料分は凝集剥離可能な60重量部〜90重量部とされ、次層以降の顔料分は界面剥離可能な10重量部〜59重量部とされていることを特徴とする。
【0011】
請求項2に係る発明は、前記転写シートの基材に最も近い着色層の膜厚は0.1μm〜3μmとされ、次層以降の膜厚は1μm〜10μmとされていることを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施例としての実施形態を説明する。図1は本発明の遮光層(遮光パターン)を形成する方法の一例について説明した図であり、(a)は基材(支持体)1の片面にマイクロレンズアレイ(あるいはレンチキュラーシート)5を形成し、反対面に電離放射線硬化型樹脂層2を形成する工程を示す図、(b)は電離放射線硬化型樹脂層2にマイクロレンズアレイ5側より電離放射線(例えば、紫外線=UVや、電子線=EBなど)6を照射し、電離放射線硬化型樹脂層2に感光パターン8と非感光パターン7を形成する工程を示す図、(c)は図2に示す本発明による転写シート10を重ね圧着剥離する工程を示す図である。
なお、図1(c)及び図2において符号3,4,9はそれぞれ基材(あるいは支持体)、第一の着色層(凝集剥離層)、第二の着色層(界面剥離層)を示している。
また、図3はマイクロレンズアレイ5側から見た感光パターン8と非感光パターン7の形状を示す図である。
【0015】
遮光層を形成するために基材1の一方の面にマイクロレンズアレイを形成する。このマイクロレンズアレイの製造にあたっては、成型用スタンパを作製した上で、2P法(Photo-Polymer法)による成型が採用される。
上記スタンパは、マイクロレンズシートの逆型(すなわち、単位レンズ部が凹部となる表面形状)であり、金属層の表面に機械的に前記凹部を彫る。あるいは化学的に腐食するなどの手法やレーザー加工で前記凹部を彫るなどの手法が用いられる。
何れの手法においても、単位レンズの曲面の形状を正確に加工することが必要であることは言うまでもなく、精細度に応じて選択される。
【0016】
本発明で用いられるマイクロレンズアレイシート5としては、下記のものが使用できる。
<マイクロレンズアレイシート>
図4は本発明のマイクロレンズアレイシートの一例を示す図であり、(a)はマイクロレンズアレイシートの断面図である。(b)はマイクロレンズアレイシートにおいて、単位レンズを構成する凹凸が形成される領域(単位レンズ領域)の形状が矩形であり、単位レンズ領域が碁盤目状のマトリクス配列である場合の平面図である。(c)はマイクロレンズアレイシートにおいて、単位レンズ領域の形状が三角形であり、単位レンズ領域がデルタ配列である場合の平面図である。(d)はマイクロレンズアレイシートにおいて、単位レンズ領域の形状が六角形であり、単位レンズ領域がハニカム配列のマイクロレンズアレイシートの平面図である。
【0017】
透明樹脂フィルム基材1の少なくとも片面に、単位レンズ5が2次元的にマトリクス状に配列されている、紫外線または電離放射線硬化型樹脂の反応硬化物からなるマイクロレンズアレイ部を構成してなるマイクロレンズアレイシートである。前記マイクロレンズアレイ部は、非球面形状もしくは球面形状の曲面を持つ単位レンズを含み、単位レンズの配列ピッチが100μm以下であることを特徴とするものである。
【0018】
前記単位レンズの配列が、碁盤目状もしくはデルタ配列またはハニカム配列のマトリクス配列をなしている。
前記マイクロレンズアレイ部は、該反応硬化物と近似の屈折率を有するフィラー、離型剤及び帯電防止剤等を含有することができる。
【0019】
<遮光パターンの形成>
本発明の遮光層を形成する方法としては、基材1上に透明な粘着性を有する電離放射線硬化型樹脂2を塗布あるいはラミネートする「図1(a)」。レンズ5面より感光することにより、電離放射線硬化型樹脂2の集光部分8が硬化し、非集光部分7が未硬化になるようなパターンが形成される「図1(b)及び図3」。この部分に本発明である図2の転写シートのインキ層面を重ね圧着し剥離することにより「図1(c)」の様な遮光層が形成される。
【0020】
本発明のマイクロレンズレンズシートに用いられるフィルムの具体例としては、ポリエステル、ポリプロピレン、セロハン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ナイロン、ポリイミド、ポリ塩化ビニリデン、アイオノマー等のプラスチックフィルムが挙げられる。またそれらの基材の表面には、感光性樹脂の密着性を調整するために、片面もしくは両面に、コロナ処理、易接着処理が施されていることが望ましい。
【0021】
マイクロレンズアレイシートに塗布あるいはラミネートするものとしては、透明な粘着性を有する紫外線感光性樹脂材料であるが特に限定されるものではない。例えば、
(1)モノマー、オリゴマー及びもしくはプレポリマーの光重合性化合物
(2)必要に応じて光重合性のない熱可塑性樹脂
(3)活性光線によって活性化される光重合開始剤
からなり必要に応じて熱重合禁止剤を含有する。
【0022】
