JP2001159755A - Liquid crystal display device and method of producing the same - Google Patents

Liquid crystal display device and method of producing the same

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JP2001159755A
JP2001159755A JP2000045301A JP2000045301A JP2001159755A JP 2001159755 A JP2001159755 A JP 2001159755A JP 2000045301 A JP2000045301 A JP 2000045301A JP 2000045301 A JP2000045301 A JP 2000045301A JP 2001159755 A JP2001159755 A JP 2001159755A
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liquid crystal
black matrix
substrate
display device
crystal display
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JP2000045301A
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Akio Suzuki
昭男 鈴木
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Citizen Watch Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure for liquid crystal display device having high contrast without decreasing the picture quality and to provide a method of producing that structure. SOLUTION: The liquid crystal display device has a liquid crystal held between a pair of substrates of first and second substrates, and the device is equipped with a lattice-like black matrix and color filters formed on one substrate of the substrate pair. Features of the liquid crystal display device and its production method are that the longitudinal side lines of the black matrix 2 are vertical, while the lateral side lines 21 of the black matrix 2 are tilted in each color unit to coincide with the angle of the rubbing direction and that photolithographic spacers 6 are disposed on the intersections of the longitudinal side lines and the lateral side lines of the black matrix 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置に係わり、表示画素部にスペーサが存在せず、高コン
トラストで表示性能に優れたカラーSTN液晶表示装置
の構造およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color liquid crystal display device, and more particularly to a structure of a color STN liquid crystal display device which has no display pixels and has high contrast and excellent display performance, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】表示用液晶セルの表示画素以外の部分に
フォトリソグラフィ法によりフォトリソスペーサを形成
し、液晶セルの基板間の間隔を一定に保つための手段と
して、種々の手段が提案されている。
2. Description of the Related Art Various means have been proposed as means for forming a photolithographic spacer on a portion other than a display pixel of a display liquid crystal cell by a photolithography method to keep a constant distance between substrates of the liquid crystal cell. .

【0003】その一手段のフォトリソスペーサとして
は、たとえば特開平5−289109号公報に提案され
ているように、表示電極がパターニングされた基板上
に、フォトリソスペーサを形成した後、その基板上に配
向膜を形成して、さらにラビング配向処理を行なう方法
がある。
As a photolitho spacer as one means, for example, as proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-289109, a photolitho spacer is formed on a substrate on which display electrodes are patterned and then oriented on the substrate. There is a method of forming a film and further performing a rubbing alignment treatment.

【0004】しかし、電極を有する一対の基板のうち、
どちらか一方の基板に数ミクロンの高さを有するフォト
リソスペーサを形成した後に、液晶を配向させるための
配向膜を形成して、その後、ラビング配向処理を行なう
前述の公報の手段では、フォトリソスペーサの突起部の
影の部分は、ラビング布が配向膜に充分に接触せず、配
向性が不充分な部分、いわゆるラビング影が発生してし
まう。
However, among a pair of substrates having electrodes,
After a photolitho spacer having a height of several microns is formed on one of the substrates, an alignment film for aligning the liquid crystal is formed, and then the rubbing alignment process is performed by the above-mentioned publication. In the shadow portion of the projection, the rubbing cloth does not sufficiently contact the alignment film, and a portion having insufficient orientation, that is, a so-called rubbing shadow occurs.

【0005】ここで、従来の方法で形成されるフォトリ
ソスペーサを用いたSTN表示装置の構造と製造方法に
ついて、図2と図3と図4とを用いて以下に説明する。
Here, a structure and a manufacturing method of an STN display device using a photolitho spacer formed by a conventional method will be described below with reference to FIGS. 2, 3 and 4.

【0006】図2に示す表示用液晶セルを作成するため
に、つぎに記載する手段を行なっている。
In order to produce the liquid crystal cell for display shown in FIG. 2, the following means is used.

【0007】第1の基板10に、透明電極11と、配向
処理を行なった配向膜12を形成する。さらに、第2の
基板1上に格子状のブラックマトリックス2と、カラー
フィルタ3と、オーバーコート膜4と、透明電極5とを
順次積層するように形成し、そののち、フォトリソグラ
フィ法でフォトリソスペーサ6を形成する。
On a first substrate 10, a transparent electrode 11 and an alignment film 12 that has been subjected to an alignment process are formed. Further, a lattice-like black matrix 2, a color filter 3, an overcoat film 4, and a transparent electrode 5 are formed on the second substrate 1 so as to be sequentially laminated, and then a photolithographic spacer is formed by photolithography. 6 is formed.

【0008】このフォトリソスペーサ6の材料は、アク
リル系、エポキシ系等のオーバーコート材料と同様に耐
薬品性、耐熱性、平坦性等の特性を備えた透明な材料に
感光基を付与した材料が好ましく、フォトリグラフィ法
によりフォトマスクを介して紫外線を照射した際に、材
料が透明であれば紫外線が透過しやすく所望の高さのス
ペーサを効率よく形成できる。
The material of the photolitho spacer 6 is a material obtained by adding a photosensitive group to a transparent material having characteristics such as chemical resistance, heat resistance, and flatness, like an overcoat material such as an acrylic or epoxy resin. Preferably, when the material is transparent when irradiated with ultraviolet rays through a photomask by a photolithography method, the ultraviolet rays are easily transmitted, and a spacer having a desired height can be efficiently formed.

【0009】また、ブラックマトリックス2やカラーフ
ィルタ3やオーバーコート膜4を形成する際に、フォト
リソスペーサ6とする突起を同時に形成してしまう方法
が数多く提案されているが、このようなフォトリソスペ
ーサ6の場合には、複数の突起物(スペーサ)が存在す
る面に配向膜7を形成した後に、液晶9を配向させるた
めのラビング配向処理を行なうことになる。
There have been proposed a number of methods for simultaneously forming a projection as a photolitho spacer 6 when forming the black matrix 2, the color filter 3 and the overcoat film 4. In the case of (1), a rubbing alignment process for aligning the liquid crystal 9 is performed after forming the alignment film 7 on the surface where the plurality of protrusions (spacers) exist.

【0010】その後、液晶9を一対の基板間に封入する
ためのシール剤8を第1の基板10に印刷法により形成
し、第2の基板1と第1の基板10と張り合わせた後、
液晶9を注入することにより表示用液晶セルが作成でき
る。
After that, a sealant 8 for enclosing the liquid crystal 9 between the pair of substrates is formed on the first substrate 10 by a printing method, and after the second substrate 1 and the first substrate 10 are bonded to each other,
A liquid crystal cell for display can be prepared by injecting the liquid crystal 9.

【0011】その表示用液晶セルの間隔は、第2の基板
1の遮光用のブラックマトリックス2形成位置に対応す
る透明電極5間の領域に形成したフォトスペーサ6を介
して均一な液晶セル間隔が維持されている。
The distance between the display liquid crystal cells is uniform through a photo spacer 6 formed in a region between the transparent electrodes 5 corresponding to the light shielding black matrix 2 formation position on the second substrate 1. Has been maintained.

【0012】ここで図4は、第1の基板10と第2の基
板1のラビング方向および角度を示す図面であるが、液
晶表示装置を視認者が正面から見て要求される視角特性
を3時、6時、9時、12時優先方向にする場合、たと
えばSTNモード200度ツイストで6時もしくは12
時優先にするには、第1の基板10はA−A面に対して
下側に角度10度傾けたa方向に、第2の基板はA−A
面に対して上側に角度10度傾けたb方向にラビングを
行ない、基板に対して200度のツイスト角に対応した
角度でラビングを行なう必要がある。
FIG. 4 is a view showing the rubbing direction and the angle of the first substrate 10 and the second substrate 1. The viewing angle characteristics required by a viewer when viewing the liquid crystal display device from the front are shown in FIG. Hour, 6 o'clock, 9 o'clock, 12 o'clock priority direction, for example, STN mode 200 degree twist at 6 o'clock or 12 o'clock
In order to give priority to the time, the first substrate 10 is in the a direction inclined at an angle of 10 degrees downward with respect to the AA plane, and the second substrate is AA.
It is necessary to perform rubbing in the direction b inclined at an angle of 10 degrees upward with respect to the surface, and rubbing the substrate at an angle corresponding to a twist angle of 200 degrees.

【0013】図2に示すように、ブラックマトリックス
2の形成領域に相当する位置に形成した凸状のフォトリ
ソスペーサ6は、液晶セルを所望の間隔に保持するた
め、その高さが液晶セル間隔に対応して、1μm〜10
μmの高さで形成されている。
As shown in FIG. 2, the convex photolitho spacer 6 formed at a position corresponding to the formation region of the black matrix 2 holds the liquid crystal cells at a desired interval. Correspondingly, 1 μm to 10
It is formed at a height of μm.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】つぎに、以上の液晶表
示装置の課題点を図3の平面図を用いて説明する。
Next, the problems of the above liquid crystal display device will be described with reference to the plan view of FIG.

【0015】図2に示す最下層に形成されたブラックマ
トリックス2の平面パターン形状は図3に示すように、
格子状のパターン形状を有している。なお、図3ではブ
ラックマトリックス2の上に形成したカラーフィルタ3
とオーバーコート膜4と透明電極5とは、図示していな
い。
The planar pattern shape of the black matrix 2 formed in the lowermost layer shown in FIG. 2 is as shown in FIG.
It has a lattice-like pattern shape. In FIG. 3, the color filters 3 formed on the black matrix 2 are shown.
The overcoat film 4 and the transparent electrode 5 are not shown.

