JP4156655B2 - （±）−３ａ、６、６、９ａ−テトラメチルデカヒドロナフト［２、１−ｂ］フラン−２（１Ｈ）−オン類の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、（±）−３ａ、６、６、９ａ−テトラメチルデカヒドロナフト［２、１−ｂ］フラン−２（１Ｈ）−オン類の製造方法の新規な製造方法に関する。

下記一般式（ＶＩ）で表される（±）−３ａ、６、６、９ａ−テトラメチル−（３ａα、５ａβ、９ａα、９ｂβ）−デカヒドロナフト［２、１−ｂ］フラン−２（１Ｈ）−オン（以下、（±）−スクラレオライドということがある）は、下記一般式（ＩＩＩ）で表される（±）−３ａ、６、６、９ａ−テトラメチルデカヒドロナフト［２、１−ｂ］フラン−２（１Ｈ）−オン類の一ジアステレオマーであり、下記一般式（Ｖ）で表される（±）−３ａ、６、６、９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２、１−ｂ］フラン類の中でも特に香気特性と残香性に優れる重要なアンバー様香料素材である、下記一般式（ＶＩＩ）で表される（±）−３ａ、６、６、９ａ−テトラメチル−（３ａα、５ａβ、９ａα、９ｂβ）−ドデカヒドロナフト［２、１−ｂ］フラン（以下、（±）−アンブロキサンということがある）の前駆体等として有用な化合物である。

本来、アンブロキサンは、天然由来の光学活性体である（−）−アンブロキサンのことを示す。アンブロキサンは、天然植物クラリーセージの抽出物である（−）−スクラレオールを出発原料とし、（＋）−スクラレオライドを経由する製造方法が多数開示されており（例えば、非特許文献１参照）、また実際に工業化が達成されている。しかしながら、それらの製造方法は、天然原料を用いるために供給量と供給安定性に問題があり、また、（−）−スクラレオールの酸化分解工程においてクロム酸や過マンガン塩などの酸化剤を用いており、環境負荷の大きい製造方法であるという問題があった。
このため、代替素材となりうる石化原料由来の（±）−スクラレオライド及び（±）−アンブロキサンの安価な製造方法開発が望まれている。

そこで、（±）−スクラレオライドを経由する（±）−アンブロキサンの製造方法として、例えば下記反応式（Ａ）で表される、ファルネソール又はネロリドールを出発原料とする６工程の製造方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。

この方法によれば、安価な原料を比較的高い収率でホモファルネシル酸に変換することができる一方、シアン化カリウムや三臭化リンなど、毒性又は腐食性が極めて強い反応剤を原料に対して等モル量以上用いるため、工業的規模での製造に十分適していないという問題があった。
また、ホモファルネシル酸を環化して前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を得る工程に関しては他にも多数の報告があり、反応に用いる酸性剤の種類や反応温度などの条件によって（±）−スクラレオライドのジアステレオ選択性が大きく変化することが知られている。しかし、より好ましいジアステレオマーである（±）−スクラレオライドを主生成物として得るためには、非常に強い酸性剤や極低温下での反応が有利であり、工業的規模での製造に十分適しているとはいえなかった。

また、（±）−スクラレオライドを経由しない（±）−アンブロキサンの製造方法も多数報告されている。特に下記の二つの反応式（Ｂ）及び（Ｃ）で表される方法では、（＋）−（Ｅ）−ネロリドールから３工程、ジヒドロ−β−ヨノンから４工程で、一般式（Ｖ）で表される化合物を得られることが知られている（例えば、非特許文献２参照）。

しかし、これらの方法は、従来の（±）−アンブロキサン製造方法と比して工程数が短いという長所がある一方、（３Ｅ、７Ｅ）−ホモファルネシル酸ジメチルアミド、あるいは（Ｅ）−β−モノシクロホモファルネシル酸ジメチルアミドを対応するアルコール体へ還元する工程において、空気中の湿気などの水分と激しく反応して発火の危険性のある強力な還元剤（水素化トリエチルホウ素リチウム等）を用いているので、工業的規模での製造には十分適しているとはいえなかった。

