JP4154981B2 - Substrate, manufacturing method thereof, and electro-optical device - Google Patents

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【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示パネルにおける基板とその製造方法に関し、特に透明基板にカバーガラスを貼り合わせることにより製造する基板とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
周知のように、液晶ライトバルブ等の液晶パネルは、ガラス基板、石英基板等からなる2枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、TFTと称す)をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【0003】
また、TFTを配置したTFT基板と、このTFT基板に相対して配置される他方の基板(以下、対向基板と称す)とは、別々に製造され、この両基板は、パネル組み立て工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入されるようになっている。
【0004】
このパネル組立工程は、先ず、各基板の製作工程において夫々製造されたTFT基板と対向基板とを対向させた際、その対向面、即ち、対向基板、及びTFT基板の液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。その後、焼成を行い、さらに、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。次いで、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール部を形成し、このシール部を用いてTFT基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後、夫々製造されたTFT基板と対向基板とを対向させ、シール部の一部に設けられた切り欠きを介して液晶を封入するといった手法が用いられている。
【0005】
ここで、対向基板の製造方法についてさらに説明すると、まず、ガラス、石英等からなる透明基板の画素パターンとなる表面に、エッチングにより、開口率を高めるための凹型曲面部を設ける。次に、透明基板の前記凹型曲面部が設けられた面に未硬化の高屈折樹脂を貼設し、その後硬化させることによりマイクロレンズを形成し、さらに、この高屈折樹脂を介して透明基板の表面と同じ表面のカバーガラスを基板表面に貼り合わせ、その後、カバーガラスの表面を研削、研磨加工してカバーガラスを所定の厚さにし、この研削、研磨加工した面上に、配線近傍からの光漏れ等を防ぐための遮光膜(以下、BMと称す)を形成し、このBMの面上にTFT基板、及び対向基板上に電圧をかけるための透明電極(以下、ITOと称す)を形成することにより、対向基板を製造する方法が一般に知られている。(例えば特許文献1参照。)。
【0006】
【特許文献1】
特開2001−246599号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、このような対向基板(以下、単に基板という)の従来の製造方法においては、図16に示すように凹型曲面部101が設けられた透明基板100の表面に、高屈折樹脂110を介してカバーガラス120の表面を貼り合わせる工程において、カバーガラス120の表面が透明基板100の表面と同じ表面の大きさに形成されているため、図17に示すように、両者を貼り合わせた際、カバーガラス120がずれて透明基板100の端面から食み出してしまうと、後の工程で行われる研削、研磨加工の工程で、図18に示すように、カバーガラス120の食み出した端部120aに欠け、割れ等が生じ、基板製造の歩止まりの低下、及び製品不良が発生してしまうといった問題があった。
【0008】
本発明は、上記問題点に着目してなされたものであり、電気光学装置に用いる基板(対向基板)製造時の歩止まりの向上、及び製品不良を防止した基板とその製造方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の基板の製造方法は、透明基板の表面に複数の半球状の曲面部を形成する工程と、透明基板の表面に樹脂層を形成する工程と、樹脂層を接着剤としてカバーガラスを透明基板に接着する接着工程と、カバーガラスの表面を切削する工程と、を含み、カバーガラスの大きさは、透明基板の表面よりも小さく設けられ、接着工程において、カバーガラスは前記透明基板の表面からはみ出さないように接着されることを特徴とする。
また、複数の半球状の曲面部は、透明基板の表面において各々が凹状になるように設けられ、接着工程において、透明基板と屈折率が異なる樹脂層は、複数の曲面部に充填されることにより、複数のマイクロレンズを構成することが好ましい。
また、切削されたカバーガラスの表面に、遮光膜を形成する工程と、遮光膜の上層に透明電極を形成する工程とを、さらに含むことが好ましい。
上記目的を達成するため、本発明の基板の製造方法は、透明なマザー基板の表面において、個別基板ごとに複数の半球状の曲面部を形成する工程と、マザー基板の表面に樹脂層を形成する工程と、樹脂層を接着剤として大判カバーガラスをマザー基板に接着する接着工程と、大判カバーガラスの表面を切削する工程と、大判カバーガラスが接着されたマザー基板を、個別基板のサイズに切り分ける工程と、を含み、大判カバーガラスの大きさは、前記マザー基板の表面よりも小さく設けられ、接着工程において、大判カバーガラスはマザー基板の表面からはみ出さないように接着されることを特徴とする。
【0010】
本発明に係る電気光学装置は、前記記載の製造方法によって製造された基板からなる対向基板と、対向基板との間に電気光学層を挟持する素子基板と、を備え、素子基板には、複数の画素が設けられ、複数の画素は、それぞれが対応するマイクロレンズと重なるように形成されていることを特徴とする。
【0011】
本発明に係る基板は、カバーガラスを透明基板に貼り合わせることにより形成される基板において、上記透明基板の表面に半球状の曲面部を設け、しかるのち、上記透明基板の表面より小さい表面を有するカバーガラスを高屈折樹脂にて、上記透明基板の表面に同基板の表面から食み出さないように貼り合わせたことを特徴とする。
【0012】
また、本発明の基板の一つの態様としては、上記カバーガラスは、上記透明基板に貼り合わせて基板を形成した後、その表面を加工して、所定の厚さにすることを特徴とする。
【0013】
この基板によれば、上記カバーガラスの表面を上記透明基板の表面よりも小さくしたことにより、カバーガラスを透明基板に貼り合わせる基板の製造工程において、上記カバーガラスが上記透明基板の端面から食み出させずに貼り合わせることができるため、その後の工程において、上記カバーガラスを所定の厚さに研削、研磨加工をしても、割れ、欠け等の製品不良の発生を防止することができるという効果を有する。
【0014】
また、本発明の基板の一つの態様としては、上記カバーガラスは、上記高屈折樹脂の表面を保護することを特徴とする。
