JP2004347768A - Light shielding pattern forming method - Google Patents

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JP2004347768A JP2003143297A JP2003143297A JP2004347768A JP 2004347768 A JP2004347768 A JP 2004347768A JP 2003143297 A JP2003143297 A JP 2003143297A JP 2003143297 A JP2003143297 A JP 2003143297A JP 2004347768 A JP2004347768 A JP 2004347768A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microlens sheet constituted by arraying convex lenses two-dimensionally and in a matrix state, where a high-density light shielding layer having no unevenness is formed. <P>SOLUTION: The light shielding pattern forming method includes a stage to form a lens 5 on one surface of a supporting body 1 through which ionizing radiation 6 can be transmitted and form an ionizing radiation curing type resin layer 2 having adhesiveness on an opposite surface; a stage to radiate the ionizing radiation 6 from the side of the lens 5 so as to cure a part 8 on which light is condensed by the lens 5 in the resin layer 2 and lose the adhesiveness but maintain the adhesiveness of a non light condensing part 7; and a stage to form a light shielding pattern by press-fitting and peeling a transfer sheet 10 where coloring layers 4 and 9 consisting of at least two layers are formed from the side of the resin layer 2. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光することで粘着性が変化し基材(支持体)への密着力が変化する性質を利用して、黒色感光層からなる遮光層(遮光パターン)を形成する方法、及びこの方法によって、液晶プロジェクター等に用いられる背面投射型スクリーンに用いられる遮光層を形成したマイクロレンズアレイシートに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、液晶プロジェクター等に用いられる背面投射型スクリーンとして、フレネルレンズシートと組み合わせて用いられる凸シリンドリカルレンズは1次元的に並設されてなるレンチキュラーシートが主流であり、遮光層を形成するパターンは、シリンドリカルレンズの非集光部に相当するストライプ状のパターン(ブラック・ストライプ「BS」という)である。
【0003】
画素数の多い高精細な映像を視覚する上で、レンチキュラーシートの凸シリンドリカルレンズピッチをファイン化することも行われており、それに伴い遮光パターン(BS)もファインピッチ化が行われる。高精細な遮光パターンを実現するには、解像度の高い、精細なパターンで転移可能な転写層を実現する必要がある。
すなわち、レンチキュラーシートのレンズ部とは反対側の平坦面に遮光層を形成するにあたっては前記平坦面に感光層(感光することで粘着性が消失するような既知の材料)を全面に形成した後、レンズ側より露光することで、集光部分にあたる部分の感光層を変性させ、非集光部にあたる粘着性の残る部分に、インキやトナーを付着させたり、あるいは転写層を転移させるなどの手法(所謂、レンズ自身の集光特性によるセルフアライメントと呼ばれる公知の手法)により正確な位置に遮光層を形成する上で好ましく実施されている。特に、上記転写形成法による遮光層を形成するパターンは遮光層やパターン輪郭の鮮明性に優れている(例えば、特許文献1参照)。
【0004】
【特許文献1】
特開平9−120102号公報
【0005】