本発明である黒色に着色されたインキ層バインダー樹脂としては、例えばポリ塩化ビニル、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリビニルエーテル、ポリビニルアセタール、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポアミド樹脂、ジアクリルフタレート、エチレン酢酸ビニル、スチレン樹脂、エポキシアクリル樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂等が挙げられる。
【0023】
また、黒色の着色剤としては、無機顔料、有機顔料、カーボン等が挙げられるが分散性、黒色濃度の面からカーボンが好ましい。
【0024】
転写シート10の基材3としては、ポリエステル、ポリプロピレン、セロハン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ナイロン、ポリイミド、ポリ塩化ビニリデン、アイオノマー等のプラスチックフィルムが挙げられる。
【0025】
請求項1に記載の発明において転写シートの着色層は2層以上であることが好ましい。単層であると箔切れ性を考慮しインキ層の凝集力を向上させた場合、圧着剥離時に界面剥離になりジッピングムラが発生する。またインキ層の凝集力を低下させた場合圧着剥離時に凝集破壊になりこの時破壊位置のコントロールが難しく黒濃度が低下してしまうことから、基材に近接する層を凝集破壊にしジッピングを解消し、2層目以降で黒濃度をコントロールすることにより良好な遮光パターンが形成できる。
【0026】
本発明では、インキの凝集力を調整する方法として、凝集剥離する組成の場合層内の顔料重量部は60〜90重量部が好ましく、界面剥離する場合は10〜59重量部が好ましい。この範囲を超えた場合それぞれ違う剥離状態になってしまい良好な遮光層の形成ができない。
【0027】
請求項2に記載の発明は請求項1記載の発明で特定した剥離状態を保つ場合に不可欠な厚みを示すものであり、凝集破壊の場合は0.1μm〜3μmが良好であり、界面剥離の場合1μm〜10μmが良好である。この範囲を超えた場合それぞれ違う剥離状態になってしまい良好な遮光層の形成ができない。
【0028】
【発明の効果】
本発明により、解像度の高い、精細なパターンからなる遮光層の形成方法が提供できる。
本発明による遮光パターンの形成方法によって、高い遮光率で透過濃度の高い、所定の位置に高精度で遮光層を形成した単位凸レンズが2次元的にマトリクス状に配列されてなるマイクロレンズアレイシートが得られ、これをフレネルレンズシートと組み合わせて水平視野角、垂直視野角が共に広く、高解像度の背面投射型スクリーンを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の遮光性を形成する方法を説明した図であり、(a)は片面にマイクロレンズアレイを形成し、反対面に紫外線感光樹脂層を形成する工程を示す図、(b)は紫外線感光性樹脂層にマイクロレンズアレイ側よりUVを照射し、紫外線感光樹脂層に感光パターンと非感光パターンを形成する工程を示す図、(c)は本発明である黒色の転写シートを重ね圧着剥離する工程を示す図である。
【図2】 本発明による転写シートの概略断面図である。
【図3】 マイクロレンズアレイ5側から見た感光パターン8と非感光パターン7の形状を示す概略分解斜視図である。
【図4】 本発明で用いられるマイクロレンズアレイシートの構成を示す説明図であり、(a)はマイクロレンズアレイシートの断面図、(b)はレンズ配列が碁盤目状配列のマイクロレンズアレイシートの平面図、(c)はレンズ配列がデルタ配列のマイクロレンズアレイシートの平面図、(d)はレンズ配列がハニカム配列のマイクロレンズアレイシートの平面図である。
【符号の説明】
1 マイクロレンズ基材(支持体)
2 電離放射線硬化型樹脂層
3 転写シート基材
4 第一の着色層(凝集剥離層)
5 マイクレンズアレイ
6 電離放射線
7 非感光パターン
8 感光パターン
9 第二の着色層(界面剥離層)
10 転写シート[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method of forming by utilizing the property of adhesion to a change in tack by sensitive is the altered substrate (support), the light-shielding layer made of a black photosensitive layer (light-shielding pattern), in particular a liquid crystal The present invention relates to a method for forming a light shielding pattern of a microlens array sheet on which a light shielding layer used for a rear projection screen used in a projector or the like is formed .