【0016】格子状のブラックマトリックス2に相当す
る位置の各交点部に、図3に示すように、柱状のフォト
リソスペーサ6を形成し、さらに、図2を用いて説明し
たように配向膜7を積層するように形成した後に、その
配向膜7にラビング処理を行なっている。
As shown in FIG. 3, a columnar photolithographic spacer 6 is formed at each intersection at a position corresponding to the lattice-like black matrix 2, and an alignment film 7 is formed as described with reference to FIG. After being formed so as to be stacked, the alignment film 7 is subjected to a rubbing treatment.

【0017】ここで、図3に示すようにラビング方向と
角度を示す矢印方向に沿って、配向膜7のラビング処理
を行なうと、フォトリソスペーサ6が、前述のように1
μm〜10μmの高さを有しているため、ラビング方向
と反対側の領域がラビング処理されず、ラビング影Bと
なって、配向性が不充分な部分がカラーフィルタ3’の
画素に形成されてしまう。
Here, as shown in FIG. 3, when the rubbing process is performed on the alignment film 7 along the arrow direction indicating the rubbing direction and the angle, the photolitho spacer 6 becomes 1 as described above.
Since it has a height of 10 μm to 10 μm, the area on the side opposite to the rubbing direction is not subjected to the rubbing treatment, and becomes a rubbing shadow B, and a portion having insufficient orientation is formed in the pixel of the color filter 3 ′. Would.

【0018】このラビング影Bの大きさは、フォトリソ
スペーサ6の高さが高い程、大きくなってしまうことに
なる。しかも、ラビング影Bの部分は、ラビング布が接
触せず、配向膜7を充分にラビングする(擦る)ことが
なされていないため、配向膜7の配向力が弱く、配向欠
陥を発生させたり、さらに画質の低下、およびコントラ
ストの低下を生じてしまうという課題がある。
The size of the rubbing shadow B increases as the height of the photolithographic spacer 6 increases. In addition, since the rubbing cloth does not come into contact with the rubbing shadow B and the rubbing (rubbing) of the alignment film 7 has not been sufficiently performed, the alignment force of the alignment film 7 is weak, and alignment defects are generated. Further, there is a problem that the image quality and the contrast are reduced.

【0019】このラビング影Bの発生を避ける手段のひ
とつとして、透明電極上に配向膜を形成したのち、ラビ
ング配向処理を行ない、しかるのち、フォトリソスペー
サを形成する方法も提案されている。
As one of means for avoiding the occurrence of the rubbing shadow B, there has been proposed a method of forming an alignment film on a transparent electrode, performing a rubbing alignment treatment, and then forming a photolithographic spacer.

【0020】しかしながら、この手段では、配向膜の配
向性が劣化するという問題がある。これは、ラビング配
向処理した面は非常に敏感で、とくにフォトリソグラフ
ィ法の現像処理工程でダメージを受けやすく、配向膜表
面の配向性が劣化してしまうという理由からである。
However, this method has a problem that the orientation of the alignment film is deteriorated. This is because the surface subjected to the rubbing alignment treatment is very sensitive, and is particularly susceptible to damage in the photolithography development process, and the orientation of the alignment film surface is deteriorated.

【0021】(発明の目的)本発明の目的は、上記課題
を解決するため、画質を低下させずに、高コントラスト
な液晶表示装置の構造と、この構造を形成するための製
造方法を提供することにある。
(Object of the Invention) It is an object of the present invention to provide a structure of a liquid crystal display device having high contrast without deteriorating the image quality and a manufacturing method for forming the structure in order to solve the above problems. It is in.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の液晶表示装置の構造と、この構造を形成す
るための製造方法とは、下記記載の手段を採用する。
In order to achieve the above object, the structure of a liquid crystal display device of the present invention and a manufacturing method for forming the structure employ the following means.

【0023】本発明の液晶表示装置においては、第1の
基板と第2の基板の一対の基板間に液晶を挟持した液晶
表示装置であって、上記一対の基板の一方の基板に格子
状のブラックマトリックスと、カラーフィルタを備え、
上記ブラックマトリックスの縦方向の辺は、垂直とし、
上記ブラックマトリックスの横方向の辺は、カラーフィ
ルタのR(赤)、G(緑)、B(青)の各一色単位で、
ラビング方向と角度を合致するように傾け、そのブラッ
クマトリックスの縦方向の辺と横方向の辺の交差点にフ
ォトリソスペーサを配置することを特徴とする。
The liquid crystal display device of the present invention is a liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of first and second substrates, wherein one of the pair of substrates has a grid-like shape. Equipped with black matrix and color filter,
The vertical side of the black matrix is vertical,
The side of the black matrix in the horizontal direction is a unit of each color of R (red), G (green), and B (blue) of the color filter,
The rubbing direction is inclined to match the angle, and a photolitho spacer is arranged at the intersection of the vertical side and the horizontal side of the black matrix.

【0024】本発明の液晶表示装置においては、ブラッ
クマトリックスの横方向の辺に、ラビングによるラビン
グ影が形成されていることを特徴とする。
The liquid crystal display device according to the present invention is characterized in that a rubbing shadow due to rubbing is formed on a lateral side of the black matrix.

【0025】本発明の液晶表示装置においては、フォト
リソスペーサは、柱状または矩形状であることを特徴と
する。
In the liquid crystal display device according to the present invention, the photolithographic spacer has a columnar or rectangular shape.

【0026】本発明の液晶表示装置においては、第1の
基板と第2の基板の一対の基板間に液晶を挟持した液晶
表示装置であって、上記一対の基板の一方の基板に格子
状のブラックマトリックスと、カラーフィルタを備え、
上記ブラックマトリックスの縦方向の辺は、垂直とし、
上記ブラックマトリックスの横方向の辺は、カラーフィ
ルタのR(赤)、G(緑)、B(青)三色単位で、ラビ
ング方向と角度を合致するように傾け、そのブラックマ
トリックス縦方向の辺と横方向の辺の交差点を起点とす
る矩形状のフォトリソスペーサを配置することを特徴と
する。
The liquid crystal display device of the present invention is a liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of first and second substrates, wherein one of the pair of substrates has a grid-like shape. Equipped with black matrix and color filter,
The vertical side of the black matrix is vertical,
The side of the black matrix in the horizontal direction is inclined in the three color units of R (red), G (green), and B (blue) of the color filter so that the angle matches the rubbing direction, and the side in the vertical direction of the black matrix. And a rectangular photolitho spacer starting from the intersection of the horizontal side and the horizontal side.

【0027】本発明の液晶表示装置の製造方法は、第1
の基板と第2の基板の一対の基板間に液晶を挟持した液
晶表示装置の上記一対の基板の一方の基板に格子状のブ
ラックマトリックスと、カラーフィルタを備え、上記ブ
ラックマトリックスの縦方向の辺は、垂直とし、上記ブ
ラックマトリックスの横方向の辺は、カラーフィルタの
R(赤)、G(緑)、B(青)の各一色単位で、ラビン
グ方向と角度を合致するように傾け、そのブラックマト
リックスの縦方向の辺と横方向の辺の交差点にフォトリ
ソスペーサを配置する液晶表示装置の製造方法は、上記
第2の基板にラビング方向に合致する横方向の辺と縦方
向の辺の格子状のブラックマトリックスと、カラーフィ
ルタと、オーバーコート膜と、透明電極と、フォトリソ
スペーサを順次形成する工程と、第1の基板と第2の基
板に配向膜を形成し、液晶を配向させるためのラビング
配向処理を種々の液晶のツイスト角に対応して行なう工
程とを備え、第1の基板と第2の基板を重ね合わせて液
晶を注入してなる液晶表示装置の表示画素部にはスペー
サが存在しないことを特徴とする。
The method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention comprises:
A liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates, a first substrate and a second substrate, includes a lattice matrix black matrix and a color filter on one of the pair of substrates, and a vertical side of the black matrix. Is vertical, and the sides of the black matrix in the horizontal direction are inclined so as to match the rubbing direction and the angle in each color unit of R (red), G (green), and B (blue) of the color filter. A method of manufacturing a liquid crystal display device, in which a photolitho spacer is disposed at an intersection of a vertical side and a horizontal side of a black matrix, comprises a grid of horizontal and vertical sides matching the rubbing direction on the second substrate. Sequentially forming a black matrix, a color filter, an overcoat film, a transparent electrode, and a photolithographic spacer, and forming an alignment film on a first substrate and a second substrate. Performing a rubbing alignment process for aligning the liquid crystal in accordance with various twist angles of the liquid crystal, wherein the first substrate and the second substrate are overlapped and the liquid crystal is injected. The display pixel portion is characterized in that no spacer exists.