一方、液晶プロジェクター等に用いられる背面照射型スクリーンとして、レンチキュラーシートに代えて、単位凸レンズが2次元的にマトリクス状に配列されてなる構成のマイクロレンズシートを採用した場合、遮光パターンは、スポット状の単位凸レンズの集光部を除いたパターンとなる。
【0006】
視覚される表示映像のコントラストを向上させるためには、レンズアレイ部とは反対側(観察者側)の平坦部に、各単位レンズによる非集光部にあたる個所に遮光層(ブラック・マトリクス「BM」という)を形成することが好適であり、慣用的に行われている。
【0007】
微少な単位レンズがファインピッチに2次元的にマトリクス状に配列されてなる構成のマイクロレンズシートにおいても、映像を高いコントラストで視覚する上では、高い遮光率でパターンを形成することが好ましいが、微少なスポットである単位凸レンズの集光部を除いたパターンとする必要があるが、レンチキュラーシートを用いたストライプ状の遮光層を形成する場合に比較して、より一層、解像度の高い、精細なパターンで転移可能な転写層からなる遮光層を形成できる技術が求められていた。
【0008】
前記のようにレンチキュラーを用いたレンズには、ブラックストライプ(BS)、ブラックマトリクス(BM)のような遮光パターンを形成するが、従来の形成方法である感光性の樹脂の粘着性を利用しインキやトナーを付着させる方法が好ましく実施されていたが、BSのファインピッチ化やBMのようなマトリクス状な場合、特に転写法においては転写箔のインキ層の切れ性が悪く剥離方向に対する方向性が発生し、剥離時の尾引きやギザツキ現象が起こり精細なパターンが形成できないという問題がある。このような箔切れ性を考慮する場合、従来、インキ層単層で構成する場合の方法としては、被転写基材上の粘着性のある感光性樹脂とインキ層の密着力を強くしかつ転写シートの支持体とインキ層密着力を強くし、インキ層の凝集力を下げる方法を用いてきたが連続的な剥離動作において剥離強度が高いことが原因であるジッピングと呼ばれる剥離ムラが発生する問題があった。すなわち、感光性樹脂層上で露光により規定された粘着部/非粘着部が交互に現れるストライプパターンの表面に、転写/非転写を忠実に行なう際、剥離時の尾引きやギザツキ現象を回避する上で、凝集剥離(インキ層の内部で破壊して転移させる手法)が有効であった。ただし、この手法では、破壊位置の制御が困難なため、転写層に厚さムラが生じ、黒濃度にバラツキが生じやすい問題があった。また、インキ層と転写シート基材の界面で剥離させる界面剥離の手法によると、黒濃度は確保できるが、凝集剥離に比べて剥離強度が必要であり、ジッピングなる不具合を招くといった問題点があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の技術的背景を考慮してなされたものであって、ムラがなく高濃度な遮光層を形成した凸レンズが2次元的にマトリクス状に配列されてなるマイクロレンズシートを提供することを課題とする。
【0010】
【発明を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項1に係る発明は、電離放射線が透過可能とされた支持体の一方の面にレンズを形成し、反対面に粘着性を有する電離放射線硬化型樹脂層を形成する段階と、前記レンズの側より電離放射線を照射して、前記電離放射線硬化型樹脂層の前記レンズにより集光した部分を硬化させて粘着性を喪失させ、非集光部分の粘着性は維持させる段階と、前記電離放射線硬化型樹脂層の側より、少なくとも二層からなる着色層が形成された転写シートを圧着、剥離することにより遮光パターンを形成する段階と、を具備することを特徴とする。
【0011】
請求項2に係る発明は、少なくとも二層からなる着色層間は互いに密着し、前記転写シートの基材に最も近い着色層が界面剥離しないよう、かつ次層以降が凝集破壊しないように積層されていることを特徴とする。
【0012】
請求項3に係る発明は、前記転写シートの基材に最も近い着色層の顔料分は60重量部〜90重量部とされ、次層以降の顔料分は10重量部〜59重量部とされていることを特徴とする。
【0013】
請求項4に係る発明は、前記転写シートの基材に最も近い着色層の膜厚は0.1μm〜3μmとされ、次層以降の膜厚は1μm〜10μmとされていることを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施例としての実施形態を説明する。図1は本発明の遮光層(遮光パターン)を形成する方法の一例について説明した図であり、(a)は基材(支持体)1の片面にマイクロレンズアレイ(あるいはレンチキュラーシート)5を形成し、反対面に電離放射線硬化型樹脂層2を形成する工程を示す図、(b)は電離放射線硬化型樹脂層2にマイクロレンズアレイ5側より電離放射線(例えば、紫外線=UVや、電子線=EBなど)6を照射し、電離放射線硬化型樹脂層2に感光パターン8と非感光パターン7を形成する工程を示す図、(c)は図2に示す本発明による転写シート10を重ね圧着剥離する工程を示す図である。