【0015】
また、本発明の基板の一つの態様としては、上記カバーガラスは、その表面を研削、研磨加工して所定の厚さにした後、遮光膜、及び透明電極が成膜されることを特徴とする。
【0016】
さらに、上記高屈折樹脂は、屈折率を異ならせることにより、上記半球状の曲面部とともに、マイクロレンズとして機能することを特徴とする。
【0017】
この基板によれば、上記カバーガラスが上記高屈折樹脂の表面を保護するため、その後の遮光膜、及び透明電極の成膜工程において、基板に形成された半球状の曲面部とともにマイクロレンズして機能する上記高屈折樹脂の表面を損傷することがないという効果を有する。
【0018】
また、本発明の基板の一つの態様としては、上記半球状の曲面部は、その表面が上記マイクロレンズの光学面となることを特徴とする。
【0019】
この基板によれば、上記半球状の曲面部の表面が、マイクロレンズの光学面となることにより、高屈折樹脂とで構成されるマイクロレンズの集光性を高めることができるという効果を有する。
【0020】
また、本発明の基板の一つの態様としては、上記半球状の曲面部は、さらに上記カバーガラスの前記透明基板に対向する面の、上記透明基板に設けられた前記曲面部に対応する位置に設けられることを特徴とする。
【0021】
この基板によれば、カバーガラスの前記透明基板に対向する面の、上記基板に設けられた半球状の曲面部に対応する位置にレンズを設けることにより、より一層基板の集光性を高めることができるという効果を有する。
【0022】
また、本発明の基板の一つの態様としては、上記半球状の曲面部は、少なくとも上記高屈折樹脂、及び上記カバーガラスとでマイクロレンズを構成することを特徴とする。
【0023】
この基板によれば、基板にマイクロレンズを構成することにより、基板の集光性を高めることができるため、基板の開口率を高めることができるという効果を有する。
【0024】
本発明に係る電気光学装置は、請求項1〜9の何れか1つに記載の基板によって構成される第1の基板と、上記第1の基板に対向配置されて上記第1の基板と共に複数の画素を構成する複数の画素電極を設けた第2の基板と、上記第1の基板及び上記第2の基板により挟持される電気光学物質とを具備したことを特徴とする。
【0025】
この装置によれば、電気光学装置に用いる第1の基板を、透明基板よりも小さいカバーガラスを透明基板に貼り合わせることで形成することにより、電気光学装置の製品信頼性の向上を図ることができるという効果を有する。
【0026】
本発明に係る基板の製造方法は、カバーガラスを透明基板に貼り合わせることにより形成される基板の製造工程において、上記カバーガラスの表面を上記透明基板の表面よりも小さくしたことを特徴とする。
【0027】
本発明の基板の製造方法によれば、上記カバーガラスの表面を上記透明基板の表面よりも小さくしたことにより、カバーガラスを透明基板に貼り合わせる基板の製造工程において、上記カバーガラスが上記透明基板の端面から食み出させずに貼り合わせることができるので、製品不良がないという効果を有する。
【0028】
また、本発明の基板の製造方法の一つの態様としては、透明基板の表面に半球状の曲面部を形成する工程と、半球状の曲面部を設けた上記透明基板の表面上に高屈折樹脂を貼設して、マイクロレンズを形成する工程と、上記高屈折樹脂が貼設された上記透明基板の表面に、上記透明基板の表面より小さい表面のカバーガラスを、前記高屈折樹脂を介して貼り合わせる工程とを具備したことを特徴とする。
【0029】
また、本発明の基板の製造方法の一つの態様としては、マザー透明基板上の複数の素子形成領域にそれぞれ各画素位置に対応した複数のレンズを形成する工程と、前記マザー透明基板の前記レンズ形成面に前記マザー透明基板の表面の面積よりも小さい面積のカバーガラスを前記マザー透明基板から食み出さないように貼り合わせて、前記複数の素子形成領域を覆う工程と、貼り合わせた前記カバーガラスの表面加工後に、貼り合わされた前記マザー透明基板及びカバーガラスを切断して前記素子形成領域単位で切り出す工程とを具備したことを特徴とする。
【0030】
本発明の基板の製造方法によれば、マザー透明基板上に高屈折樹脂を介してカバーガラスを張り合わせる工程において、上記カバーガラスの表面を上記透明基板の表面よりも小さく形成しているため、貼り合わせる際、上記カバーガラスが上記透明基板の端面から食み出させずに貼り合わせることができるため、その後の工程において、上記カバーガラスを所定の厚さに研削、研磨加工しても、割れ、欠け等の製品不良が発生することを防止することができ、製造時の歩止まりの向上を図ることができるという効果を有する。
【0031】
さらに、第1の透明基板上の1素子形成領域に各画素位置に対応した複数のレンズを形成する工程と、前記第1の透明基板の前記レンズ形成面に前記第1の透明基板の表面の面積よりも小さい面積の第2の透明基板を前記第1の透明基板から食み出さないように貼り合わせて、前記素子形成領域を覆う工程と、貼り合わされた前記第2の透明基板の表面を加工する工程とを具備したことを特徴とする。
【0032】
本発明の基板の製造方法によれば、第1の透明基板の1素子形成領域の表面に高屈折樹脂を介してカバーガラスを張り合わせる工程において、上記カバーガラスの表面を上記透明基板の表面よりも小さく形成しているため、貼り合わせる際、上記カバーガラスが上記透明基板の端面から食み出させずに貼り合わせることができるため、その後の工程において、上記カバーガラスを所定の厚さに研削、研磨加工しても、割れ、欠け等の製品不良が発生することを防止することができ、製造時の歩止まりの向上を図ることができるという効果を有する。
【0033】
【発明の実施の形態】
図1は、2枚の基板で構成された電気光学装置の構成を示す縦断面図である。
図1に示すように、電気光学装置50は、第2の基板(TFT基板)1と、これに対向する位置に配設された第1の基板(対向基板)2と、TFT基板1、及び対向基板2の両端部で両基板を接合するシール部3と、両基板間に封入された電気光学材料4を有して構成されている。
【0034】
上記対向基板2は、石英等で構成された透明基板10と、高屈折樹脂14と、カバーガラス15で形成されており、透明基板10の電気光学材料4に対向する面には半球状の凹曲面部13が規定個数形成され、この凹曲面部13が形成された透明基板10の表面に、高屈折樹脂14が形成され、さらに、高屈折樹脂14の表面に、カバーガラス15が貼設され、このカバーガラス15の表面にBM17及びITO18が形成されている。
【0035】
上記TFT基板1の電気光学材料4に対向する面には、画素スイッチング用TFT1aと、図示しない走査線、データ線、容量線の配線が形成された画素電極1bが形成されている。
【0036】
このように構成される電気光学装置50における第1の基板2が本発明の製造方法によって製作される。次に、本発明の一実施の形態である基板とその製造方法を、以下、図面を参照して説明する。
【0037】
図2乃至図11は、図1に示す基板2の製造方法を示した部分縦断面図であり、また、内、図7は、本発明の一実施の形態を示す基板の製造方法において、透明基板の表面にカバーガラスを貼り合わせる前の状態を示した部分縦断面図、図8は、図7の透明基板の表面にカバーガラスを貼り合わせた後の状態を示した部分縦断面図であり、さらに、図12は、図8を前方右斜め上方から見た斜視図、図13は、図12の透明基板及びカバーガラスを規定の大きさに切り出した状態を示す斜視図である。