【0028】本発明の液晶表示装置の製造方法は、第1
の基板と第2の基板の一対の基板間に液晶を挟持した液
晶表示装置の上記一対の基板の一方の基板に格子状のブ
ラックマトリックスと、カラーフィルタを備え、上記ブ
ラックマトリックスの縦方向の辺は、垂直とし、上記ブ
ラックマトリックスの横方向の辺は、カラーフィルタの
R(赤)、G(緑)、B(青)三色単位で、ラビング方
向と角度を合致するように傾け、そのブラックマトリッ
クス縦方向の辺と横方向の辺の交差点を起点とする矩形
状のフォトリソスペーサを配置する液晶表示装置の製造
方法は、第2の基板にブラックマトリックスと、カラー
フィルタと、オーバーコート膜と、透明電極と、フォト
リソスペーサを順次形成する工程と、第1の基板と第2
の基板に配向膜を形成し、液晶を配向させるためのラビ
ング配向処理を液晶のツイスト角に対応して行なう工程
とを有し、第1の基板と第2の基板を重ね合わせて液晶
を注入してなる液晶表示装置の表示画素部にはスペーサ
影が存在しないことを特徴とする。
The method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention comprises:
A liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates, a first substrate and a second substrate, includes a lattice matrix black matrix and a color filter on one of the pair of substrates, and a vertical side of the black matrix. Is vertical, and the horizontal side of the black matrix is inclined in three color units of R (red), G (green), and B (blue) of the color filter so that the angle matches the rubbing direction. A method for manufacturing a liquid crystal display device in which a rectangular photolitho spacer starting from an intersection of a matrix vertical side and a horizontal side is arranged includes a black matrix, a color filter, an overcoat film on a second substrate, A step of sequentially forming a transparent electrode and a photolithographic spacer;
Forming an alignment film on the substrate and performing a rubbing alignment process for aligning the liquid crystal in accordance with the twist angle of the liquid crystal, and injecting the liquid crystal by superimposing the first substrate and the second substrate. The present invention is characterized in that no spacer shadow exists in the display pixel portion of the liquid crystal display device.

【0029】(作用)本発明の液晶表示装置はカラーフ
ィルタを有する基板の遮光部であるブラックマトリック
スの形成領域に相当する部分に、フォトリソスペーサを
設け、表示画素部にスペーサが存在しない構造としてい
る。
(Function) The liquid crystal display device of the present invention has a structure in which a photolithographic spacer is provided in a portion corresponding to a black matrix forming region which is a light shielding portion of a substrate having a color filter, and no spacer exists in a display pixel portion. .

【0030】そのうえ、フォトリソスペーサ構造を有し
ていながらSTNのツイスト角に対応したラビング配向
処理を施してある。
In addition, a rubbing orientation treatment corresponding to the twist angle of the STN is performed while having a photolithographic spacer structure.

【0031】その結果、本発明においては、視角特性に
優れ、スペーサによる光漏れや、ザラツキがない表示品
質に優れた高コントラストな液晶表示装置が提供でき
る。
As a result, in the present invention, it is possible to provide a high-contrast liquid crystal display device excellent in viewing angle characteristics and excellent in display quality without light leakage or roughness due to spacers.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下図面を用いて本発明を実行な
うるための最良の形態におけるSTN液晶表示装置の構
成およびその製造方法を説明する。図1、図5は本発明
の実施形態における液晶表示装置の構成およびその製造
方法を示す平面図であり、図2は本発明の液晶表示装置
を示す断面図である。そして、図4はSTNモードの2
00度ツイストのツイスト角の配向処理を行うときのラ
ビング方向と角度を示す。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The structure of an STN liquid crystal display device according to the best mode for carrying out the present invention and a method of manufacturing the same will be described below with reference to the drawings. 1 and 5 are plan views showing a configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention and a manufacturing method thereof, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing the liquid crystal display device of the present invention. FIG. 4 shows STN mode 2
The rubbing direction and the angle at the time of performing the orientation processing of the twist angle of 00 degrees twist are shown.

【0033】以下、図1、図2、図4、および図5を交
互に参照して説明する。
Hereinafter, description will be made with reference to FIGS. 1, 2, 4, and 5 alternately.

【0034】(第1の実施形態における液晶表示装置の
構造説明)本発明の液晶表示装置は、図2に示すよう
に、第1の基板10には、透明電極11と、その上面に
配向処理を行なった配向膜12を有する。さらに、第2
の基板1上には、ブラックマトリックス2と、カラーフ
ィルタ3と、オーバーコート膜4と、透明電極5とを順
次設け、フォトリソグラフィ法により形成された柱状の
フォトリソスペーサ6と、配向処理を行なった配向膜7
とを有する。
(Description of Structure of Liquid Crystal Display Device in First Embodiment) As shown in FIG. 2, a liquid crystal display device of the present invention has a transparent electrode 11 on a first substrate 10 and an alignment treatment on its upper surface. The alignment film 12 is subjected to the above. Furthermore, the second
A black matrix 2, a color filter 3, an overcoat film 4, and a transparent electrode 5 were sequentially provided on the substrate 1, and a columnar photolithographic spacer 6 formed by a photolithography method and an alignment process were performed. Alignment film 7
And

【0035】そして、第1の基板10と第2の基板1と
のあいだの隙間には、その周囲領域に形成されるシール
剤8によって液晶9が封入されている。
A liquid crystal 9 is sealed in a gap between the first substrate 10 and the second substrate 1 by a sealant 8 formed in a peripheral region thereof.

【0036】その表示用液晶セルの間隔、すなわち第1
の基板10と第2の基板1との間隙は、第2の基板1の
遮光用に形成するブラックマトリックス2の形成領域に
対応する位置に相当する領域の透明電極5間に形成した
フォトリソスペーサ6によって、均一なセル間隔になる
ように制御されいる。
The distance between the display liquid crystal cells, that is, the first
The gap between the substrate 10 and the second substrate 1 is a photolithographic spacer 6 formed between the transparent electrodes 5 in a region corresponding to a region of the second substrate 1 corresponding to the formation region of the black matrix 2 formed for light shielding. Is controlled so as to have a uniform cell interval.

【0037】そのフォトリソスペーサ6の大きさは、ブ
ラックマトリックス2の幅寸法より小さく形成し、フォ
トリソスペーサ6の高さは1μm〜10μmであり、種
々のギャップ寸法の表示用液晶セルに対応させればよ
い。
The size of the photolitho spacer 6 is formed smaller than the width of the black matrix 2, and the height of the photolitho spacer 6 is 1 μm to 10 μm. Good.

【0038】つぎに図1の平面図を用いてこの発明のフ
ォトリソスペーサ6の平面配置構造について説明する。
Next, the planar arrangement structure of the photolithographic spacer 6 of the present invention will be described with reference to the plan view of FIG.

【0039】図1に示すように、図2における最下層の
ブラックマトリックス2の平面パターン形状は、図1に
おける縦方向の辺は垂直であるが、横方向の辺は傾いた
変形格子状を有するブラックマトリックス2の形状を有
している。
As shown in FIG. 1, the plane pattern of the lowermost black matrix 2 in FIG. 2 has a deformed lattice shape in which the vertical sides in FIG. 1 are vertical, but the horizontal sides are inclined. It has the shape of a black matrix 2.

【0040】ブラックマトリックス2の横方向の辺の傾
き角度は、ラビング角度に合致させる。
The inclination angle of the side in the horizontal direction of the black matrix 2 is made to match the rubbing angle.

【0041】なおこの図1では、変形格子状のブラック
マトリックス2の上面に形成するカラーフィルタ3とオ
ーバーコート膜4と透明電極5とは、図示していない。
In FIG. 1, the color filter 3, the overcoat film 4, and the transparent electrode 5 formed on the upper surface of the deformed lattice black matrix 2 are not shown.

【0042】変形格子状のブラックマトリックス2の各
交差部に、柱状のフォトリソスペーサ6を形成し、さら
に、ラビング処理した配向膜7を形成している。
A columnar photolitho spacer 6 is formed at each intersection of the deformed lattice black matrix 2, and a rubbed alignment film 7 is formed.

【0043】ここで、図1に示すように、ラビング方向
と角度を示す矢印方向に沿って配向膜7にラビング処理
を行なうと、フォトリソスペーサ6は、1μm〜10μ
mのかなりの高さを備えているが、前述のように、ブラ
ックマトリックス2の横方向の辺はラビング方向と合致
しているため、ラビング影A領域となって配向性が不充
分な領域は、ブラックマトリックス2の横方向のライン
21上に発生させることができる。
Here, as shown in FIG. 1, when the rubbing process is performed on the alignment film 7 along the arrow direction indicating the rubbing direction and the angle, the photolithographic spacer 6 becomes 1 μm to 10 μm.
m, but as described above, since the side of the black matrix 2 in the horizontal direction matches the rubbing direction, the rubbing shadow A region is a region where the orientation is insufficient. , On the horizontal line 21 of the black matrix 2.

【0044】このラビング影Aの大きさは、フォトリソ
スペーサ6の高さが高い程、大きくなってしまうことに
なる。
The size of the rubbing shadow A increases as the height of the photolithographic spacer 6 increases.

【0045】しかもラビング影Aの領域は、ラビング布
が配向膜を充分に擦ることがなされていないため、前述
のように、配向力が弱く配向欠陥を発生させてしまう。
In addition, since the rubbing cloth has not sufficiently rubbed the alignment film in the region of the rubbing shadow A, as described above, the alignment force is weak and an alignment defect is generated.