なお、図1(c)及び図2において符号3,4,9はそれぞれ基材(あるいは支持体)、第一の着色層(凝集剥離層)、第二の着色層(界面剥離層)を示している。
また、図3はマイクロレンズアレイ5側から見た感光パターン8と非感光パターン7の形状を示す図である。
【0015】
遮光層を形成するために基材1の一方の面にマイクロレンズアレイを形成する。このマイクロレンズアレイの製造にあたっては、成型用スタンパを作製した上で、2P法(Photo−Polymer法)による成型が採用される。
上記スタンパは、マイクロレンズシートの逆型(すなわち、単位レンズ部が凹部となる表面形状)であり、金属層の表面に機械的に前記凹部を彫る。あるいは化学的に腐食するなどの手法やレーザー加工で前記凹部を彫るなどの手法が用いられる。
何れの手法においても、単位レンズの曲面の形状を正確に加工することが必要であることは言うまでもなく、精細度に応じて選択される。
【0016】
本発明で用いられるマイクロレンズアレイシート5としては、下記のものが使用できる。
<マイクロレンズアレイシート>
図4は本発明のマイクロレンズアレイシートの一例を示す図であり、(a)はマイクロレンズアレイシートの断面図である。(b)はマイクロレンズアレイシートにおいて、単位レンズを構成する凹凸が形成される領域(単位レンズ領域)の形状が矩形であり、単位レンズ領域が碁盤目状のマトリクス配列である場合の平面図である。(c)はマイクロレンズアレイシートにおいて、単位レンズ領域の形状が三角形であり、単位レンズ領域がデルタ配列である場合の平面図である。(d)はマイクロレンズアレイシートにおいて、単位レンズ領域の形状が六角形であり、単位レンズ領域がハニカム配列のマイクロレンズアレイシートの平面図である。
【0017】
透明樹脂フィルム基材1の少なくとも片面に、単位レンズ5が2次元的にマトリクス状に配列されている、紫外線または電離放射線硬化型樹脂の反応硬化物からなるマイクロレンズアレイ部を構成してなるマイクロレンズアレイシートである。前記マイクロレンズアレイ部は、非球面形状もしくは球面形状の曲面を持つ単位レンズを含み、単位レンズの配列ピッチが100μm以下であることを特徴とするものである。
【0018】
前記単位レンズの配列が、碁盤目状もしくはデルタ配列またはハニカム配列のマトリクス配列をなしている。
前記マイクロレンズアレイ部は、該反応硬化物と近似の屈折率を有するフィラー、離型剤及び帯電防止剤等を含有することができる。
【0019】
<遮光パターンの形成>
本発明の遮光層を形成する方法としては、基材1上に透明な粘着性を有する電離放射線硬化型樹脂2を塗布あるいはラミネートする「図1(a)」。レンズ5面より感光することにより、電離放射線硬化型樹脂2の集光部分8が硬化し、非集光部分7が未硬化になるようなパターンが形成される「図1(b)及び図3」。この部分に本発明である図2の転写シートのインキ層面を重ね圧着し剥離することにより「図1(c)」の様な遮光層が形成される。
【0020】
本発明のマイクロレンズレンズシートに用いられるフィルムの具体例としては、ポリエステル、ポリプロピレン、セロハン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ナイロン、ポリイミド、ポリ塩化ビニリデン、アイオノマー等のプラスチックフィルムが挙げられる。またそれらの基材の表面には、感光性樹脂の密着性を調整するために、片面もしくは両面に、コロナ処理、易接着処理が施されていることが望ましい。
【0021】
マイクロレンズアレイシートに塗布あるいはラミネートするものとしては、透明な粘着性を有する紫外線感光性樹脂材料であるが特に限定されるものではない。例えば、
(1)モノマー、オリゴマー及びもしくはプレポリマーの光重合性化合物
(2)必要に応じて光重合性のない熱可塑性樹脂
(3)活性光線によって活性化される光重合開始剤
からなり必要に応じて熱重合禁止剤を含有する。
【0022】
本発明である黒色に着色されたインキ層バインダー樹脂としては、例えばポリ塩化ビニル、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリビニルエーテル、ポリビニルアセタール、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポアミド樹脂、ジアクリルフタレート、エチレン酢酸ビニル、スチレン樹脂、エポキシアクリル樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂等が挙げられる。
【0023】
また、黒色の着色剤としては、無機顔料、有機顔料、カーボン等が挙げられるが分散性、黒色濃度の面からカーボンが好ましい。
【0024】
転写シート10の基材3としては、ポリエステル、ポリプロピレン、セロハン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ナイロン、ポリイミド、ポリ塩化ビニリデン、アイオノマー等のプラスチックフィルムが挙げられる。
【0025】