【0038】
先ず、図2に示すように石英等からなる基板2のマザーガラス基板である透明基板10の全面に、マスク層11を形成する。透明基板10は、8インチ以上の大型の基板である。マスク層11は、透明基板10のエッチング処理においてエッチング速度が透明基板を構成する材質に対して十分に小さい種々の材料を用いて、例えば既存のCVD法やスパッタリング法等により形成する。
【0039】
次に、前記基板10の全面に形成されたマスク11に、図3に示すように、前記基板10の画素パターンを形成しようとする素子形成領域の任意の位置にピンホール12を規定数形成する。このピンホール12は、例えば既知のフォトリソグラフィ法によってマスク層11上にさらにフォトレジストからなるレジスト層を被覆し、このレジスト層を露光、現像して部分的に細孔を形成し、この細孔を通してドライエッチングを施すことによって形成できる。
【0040】
さらに、図4に示すように、ピンホール12を元に、ウエットエッチングを行うことにより、前記基板10に半球状の凹曲面部13をピンホール12と同数個形成する。この半球状の凹曲面部13の表面は、後述するマイクロレンズの光学面となる。ここでウエットエッチングとは、薬液に付けてエッチングを行う方法である。ここでは、前記基板10に対し等方性のある例えば弗化水素と硝酸の混合水溶液などの弗酸系のエッチング液を用いるため、前記基板10を半球状に切削することができる。また、エッチングの対象は、薬液の種類を変更することによって変えることができるため、半球状の凹曲面部13を形成するウエットエッチングでマスク11が切削されることはない。
【0041】
続いて、図5に示すように、ウエットエッチングにより、マスク11の除去を行う。ここでもマスク除去用の例えば、弗酸と弗化アンモニウムの混合水溶液を用いるため、前記基板10が切削されることはない。このようにして、半球状の凹曲面部13が規定個数形成された前記基板10が作成される。
【0042】
次に、図6に示すように、前記基板10の半球状の凹曲面部13が設けられた面に、未硬化の高屈折樹脂14を既知の方法により貼設する。さらに、図7に示すように、高屈折樹脂14が貼設された面に、高屈折樹脂14により形成されたマイクロレンズ16を保護するためのカバーガラス15を高屈折樹脂14を介して貼り合わせる。高屈折樹脂14は接着剤の役割を果たし、硬化することによって基板10とカバーガラス15とを接着する。この硬化処理によって、高屈折樹脂14は、凹曲面部13とともにマイクロレンズ16を形成することになり、その結果、基板の集光性を高め、かつ基板による開口率を向上させる。
【0043】
なお、上記カバーガラス15は、前記基板10と同様に半導体製造によって製造された大きな平板である。
ここで、上述した図16乃至図18に示すように、貼り合わせる上記カバーガラスの表面が前記透明基板の表面と同面積であると、両者のそれぞれの表面を対向して貼り合わせた際、上記カバーガラスがずれて前記透明基板の端部から食み出てしまうという問題があった。
【0044】
そこで、本発明では、図7に示すように、カバーガラス15の表面を、前記基板10の表面よりも小さく形成したのである。このようにすれば、高屈折樹脂14を介してカバーガラス15の表面を前記基板10の表面に貼り合わせた際、図8に示すように、カバーガラス15が前記基板10の端部から食み出すことがない。このようにして貼り合わせたものを図12に示す。
【0045】
続いて、図9に示すように、カバーガラス15に対し、基板2(図1参照)として必要な厚み(例えば100μ以下)に切削、研磨加工を行う。このとき、カバーガラス15は、上述したように、前記基板10の端部から食み出させずに貼り合わせてあるため、カバーガラス15の端部が切削、研磨加工されても、欠け、割れ等が発生することがない。
【0046】
次いで、図11に示すように、カバーガラス15の高屈折樹脂14と貼り合わせた面とは反対の面に、既存の方法によりBM17をマイクロレンズ16の間隔毎に成膜し、最後に、図11に示すように、このBM17の表面に既存の方法により、ITO18を成膜する。その後、図13に示すように、これらの工程を経て前記基板10に形成したものを、規定の大きさ(各素子形成領域30)に切り出すことによりマイクロレンズ16を持った基板2が製造される。
【0047】
このように、本発明の一実施の形態における基板とその製造方法は、カバーガラス15の表面を、透明基板10の表面よりも小さく形成したため、カバーガラス15を高屈折樹脂14を介して、透明基板10に貼り合わせる際、上記カバーガラス15が上記透明基板10の端面から食み出させずに貼り合わせることができるため、後の工程で行われるカバーガラス15の研削、研磨工程で、欠け、割れ等の発生を防ぐことができる。
【0048】
尚、図14は、本実施形態の変形例を示したものであって、カバーガラス25にも、上述したウエットエッチングと同じ手法で、透明基板20に形成された半球状の凹曲面部23に対向する位置に半球状の凹曲面部26をエッチングにより形成し、その後、このカバーガラス25を高屈折樹脂24を介して前記曲面部23がエッチングされた透明基板20と貼り合わせ、前記曲面部23と高屈折樹脂24と上記曲面部26とでマイクロレンズ27を形成すれば、より一層、基板の開口率を高めることができる。
【0049】
また、上述した上記カバーガラスと上記透明基板を貼り合わせて対向基板を製造する工程においては、上記透明基板に半球状の凹曲面部を形成したが、これに限らず半球状の凹曲面部を形成しない上記透明基板に適用しても良い。
【0050】
また、上述した実施形態においては、基板2のマザー基板である透明基板10の全面に透明基板10の表面よりもやや小さいカバーガラス15を貼り合わせ、その後規定の大きさに切り出すことにより、基板2を製造すると示したが、これに限らず、図15に示すように、透明基板10及びカバーガラス15を初めの工程で規定の大きさ(各素子形成領域30)に切りだし、その後上述した工程で透明基板10に切り出したカバーガラス15を貼り合わせても良いことは勿論である。
【0051】
さらに、TFT基板に対向する、対向基板とその製造方法について示したが、これに限らずTFD基板に対向して形成される基板に適用しても良い。
【0052】
また、少なくとも透明基板並びにカバーガラスに形成された半球状の凹曲面部と、高屈折樹脂により、マイクロレンズは形成されると示したが、これに限らず、少なくとも透明基板並びにカバーガラスに形成する半球状の曲面部は、凸曲面部及び両凸曲面部でマイクロレンズを構成しても良い。
【0053】
さらに、以上の説明は、液晶表示装置の例であるが、本発明は、マトリックス構成の、有機EL(エレクトロルミネッセンス)のディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置等にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 電気光学装置の構成を示す縦断面図、