西独国特許第３２４００５４号明細書 テトラへドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、第４３巻、１８７１頁、１９８７ ジャーナル・オブ・オルガニック・ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、第６１巻、２２１５頁、１９９６年

本発明の課題は、容易にかつ安価に調達可能な原料から、短工程かつ簡便な方法により（±）−３ａ、６、６、９ａ−テトラメチルデカヒドロナフト［２、１−ｂ］フラン−２（１Ｈ）−オン類を、さらには（±）−３ａ、６、６、９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２、１−ｂ］フラン類を製造することができる、工業的に有利な製造方法を提供することにある。

本発明者らは、安価な出発原料から容易に得られる（±）−ホモファルネシル酸アミド及び／又はモノシクロホモファルネシル酸アミドを、酸性剤の存在下において直接環化した後に加水分解するという新規な反応によって、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を工業的に有利に得ることができることを見出した。

すなわち、本発明は、一般式（Ｉ）：

（式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基を示し、波線はシス又はトランス配置の炭素−炭素単結合を示す）
で表されるホモファルネシル酸アミド又は一般式（ＩＩ）：

（式中、Ｒ¹、Ｒ²及び波線は前記と同じ意味であり、点線はいずれかの位置に炭素−炭素二重結合があることを示す）
で表されるモノシクロホモファルネシル酸アミドを、硫酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、クロロスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、四塩化スズ、四塩化チタン及び三フッ化ホウ素エーテル錯体から選ばれる１種以上の酸性剤の存在下で環化し、さらに加水分解することによる一般式（ＩＩＩ）：

で表される（±）−３ａ、６、６、９ａ−テトラメチルデカヒドロナフト［２、１−ｂ］フラン−２（１Ｈ）−オン類の製造方法である。

本発明の製造方法によれば、安価な出発原料から容易に得られる（±）−ホモファルネシル酸アミド又はモノシクロホモファルネシル酸アミドを、特定の酸性剤の存在下において直接環化した後に加水分解するという短工程かつ簡便な方法により、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物及び一般式（Ｖ）で表される化合物を、工業的に有利に得ることができる。また、本発明によれば、一般に収率やジアステレオ選択性を高めるために要する強い酸性剤及び極低温な反応温度が不要であることから、一般式（ＶＩ）で表される（±）−スクラレオライドが、より温和で工業化に適した条件下で、十分に高いジアステレオ選択性で得られる。

［ホモファルネシル酸アミド及びモノシクロホモファルネシル酸アミドの調製］
本発明に用いられるホモファルネシル酸アミドは、一般式（Ｉ）で表される化合物である。

ここで、式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基を示し、波線はシス又はトランス配置の炭素−炭素単結合を示す。炭素数１〜４のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基及びｔ−ブチル基が挙げられるが、容易に調達可能である観点から、メチル基が好ましい。

ホモファルネシル酸アミドは、例えば（±）−ネロリドールと下記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジアセタールから調製することができる。

ここで、式中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基を示す。炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、及びｔ−ブチル基等が挙げられるが、容易に調達可能であることから、Ｒ¹〜Ｒ⁴はいずれもメチル基であることが最も好ましい。