請求項1〜請求項2に記載の発明において転写シートの着色層は2層以上であることが好ましい。単層であると箔切れ性を考慮しインキ層の凝集力を向上させた場合、圧着剥離時に界面剥離になりジッピングムラが発生する。またインキ層の凝集力を低下させた場合圧着剥離時に凝集破壊になりこの時破壊位置のコントロールが難しく黒濃度が低下してしまうことから、基材に近接する層を凝集破壊にしジッピングを解消し、2層目以降で黒濃度をコントロールすることにより良好な遮光パターンが形成できる。
【0026】
請求項3に記載の発明は、インキの凝集力を調整する方法であり、凝集剥離する組成の場合層内の顔料重量部は60〜90重量部が好ましく、界面剥離する場合は10〜59重量部が好ましい。この範囲を超えた場合それぞれ違う剥離状態になってしまい良好な遮光層の形成ができない。
【0027】
請求項4に記載の発明は請求項2の剥離状態を保つ場合に不可欠な厚みであり、凝集破壊の場合は0.1μm〜3μmが良好であり、界面剥離の場合1μm〜10μmが良好である。この範囲を超えた場合それぞれ違う剥離状態になってしまい良好な遮光層の形成ができない。
【0028】
【発明の効果】
本発明により、解像度の高い、精細なパターンからなる遮光層の形成方法が提供できる。
本発明の遮光層の形成方法によって、高い遮光率で透過濃度の高い、所定の位置に高精度で遮光層を形成した単位凸レンズが2次元的にマトリクス状に配列されてなるマイクロレンズアレイシートが得られ、これをフレネルレンズシートと組み合わせて水平視野角、垂直視野角が共に広く、高解像度の背面投射型スクリーンを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の遮光性を形成する方法を説明した図であり、(a)は片面にマイクロレンズアレイを形成し、反対面に紫外線感光樹脂層を形成する工程を示す図、(b)は紫外線感光性樹脂層にマイクロレンズアレイ側よりUVを照射し、紫外線感光樹脂層に感光パターンと非感光パターンを形成する工程を示す図、(c)は本発明である黒色の転写シートを重ね圧着剥離する工程を示す図である。
【図2】本発明による転写シートの概略断面図である。
【図3】マイクロレンズアレイ5側から見た感光パターン8と非感光パターン7の形状を示す概略分解斜視図である。
【図4】本発明で用いられるマイクロレンズアレイシートの構成を示す説明図であり、(a)はマイクロレンズアレイシートの断面図、(b)はレンズ配列が碁盤目状配列のマイクロレンズアレイシートの平面図、(c)はレンズ配列がデルタ配列のマイクロレンズアレイシートの平面図、(d)はレンズ配列がハニカム配列のマイクロレンズアレイシートの平面図である。
【符号の説明】
1 マイクロレンズ基材(支持体)
2 電離放射線硬化型樹脂層
3 転写シート基材
4 第一の着色層(凝集剥離層)
5 マイクレンズアレイ
6 電離放射線
7 非感光パターン
8 感光パターン
9 第二の着色層(界面剥離層)
10 転写シート
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention provides a method of forming a light-shielding layer (light-shielding pattern) composed of a black photosensitive layer by utilizing the property that the adhesiveness changes upon exposure to light and the adhesion to a substrate (support) changes. The present invention relates to a microlens array sheet on which a light-shielding layer used for a rear projection screen used for a liquid crystal projector or the like is formed by a method.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a rear projection screen used in a liquid crystal projector or the like, a convex cylindrical lens used in combination with a Fresnel lens sheet is mainly a lenticular sheet that is one-dimensionally arranged side by side, and a pattern forming a light shielding layer is: This is a stripe pattern (referred to as black stripe “BS”) corresponding to the non-light-collecting portion of the cylindrical lens.