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a rear projection type screen used for a liquid crystal projector or the like, a convex cylindrical lens used in combination with a Fresnel lens sheet is mainly a lenticular sheet arranged in a one-dimensional manner, and a pattern for forming a light shielding layer is: This is a stripe pattern (referred to as a black stripe “BS”) corresponding to a non-condensing portion of the cylindrical lens.
[0003]
In order to view a high-definition image having a large number of pixels, the convex cylindrical lens pitch of the lenticular sheet is also refined, and accordingly, the light shielding pattern (BS) is also refined. In order to realize a high-definition light-shielding pattern, it is necessary to realize a transfer layer having a high resolution and transferable with a fine pattern.
That is, when forming a light-shielding layer on the flat surface opposite to the lens portion of the lenticular sheet, after forming a photosensitive layer (a known material whose adhesiveness disappears by exposure) on the entire flat surface By exposing from the lens side, the photosensitive layer in the part corresponding to the condensing part is denatured, and ink or toner is attached to the remaining sticky part corresponding to the non-condensing part, or the transfer layer is transferred. This method is preferably used to form a light shielding layer at an accurate position by a so-called self-alignment method called so-called self-alignment due to the condensing characteristic of the lens itself. In particular, the pattern for forming the light shielding layer by the transfer forming method is excellent in the sharpness of the light shielding layer and the pattern outline (see, for example, Patent Document 1).
[0004]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 9-120102
On the other hand, as a back-illuminated screen used in a liquid crystal projector or the like, when a microlens sheet having a configuration in which unit convex lenses are two-dimensionally arranged in a matrix instead of a lenticular sheet, the light-shielding pattern has a spot shape. The pattern excluding the condensing part of the unit convex lens.
[0006]
In order to improve the contrast of the displayed display image, a light shielding layer (black matrix “BM”) is formed on the flat portion on the side opposite to the lens array portion (observer side) and on the portion corresponding to the non-condensing portion by each unit lens. Is preferred and is practiced routinely.
[0007]
Even in a microlens sheet having a structure in which minute unit lenses are arranged in a two-dimensional matrix at a fine pitch, it is preferable to form a pattern with a high light shielding rate in order to view an image with high contrast. It is necessary to make the pattern excluding the condensing part of the unit convex lens that is a minute spot, but compared with the case of forming a stripe-shaped light shielding layer using a lenticular sheet, the resolution is higher and finer. There has been a demand for a technique capable of forming a light-shielding layer composed of a transfer layer that can be transferred in a pattern.
[0008]
As described above, a light-shielding pattern such as a black stripe (BS) or a black matrix (BM) is formed on a lens using a lenticular, but an ink using the adhesiveness of a photosensitive resin, which is a conventional forming method, is used. In the case of a fine pitch BS or a matrix like BM, especially in the transfer method, the ink layer of the transfer foil is poor in the direction of the peeling direction. There is a problem that a fine pattern cannot be formed due to the occurrence of tailing and a gritty phenomenon during peeling. In consideration of such foil breakage, the conventional method for forming a single ink layer is to increase the adhesion between the adhesive photosensitive resin on the substrate to be transferred and the ink layer and transfer the ink layer. The method of increasing the adhesion between the sheet support and the ink layer and reducing the cohesion of the ink layer has been used, but the problem of peeling unevenness called zipping caused by high peeling strength in continuous peeling operation was there. That is, when the transfer / non-transfer is faithfully performed on the surface of the stripe pattern in which the adhesive / non-adhesive portions defined by the exposure alternately appear on the photosensitive resin layer, the tailing and the jaggedness phenomenon at the time of peeling are avoided. Above, cohesive peeling (a technique of breaking and transferring inside the ink layer) was effective. However, this method has a problem in that it is difficult to control the destruction position, so that the thickness of the transfer layer is uneven and the black density is likely to vary. Also, according to the interface peeling method that peels at the interface between the ink layer and the transfer sheet substrate, the black density can be ensured, but the peeling strength is required compared to the cohesive peeling, which causes the problem of zipping. It was.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention was made in view of the above technical background, shading of the microlens array sheet convex lens to form a high-concentration shielding layer without unevenness is arranged in a two-dimensional matrix It is an object to provide a pattern forming method .