【0046】しかしながら、本発明の液晶表示装置で
は、図1に示すように、ラビング処理が不充分なラビン
グ影A領域は、表示用画素周辺に設ける遮光用のブラッ
クマトリックス2の横方向のライン21上に発生するだ
けで、表示画素部には発生しないことになる。
However, in the liquid crystal display device of the present invention, as shown in FIG. 1, the rubbing shadow A region where the rubbing process is insufficient is formed by the horizontal lines 21 of the light-shielding black matrix 2 provided around the display pixels. It only occurs at the top and does not occur at the display pixel portion.

【0047】その結果、本発明の液晶表示装置の画像を
視認者から観察した場合には、フォトリソスペーサ6の
ラビング影A領域の存在が認識されず、表示品質がなめ
らかにみえる効果をもたらす。
As a result, when the image of the liquid crystal display device of the present invention is observed from a viewer, the presence of the rubbing shadow A region of the photolithographic spacer 6 is not recognized, and an effect that the display quality can be seen smoothly is brought about.

【0048】図1を使用して説明した前述のような構造
にした場合、フォトリソスペーサ6は、配向処理を行な
った配向膜7上に形成するか、そのフォトリソスペーサ
6を形成した後に、配向膜7を塗布して配向処理を行な
うかによって、配向膜7の配向性に大きな差異を生じ
る。
In the case of the above-described structure described with reference to FIG. 1, the photolitho spacer 6 is formed on the alignment film 7 that has been subjected to the alignment process, or after the photolitho spacer 6 is formed, A large difference occurs in the orientation of the orientation film 7 depending on whether the orientation process is performed by applying the film 7.

【0049】前者の手段では、配向膜7に配向処理を行
なったのち、その配向膜7上に感光性を有するフォトリ
ソスペーサ材料を塗布して形成し、フォトリソグラフィ
法にて露光処理と現像処理にて、フォトリソスペーサ6
形成すると、とくに現像工程のアルカリ現像液により、
配向膜7表面がダメージを受けて配向性が劣化してしま
う。
In the former method, after the alignment film 7 is subjected to an alignment treatment, a photolithographic spacer material having photosensitivity is coated on the alignment film 7 and formed by photolithography. And photolitho spacer 6
When formed, especially with the alkaline developer in the development process,
The surface of the alignment film 7 is damaged, and the alignment is deteriorated.

【0050】後者の手段では、フォトリソスペーサ6を
形成した後に、配向膜7を塗布し、そののち配向膜7の
配向処理をラビング法で行なうと、ラビング布で擦る際
にフォトリソスペーサの1μm〜10μm高さの突起が
妨害して、ラビング影Aとなって配向性が不充分な部分
を発生させてしまう。
In the latter method, after the photolitho spacer 6 is formed, the alignment film 7 is applied, and then the alignment treatment of the alignment film 7 is performed by a rubbing method. The projections of the height interfere with each other, resulting in a rubbing shadow A, which generates a portion with insufficient orientation.

【0051】ここで、図4の平面図は、第1の基板10
と第2の基板1のラビング方向、およびその角度を示す
図面であるが、液晶表示装置を視認者が正面から見て要
求される視角特性、3時、6時、9時、12時優先方向
にする場合、たとえばSTNモード200度ツイストで
6時もしくは12時優先にするには、第1の基板10は
配向膜を形成した配向膜面A−A面に対して下側に角度
10度傾けたa矢印方向に、第2の基板1は配向膜面A
−A面に対して上側に角度10度傾けたb矢印方向にラ
ビングし、基板に対して200度のツイスト角に対応し
た、180度プラス20度の角度付けをしてラビングを
行なう必要がある。
Here, the plan view of FIG.
5 is a view showing the rubbing direction of the second substrate 1 and the angle of the rubbing direction, and viewing angle characteristics required by a viewer when viewing the liquid crystal display device from the front; For example, in order to give priority to 6 o'clock or 12 o'clock in the STN mode 200 degree twist, the first substrate 10 is inclined at an angle of 10 degrees downward with respect to the alignment film plane AA on which the alignment film is formed. In the direction of arrow a, the second substrate 1
-It is necessary to perform rubbing in the direction of the arrow b inclined at an angle of 10 degrees upward with respect to the A-plane, and at 180 degrees plus 20 degrees corresponding to a twist angle of 200 degrees with respect to the substrate. .

【0052】そして、STNツイスト角が200度、2
25度、245度等、基板に対して180度の水平方向
以外は角度付けをしてラビングを行なう必要がある。
The STN twist angle is 200 degrees, 2
It is necessary to perform rubbing at an angle other than the horizontal direction of 180 degrees with respect to the substrate, such as 25 degrees or 245 degrees.

【0053】本発明の液晶表示装置は図1に示すよう
に、ブラックマトリックス2の横方向のライン21にカ
ラーフィルタの赤(R)、緑(G)、青(B)の各色単
位で、それぞれのSTNツイスト角のラビング方向と合
致する角度となるように、ブラックマトリックス2の横
方向のライン21を傾けて形成する。
In the liquid crystal display device of the present invention, as shown in FIG. 1, a horizontal line 21 of the black matrix 2 is provided for each color unit of red (R), green (G), and blue (B) of a color filter. The horizontal line 21 of the black matrix 2 is formed so as to be inclined such that the angle coincides with the rubbing direction of the STN twist angle.

【0054】そして、垂直の縦方向の辺と、ラビング方
向と合致するように傾けた横方向の辺とからなる変形格
子状のブラックマトリックス2の交差部、すなわち透明
電極間の位置にフォトリソスペーサ6を形成する。
The photolithography spacer 6 is located at the intersection of the deformed lattice-shaped black matrix 2 composed of the vertical vertical side and the horizontal side inclined to match the rubbing direction, that is, the position between the transparent electrodes. To form

【0055】上記の図1に示すような構造にすることに
より、基板に矢印方向のラビング処理を行なった場合、
フォトリソスペーサ6の突起によりラビング影A領域が
発生する部分は、ブラックマトリックス2の横方向のラ
イン21上に位置し、画素部分にはラビング影Aは発生
しないことになる。
By adopting the structure as shown in FIG. 1, when the substrate is rubbed in the direction of the arrow,
The portion where the rubbing shadow A region occurs due to the projection of the photolithographic spacer 6 is located on the horizontal line 21 of the black matrix 2, and the rubbing shadow A does not occur in the pixel portion.

【0056】その結果、フォトリソスペーサ6を備えた
種々のSTNツイストモードの液晶表示装置に対応し
て、画素部分にはスペーサ影Aがまったく存在せず、画
質がなめらかで、高コントラストな液晶表示装置を提供
することができる。
As a result, in correspondence with various STN twist mode liquid crystal display devices provided with the photolithographic spacer 6, the pixel portion has no spacer shadow A at all, and the liquid crystal display device has a smooth image quality and high contrast. Can be provided.

【0057】(液晶表示装置の製造方法説明)つぎに本
発明の液晶表示装置の製造方法を、図1と図2と図4と
図5と図6とを用いて詳細に説明する。
(Explanation of Manufacturing Method of Liquid Crystal Display Device) Next, the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 1, FIG. 2, FIG. 4, FIG.

【0058】本発明の実施形態における液晶表示装置の
製造方法を図6を用いて説明する。まずはじめに、図6
(a)に示すように、ガラス基板1上にブラックマトリ
ックス2を形成するために、クロム(Cr)をスパッタ
リング法にて120nmの高さで被膜形成する。
A method for manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. First, FIG.
As shown in (a), in order to form a black matrix 2 on a glass substrate 1, a film of chromium (Cr) is formed at a height of 120 nm by a sputtering method.

【0059】その後、クロム膜上にポジ型レジストとし
て、日本ゼオン製ZPP−1700(商品名)を塗布し
て、フォトリソグラフィ法で所定の形状のフォトレジス
トパターンを形成し、そののち、そのパターンニングし
たフォトレジストをエッチングマスクに用いて、クロム
をエッチング処理してブラックマトリックス2を形成す
る。
Thereafter, ZPP-1700 (trade name, manufactured by Zeon Corporation) is applied as a positive resist on the chromium film, and a photoresist pattern having a predetermined shape is formed by a photolithography method. The black matrix 2 is formed by etching chromium using the photoresist thus formed as an etching mask.

【0060】そのパターン形成したブラックマトリック
ス2の平面パターン形状は、図1に示すように、ブラッ
クマトリックス2の縦方向のライン2は垂直に、横方向
のライン21はカラーフィルタR領域、G領域、B領域
の各色毎に、ラビング配向処理を行なう角度と合致する
ように傾けて、変形格子状のパターンとなるように形成
する。
As shown in FIG. 1, the vertical pattern 2 of the black matrix 2 is vertical, the horizontal line 21 is a color filter R area, a G area, and the like. For each color in the B region, it is tilted so as to match the angle at which the rubbing orientation process is performed, and is formed so as to form a deformed lattice pattern.

【0061】その後、図6(b)に示すように、そのブ
ラックマトリックス2が形成された第2の基板1上に、
感光性を有する顔料分散型の新日鐵化学製カラーフィル
タ赤色基材V−259R(商品名)を回転塗布法で所定
の膜厚に塗布した後、フォトリソグラフィ法でカラーフ
ィルタ赤色パターン31を形成する。
Thereafter, as shown in FIG. 6B, the black matrix 2 is formed on the second substrate 1 on which the black matrix 2 is formed.
A Nippon Steel Chemical color filter red base material V-259R (trade name) of a photosensitive pigment dispersion type is applied to a predetermined film thickness by a spin coating method, and then a color filter red pattern 31 is formed by a photolithography method. I do.