[0003]
In order to view a high-definition image having a large number of pixels, the convex cylindrical lens pitch of the lenticular sheet is also made fine, and accordingly, the light-shielding pattern (BS) is also made fine. In order to realize a high-definition light-shielding pattern, it is necessary to realize a transfer layer capable of transferring a high-resolution fine pattern.
In other words, when forming a light-shielding layer on a flat surface opposite to the lens portion of the lenticular sheet, a photosensitive layer (a known material that loses its tackiness when exposed to light) is formed on the entire flat surface. Exposure from the lens side denatures the photosensitive layer in the light-collecting area, and attaches ink or toner to the non-light-collecting area and transfers the transfer layer. This is preferably implemented in order to form a light-shielding layer at an accurate position by a so-called self-alignment method based on the light-gathering characteristics of the lens itself. In particular, the pattern for forming the light-shielding layer by the above-described transfer forming method is excellent in the sharpness of the light-shielding layer and the pattern contour (for example, see Patent Document 1).
[0004]
[Patent Document 1]
JP-A-9-120102
On the other hand, when a microlens sheet having a configuration in which unit convex lenses are two-dimensionally arranged in a matrix is employed instead of a lenticular sheet as a back-illuminated type screen used in a liquid crystal projector or the like, the light-shielding pattern is spot-shaped. Is a pattern excluding the light condensing part of the unit convex lens.
[0006]
In order to improve the contrast of a displayed image to be viewed, a light-shielding layer (black matrix “BM”) is provided on a flat portion opposite to the lens array portion (observer side), at a portion corresponding to a non-light-collecting portion of each unit lens. Is preferred and is customarily practiced.
[0007]
Even in a microlens sheet in which minute unit lenses are two-dimensionally arranged in a matrix at a fine pitch, it is preferable to form a pattern with a high light blocking ratio in order to view an image with high contrast. Although it is necessary to form a pattern excluding the condensing portion of the unit convex lens which is a minute spot, compared to the case of forming a stripe-shaped light-shielding layer using a lenticular sheet, the resolution is higher and the resolution is higher. There has been a demand for a technique capable of forming a light-shielding layer composed of a transfer layer that can be transferred in a pattern.
[0008]
As described above, a light-shielding pattern such as a black stripe (BS) or a black matrix (BM) is formed on a lens using a lenticular lens. However, in the case of a fine pitch of BS or a matrix such as BM, especially in the transfer method, the cut property of the ink layer of the transfer foil is poor and the direction in the peeling direction is poor. This causes a problem that a fine pattern cannot be formed due to tailing and jagged phenomenon at the time of peeling. In consideration of such foil stripping properties, conventionally, as a method of forming a single layer of the ink layer, the adhesive force between the adhesive photosensitive resin on the substrate to be transferred and the ink layer is strengthened and the transfer is performed. A method has been used in which the adhesion of the ink layer to the support of the sheet is strengthened and the cohesive force of the ink layer is reduced, but peeling unevenness called zipping occurs due to high peeling strength in continuous peeling operation. was there. That is, when the transfer / non-transfer is faithfully performed on the surface of the stripe pattern in which the adhesive portions / non-adhesive portions defined by exposure on the photosensitive resin layer alternately, tailing and jagging at the time of peeling are avoided. Above, cohesive peeling (a technique of breaking and transferring inside the ink layer) was effective. However, in this method, since it is difficult to control the breaking position, there is a problem that thickness unevenness occurs in the transfer layer and black density tends to vary. Further, according to the interfacial peeling method of peeling off at the interface between the ink layer and the transfer sheet substrate, the black density can be secured, but the peeling strength is required as compared with the cohesive peeling, and there is a problem of causing a problem of zipping. Was.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in view of the above technical background, and provides a microlens sheet in which convex lenses having a high-density light-shielding layer without unevenness are two-dimensionally arranged in a matrix. That is the task.