[0010]
[Means for Solving the Invention]
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to
At least two colored layers are in close contact with each other, and the colored layer closest to the base material of the transfer sheet is laminated so that the interfacial separation does not occur, and the subsequent layers and the subsequent layers are not coherently broken. The pigment content of the colored layer closest to is 60 to 90 parts by weight capable of cohesive peeling, and the pigment content of the subsequent layers is 10 to 59 parts by weight capable of interfacial peeling. .
[0011]
The invention according to
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram for explaining an example of a method for forming a light-shielding layer (light-shielding pattern) according to the present invention. FIG. 1 (a) shows a microlens array (or lenticular sheet) 5 formed on one side of a substrate (support) 1. FIG. 5B is a diagram illustrating a process of forming the ionizing radiation
In FIG. 1 (c) and FIG. 2,
FIG. 3 is a diagram showing the shapes of the
[0015]
In order to form the light shielding layer, a microlens array is formed on one surface of the
The stamper is a reverse type of a microlens sheet (that is, a surface shape in which a unit lens portion becomes a recess), and mechanically engraves the recess on the surface of the metal layer. Alternatively, a technique such as chemical corrosion or a technique such as carving the concave portion by laser processing is used.
In any method, it goes without saying that the shape of the curved surface of the unit lens needs to be accurately processed, and it is selected according to the definition.
[0016]
As the
<Microlens array sheet>
FIG. 4 is a view showing an example of the microlens array sheet of the present invention, and (a) is a cross-sectional view of the microlens array sheet. (B) is a plan view of a microlens array sheet in which a region (unit lens region) in which irregularities constituting a unit lens are formed has a rectangular shape and the unit lens region has a grid-like matrix arrangement. is there. (C) is a plan view when the shape of the unit lens region is a triangle and the unit lens region is a delta arrangement in the microlens array sheet. (D) is a plan view of a microlens array sheet in which the shape of a unit lens region is a hexagon and the unit lens region is a honeycomb array.
[0017]
A microlens array portion made of a reaction cured product of ultraviolet or ionizing radiation curable resin, in which
[0018]
The arrangement of the unit lenses is a grid arrangement, a delta arrangement, or a matrix arrangement of a honeycomb arrangement.
The microlens array part may contain a filler having a refractive index close to that of the reaction cured product, a release agent, an antistatic agent, and the like.
[0019]
<Formation of light shielding pattern>
As a method for forming the light-shielding layer of the present invention, the ionizing radiation
[0020]
Specific examples of the film used for the microlens lens sheet of the present invention include plastic films such as polyester, polypropylene, cellophane, polycarbonate, cellulose acetate, polyethylene, polyvinyl chloride, polystyrene, nylon, polyimide, polyvinylidene chloride, and ionomer. Can be mentioned. Moreover, in order to adjust the adhesiveness of the photosensitive resin, it is desirable that corona treatment and easy adhesion treatment are performed on one or both surfaces of the base material.
[0021]
The material to be coated or laminated on the microlens array sheet is an ultraviolet photosensitive resin material having a transparent adhesive property, but is not particularly limited. For example,
(1) Photopolymerizable compound of monomer, oligomer and / or prepolymer (2) Thermoplastic resin having no photopolymerization if necessary (3) Photopolymerization initiator activated by actinic rays, if necessary Contains a thermal polymerization inhibitor.
[0022]
Examples of the black colored ink layer binder resin according to the present invention include polyvinyl chloride, poly (meth) acrylic acid, poly (meth) acrylic acid ester, polyvinyl ether, polyvinyl acetal, urethane resin, epoxy resin, and poamide resin. , Diacryl phthalate, ethylene vinyl acetate, styrene resin, epoxy acrylic resin, ethylene vinyl acetate resin and the like.
[0023]
Examples of the black colorant include inorganic pigments, organic pigments, carbon, and the like, but carbon is preferable in terms of dispersibility and black density.