ホモファルネシル酸アミドの原料となる（±）−ネロリドールは、一般的に市場に流通するものを用いることができる。（±）−ネロリドールは（Ｅ）−体及び（Ｚ）−体の幾何異性体混合物であり、この混合物を原料とした場合に得られるホモファルネシル酸アミドは４種類（（３Ｅ、７Ｅ）−体、（３Ｚ、７Ｅ）−体、（３Ｅ、７Ｚ）−体、及び（３Ｚ、７Ｚ）−体）の幾何異性体混合物となる。同様に、モノシクロホモファルネシル酸アミドの原料となるジヒドロヨノンには二重結合の位置が異なるα−体、β−体、及びγ−体の３種の幾何異性体が存在するため、混合物を原料とした場合は、計６種類のモノシクロホモファルネシル酸アミドが得られる。本発明においては、上記（±）−ネロリドール及びジヒドロヨノンの幾何異性体比率は特に限定されないので、混合物をそのまま原料として用いてもよいし、あらかじめ異性体分離した（±）−ネロリドールや立体選択的に調製したジヒドロヨノンを用いることも可能である。得られたホモファルネシル酸アミド、モノシクロホモファルネシル酸アミドについても、幾何異性体混合物をそのまま原料として環化反応を行ってもよいし、事前に異性体分離操作を行ってもよい。

本発明に用いられるモノシクロホモファルネシル酸アミドは、一般式（ＩＩ）で表される化合物である。

ここで、式中、Ｒ¹、Ｒ²及び波線は前記と同様であり、点線はいずれかの位置に炭素−炭素二重結合があることを示す。
モノシクロホモファルネシル酸アミドは、ジヒドロヨノンと例えばビニルマグネシウムブロマイドとを反応させるか、あるいはジヒドロヨノンにアセチレンを付加した後にリンドラー触媒等を用いた選択水添によって（±）−モノシクロネロリドールとし、さらに上記ホモファルネシル酸アミドと同様にＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミドジアセタールとの反応を行うことで調製できる。

［一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の調製］
本発明の一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の製造方法では、まず酸性剤と溶媒の混合液に一般式（Ｉ）で表されるホモファルネシル酸アミド及び／又は一般式（ＩＩ）で表されるモノシクロホモファルネシル酸アミドを滴下して環化反応を行い、下記反応式（Ｄ）に示される環状エナミン誘導体を得る。
環化反応に用いる酸性剤としては、硫酸あるいはメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、クロロスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の硫酸と同等以上の酸強度を有するブレンステッド酸、及び金属塩化物や三フッ化ホウ素エーテル錯体等のルイス酸を挙げることができる。（±）−スクラレオライドのジアステレオ選択性の観点から、いずれの酸性剤を用いてもよいので、安価で工業的に取り扱い容易な硫酸、メタンスルホン酸、クロロスルホン酸、四塩化スズ、四塩化チタンが好ましい。
酸性剤は、原料のホモファルネシル酸アミド及び／又はモノシクロホモファルネシル酸アミドに対して０．１〜１０モル倍用いるが、原料を完全に転化させるために２モル倍以上用いるのがより好ましく、製造コストと後処理の負荷の観点から７モル倍以下用いるのがより好ましい。

環化反応は無溶媒でも実施可能であるが、原料の重合による収率低下を抑制する観点から、原料のホモファルネシル酸アミド及び／又はモノシクロホモファルネシル酸アミドに対して１〜１００質量倍の溶媒を用いることが好ましい。酸性剤存在下で不活性な炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ニトロ炭化水素類又はエーテル類等の溶媒であれば特に制限なく溶媒を用いることができるが、回収操作の観点から低沸点で非水溶性の溶媒が好ましく、安価であることからジクロロメタン、クロロホルム、トルエン及びキシレン等が特に好ましい。
原料のホモファルネシル酸アミド及び／又はモノシクロホモファルネシル酸アミドは、これらの溶媒に溶解させるか無溶媒条件で、攪拌しながら滴下すればよく、生産性の観点から、無溶媒で滴下することが好ましい。滴下速度は滴下によって反応液温度が急激に上昇しない範囲であれば任意に選択できる。
環化反応は−７０〜１００℃の範囲内で実施できるが、工業化する際の設備負荷の観点から−２０℃以上が好ましい。また、重合などの副反応を抑制する観点から５０℃以下が好ましく、（±）−スクラレオライドを高選択的に得る観点から１０℃以下がより好ましい。
このように、本発明によれば、一般にジアステレオ選択性を高めるために要する強い酸性剤及び極低温な反応温度が不要であることから、より温和で工業化に適した条件下で、下記一般式（ＶＩ）であらわされる化合物（（±）−スクラレオライド）が、十分に高いジアステレオ選択性で得ることができる。