【図2】 基板の製造方法において、透明基板の全面にマスクを形成した状態を示す縦断面図、
【図3】 図2のマスクに開口部を形成した状態を示す部分縦断面図、
【図4】 図3の透明基板にレンズを形成した状態を示す部分縦断面図、
【図5】 図4の透明基板全面のマスクを除去した状態を示す部分縦断面図、
【図6】 図5の透明基板表面に、高屈折樹脂を貼設した状態を示す部分縦断面図、
【図7】 本発明の一実施の形態を示す基板の製造方法において、図6の透明基板表面にカバーガラスを貼り合わせる前の状態を示す部分縦断面図、
【図8】 図7の透明基板の表面に、カバーガラスを貼り合わせた後の状態を示す部分縦断面図、
【図9】 図8の透明基板表面に貼り合わせたカバーガラスを、規定の厚みに削った状態を示す部分縦断面図、
【図10】 図9の透明基板表面と貼り合わせたカバーガラスの表面に、BMを形成した状態を示す部分拡大縦断面図、
【図11】 図10の透明基板表面と貼り合わせたカバーガラスの表面に、ITOを形成した状態を示す部分拡大縦断面図、
【図12】 図8を前方右斜め上方から見た斜視図、
【図13】 図12の透明基板及びカバーガラスを1素子形成領域に切り出した状態を示す斜視図、
【図14】 本発明の一実施の形態の基板の製造方法の変形例を示す部分縦断面図、
【図15】 本発明の一実施の形態の基板の製造方法の変形例を示す斜視図、
【図16】 従来の基板の製造方法において、透明基板の表面にカバーガラスを貼り合わせる前の状態を示す部分縦断面図、
【図17】 従来の基板の製造方法において、透明基板の表面にカバーガラスを貼り合わせた後の状態を示す部分縦断面図、
【図18】 従来の基板の製造方法において、透明基板の表面にカバーガラスを貼り合わせた後、端部に欠け、割れ等が発生した状態を示す部分縦断面図。
【符号の説明】
2…基板(対向基板)
10,20,100…透明基板
13,23,26,101…曲面部
14,24,110…高屈折樹脂
15,25,120…カバーガラス
16,27…マイクロレンズ
17…遮光膜(BM)
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate in a liquid crystal display panel and a manufacturing method thereof, and more particularly to a substrate manufactured by bonding a cover glass to a transparent substrate and a manufacturing method thereof.
[0002]
[Prior art]
As is well known, a liquid crystal panel such as a liquid crystal light valve is configured by sealing liquid crystal between two substrates made of a glass substrate, a quartz substrate, etc., and a thin film transistor (Thin Film Transistor, (Hereinafter referred to as TFT) are arranged in a matrix, a counter electrode is arranged on the other substrate, and the optical characteristics of the liquid crystal layer sealed between the two substrates are changed according to the image signal, thereby displaying an image. It is possible.
[0003]
In addition, the TFT substrate on which the TFT is disposed and the other substrate (hereinafter referred to as the counter substrate) disposed relative to the TFT substrate are manufactured separately, and both the substrates are highly accurate in the panel assembly process. After being bonded together, the liquid crystal is sealed.
[0004]
In this panel assembling process, first, when the TFT substrate and the counter substrate manufactured in the manufacturing process of each substrate are made to face each other, the opposing surface, that is, the counter substrate and the surface in contact with the liquid crystal layer of the TFT substrate are arranged. Then, an alignment film for aligning the liquid crystal molecules along the substrate surface is formed. This alignment film is formed, for example, by printing polyimide with a thickness of about several tens of nanometers. Thereafter, baking is performed, and a rubbing process is performed to determine the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied. Next, a seal portion serving as an adhesive is formed on the edge of one substrate, and the TFT substrate and the counter substrate are bonded together using this seal portion, and are cured by pressure bonding while performing alignment, and then each manufactured TFT. A technique is used in which the substrate and the counter substrate are opposed to each other, and liquid crystal is sealed through a notch provided in a part of the seal portion.