【0062】このカラーフィルタ赤色パターン31は、
膜厚1.5μmで形成する。
The color filter red pattern 31 is
It is formed with a thickness of 1.5 μm.

【0063】その後、カラーフィルタ赤色パターン31
と同じように、カラーフィルタ緑色パターン32、カラ
ーフィルタ青色パターン33の順でカラーフィルタパタ
ーンを形成し、図6(b)に示すようなR、G、Bから
なる3色のカラーフィルタを形成する。
Thereafter, the color filter red pattern 31
Similarly to the above, a color filter pattern is formed in the order of a color filter green pattern 32 and a color filter blue pattern 33, and three color filters of R, G, and B as shown in FIG. 6B are formed. .

【0064】その後、図6(c)に示すように、そのカ
ラーフィルタ31、32、33上に透明なオーバーコー
ト膜4としてJSR製オプトマーSS−6777(商品
名)を回転塗布法により形成する。
Thereafter, as shown in FIG. 6C, JSR Optmer SS-6777 (trade name) is formed as a transparent overcoat film 4 on the color filters 31, 32, 33 by a spin coating method.

【0065】このオーバーコート膜4は膜厚3μmで形
成し、その後、220℃の温度で焼成処理する。
The overcoat film 4 is formed with a thickness of 3 μm, and thereafter, is baked at a temperature of 220 ° C.

【0066】その結果、そのオーバーコート膜4はカラ
ーフィルタの耐薬品性、耐スパッタリング性、さらにカ
ラーフィルタの平坦性を向上させる役割を果たす。
As a result, the overcoat film 4 plays a role in improving the chemical resistance and spatter resistance of the color filter and the flatness of the color filter.

【0067】さらにその後、このオーバーコート膜4上
に透明導電膜5を、250nmの厚さでスパッタリング
法を適用して形成する。
Thereafter, a transparent conductive film 5 is formed on the overcoat film 4 by a sputtering method to a thickness of 250 nm.

【0068】その後、透明導電膜5上にポジ型レジスト
ZPP−1700を回転塗布法を用いて形成した後、図
6(d)に示すように、フォトリソグラフィ法でレジス
トをパターン形成する。
Then, after a positive resist ZPP-1700 is formed on the transparent conductive film 5 by using a spin coating method, as shown in FIG. 6D, the resist is patterned by photolithography.

【0069】そののち、このパターン形成したレジスト
をエッチングマスクに使用して、透明電極5をエッチン
グ処理してパターン形成する。
Thereafter, using the patterned resist as an etching mask, the transparent electrode 5 is etched to form a pattern.

【0070】このパターン形成した透明電極5の平面パ
ターン形状は、図5に示すように、カラーフィルタR、
G、Bの各色毎に、変形格子状のブラックマトリックス
2に沿って電極パターンを形成する。
As shown in FIG. 5, the planar pattern shape of the transparent electrode 5 on which the pattern is formed is a color filter R,
An electrode pattern is formed along the deformed lattice black matrix 2 for each of the colors G and B.

【0071】その透明電極5のパターンは、四角形状で
ないが、図5の透明電極5左右の端部は、垂直であり液
晶表示パネルの直角度は保持されす。
Although the pattern of the transparent electrode 5 is not rectangular, the left and right ends of the transparent electrode 5 in FIG. 5 are vertical and the perpendicularity of the liquid crystal display panel is maintained.

【0072】つぎに、その第2の基板1上のブラックマ
トリックス2の横方向のライン21上に相当する一部
に、フォトリソスペーサ6を形成するために、感光性を
有する透明樹脂オプトマーNN700(商品名)を回転
塗布法により形成する。
Next, in order to form the photolitho-spacer 6 on a portion corresponding to the horizontal line 21 of the black matrix 2 on the second substrate 1, the transparent resin optomer NN700 (product) Is formed by a spin coating method.

【0073】このフォトリソスペーサ6の塗布膜厚が、
液晶セルのギャップ寸法を決定するため、その膜厚の精
密なコントロールが要求される。
The coating thickness of the photolithographic spacer 6 is
In order to determine the gap size of the liquid crystal cell, precise control of the film thickness is required.

【0074】フォトリソスペーサ6膜厚を設計膜厚に精
確にコントロールするためには、基材ロットの粘度管理
や塗布環境の温度および湿度管理などが重要であり、ま
たさらに、フォトリソスペーサ6としての硬さを備える
ための最終ベーク処理温度および処理時間などの厳密な
管理が必要となる。
In order to accurately control the thickness of the photolitho spacer 6 to the designed thickness, it is important to control the viscosity of the base material lot and the temperature and humidity of the coating environment. Strict control such as the final baking temperature and the processing time is required to provide the proper baking.

【0075】たとえば、室内温度22℃±1℃で、湿度
50%±10%のクラス100のクリーンルーム環境下
で、オプトマーNN700を回転塗布法にて、回転数9
00rpm×15秒の条件で、300mm×400mm
の大きさのガラス基板に塗布した場合、ガラス基板外周
15mmの範囲を除くと、膜厚5μm±0.03μmと
いう高精度にその厚さを制御することができた。
For example, in a clean room environment of class 100 at a room temperature of 22 ° C. ± 1 ° C. and a humidity of 50% ± 10%, the number of rotations of Optmer NN700 is 9 by a spin coating method.
300 mm x 400 mm under the condition of 00 rpm x 15 seconds
When applied to a glass substrate having a size of 5 mm, the thickness could be controlled with high precision of 5 μm ± 0.03 μm except for the range of the outer periphery of the glass substrate of 15 mm.

【0076】その後、図6(e)に示すように、フォト
リソグラフィ法によりフォトリソスペーサ6をパターン
形成し、200℃〜250℃の温度で焼成処理して、硬
化させることによりフォトリソスペーサ6としての硬度
を付与する。
After that, as shown in FIG. 6E, a pattern of the photolitho spacer 6 is formed by a photolithography method, and a baking process is performed at a temperature of 200 ° C. to 250 ° C. to be cured, so that the hardness as the photolitho spacer 6 is obtained. Is given.

【0077】このフォトリソスペーサ6を形成する位置
は、ブラックマトリックス2の横方向のラインと縦方向
のラインとの交差部であるが、図1に示すように、ラビ
ング方向の進入側に相当する横方向のライン21端部に
形成するのが好ましい。
The position where the photolitho spacer 6 is formed is the intersection of the horizontal line and the vertical line of the black matrix 2, but as shown in FIG. 1, the horizontal line corresponding to the entry side in the rubbing direction. It is preferably formed at the end of the line 21 in the direction.

【0078】ここでもし、ラビング方向の出口側の横方
向のライン21にフォトリソスペーサ6を形成すると、
ラビング影は横方向のライン21上でなく、画素部に形
成されてしまう。
Here, if the photolitho spacer 6 is formed on the horizontal line 21 on the exit side in the rubbing direction,
The rubbing shadow is formed not on the horizontal line 21 but in the pixel portion.

【0079】つぎに図示はしていないが、前述のように
所定の位置にフォトリソスペーサ6を形成した第2の基
板1と、電極を形成した第1の基板10とに、液晶を配
向させるための配向膜としてPSI−4104(商品
名)をそれぞれの基板1、10上に、ほぼ80nmの厚
さで印刷法によって形成する。
Next, although not shown, the liquid crystal is oriented on the second substrate 1 on which the photolitho spacer 6 is formed at a predetermined position and the first substrate 10 on which electrodes are formed as described above. PSI-4104 (trade name) is formed on each of the substrates 1 and 10 by a printing method so as to have a thickness of about 80 nm.

【0080】その後、第1の基板10と第2の基板1と
に形成した配向膜に、それぞれ配向処理としてラビング
処理を行なう。
Thereafter, a rubbing process is performed as an alignment process on the alignment films formed on the first substrate 10 and the second substrate 1, respectively.

【0081】この配向膜へのラビング処理の方向と角度
は、図4に示すように、第1の基板はa矢印に合致する
角度で行なう。
As shown in FIG. 4, the direction and angle of the rubbing process on the alignment film are performed at an angle corresponding to the arrow a in the first substrate.

【0082】一方、フォトリソスペーサ6を形成した第
2の基板はb矢印と合致する角度で行なう。
On the other hand, the second substrate on which the photolitho spacer 6 is formed is formed at an angle corresponding to the arrow b.

【0083】このラビング処理において、フォトリソス
ペーサ6を形成した第2の基板1に発生するラビング影
A領域は、図1に示すように、変形格子状のブラックマ
トリックス2の横方向のライン21上に発生するだけ
で、画素部にはラビングが不充分なラビング影はいっさ
い発生しない。
In the rubbing process, the rubbing shadow A region generated on the second substrate 1 on which the photolitho spacer 6 has been formed is located on the horizontal line 21 of the deformed lattice black matrix 2 as shown in FIG. A rubbing shadow with insufficient rubbing is not generated at all in the pixel portion just because it occurs.