本発明の反応は、その機構については十分解明するには至っていないが、下記反応式（Ｄ）に示すように、滴下終了後に環状エナミン誘導体を加水分解することで、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物に転化すると推測される。

滴下終了後に水を添加し、中間体である環状エナミン誘導体の消失を確認するまで、酸性条件下のまま０℃から溶媒沸点の範囲内で撹拌する。
ここで、滴下終了後に一度酸性剤を塩基性剤で中和して塩を除去した後に、改めて原料のホモファルネシル酸アミド及び／又はモノシクロホモファルネシル酸アミドに対して０．０１〜５モル倍の他の酸性剤を加えて加水分解してもよい。他の酸性剤としては酢酸等の弱酸性カルボン酸や希塩酸、希硫酸等が挙げられる。
加水分解終了後に酸性剤を中和して、有機溶媒による抽出及び溶媒除去の操作を行い、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を得ることができる。

［一般式（Ｖ）で表される化合物の調製］
一般式（Ｖ）で表される化合物は、上記で得られた一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を、特許文献１や非特許文献１などの既知法で還元、環化することにより得ることができる。具体的には、以下の反応式（Ｅ）に示すように、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を水素化リチウムアルミニウム等の還元剤の共存下で還元して一般式（ＩＶ）で表される（±）−ジオール体とし、これをオキシ塩化リン等の脱水剤の共存下で環化して一般式（Ｖ）で表される化合物を得るものである。

また、得られた一般式（Ｖ）で表される化合物を再結晶法やカラムクロマト法により異性体分離することで、アンバー香気成分としてより好ましい（±）−アンブロキサンの純度を向上することもできる。

（１）収率の決定
実施例で得られた化合物の収率は、ガスクロマトグラフィー内標定量分析法によって求めた。ただし、（±）−スクラレオライド及び（±）−アンブロキサンのジアステレオマーの定量分析には、それぞれ（±）−スクラレオライド及び（±）−アンブロキサンの検量線を用いた。

合成例１：ホモファルネシル酸ジメチルアミドの合成
キシレン２００ｇに（±）−ネロリドール２２２ｇ（１．０ｍｏｌ、幾何異性体比率：Ｅ／Ｚ＝６０／４０）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール１３５ｇ（１．１ｍｏｌ）を加え、副生するメタノールを留出させながら２４時間還流下で撹拌した。溶媒留去後に減圧下で蒸留し、ホモファルネシル酸ジメチルアミドの４幾何異性体混合物２１１ｇ（純度９７％、収率７４％）を得た。液体クロマトグラフィー分析より求めた幾何異性体比率は（３Ｅ、７Ｅ）−体３２％、（３Ｚ、７Ｅ）−体２７％、（３Ｅ、７Ｚ）−体２２％、（３Ｚ、７Ｚ）−体１９％であった。

合成例２：（±）−β−モノシクロネロリドールの合成
無水テトラヒドロフラン３００ｍｌにジヒドロ−β−ヨノン１９４ｇ（１．０ｍｏｌ）を溶解させ１０℃に冷却したところに、臭化ビニルマグネシウム１０４ｇ（１．２ｍｏｌ）の無水ＴＨＦ溶液を５時間かけて滴下し、さらに１０℃で１時間撹拌した。次いで、０℃に冷却しながら１０％−塩化アンモニウム水溶液４００ｍｌを滴下し、水層と有機層を分離後に水層をジエチルエーテルで２回抽出した。合わせた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄し、乾燥、溶媒留去後にさらに減圧下で蒸留して（±）−β−モノシクロネロリドール１９９ｇ（純度９４％、収率８４％）を得た。