[0005]
Here, the manufacturing method of the counter substrate will be further described. First, a concave curved surface portion for increasing the aperture ratio is provided by etching on the surface to be the pixel pattern of the transparent substrate made of glass, quartz or the like. Next, an uncured high-refractive resin is attached to the surface of the transparent substrate on which the concave curved surface portion is provided, and then cured to form a microlens. A cover glass of the same surface as the surface is bonded to the substrate surface, and then the surface of the cover glass is ground and polished to a predetermined thickness, and this ground and polished surface is exposed from the vicinity of the wiring. A light shielding film (hereinafter referred to as BM) is formed to prevent light leakage, and a transparent electrode (hereinafter referred to as ITO) for applying a voltage to the TFT substrate and the counter substrate is formed on the surface of the BM. Thus, a method for manufacturing the counter substrate is generally known. (For example, refer to Patent Document 1).
[0006]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 2001-246599
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional manufacturing method of such a counter substrate (hereinafter simply referred to as a substrate), the surface of the transparent substrate 100 provided with the concave curved surface portion 101 as shown in FIG. In the step of bonding the surfaces of the cover glass 120, since the surface of the cover glass 120 is formed to the same surface size as the surface of the transparent substrate 100, as shown in FIG. If the glass 120 is displaced and protrudes from the end surface of the transparent substrate 100, the edge 120a that protrudes from the cover glass 120 is shown in FIG. Chipping, cracking, and the like occur, resulting in a decrease in substrate manufacturing yield and product defects.
[0008]
The present invention has been made paying attention to the above-mentioned problems, and provides a substrate and a method for manufacturing the same that improve yield in manufacturing a substrate (counter substrate) used in an electro-optical device, and prevents product defects. With the goal.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a substrate according to the present invention includes a step of forming a plurality of hemispherical curved portions on the surface of a transparent substrate, a step of forming a resin layer on the surface of the transparent substrate, and a resin layer. A bonding step of bonding the cover glass to the transparent substrate as an adhesive, and a step of cutting the surface of the cover glass. The size of the cover glass is smaller than the surface of the transparent substrate. The glass is bonded so as not to protrude from the surface of the transparent substrate.
Further, the plurality of hemispherical curved surface portions are provided so as to be concave on the surface of the transparent substrate, and the resin layer having a refractive index different from that of the transparent substrate is filled in the plurality of curved surface portions in the bonding step. Thus, it is preferable to configure a plurality of microlenses.
Moreover, it is preferable to further include the process of forming a light shielding film on the surface of the cut cover glass, and the process of forming a transparent electrode in the upper layer of a light shielding film.
In order to achieve the above object, the substrate manufacturing method of the present invention includes a step of forming a plurality of hemispherical curved portions for each individual substrate on the surface of the transparent mother substrate, and a resin layer formed on the surface of the mother substrate. The size of the individual substrate, the step of bonding the large cover glass to the mother substrate using the resin layer as an adhesive, the step of cutting the surface of the large cover glass, and the mother substrate to which the large cover glass is bonded A large cover glass having a size smaller than the surface of the mother substrate, and in the bonding step, the large cover glass is bonded so as not to protrude from the surface of the mother substrate. And
[0010]
An electro-optical device according to the present invention includes a counter substrate made of the substrate manufactured by the manufacturing method described above, and an element substrate that sandwiches an electro-optical layer between the counter substrate. These pixels are provided, and each of the plurality of pixels is formed so as to overlap with a corresponding microlens.
[0011]
The substrate according to the present invention is a substrate formed by bonding a cover glass to a transparent substrate, and has a hemispherical curved surface on the surface of the transparent substrate, and thus has a surface smaller than the surface of the transparent substrate. The cover glass is bonded to the surface of the transparent substrate with a high refractive resin so as not to protrude from the surface of the substrate.
[0012]
Moreover, as one aspect of the substrate of the present invention, the cover glass is bonded to the transparent substrate to form a substrate, and then the surface is processed to have a predetermined thickness.
[0013]
According to this substrate, since the surface of the cover glass is made smaller than the surface of the transparent substrate, in the manufacturing process of the substrate in which the cover glass is bonded to the transparent substrate, the cover glass bites from the end surface of the transparent substrate. Since they can be bonded together without being taken out, it is possible to prevent the occurrence of product defects such as cracks and chips even if the cover glass is ground and polished to a predetermined thickness in the subsequent steps. Has an effect.
[0014]
Moreover, as one aspect of the substrate of the present invention, the cover glass protects the surface of the high refractive resin.
[0015]
Further, as one aspect of the substrate of the present invention, the cover glass is characterized in that the surface thereof is ground and polished to a predetermined thickness, and then a light shielding film and a transparent electrode are formed. To do.
[0016]
Furthermore, the high refractive resin functions as a microlens together with the hemispherical curved surface portion by changing the refractive index.
[0017]
According to this substrate, since the cover glass protects the surface of the high refractive resin, in the subsequent light shielding film and transparent electrode film forming process, a microlens is formed together with the hemispherical curved surface portion formed on the substrate. There is an effect that the surface of the functioning high refractive resin is not damaged.
[0018]
In one aspect of the substrate of the present invention, the surface of the hemispherical curved surface is an optical surface of the microlens.
[0019]
According to this substrate, since the surface of the hemispherical curved surface portion becomes the optical surface of the microlens, there is an effect that the light condensing property of the microlens composed of the high refractive resin can be enhanced.
[0020]
Moreover, as one aspect of the substrate of the present invention, the hemispherical curved surface portion is further located at a position corresponding to the curved surface portion provided on the transparent substrate, on the surface of the cover glass facing the transparent substrate. It is provided.
[0021]
According to this substrate, the condensing property of the substrate is further improved by providing the lens at a position corresponding to the hemispherical curved surface portion provided on the substrate on the surface of the cover glass facing the transparent substrate. Has the effect of being able to.
[0022]
Moreover, as one aspect of the substrate of the present invention, the hemispherical curved surface portion constitutes a microlens with at least the high refractive resin and the cover glass.
[0023]
According to this substrate, since the condensing property of the substrate can be improved by configuring the microlens on the substrate, the aperture ratio of the substrate can be increased.
[0024]
An electro-optical device according to the present invention includes a first substrate configured by the substrate according to any one of claims 1 to 9, and a plurality of electro-optical devices together with the first substrate arranged to face the first substrate. And a second substrate provided with a plurality of pixel electrodes constituting the pixel, and the electro-optical material sandwiched between the first substrate and the second substrate.