【0084】したがって、STNツイスト角が200数
十度の液晶表示装置として、画素部には表示品質を劣化
されるようなものはなく、表示品質を害する表示欠陥は
存在しない。
Therefore, as a liquid crystal display device having an STN twist angle of more than 200 degrees, there is no such thing as to deteriorate the display quality in the pixel portion, and there is no display defect that impairs the display quality.

【0085】その後、図2に示すように、第1の基板1
0と第2の基板1とのあいだに液晶を封入するために、
一方の基板周縁部にシール剤8を印刷法によって形成
し、適度な加圧力を加えた状態で加熱して、そのシール
剤8を硬化させ、2枚の基板を所定の隙間を介して重ね
合わせる。
Then, as shown in FIG. 2, the first substrate 1
In order to fill the liquid crystal between 0 and the second substrate 1,
A sealing agent 8 is formed on the peripheral portion of one of the substrates by a printing method, and is heated while applying an appropriate pressing force to cure the sealing agent 8 and to superimpose the two substrates via a predetermined gap. .

【0086】その後、液晶注入口からSTN液晶を2枚
の基板間に注入し、さらに液晶注入口を封口することに
より、液晶表示装置を得る。
Thereafter, STN liquid crystal is injected between the two substrates from the liquid crystal injection port, and the liquid crystal injection port is sealed to obtain a liquid crystal display device.

【0087】この発明の液晶表示装置においては、変形
格子状のブラックマトリックス2の縦方向のラインと横
方向のラインとの交差部位置にフォトリソスペーサ6を
形成し、表示画素部にはスペーサが存在しないSTNカ
ラー液晶表示装置が形成することができる。
In the liquid crystal display device of the present invention, the photolitho spacer 6 is formed at the intersection of the vertical line and the horizontal line of the deformed lattice black matrix 2, and the spacer exists in the display pixel portion. No STN color liquid crystal display device can be formed.

【0088】本発明によれば、図1に示すように、変形
格子状のブラックマトリックス2の横方向のライン21
を傾けて、ラビング方向角度と合致するように形成して
いるため、ラビング方向の出口側になる部分にラビング
影となって配向力が不充分な領域が発生しても、ブラッ
クマトリックス2の横方向のライン21上に発生するだ
けで、画素部にはラビング影は形成されず、表示品質に
悪影響は及ぼさない。
According to the present invention, as shown in FIG. 1, the horizontal lines 21 of the deformed lattice black matrix 2 are formed.
Is tilted so as to match the rubbing direction angle, so that even if a region where the alignment force is insufficient due to a rubbing shadow at the portion on the exit side in the rubbing direction is generated, the black matrix 2 Only on the line 21 in the direction, no rubbing shadow is formed in the pixel portion, and the display quality is not adversely affected.

【0089】その結果、STNモードで種々のツイスト
角に対応し、視角特性を損なうことなく、スペーサによ
るザラツキがなく、高コントラストで、しかもフォトリ
ソスペーサ6が第2の基板1に固定されているため、強
度的にも優れたカラーSTN液晶表示装置が提供でき
る。
As a result, the STN mode can cope with various twist angles, does not impair the viewing angle characteristics, has no roughness due to spacers, has high contrast, and has the photolithographic spacer 6 fixed to the second substrate 1. In addition, a color STN liquid crystal display device excellent in strength can be provided.

【0090】(第2の実施形態)つぎに、本発明の別の
実施形態例を説明する。この第2の実施形態は、第1の
実施形態とブラックマトリックスの構成と透明電極の構
成とフォトリソスペーサの構成とが異なるものであり、
製造工程は第1の実施形態と同様である。
(Second Embodiment) Next, another embodiment of the present invention will be described. The second embodiment is different from the first embodiment in the configuration of the black matrix, the configuration of the transparent electrode, and the configuration of the photolithographic spacer.
The manufacturing process is the same as in the first embodiment.

【0091】以下図面を用いて、第2の実施形態におけ
るSTN液晶表示装置の構成について説明する。図7は
第2の実施形態における液晶表示装置の構成およびその
製造方法を示す平面図であり、図8は断面図である。そ
して図9は第1の実施形態の説明に用いた図1のフォト
リソスペーサの平面パターン形状を、円柱状から矩形状
に変更した場合の構成および製造方法を示す平面図であ
る。
Hereinafter, the configuration of the STN liquid crystal display device according to the second embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 7 is a plan view showing the configuration of the liquid crystal display device according to the second embodiment and a method for manufacturing the same, and FIG. 8 is a cross-sectional view. FIG. 9 is a plan view showing a configuration and a manufacturing method when the planar pattern shape of the photolithographic spacer of FIG. 1 used in the description of the first embodiment is changed from a columnar shape to a rectangular shape.

【0092】以下、図7と図8と図9とを交互に参照し
て説明する。
Hereinafter, description will be made with reference to FIGS. 7, 8 and 9 alternately.

【0093】(液晶表示装置の構造説明)本発明の液晶
表示装置は、図8に示すように、第1の基板10には、
透明電極11と、配向処理を行なった配向膜12とを有
する。また第2の基板1上には、ブラックマトリックス
2と、カラーフィルタ3と、オーバーコート膜4と、透
明電極5と、フォトリソグラフィー法により形成された
矩形状のフォトリソスペーサ6と、配向処理を行なった
配向膜7とを有する。
(Description of Structure of Liquid Crystal Display) As shown in FIG. 8, the liquid crystal display of the present invention has a first substrate 10
It has a transparent electrode 11 and an alignment film 12 that has been subjected to an alignment process. On the second substrate 1, a black matrix 2, a color filter 3, an overcoat film 4, a transparent electrode 5, a rectangular photolitho spacer 6 formed by a photolithography method, and an alignment process are performed. And an alignment film 7.

【0094】そして、第1の基板10と第2の基板1の
周縁部に形成されたシール剤8によって、第1の基板1
0と第2の基板1との間隙に液晶層9が封入されてい
る。
Then, the first substrate 1 and the second substrate 1 are sealed by the sealant 8 formed on the peripheral portions of the first substrate 1 and the second substrate 1.
A liquid crystal layer 9 is sealed in a gap between the first substrate 1 and the second substrate 1.

【0095】その表示用液晶セルの第1の基板10と第
2の基板1との間隔は、第2の基板1の遮光用に形成す
るブラックマトリックス2の形成領域に対応する位置に
相当する領域である透明電極5間に形成したフォトリソ
スペーサ6によって、均一なセル間隔になるように制御
されている。
The distance between the first substrate 10 and the second substrate 1 of the display liquid crystal cell is an area corresponding to the position corresponding to the formation area of the black matrix 2 formed on the second substrate 1 for shielding light. The photolithographic spacers 6 formed between the transparent electrodes 5 are controlled so as to have uniform cell intervals.

【0096】その矩形状のフォトリソスペーサ6の大き
さは、短辺がブラックマトリックス2の幅寸法より小さ
な寸法で形成し、長辺の長さは配向処理を行なう際のラ
ビング布の出口側となる複数のカラーフィルタを形成し
た画素部にラビング影の領域が発生しない範囲内に形成
する。
The size of the rectangular photolithographic spacer 6 is such that the short side is formed to be smaller than the width of the black matrix 2 and the length of the long side is the exit side of the rubbing cloth when performing the orientation treatment. The rubbing shadow area is formed in a pixel portion where a plurality of color filters are formed without generating a rubbing shadow area.

【0097】また、フォトリソスペーサ6の高さは、1
μm〜10μmであり、種々のギャップ寸法の表示用液
晶セルに対応させて調整すればよい。
The height of the photolitho spacer 6 is 1
It may be adjusted to correspond to display liquid crystal cells having various gap sizes.

【0098】フォトリソスペーサ6の平面パターン形状
を矩形状にすると、第1の実施形態における円柱状と比
較して、フォトリソスペーサ6自体の強度をよりいっそ
う増大させることができる。
When the planar pattern shape of the photolithographic spacer 6 is rectangular, the strength of the photolithographic spacer 6 itself can be further increased as compared with the columnar shape in the first embodiment.

【0099】したがって、この第2の実施形態における
液晶表示装置では、矩形状フォトリソスペーサ6を形成
することによって、セルの強度を増大させることが可能
となる。
Therefore, in the liquid crystal display device according to the second embodiment, the strength of the cell can be increased by forming the rectangular photolithographic spacer 6.

【0100】その結果、ブラックマトリックス2のパタ
ーン幅にたいして、矩形状のフォトリソスペーサ2の短
辺幅を小さくしても、その強度をある大きさに維持する
ことが可能となる。
As a result, even if the short side width of the rectangular photolithographic spacer 2 is made smaller than the pattern width of the black matrix 2, the strength can be maintained at a certain level.

【0101】このことにより、フォトリソグラフィ法で
フォトリソスペーサ2を形成するとき、フォトマスクの
位置合わせ余裕度が大きくなり、アライメントマージン
が増えて、液晶表示装置製造における生産性が向上す
る。
As a result, when the photolithographic spacer 2 is formed by the photolithography method, the alignment margin of the photomask is increased, the alignment margin is increased, and the productivity in manufacturing a liquid crystal display device is improved.

【0102】つぎに、図7の平面図を用いて液晶表示装
置の構成について説明する。
Next, the configuration of the liquid crystal display device will be described with reference to the plan view of FIG.