合成例３：β−モノシクロホモファルネシル酸ジメチルアミドの合成
キシレン１００ｇに合成例２で合成した（±）−β−モノシクロネロリドール４７ｇ（純度９４％、０．２０ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール５２ｇ（０．４４ｍｏｌ）を加え、合成例１と同様の操作を行い、β−モノシクロホモファルネシル酸ジメチルアミドの２幾何異性体混合物５１ｇ（純度９０％、収率８２％）を得た。液体クロマトグラフィー分析より求めた幾何異性体比率は（Ｅ）−体５８％、（Ｚ）−体４２％であった。

実施例１：一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の合成（１）
濃硫酸２．２ｇ（２１ｍｍｏｌ）とジクロロメタン２０ｇとの混合液を０℃に冷却し、合成例１で合成したホモファルネシル酸ジメチルアミド２．０ｇ（純度９７％、７．０ｍｍｏｌ）の１０％ジクロロメタン溶液を２時間かけて滴下した。水１０ｇを加えた後に２５℃で２時間撹拌した。水酸化ナトリウム水溶液で水層を中和後、有機層を分離し、さらに水層をジクロロメタン１０ｇで２度抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥、溶媒留去して橙色固体１．８ｇを得た。分析の結果、この固体には一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が計１．２ｇ（収率６８％）含まれており、（±）−スクラレオライドのジアステレオ選択性は４１％であった。

実施例２〜５：一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の合成（２）
実施例１で用いた酸性剤、溶媒及び温度条件を表１のように変えた以外は、実施例１と同様に反応を行った。収率及び選択率の結果を表１にまとめる。収率は一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の値を、選択率は（±）−スクラレオライドの値を示す。

実施例６：一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の合成の合成（３）
濃硫酸２．３ｇ（２３ｍｍｏｌ）とトルエン２０ｇとの混合液を０℃に冷却し、合成例３で合成したβ−モノシクロホモファルネシル酸ジメチルアミド２．４ｇ（純度９０％、７．７ｍｍｏｌ）の１０％トルエン溶液を３０分かけて滴下した。水酸化ナトリウム水溶液で中和し、一度水層を除去した後に、再度水１０ｇと酢酸１．０ｇ（１７ｍｍｏｌ）を加えて５時間還流下で撹拌した。室温まで冷却した後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、分離した水層をトルエン１０ｇで２度抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥、溶媒留去して暗赤色固体２．４ｇを得た。分析の結果、この固体には一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が計０．７９ｇ（収率４１％）含まれており、（±）−スクラレオライドのジアステレオ選択性は５０％であった。

実施例７：一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の合成の合成（４）
反応温度を０℃から２０℃に変えた以外は、実施例１と同様の反応を行った。分析の結果、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の収率は６３％で、（±）−スクラレオライドのジアステレオ選択性は３０％であった。

実施例８：一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の合成の合成（５）
反応温度を０℃から４０℃に変えた以外は、実施例１と同様の反応を行った。分析の結果、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の収率は６３％で、（±）−スクラレオライドのジアステレオ選択性は２５％であった。

実施例９：一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の合成
濃硫酸９０ｇ（０．８６ｍｏｌ）とジクロロメタン１００ｇとの混合液を０℃に冷却し、合成例１で合成したホモファルネシル酸ジメチルアミド８６ｇ（純度９７％、０．３ｍｏｌ）を３時間かけて滴下した。水酸化ナトリウム水溶液で中和し、一度水層を除去した後に、有機層にテトラヒドロフラン１００ｇと２０％硫酸５０ｇ（０．１０ｍｏｌ）とを加えて１０時間還流下で撹拌した。再度水酸化ナトリウム水溶液で中和し、分離した水層をジクロロメタン３０ｇで２度抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥、溶媒留去して暗赤色固体７９ｇを得た。分析の結果、この固体には一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が計５６ｇ（収率７５％）含まれており、（±）−スクラレオライドのジアステレオ選択性は４０％であった。