[0025]
According to this apparatus, it is possible to improve the product reliability of the electro-optical device by forming the first substrate used in the electro-optical device by bonding the cover glass smaller than the transparent substrate to the transparent substrate. It has the effect of being able to.
[0026]
The substrate manufacturing method according to the present invention is characterized in that, in the manufacturing process of a substrate formed by bonding a cover glass to a transparent substrate, the surface of the cover glass is made smaller than the surface of the transparent substrate.
[0027]
According to the substrate manufacturing method of the present invention, in the manufacturing process of the substrate in which the cover glass is bonded to the transparent substrate by making the surface of the cover glass smaller than the surface of the transparent substrate, the cover glass is the transparent substrate. Since it can be bonded together without protruding from the end face of this, there is an effect that there is no product defect.
[0028]
Further, as one aspect of the substrate manufacturing method of the present invention, a step of forming a hemispherical curved surface portion on the surface of the transparent substrate, and a highly refractive resin on the surface of the transparent substrate provided with the hemispherical curved surface portion are provided. A step of forming a microlens and a cover glass having a surface smaller than the surface of the transparent substrate on the surface of the transparent substrate on which the high-refractive resin is pasted via the high-refractive resin. And a step of bonding.
[0029]
Further, as one aspect of the substrate manufacturing method of the present invention, a step of forming a plurality of lenses corresponding to each pixel position in a plurality of element forming regions on the mother transparent substrate, and the lens of the mother transparent substrate A step of covering the plurality of element forming regions by bonding a cover glass having an area smaller than the surface area of the mother transparent substrate to the formation surface so as not to protrude from the mother transparent substrate, and the bonded cover After the surface processing of the glass, a step of cutting the bonded mother transparent substrate and the cover glass and cutting them out in units of the element forming regions is provided.
[0030]
According to the substrate manufacturing method of the present invention, in the step of attaching the cover glass to the mother transparent substrate via the high refractive resin, the surface of the cover glass is formed smaller than the surface of the transparent substrate. When bonding, the cover glass can be bonded without protruding from the end face of the transparent substrate. In the subsequent steps, the cover glass can be cracked even if it is ground and polished to a predetermined thickness. It is possible to prevent the occurrence of product defects such as chipping, and to improve the yield during manufacturing.
[0031]
Furthermore, a step of forming a plurality of lenses corresponding to each pixel position in one element formation region on the first transparent substrate, and a surface of the first transparent substrate on the lens formation surface of the first transparent substrate Bonding a second transparent substrate having an area smaller than the area so as not to protrude from the first transparent substrate, covering the element forming region, and bonding the surface of the second transparent substrate And a processing step.
[0032]
According to the substrate manufacturing method of the present invention, in the step of attaching the cover glass to the surface of the one element formation region of the first transparent substrate through the high refractive resin, the surface of the cover glass is more than the surface of the transparent substrate. Since the cover glass can be bonded without sticking out from the end face of the transparent substrate, the cover glass is ground to a predetermined thickness in the subsequent steps. Even if the polishing process is performed, it is possible to prevent the occurrence of product defects such as cracks and chips, and to improve the yield during manufacturing.
[0033]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a configuration of an electro-optical device configured by two substrates.
As shown in FIG. 1, the electro-optical device 50 includes a second substrate (TFT substrate) 1, a first substrate (counter substrate) 2 disposed at a position facing the second substrate (TFT substrate) 1, the TFT substrate 1, and It is configured to include a seal portion 3 for joining both substrates at both ends of the counter substrate 2 and an electro-optic material 4 sealed between the substrates.
[0034]
The counter substrate 2 is formed of a transparent substrate 10 made of quartz or the like, a high refractive resin 14, and a cover glass 15. A surface of the transparent substrate 10 facing the electro-optic material 4 has a hemispherical concave shape. A predetermined number of curved surface portions 13 are formed, a high refractive resin 14 is formed on the surface of the transparent substrate 10 on which the concave curved surface portion 13 is formed, and a cover glass 15 is further pasted on the surface of the high refractive resin 14. BM 17 and ITO 18 are formed on the surface of the cover glass 15.
[0035]
On the surface of the TFT substrate 1 facing the electro-optic material 4, a pixel switching TFT 1a and a pixel electrode 1b on which scanning lines, data lines, and capacitor lines (not shown) are formed are formed.
[0036]
The first substrate 2 in the electro-optical device 50 configured as described above is manufactured by the manufacturing method of the present invention. Next, a substrate and a manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[0037]
2 to 11 are partial longitudinal sectional views showing a method for manufacturing the substrate 2 shown in FIG. 1, and FIG. 7 is a plan view showing the transparent substrate manufacturing method according to the embodiment of the present invention. FIG. 8 is a partial vertical cross-sectional view showing a state before the cover glass is bonded to the surface of the substrate, and FIG. 8 is a partial vertical cross-sectional view showing the state after the cover glass is bonded to the surface of the transparent substrate of FIG. Further, FIG. 12 is a perspective view of FIG. 8 as viewed obliquely from the upper front right, and FIG. 13 is a perspective view showing a state in which the transparent substrate and cover glass of FIG.
[0038]
First, as shown in FIG. 2, a mask layer 11 is formed on the entire surface of a transparent substrate 10 which is a mother glass substrate of a substrate 2 made of quartz or the like. The transparent substrate 10 is a large substrate of 8 inches or more. The mask layer 11 is formed by using, for example, an existing CVD method, a sputtering method, or the like using various materials whose etching rate is sufficiently smaller than the material constituting the transparent substrate in the etching process of the transparent substrate 10.
[0039]
Next, as shown in FIG. 3, a prescribed number of pinholes 12 are formed on the mask 11 formed on the entire surface of the substrate 10 at any position in the element formation region where the pixel pattern of the substrate 10 is to be formed. . The pinhole 12 is formed by, for example, coating a resist layer made of a photoresist on the mask layer 11 by a known photolithography method, and exposing and developing the resist layer to partially form pores. It can be formed by performing dry etching through.