【0103】図7に示すように、図8における最下層の
ブラックマトリックス2の平面パターン形状は、縦方向
の辺は垂直であるが、横方向の辺は水平方向から傾いた
変形格子状のブラックマトリックス2の形状を有してい
る。
As shown in FIG. 7, the planar pattern shape of the lowermost black matrix 2 in FIG. 8 is such that the vertical side is vertical, but the horizontal side is a deformed lattice black inclined from the horizontal direction. It has the shape of a matrix 2.

【0104】この横方向のブラックマトリックス2の辺
は、赤(R)、緑(G)、青(B)のカラーフィルター
の3色ごとに傾け、その傾ける角度はラビング方向角度
と合致させる。
The sides of the black matrix 2 in the horizontal direction are inclined for each of three colors of red (R), green (G), and blue (B) color filters, and the angle of the inclination matches the rubbing direction angle.

【0105】なお、この図7では変形格子状のブラック
マトリックス2の上に形成したカラーフィルタ3とオー
バーコート膜4と透明電極5とは図示していない。
In FIG. 7, the color filter 3, the overcoat film 4, and the transparent electrode 5 formed on the deformed lattice-shaped black matrix 2 are not shown.

【0106】変形格子状のブラックマトリックス2の横
方向のライン21上に矩形状のフォトリソスペーサ6を
形成し、さらに配向膜7を図8の断面図に示すように形
成している。
A rectangular photolitho spacer 6 is formed on a horizontal line 21 of the modified lattice black matrix 2, and an alignment film 7 is formed as shown in the sectional view of FIG.

【0107】矩形状のフォトリソスペーサ6は、縦方向
の辺と横方向の辺との交差点付近を起点として、図7に
おいては、カラーフィルターのR領域とG領域とに形成
し、ラビング影AはカラーフィルターのB領域に相当す
るブラックマトリックス2の横方向の辺上に形成されて
いる。
In FIG. 7, the rectangular photolitho spacer 6 is formed in the R area and the G area of the color filter starting from the vicinity of the intersection of the vertical side and the horizontal side. The black matrix 2 is formed on the lateral side of the black matrix 2 corresponding to the region B of the color filter.

【0108】ここで、図9に示すように、ラビング方向
と角度を示す矢印方向に沿って配向膜7のラビング処理
を行なうと、フォトリソスペーサ6が1μm〜10μm
のかなりの高さを備えているが、前述のように、ブラッ
クマトリックス2の横方向の辺が、ラビング方向角度と
合致しているため、ラビング影A領域となって配向性が
不充分な領域は、ブラックマトリックス2の横方向のラ
イン21上に発生することになる。
Here, as shown in FIG. 9, when the rubbing process of the alignment film 7 is performed along the arrow direction showing the rubbing direction and the angle, the photolithographic spacer 6 becomes 1 μm to 10 μm.
However, as described above, since the horizontal side of the black matrix 2 matches the rubbing direction angle, the rubbing shadow A region is formed, and the orientation is insufficient. Is generated on the horizontal line 21 of the black matrix 2.

【0109】このラビング影Aの大きさは、フォトリソ
スペーサ6の高さが高いほど大きくなってしまうことに
なる。
The size of the rubbing shadow A increases as the height of the photolithographic spacer 6 increases.

【0110】しかも、ラビング影Aの領域は、ラビング
布が配向膜7を充分に擦ることがなされていないため、
前述のように配向力が弱く配向欠陥を発生させてしま
う。
Further, in the area of the rubbing shadow A, since the rubbing cloth has not sufficiently rubbed the alignment film 7,
As described above, the alignment force is weak and an alignment defect is generated.

【0111】しかしながら、本発明の第2の実施形態に
おける液晶表示装置では、図7に示すように、ラビング
処理が不充分なラビング影Aの領域は、表示用画素周辺
に設け遮光用のブラックマトリックス2の横方向のライ
ン21上に発生するだけで、表示画素部には発生しない
ことになる。
However, in the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention, as shown in FIG. 7, the area of the rubbing shadow A where the rubbing process is insufficient is provided around the display pixels and the black matrix for light shielding. 2 occurs only on the horizontal line 21 and does not occur on the display pixel portion.

【0112】液晶セルのギャップ寸法を10μm程度の
大きなセル間隔にしたい場合、当然フォトリソスペーサ
6の高さも10μmと厚く形成する必要がある。
If the gap size of the liquid crystal cell is desired to be as large as about 10 μm, the height of the photolithographic spacer 6 must be formed as thick as 10 μm.

【0113】その結果、ラビング影がラビング影A’ま
で大きくなってしまい、カラーフィルタ形成領域である
画素部3’まで形成されてしまうことになる。
As a result, the rubbing shadow increases to the rubbing shadow A ', and the rubbing shadow is formed up to the pixel portion 3' which is a color filter forming area.

【0114】しかし、本発明の図7に示すように、ブラ
ックマトリックス2の横方向のライン21が、カラーフ
ィルタR、G、B三色単位でラビング方向に合致させる
ように傾けて形成されていれば、矩形状のフォトリソス
ペーサ6をカラーフィルタのR領域およびG領域のブラ
ックマトリックス2に相当する位置だけに形成し、カラ
ーフィルタB部には形成しない構造としている。
However, as shown in FIG. 7 of the present invention, the horizontal lines 21 of the black matrix 2 are formed so as to be inclined so as to match the rubbing direction for each of the three color filters R, G and B. For example, a rectangular photolitho spacer 6 is formed only at the positions corresponding to the black matrix 2 in the R and G regions of the color filter, and is not formed in the color filter B portion.

【0115】このことによって、ラビング影Aの領域が
長く形成されても、表示用画素周辺部に設ける遮光用の
ブラックマトリックス2の横方向のライン21上にだ
け、このラビング影Aの領域が発生し、表示画素部には
発生しないことになる。
As a result, even if the area of the rubbing shadow A is formed to be long, the area of the rubbing shadow A occurs only on the horizontal line 21 of the black matrix 2 for light shielding provided around the display pixels. However, it does not occur in the display pixel portion.

【0116】その結果、画像を視認者から観察した場合
には、フォトリソスペーサ6によるラビング影Aの領域
の存在が認識されることはなく、表示品質がなめらかに
みえる効果をもたらす。
As a result, when the image is viewed from a viewer, the presence of the area of the rubbing shadow A due to the photolithographic spacer 6 is not recognized, and an effect that the display quality looks smooth is brought about.

【0117】しかも、この実施形態における矩形状スペ
ーサは、円柱状スペーサと比較してその占有面積は数倍
の面積がとれるため、強度的に優れたフォトリソスペー
サを備える液晶表示装置を提供することができる。
Moreover, the rectangular spacer in this embodiment can occupy several times the area occupied by the columnar spacer, so that it is possible to provide a liquid crystal display device having a photolithographic spacer having excellent strength. it can.

【0118】(第3の実施形態)つぎに図9の平面図を
用いて本発明の第3の実施形態における液晶表示装置を
説明する。
(Third Embodiment) Next, a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to the plan view of FIG.

【0119】この第3の実施形態においては、フォトリ
ソスペーサ6は、各カラーフィルターのR,G,Bごと
に、ラビング方向と合致するように傾けたブラックマト
リクス2の横方向のライン上に形成し、その平面パター
ン形状を矩形状とする。
In the third embodiment, the photolithographic spacers 6 are formed on the horizontal lines of the black matrix 2 tilted so as to match the rubbing direction for each of R, G and B of each color filter. The planar pattern shape is rectangular.

【0120】この他の構成は、第1、および第2の実施
形態の液晶表示装置の構造と同じであるので、詳細な説
明は省略する。
The other structure is the same as the structure of the liquid crystal display device of the first and second embodiments, and a detailed description will be omitted.

【0121】フォトリソスペーサ6の高さを、液晶セル
ギャップに応じて大きくした場合、図9に示すラビング
影A´のように、画素部にまでそのラビング影が形成さ
れないように、矩形状のフォトリソスペーサ6の長辺の
長さをコントロールして、その長辺の寸法を小さくすれ
ばよい。
When the height of the photolithographic spacer 6 is increased in accordance with the liquid crystal cell gap, a rectangular photolithographic spacer is formed so that the rubbing shadow is not formed in the pixel portion as in the rubbing shadow A 'shown in FIG. The length of the long side of the spacer 6 may be controlled to reduce the dimension of the long side.

【0122】すなわち、矩形状のフォトリソスペーサ6
の長辺の長さをコントロールして、ラビング影が画素部
に形成されないようにすればよい。
That is, the rectangular photolitho spacer 6
May be controlled so that a rubbing shadow is not formed in the pixel portion.

【0123】この第3の実施形態においては、第1の実
施形態における円柱状のフォトリソスペーサと比較し
て、その占有面積は数倍の面積がとれるため、強度的に
優れたフォトリソスペーサを備える液晶表示装置を提供
することができる。
In the third embodiment, since the occupied area can be several times as large as that of the columnar photolithospacer in the first embodiment, a liquid crystal having a photolithospacer excellent in strength is provided. A display device can be provided.