[0010]
[Means for Solving the Invention]
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 includes forming a lens on one surface of a support that is capable of transmitting ionizing radiation, and forming an ionizing radiation-curable resin layer having adhesiveness on the other surface. Forming and irradiating ionizing radiation from the side of the lens, curing the portion focused by the lens of the ionizing radiation-curable resin layer to lose the adhesiveness, the adhesiveness of the non-light-collecting portion is Maintaining, and forming a light-shielding pattern by pressing and peeling a transfer sheet on which at least two colored layers are formed from the side of the ionizing radiation-curable resin layer. And
[0011]
The invention according to claim 2 is that the colored layers composed of at least two layers are in close contact with each other, and the colored layers closest to the base material of the transfer sheet are not separated at the interface, and are laminated so that the next layer and the subsequent layers do not undergo cohesive failure. It is characterized by having.
[0012]
In the invention according to claim 3, the pigment content of the coloring layer closest to the base material of the transfer sheet is 60 parts by weight to 90 parts by weight, and the pigment content of the subsequent layers is 10 parts by weight to 59 parts by weight. It is characterized by having.
[0013]
The invention according to claim 4 is characterized in that the thickness of the colored layer closest to the base material of the transfer sheet is 0.1 μm to 3 μm, and the thickness of the next layer and subsequent layers is 1 μm to 10 μm. .
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment as a preferred example of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a method for forming a light-shielding layer (light-shielding pattern) according to the present invention. FIG. 1 (a) shows a microlens array (or lenticular sheet) 5 formed on one surface of a substrate (support) 1. FIG. 4B is a diagram showing a process of forming an ionizing radiation-curable resin layer 2 on the opposite surface. FIG. 4B shows ionizing radiation (for example, UV = UV or electron beam) applied to the ionizing radiation-curable resin layer 2 from the microlens array 5 side. = EB etc.) to form a photosensitive pattern 8 and a non-photosensitive pattern 7 on the ionizing radiation-curable resin layer 2, and FIG. 2C shows the transfer sheet 10 according to the present invention shown in FIG. It is a figure which shows the process of peeling.
In FIGS. 1C and 2, reference numerals 3, 4, and 9 indicate a substrate (or a support), a first colored layer (an agglomerated release layer), and a second colored layer (an interface release layer), respectively. ing.
FIG. 3 is a view showing the shapes of the photosensitive pattern 8 and the non-photosensitive pattern 7 as viewed from the microlens array 5 side.
[0015]
A microlens array is formed on one surface of the substrate 1 to form a light shielding layer. In manufacturing this microlens array, after forming a molding stamper, molding by a 2P method (Photo-Polymer method) is adopted.
The stamper is a reverse type of a microlens sheet (that is, a surface shape in which a unit lens portion is a concave portion), and the concave portion is mechanically carved on the surface of a metal layer. Alternatively, a method such as chemical corrosion or a method such as engraving the concave portion by laser processing is used.
In any method, it is needless to say that the shape of the curved surface of the unit lens needs to be accurately processed, and it is selected according to the definition.
[0016]
The following can be used as the microlens array sheet 5 used in the present invention.
<Micro lens array sheet>
FIG. 4 is a diagram showing an example of the microlens array sheet of the present invention, and (a) is a cross-sectional view of the microlens array sheet. (B) is a plan view of the microlens array sheet in which the shape of the region (unit lens region) where the irregularities forming the unit lens are formed is rectangular, and the unit lens region has a grid pattern. is there. (C) is a plan view in the case where the unit lens region has a triangular shape and the unit lens region has a delta arrangement in the microlens array sheet. (D) is a plan view of the microlens array sheet in which the unit lens region has a hexagonal shape and the unit lens region has a honeycomb arrangement in the microlens array sheet.
[0017]
At least one surface of the transparent resin film substrate 1 has a unit lens 5 two-dimensionally arranged in a matrix, and has a microlens array portion made of a reaction cured product of an ultraviolet or ionizing radiation curable resin. It is a lens array sheet. The microlens array section includes a unit lens having an aspherical or spherical curved surface, and the arrangement pitch of the unit lenses is 100 μm or less.