[0040]
Further, as shown in FIG. 4, the same number of hemispherical concave curved surface portions 13 as the pinholes 12 are formed on the substrate 10 by performing wet etching based on the pinholes 12. The surface of the hemispherical concave curved surface portion 13 becomes an optical surface of a microlens described later. Here, the wet etching is a method of performing etching by applying to a chemical solution. Here, since a hydrofluoric acid-based etching solution such as a mixed aqueous solution of hydrogen fluoride and nitric acid that is isotropic with respect to the substrate 10 is used, the substrate 10 can be cut into a hemisphere. In addition, since the etching target can be changed by changing the type of the chemical solution, the mask 11 is not cut by the wet etching that forms the hemispherical concave curved surface portion 13.
[0041]
Subsequently, as shown in FIG. 5, the mask 11 is removed by wet etching. Also here, for example, a mixed aqueous solution of hydrofluoric acid and ammonium fluoride is used for removing the mask, so that the substrate 10 is not cut. In this way, the substrate 10 on which a prescribed number of hemispherical concave curved surface portions 13 are formed is produced.
[0042]
Next, as shown in FIG. 6, an uncured high refractive resin 14 is pasted on the surface of the substrate 10 on which the hemispherical concave curved surface portion 13 is provided by a known method. Further, as shown in FIG. 7, a cover glass 15 for protecting the microlens 16 formed of the high refractive resin 14 is bonded to the surface on which the high refractive resin 14 is pasted via the high refractive resin 14. . The high refractive resin 14 serves as an adhesive, and bonds the substrate 10 and the cover glass 15 by curing. By this curing process, the high refractive resin 14 forms the microlens 16 together with the concave curved surface portion 13, and as a result, the condensing property of the substrate is improved and the aperture ratio by the substrate is improved.
[0043]
The cover glass 15 is a large flat plate manufactured by semiconductor manufacturing in the same manner as the substrate 10.
Here, as shown in FIG. 16 to FIG. 18 described above, when the surface of the cover glass to be bonded has the same area as the surface of the transparent substrate, when the two surfaces are bonded to face each other, There was a problem that the cover glass slipped and protruded from the end of the transparent substrate.
[0044]
Therefore, in the present invention, the surface of the cover glass 15 is formed smaller than the surface of the substrate 10 as shown in FIG. In this way, when the surface of the cover glass 15 is bonded to the surface of the substrate 10 via the high refractive resin 14, the cover glass 15 bites from the end of the substrate 10 as shown in FIG. I do not put out. What was bonded in this way is shown in FIG.
[0045]
Subsequently, as shown in FIG. 9, the cover glass 15 is cut and polished to a necessary thickness (for example, 100 μm or less) as the substrate 2 (see FIG. 1). At this time, as described above, since the cover glass 15 is bonded without protruding from the end portion of the substrate 10, even if the end portion of the cover glass 15 is cut and polished, chipping or cracking is caused. Etc. does not occur.
[0046]
Next, as shown in FIG. 11, BMs 17 are formed at intervals of the microlenses 16 on the surface opposite to the surface of the cover glass 15 bonded to the high refractive resin 14 by the existing method. 11, ITO 18 is formed on the surface of the BM 17 by an existing method. After that, as shown in FIG. 13, the substrate 2 having the microlenses 16 is manufactured by cutting the substrate 10 formed through these steps into a predetermined size (each element formation region 30). .
[0047]
As described above, in the substrate and the manufacturing method thereof according to the embodiment of the present invention, since the surface of the cover glass 15 is formed smaller than the surface of the transparent substrate 10, the cover glass 15 is transparent through the high refractive resin 14. When the cover glass 15 is bonded to the substrate 10, the cover glass 15 can be bonded without protruding from the end surface of the transparent substrate 10, so that the cover glass 15 is ground and polished in a later step, and chipped. Generation of cracks and the like can be prevented.
[0048]
FIG. 14 shows a modification of the present embodiment. The cover glass 25 is also formed on the hemispherical concave curved surface portion 23 formed on the transparent substrate 20 by the same method as the wet etching described above. A hemispherical concave curved surface portion 26 is formed by etching at an opposing position, and then the cover glass 25 is bonded to the transparent substrate 20 with the curved surface portion 23 etched through a high refractive resin 24, and the curved surface portion 23 is bonded. If the microlens 27 is formed by the high refractive resin 24 and the curved surface portion 26, the aperture ratio of the substrate can be further increased.
[0049]
Further, in the step of manufacturing the counter substrate by bonding the cover glass and the transparent substrate described above, a hemispherical concave curved surface portion is formed on the transparent substrate, but not limited thereto, a hemispherical concave curved surface portion is formed. You may apply to the said transparent substrate which does not form.
[0050]
In the above-described embodiment, the cover glass 15 that is slightly smaller than the surface of the transparent substrate 10 is bonded to the entire surface of the transparent substrate 10 that is the mother substrate of the substrate 2, and then cut out to a predetermined size to obtain the substrate 2. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 15, the transparent substrate 10 and the cover glass 15 are cut into a predetermined size (each element formation region 30) in the first step, and then the above-described steps. Of course, the cover glass 15 cut out on the transparent substrate 10 may be bonded together.
[0051]
Furthermore, although the counter substrate facing the TFT substrate and the manufacturing method thereof have been described, the present invention is not limited to this, and the present invention may be applied to a substrate formed facing the TFD substrate.
[0052]
In addition, although it has been shown that the microlens is formed by at least the hemispherical concave curved surface portion formed on the transparent substrate and the cover glass and the high refractive resin, it is not limited to this, and at least the microlens is formed on the transparent substrate and the cover glass The hemispherical curved surface portion may constitute a microlens by the convex curved surface portion and the biconvex curved surface portion.
[0053]
Furthermore, although the above description is an example of a liquid crystal display device, the present invention can also be applied to an organic EL (electroluminescence) display device, an electrophoretic display device, or the like having a matrix configuration.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a configuration of an electro-optical device,
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a state in which a mask is formed on the entire surface of a transparent substrate in the substrate manufacturing method;
FIG. 3 is a partial longitudinal sectional view showing a state where an opening is formed in the mask of FIG.