実施例１０：一般式（ＩＶ）で表される化合物の合成
無水ジエチルエーテル１０ｇに水素化リチウムアルミニウム０．２８ｇ（７．４ｍｍｏｌ）を懸濁させ０℃に冷却したところに、実施例１で合成した一般式（ＩＩＩ）で表される化合物０．９１ｇ（３．７ｍｍｏｌ）を含む固体２．０ｇを無水ジエチルエーテル１０ｇに溶かした溶液を１５分かけて滴下した。滴下終了後にさらに１時間還流下で撹拌した。室温まで冷却した後に１０％−水酸化ナトリウム水溶液１５ｇを滴下し、分離した水層をジエチルエーテル１０ｇで２度抽出した。合わせた有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄後、乾燥、溶媒留去して薄黄色半固体２．１ｇを得た。分析の結果、この半固体には一般式（ＩＶ）であらわされる化合物が計０．８９ｇ（収率９６％）含まれていた。

実施例１１：一般式（Ｖ）で表される化合物の合成
無水ピリジン２０ｇに実施例９で合成した一般式（ＩＶ）で表される化合物０．７０ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を含む半固体１．７ｇを溶解させ０℃に冷却したところに、オキシ塩化リン０．５２ｇ（３．４ｍｍｏｌ）を５分かけて滴下し、さらに２時間撹拌した。続いて０℃で１０％−水酸化ナトリウム水溶液１０ｇを滴下し、分離した水層をジエチルエーテル１０ｇで２度抽出した。合わせた有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄後、乾燥、溶媒留去して黄色油状物１．５ｇを得た。分析の結果、この油状物には一般式（Ｖ）で表される化合物が計０．４４ｇ（収率６８％）含まれており、（±）−アンブロキサンのジアステレオ純度は４４％であった。

本発明の製造方法によれば、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物及び一般式（Ｖ）で表される化合物を、より温和で工業化に適した条件下で十分に高いジアステレオ選択性で得ることができるので、工業的に有利に製造することが可能となる。また、本発明によれば、一般にジアステレオ選択性を高めるために要する強い酸性剤及び極低温な反応温度が不要であることから、一般式（ＩＶ）で表される（±）−スクラレオライドが、より温和で工業化に適した条件下で、十分に高いジアステレオ選択性で得ることができる。

Claims (3)

1. 一般式（Ｉ）：
   

   

   （式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基を示し、波線はシス又はトランス配置の炭素−炭素単結合を示す。）
   で表されるホモファルネシル酸アミドを、硫酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、クロロスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、四塩化スズ、四塩化チタン及び三フッ化ホウ素エーテル錯体から選ばれる１種以上の酸性剤の存在下で環化し、さらに加水分解することによる一般式（ＩＩＩ）：
   

   

   で表される（±）−３ａ、６、６、９ａ−テトラメチルデカヒドロナフト［２、１−ｂ］フラン−２（１Ｈ）−オン類の製造方法。
2. 一般式（ＩＩ）：
   

   

   （式中、Ｒ ¹ 、Ｒ ² 及び波線は前記と同じ意味であり、点線はいずれかの位置に炭素−炭素二重結合があることを示す。）
   で表されるモノシクロホモファルネシル酸アミドを、硫酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、クロロスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、四塩化スズ、四塩化チタン及び三フッ化ホウ素エーテル錯体から選ばれる１種以上の酸性剤の存在下で環化し、さらに加水分解することによる一般式（ＩＩＩ）：
   

   

   で表される（±）−３ａ、６、６、９ａ−テトラメチルデカヒドロナフト［２、１−ｂ］フラン−２（１Ｈ）−オン類の製造方法。
3. 請求項１又は２に記載の方法により得られる一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を還元して、一般式（ＩＶ）：
   

   

   で表される（±）−ジオール体とした後に環化することによる一般式（Ｖ）：
   

   

   で表される（±）−３ａ、６、６、９ａ−テトラメチルドデカヒドロナフト［２、１−ｂ］フラン類の製造方法。