[0018]
The arrangement of the unit lenses forms a matrix arrangement of a grid pattern, a delta arrangement, or a honeycomb arrangement.
The microlens array portion may contain a filler having a refractive index similar to that of the reaction cured product, a release agent, an antistatic agent, and the like.
[0019]
<Formation of light-shielding pattern>
As a method of forming the light-shielding layer of the present invention, a transparent adhesive ionizing radiation-curable resin 2 is applied or laminated on a substrate 1 (FIG. 1A). By exposing from the surface of the lens 5, a pattern is formed in which the condensing portion 8 of the ionizing radiation-curable resin 2 is cured and the non-condensing portion 7 is uncured. ". The light-shielding layer as shown in FIG. 1 (c) is formed by overlapping and pressing and peeling the ink layer surface of the transfer sheet of FIG. 2 of the present invention on this portion.
[0020]
Specific examples of the film used for the microlens lens sheet of the present invention include plastic films such as polyester, polypropylene, cellophane, polycarbonate, cellulose acetate, polyethylene, polyvinyl chloride, polystyrene, nylon, polyimide, polyvinylidene chloride, and ionomer. No. In addition, it is desirable that one or both surfaces be subjected to a corona treatment or an easy adhesion treatment in order to adjust the adhesion of the photosensitive resin to the surface of the base material.
[0021]
The material to be applied or laminated on the microlens array sheet is an ultraviolet-sensitive resin material having a transparent adhesive property, but is not particularly limited. For example,
(1) Photopolymerizable compound of monomer, oligomer and / or prepolymer (2) Thermoplastic resin having no photopolymerizability if necessary (3) Photopolymerization initiator activated by actinic ray Contains thermal polymerization inhibitor.
[0022]
Examples of the ink layer binder resin colored black in the present invention include polyvinyl chloride, poly (meth) acrylic acid, poly (meth) acrylate, polyvinyl ether, polyvinyl acetal, urethane resin, epoxy resin, and poamide resin. , Diacryl phthalate, ethylene vinyl acetate, styrene resin, epoxy acrylic resin, ethylene vinyl acetate resin and the like.
[0023]
Examples of the black colorant include inorganic pigments, organic pigments, and carbon, but carbon is preferred from the viewpoint of dispersibility and black density.
[0024]
Examples of the substrate 3 of the transfer sheet 10 include plastic films such as polyester, polypropylene, cellophane, polycarbonate, cellulose acetate, polyethylene, polyvinyl chloride, polystyrene, nylon, polyimide, polyvinylidene chloride, and ionomer.
[0025]
In the invention according to claims 1 and 2, the transfer sheet preferably has two or more colored layers. In the case of a single layer, when the cohesive force of the ink layer is improved in consideration of the foil breaking property, interfacial peeling occurs at the time of pressure-bonding peeling, and uneven zipping occurs. Also, if the cohesive force of the ink layer is reduced, cohesive failure occurs during pressure peeling, which makes it difficult to control the position of the breakage and lowers the black density. By controlling the black density in the second and subsequent layers, a good light-shielding pattern can be formed.
[0026]
The invention according to claim 3 is a method for adjusting the cohesive force of the ink. In the case of a composition that coagulates and separates, the pigment weight part in the layer is preferably 60 to 90 parts by weight, and in the case of interfacial release, 10 to 59 parts by weight. Parts are preferred. Exceeding this range results in different peeling states, which makes it impossible to form a good light-shielding layer.
[0027]
The invention described in claim 4 is an essential thickness for maintaining the peeled state of claim 2, and 0.1 μm to 3 μm is good for cohesive failure and 1 μm to 10 μm is good for interfacial peeling. . Exceeding this range results in different peeling states, making it impossible to form a good light-shielding layer.
[0028]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to provide a method for forming a light shielding layer having a high resolution and a fine pattern.