[0024]
Examples of the
[0025]
In the first aspect of the present invention, it is preferable that the transfer sheet has two or more colored layers. In the case of a single layer, when the cohesive force of the ink layer is improved in consideration of the ability to cut the foil, interfacial peeling occurs at the time of pressure peeling and zipping unevenness occurs. In addition, if the cohesive force of the ink layer is reduced, cohesive failure occurs at the time of pressure-bonding peeling, and at this time it is difficult to control the location of the breakage, and the black density decreases. A good light-shielding pattern can be formed by controlling the black density in the second and subsequent layers.
[0026]
In the present invention, as a method for adjusting the cohesive strength of the ink, 60 to 90 parts by weight of the pigment in the layer is preferable in the case of a composition that performs cohesive separation, and 10 to 59 parts by weight is preferable in the case of interfacial peeling. If this range is exceeded, different peeled states will occur and a good light shielding layer cannot be formed.
[0027]
The invention described in
[0028]
【The invention's effect】
The present invention can provide a method for forming a light shielding layer having a high resolution and a fine pattern.
According to the light shielding pattern forming method of the present invention, there is provided a microlens array sheet in which unit convex lenses having a high light shielding rate and a high transmission density and having a light shielding layer formed at a predetermined position with high accuracy are arranged in a two-dimensional matrix. By combining this with a Fresnel lens sheet, it is possible to provide a high-resolution rear projection screen that has a wide horizontal viewing angle and a wide vertical viewing angle.
[Brief description of the drawings]
1A and 1B are diagrams illustrating a method for forming a light-shielding property according to the present invention. FIG. 1A is a diagram illustrating a process of forming a microlens array on one surface and an ultraviolet photosensitive resin layer on the opposite surface; ) Is a diagram showing a process of irradiating the ultraviolet photosensitive resin layer with UV from the microlens array side, and forming a photosensitive pattern and a non-photosensitive pattern on the ultraviolet photosensitive resin layer, and (c) is a black transfer sheet according to the present invention. It is a figure which shows the process of overlapping pressure bonding peeling.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a transfer sheet according to the present invention.
FIG. 3 is a schematic exploded perspective view showing the shapes of a
4A and 4B are explanatory views showing a configuration of a microlens array sheet used in the present invention, wherein FIG. 4A is a cross-sectional view of the microlens array sheet, and FIG. 4B is a microlens array sheet having a grid arrangement. (C) is a plan view of a microlens array sheet with a lens arrangement of delta arrangement, and (d) is a plan view of a microlens array sheet with a lens arrangement of honeycomb arrangement.
[Explanation of symbols]
1 Microlens substrate (support)
2 Ionizing radiation
5 Microphone lens array 6
10 Transfer sheet
Claims (2)
前記レンズの側より電離放射線を照射して、前記電離放射線硬化型樹脂層の前記レンズにより集光した部分を硬化させて粘着性を喪失させ、非集光部分の粘着性は維持させる段階と、
前記電離放射線硬化型樹脂層の側より、少なくとも二層からなる着色層が形成された転写シートを圧着、剥離することにより遮光パターンを形成する段階と、
を具備するマイクロレンズアレイシートの遮光パターン形成方法であって、
少なくとも二層からなる着色層間は互いに密着し、前記転写シートの基材に最も近い着色層が界面剥離しないよう、かつ次層以降が凝集破壊しないように積層されており、前記転写シートの基材に最も近い着色層の顔料分は凝集剥離可能な60重量部〜90重量部とされ、次層以降の顔料分は界面剥離可能な10重量部〜59重量部とされていることを特徴とするマイクロレンズアレイシートの遮光パターン形成方法。 Forming a lens on one surface of a support that is capable of transmitting ionizing radiation, and forming an ionizing radiation curable resin layer having adhesiveness on the opposite surface;
Irradiating with ionizing radiation from the lens side, curing the portion condensed by the lens of the ionizing radiation curable resin layer to lose the adhesive property, and maintaining the adhesive property of the non-condensing portion;
From the side of the ionizing radiation curable resin layer, a step of forming a light shielding pattern by pressure-bonding and peeling a transfer sheet on which a colored layer consisting of at least two layers is formed; and
A light-shielding pattern forming method for a microlens array sheet comprising :
At least two colored layers are in close contact with each other, and the colored layer closest to the base material of the transfer sheet is laminated so that the interfacial separation does not occur, and the subsequent layers and the subsequent layers are not coherently broken. The pigment content of the colored layer closest to is 60 to 90 parts by weight capable of cohesive peeling, and the pigment content of the subsequent layers is 10 to 59 parts by weight capable of interfacial peeling. A method for forming a light shielding pattern on a microlens array sheet.
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