4 is a partial longitudinal sectional view showing a state in which a lens is formed on the transparent substrate of FIG.
5 is a partial longitudinal sectional view showing a state where the mask on the entire transparent substrate in FIG. 4 is removed;
6 is a partial longitudinal sectional view showing a state in which a high refractive resin is pasted on the transparent substrate surface of FIG.
7 is a partial longitudinal cross-sectional view showing a state before a cover glass is bonded to the transparent substrate surface of FIG. 6 in the substrate manufacturing method showing an embodiment of the present invention;
FIG. 8 is a partial longitudinal sectional view showing a state after a cover glass is bonded to the surface of the transparent substrate of FIG.
9 is a partial longitudinal sectional view showing a state where the cover glass bonded to the transparent substrate surface of FIG.
10 is a partially enlarged longitudinal sectional view showing a state in which BM is formed on the surface of the cover glass bonded to the transparent substrate surface of FIG.
11 is a partially enlarged longitudinal sectional view showing a state in which ITO is formed on the surface of the cover glass bonded to the transparent substrate surface of FIG. 10,
FIG. 12 is a perspective view of FIG.
13 is a perspective view showing a state in which the transparent substrate and the cover glass of FIG.
FIG. 14 is a partial longitudinal sectional view showing a modification of the substrate manufacturing method according to one embodiment of the present invention;
FIG. 15 is a perspective view showing a modification of the substrate manufacturing method according to the embodiment of the present invention;
FIG. 16 is a partial longitudinal sectional view showing a state before a cover glass is bonded to the surface of a transparent substrate in a conventional substrate manufacturing method;
FIG. 17 is a partial longitudinal sectional view showing a state after a cover glass is bonded to the surface of a transparent substrate in a conventional substrate manufacturing method;
FIG. 18 is a partial vertical cross-sectional view showing a state in which, after a cover glass is bonded to the surface of a transparent substrate, chipping, cracking, or the like occurs at the end in a conventional substrate manufacturing method.
[Explanation of symbols]
2 ... Substrate (opposite substrate)
10, 20, 100 ... transparent substrates 13, 23, 26, 101 ... curved surface portions 14, 24, 110 ... high refractive resins 15, 25, 120 ... cover glass 16, 27 ... micro lens 17 ... light shielding film (BM)

Claims (5)

透明基板の表面に複数の半球状の曲面部を形成する工程と、
前記透明基板の表面に樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層を接着剤としてカバーガラスを前記透明基板に接着する接着工程と、
前記カバーガラスの表面を切削する工程と、を含み、
前記カバーガラスの大きさは、前記透明基板の表面よりも小さく設けられ、
前記接着工程において、前記カバーガラスは前記透明基板の表面からはみ出さないように接着されることを特徴とする基板の製造方法。
Forming a plurality of hemispherical curved surfaces on the surface of the transparent substrate;
Forming a resin layer on the surface of the transparent substrate;
An adhesion step of adhering a cover glass to the transparent substrate using the resin layer as an adhesive;
Cutting the surface of the cover glass,
The size of the cover glass is smaller than the surface of the transparent substrate,
In the bonding step, the cover glass is bonded so as not to protrude from the surface of the transparent substrate .
前記複数の半球状の曲面部は、前記透明基板の表面において各々が凹状になるように設けられ、
前記接着工程において、前記透明基板と屈折率が異なる前記樹脂層は、複数の前記曲面部に充填されることにより、複数のマイクロレンズを構成することを特徴とする請求項1に記載の基板の製造方法。
The plurality of hemispherical curved surface portions are provided so that each is concave on the surface of the transparent substrate,
2. The substrate according to claim 1, wherein in the bonding step, the resin layer having a refractive index different from that of the transparent substrate forms a plurality of microlenses by filling the plurality of curved surface portions. Production method.
前記切削されたカバーガラスの表面に、遮光膜を形成する工程と、Forming a light-shielding film on the surface of the cut cover glass;
前記遮光膜の上層に透明電極を形成する工程とを、さらに含むことを特徴とする請求項1または2に記載の基板の製造方法。The method for manufacturing a substrate according to claim 1, further comprising a step of forming a transparent electrode on an upper layer of the light shielding film.
透明なマザー基板の表面において、個別基板ごとに複数の半球状の曲面部を形成する工程と、Forming a plurality of hemispherical curved surfaces for each individual substrate on the surface of the transparent mother substrate;
前記マザー基板の表面に樹脂層を形成する工程と、Forming a resin layer on the surface of the mother substrate;
前記樹脂層を接着剤として大判カバーガラスを前記マザー基板に接着する接着工程と、Adhesion step of adhering a large cover glass to the mother substrate using the resin layer as an adhesive;
前記大判カバーガラスの表面を切削する工程と、Cutting the surface of the large cover glass;
前記大判カバーガラスが接着されたマザー基板を、前記個別基板のサイズに切り分ける工程と、を含み、Cutting the mother substrate to which the large format cover glass is bonded into the size of the individual substrate,
前記大判カバーガラスの大きさは、前記マザー基板の表面よりも小さく設けられ、The size of the large format cover glass is provided smaller than the surface of the mother substrate,
前記接着工程において、前記大判カバーガラスは前記マザー基板の表面からはみ出さないように接着されることを特徴とする基板の製造方法。In the bonding step, the large-sized cover glass is bonded so as not to protrude from the surface of the mother substrate.
請求項3に記載の製造方法によって製造された基板からなる対向基板と、A counter substrate comprising a substrate manufactured by the manufacturing method according to claim 3;
前記対向基板との間に電気光学層を挟持する素子基板と、を備え、  An element substrate that sandwiches an electro-optic layer between the counter substrate, and
前記素子基板には、複数の画素が設けられ、  The element substrate is provided with a plurality of pixels,
前記複数の画素は、それぞれが対応する前記マイクロレンズと重なるように形成されていることを特徴とする電気光学装置。  The electro-optical device, wherein each of the plurality of pixels is formed so as to overlap with the corresponding microlens.
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