According to the method of forming a light-shielding layer of the present invention, a microlens array sheet in which unit convex lenses having a light-shielding layer formed at a predetermined position with high accuracy at a high light-shielding rate and a high transmission density are two-dimensionally arranged in a matrix is provided. By combining this with a Fresnel lens sheet, a horizontal projection angle and a vertical viewing angle are both wide, and a high-resolution rear projection screen can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIGS. 1A and 1B are diagrams illustrating a method for forming a light-shielding property of the present invention, in which FIG. 1A shows a step of forming a microlens array on one side and forming an ultraviolet-sensitive resin layer on the other side, and FIG. ) Shows a step of irradiating the UV-sensitive resin layer with UV from the microlens array side to form a photosensitive pattern and a non-photosensitive pattern on the UV-sensitive resin layer, and FIG. It is a figure which shows the process of overlapping pressure bonding peeling.
FIG. 2 is a schematic sectional view of a transfer sheet according to the present invention.
FIG. 3 is a schematic exploded perspective view showing the shapes of a photosensitive pattern 8 and a non-photosensitive pattern 7 as viewed from the microlens array 5 side.
FIGS. 4A and 4B are explanatory views showing the configuration of a microlens array sheet used in the present invention, wherein FIG. 4A is a cross-sectional view of the microlens array sheet, and FIG. FIG. 3C is a plan view of a microlens array sheet having a delta lens arrangement, and FIG. 4D is a plan view of a microlens array sheet having a honeycomb arrangement.
[Explanation of symbols]
1 Microlens substrate (support)
2 ionizing radiation-curable resin layer 3 transfer sheet substrate 4 first colored layer (aggregated release layer)
Reference Signs List 5 Microphone lens array 6 Ionizing radiation 7 Non-photosensitive pattern 8 Photosensitive pattern 9 Second colored layer (interface release layer)
10 Transfer sheet

Claims (4)

電離放射線が透過可能とされた支持体の一方の面にレンズを形成し、反対面に粘着性を有する電離放射線硬化型樹脂層を形成する段階と、
前記レンズの側より電離放射線を照射して、前記電離放射線硬化型樹脂層の前記レンズにより集光した部分を硬化させて粘着性を喪失させ、非集光部分の粘着性は維持させる段階と、
前記電離放射線硬化型樹脂層の側より、少なくとも二層からなる着色層が形成された転写シートを圧着、剥離することにより遮光パターンを形成する段階と、を具備することを特徴とする遮光パターン形成方法。
Forming a lens on one surface of the support that is capable of transmitting ionizing radiation, and forming an ionizing radiation-curable resin layer having tackiness on the other surface,
Irradiating ionizing radiation from the side of the lens, curing the portion focused by the lens of the ionizing radiation-curable resin layer to lose adhesiveness, maintaining the adhesiveness of the non-light-collecting portion,
Forming a light-shielding pattern by pressure-bonding and peeling off a transfer sheet on which at least two colored layers are formed from the side of the ionizing radiation-curable resin layer. Method.
少なくとも二層からなる着色層間は互いに密着し、前記転写シートの基材に最も近い着色層が界面剥離しないよう、かつ次層以降が凝集破壊しないように積層されていることを特徴とする請求項1に記載の遮光パターン形成方法。The at least two colored layers are in close contact with each other, and the colored layer closest to the base material of the transfer sheet is laminated so as not to be peeled off at the interface, and that the subsequent layers are not cohesively broken. 2. The method for forming a light-shielding pattern according to 1. 前記転写シートの基材に最も近い着色層の顔料分は60重量部〜90重量部とされ、次層以降の顔料分は10重量部〜59重量部とされていることを特徴とする請求項1または2に記載の遮光パターン形成方法。The pigment content of the coloring layer closest to the base material of the transfer sheet is 60 parts by weight to 90 parts by weight, and the pigment content of the subsequent layers is 10 parts by weight to 59 parts by weight. 3. The method for forming a light-shielding pattern according to 1 or 2. 前記転写シートの基材に最も近い着色層の膜厚は0.1μm〜3μmとされ、次層以降の膜厚は1μm〜10μmとされていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の遮光パターン形成方法。The film thickness of the colored layer closest to the base material of the transfer sheet is 0.1 μm to 3 μm, and the film thickness of the subsequent layer is 1 μm to 10 μm. The method for forming a light-shielding pattern according to claim 1.
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