【0124】[0124]

【発明の効果】上述の説明のように、フォトリソスペー
サを備えたカラーSTN液晶表示装置として、視角特性
を損なうことなく、表示画素部にスペーサが存在しない
構造としているため、スペーサによる光漏れや、ザラツ
キがない表示品質に優れた高コントラストな液晶表示装
置が提供できる。
As described above, the color STN liquid crystal display device having the photolithographic spacer has a structure in which no spacer is present in the display pixel portion without deteriorating the viewing angle characteristics. A high-contrast liquid crystal display device with excellent display quality without roughness can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態による液晶表示装置の構造お
よびその製造方法を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a structure of a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention and a method for manufacturing the same.

【図2】本発明の実施形態および従来技術における液晶
表示装置の構造およびその製造方法を示す断面図であ
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention and a conventional technique and a method of manufacturing the same.

【図3】従来技術による液晶表示装置の構造およびその
製造方法を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a structure of a conventional liquid crystal display device and a method of manufacturing the same.

【図4】本発明の実施形態および従来技術による液晶表
示装置の構造およびその製造方法における第1の基板お
よび第2の基板におけるラビング角度とその方向を示す
図面である。
FIG. 4 is a view showing rubbing angles and directions of a first substrate and a second substrate in a structure of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention and a conventional technique and a method of manufacturing the same.

【図5】本発明の実施形態による液晶表示装置の構造お
よびその製造方法における透明電極を示す平面図であ
る。
FIG. 5 is a plan view showing a structure of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention and a transparent electrode in a method of manufacturing the same.

【図6】本発明の実施形態による液晶表示装置の構造お
よびその製造方法を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention and a method of manufacturing the same.

【図7】本発明の別の実施形態による液晶表示装置の構
造およびその製造方法を示す平面図である
FIG. 7 is a plan view showing a structure of a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention and a method of manufacturing the same.

【図8】本発明の別の実施形態による液晶表示装置の構
造およびその製造方法を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention and a method of manufacturing the same.

【図9】本発明の別の実施形態による液晶表示装置の構
造およびその製造方法を示す平面図である。
FIG. 9 is a plan view showing a structure of a liquid crystal display according to another embodiment of the present invention and a method for manufacturing the same.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、10:基板 2:ブラックマトリック
ス 3、31、32、33:カラーフィルタ 4:オーバーコート膜 5、11:透明電
極 6:フォトリソスペーサ 7、12:配向
膜 8:シール剤 9:液晶 21:横方向のライン A、B:ラビング影
1, 10: substrate 2: black matrix 3, 31, 32, 33: color filter 4: overcoat film 5, 11: transparent electrode 6: photolitho spacer 7, 12: alignment film 8: sealant 9: liquid crystal 21: horizontal Line A, B: rubbing shadow

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の基板と第2の基板の一対の基板間
に液晶を挟持した液晶表示装置であって、 上記一対の基板の一方の基板に格子状のブラックマトリ
ックスと、カラーフィルタを備え、 上記ブラックマトリックスの縦方向の辺は、垂直とし、 上記ブラックマトリックスの横方向の辺は、複数のカラ
ーフィルタの各色単位で、ラビング方向と角度を合致す
るように傾け、 そのブラックマトリックスの縦方向の辺と横方向の辺の
交差点にフォトリソスペーサを配置することを特徴とす
る液晶表示装置。
1. A liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of a first substrate and a second substrate, wherein one of the pair of substrates has a grid-like black matrix and a color filter. The vertical side of the black matrix is vertical, and the horizontal side of the black matrix is inclined so as to match the rubbing direction with the angle in each color unit of a plurality of color filters, and the vertical side of the black matrix is provided. A liquid crystal display device comprising a photolitho spacer disposed at an intersection of a horizontal side and a horizontal side.
【請求項2】 そのブラックマトリックスの横方向の辺
に、ラビングによるラビング影が形成されている請求項
1に記載の液晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a rubbing shadow due to rubbing is formed on a lateral side of the black matrix.
【請求項3】 フォトリソスペーサは、 柱状または矩形状である請求項1に記載の液晶表示装
置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the photolithographic spacer has a columnar or rectangular shape.
【請求項4】 第1の基板と第2の基板の一対の基板間
に液晶を挟持した液晶表示装置であって、 上記一対の基板の一方の基板に格子状のブラックマトリ
ックスと、カラーフィルタを備え、 上記ブラックマトリックスの縦方向の辺は、垂直とし、 上記ブラックマトリックスの横方向の辺は、複数のカラ
ーフィルタの複数単位で、ラビング方向と角度を合致す
るように傾け、 そのブラックマトリックス縦方向の辺と横方向の辺の交
差点を起点とする矩形状のフォトリソスペーサを配置す
ることを特徴とする液晶表示装置。
4. A liquid crystal display device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of a first substrate and a second substrate, wherein one of the pair of substrates includes a grid-like black matrix and a color filter. The vertical side of the black matrix is vertical, and the horizontal side of the black matrix is tilted so as to match the rubbing direction with the rubbing direction in a plurality of units of a plurality of color filters. A liquid crystal display device comprising a rectangular photolithospacer starting from an intersection of a side and a side in the horizontal direction.
【請求項5】 上記ブラックマトリックスの横方向の辺
に、ラビングによるラビング影が形成されている請求項
4に記載の液晶表示装置。
5. The liquid crystal display device according to claim 4, wherein a rubbing shadow due to rubbing is formed on a lateral side of the black matrix.
【請求項6】 第1の基板と第2の基板の一対の基板間
に液晶を挟持した液晶表示装置の上記一対の基板の一方
の基板に格子状のブラックマトリックスと、カラーフィ
ルタを備え、上記ブラックマトリックスの縦方向の辺
は、垂直とし、上記ブラックマトリックスの横方向の辺
は、複数のカラーフィルタの各色単位でラビング方向と
角度を合致するように傾け、 そのブラックマトリックスの縦方向の辺と横方向の辺の
交差点にフォトリソスペーサを配置する液晶表示装置の
製造方法は、 上記第2の基板に、ラビング方向に合致する横方向の辺
と縦方向の辺の格子状のブラックマトリックスと、カラ
ーフィルタと、オーバーコート膜と、透明電極と、フォ
トリソスペーサを順次形成する工程と、 第1の基板と第2の基板に配向膜を形成し、液晶を配向
させるためのラビング配向処理を種々の液晶のツイスト
角に対応して行なう工程とを備え、 第1の基板と第2の基板を重ね合わせて液晶を注入して
なる液晶表示装置の表示画素部にはスペーサが存在しな
いことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
6. A liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of a first substrate and a second substrate, wherein one of the pair of substrates includes a grid-like black matrix and a color filter. The vertical side of the black matrix is vertical, and the horizontal side of the black matrix is inclined so that the rubbing direction and the angle coincide with each other for each color of the plurality of color filters. A method of manufacturing a liquid crystal display device, in which a photolitho spacer is arranged at an intersection of a horizontal side, comprising: a grid-like black matrix of a horizontal side and a vertical side corresponding to a rubbing direction; A step of sequentially forming a filter, an overcoat film, a transparent electrode, and a photolithographic spacer; forming an alignment film on the first substrate and the second substrate; Performing a rubbing alignment process for aligning the liquid crystal in accordance with the twist angles of various liquid crystals, and superposing the first substrate and the second substrate and injecting the liquid crystal. A method for manufacturing a liquid crystal display device, characterized in that no spacer is present in the portion.
【請求項7】 第1の基板と第2の基板の一対の基板間
に液晶を挟持した液晶表示装置の上記一対の基板の一方
の基板に格子状のブラックマトリックスと、カラーフィ
ルタを備え、上記ブラックマトリックスの縦方向の辺
は、垂直とし、上記ブラックマトリックスの横方向の辺
は、複数のカラーフィルタの複数単位でラビング方向と
角度を合致するように傾け、そのブラックマトリックス
縦方向の辺と横方向の辺の交差点を起点とする矩形状の
フォトリソスペーサを配置する液晶表示装置の製造方法
は、 第2の基板にブラックマトリックスと、カラーフィルタ
と、オーバーコート膜と、透明電極と、フォトリソスペ
ーサを順次形成する工程と、 第1の基板と第2の基板に配向膜を形成し、液晶を配向
させるためのラビング配向処理を液晶のツイスト角に対
応して行なう工程とを有し、 第1の基板と第2の基板を重ね合わせて液晶を注入して
なる液晶表示装置の表示画素部にはスペーサ影が存在し
ないことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
7. A liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of a first substrate and a second substrate, wherein one of the pair of substrates includes a lattice-shaped black matrix and a color filter. The vertical side of the black matrix is vertical, and the horizontal side of the black matrix is inclined so as to match the rubbing direction and the angle in a plurality of units of a plurality of color filters. A method for manufacturing a liquid crystal display device in which a rectangular photolitho spacer starting from an intersection of sides in a direction is arranged includes: a black matrix, a color filter, an overcoat film, a transparent electrode, and a photolitho spacer on a second substrate. Forming the alignment film on the first substrate and the second substrate, and performing a rubbing alignment process for aligning the liquid crystal. A step performed in accordance with a strike angle, wherein a spacer shadow does not exist in a display pixel portion of a liquid crystal display device in which a first substrate and a second substrate are overlapped and liquid crystal is injected. Of manufacturing a liquid crystal display device.
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