JP4150143B2 - Manufacturing method of solar cell module - Google Patents
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Description
【0001】
本発明は太陽電池モジュールの製造方法に関し、特にモジュール側面からの水分の侵入による特性の劣化を防止できる方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、化石エネルギー資源の枯渇の問題や大気中のCO2の増加のような環境問題などから、クリーンな新エネルギーの開発が望まれており、特に太陽光発電が期待されている。太陽光発電に用いられる太陽電池モジュールには、大別して、結晶系モジュールと薄膜系モジュールとがある。
【0003】
結晶系太陽電池モジュールでは、前面カバーガラス上に小面積の単結晶半導体ウェハを用いて形成された太陽電池素子を20〜30枚配置して相互配線している。そして、これらの太陽電池素子をEVAなどの充填材で封止し、テドラー(登録商標)フィルムなどの背面カバーを用いて保護している。
【0004】
薄膜系太陽電池モジュール(基板一体型モジュール)では、前面カバーガラスを兼ねるガラス基板上に透明電極層、半導体薄膜光電変換層および裏面電極層を順に積層している。これらの層は気相成長とレーザスクライブなどによるパターニングとを利用して複数の太陽電池素子に分割され、かつ電気的に相互接続(集積化)されており、これによって所望の電圧と電流の出力が得られる。そして、薄膜系太陽電池モジュールでも結晶系太陽電池モジュールの場合と同様の充填材と背面カバーが用いられる。
【0005】
薄膜系太陽電池モジュールの結晶系太陽電池モジュールに対する特長は、素子間の配線および素子−ガラス基板間の封止樹脂が不要なため、コスト面で有利であるだけでなく、封止樹脂における光吸収によるエネルギー損失および封止樹脂の黄変による特性劣化がないことである。
【0006】
ところで、太陽電池モジュールにおいては、外部から太陽電池素子領域へ水分が侵入すると、絶縁不良やシリコン層の腐食などの致命的な欠陥が発生する。こうした水分の侵入を防止するために、例えば薄膜系太陽電池モジュールにおいてはそのガラス基板の周縁部に製膜された裏面電極層およびシリコン層をブラスト処理により除去した後にEVAなどの充填材で封止することにより、周縁部においてガラス基板(または透明電極層)に対して充填材を直接密着させるようにするなどの対策がとられている。これは、充填材のガラス基板(または透明電極層)に対する接着性が、裏面電極やシリコン層に対する接着性よりも良好であるためである。
【0007】
一方、上記のような構成の太陽電池モジュールを屋根やビルの外壁に配列した場合、太陽と太陽電池モジュールとの角度によっては、太陽光が反射して隣接する家屋の中を照らしたりする等の光公害の問題が一部で指摘されていた。この問題に対しては、ガラス基板の光入射面に光を乱反射させる作用を有する防眩膜を形成する対策がなされている。
【0008】
防眩膜は、透明前面カバー、太陽電池素子、背面カバーを積層して充填材を用いて真空ラミネーターにより封止し、封止工程でガラス基板からはみ出した充填材および背面カバーを切り取り(トリミング)した後、防眩膜の塗布液を塗布し製膜化させると、防眩膜の塗布液には有機溶剤(たとえばキシレン/MIBKやIPA)が用いられることが多いため、有機溶剤によってEVAなどからなる充填材が溶解または膨潤することがある。この結果、ガラス基板と充填材との間に水分の侵入経路が生じ、絶縁不良やシリコン層の腐食などの欠陥発生を防止する効果が得られなくなる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、外部から水分の侵入による絶縁不良やシリコン層の腐食などの欠陥発生を効果的に防止できる太陽電池モジュールを簡便に製造できる方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の太陽電池モジュールの製造方法は、透明前面カバーの光入射側に防眩膜が形成された太陽電池モジュールを製造するにあたり、前記透明前面カバーと太陽電池及び背面カバーを充填材を用いて積層し、前記充填材を熱硬化させて封止する封止工程と、前記封止工程の後に、前記透明前面カバーの光入射側に防眩膜の塗布液を塗装して製膜する防眩膜製膜工程と、前記防眩膜製膜工程の後に、前記封止工程において前記透明前面カバーの端部からはみ出した充填材および背面カバーの周縁部をトリミングするトリミング工程とを具備したことを特徴とする。
【0011】
本発明において用いられる防眩膜は、有機ポリマー、無機ポリマーまたはこれらの複合材料を含む。
【0012】
防眩膜に有機ポリマーを用いる場合には、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、またはこれらの混合物を用いることが好ましい。アクリル系樹脂としては、以下の分子構造:
【化2】
【0013】
(式中、R1は炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、アリール基およびアラルキル基からなる群より選択される一価の炭化水素基、aは0、1、または2を示す。)
で表わされる基を含有する加水分解性シリル基含有アクリル系共重合体を含むものが挙げられる。フッ素系樹脂としては水酸基含有フッ素系樹脂が挙げられる。
【0014】
防眩膜に無機ポリマーを用いる場合には、アルキルシリケートからなる原料から生成する無機ポリマーを用いることが好ましい。このような無機ポリマーはシリカを含む。
【0015】
【発明の実施の形態】
本発明の方法により製造できる太陽電池モジュールは、薄膜系のものでは、透明絶縁基板上に形成された太陽電池素子と、太陽電池素子の裏面を封止する充填材および背面カバーと、前記透明絶縁基板の光入射面側に形成された防眩膜とを含む。
【0016】
太陽電池素子にはアモルファスシリコン、多結晶シリコン、結晶型シリコンが用いられる。薄膜系の太陽電池素子は、透明絶縁基板上に順次形成された透明電極層、半導体光電変換層および裏面電極層を含む。透明電極層としては、SnO2、ITO、ITO/SnO2の積層体、またはZnO等が用いられる。半導体光電変換層としては、非晶質シリコンa−Si、水素化非晶質シリコンa−Si:H、水素化非晶質シリコンカーバイドa−SiC:H、非晶質シリコンナイトライド等の他、シリコンと炭素、ゲルマニウム、錫等の他の元素との合金からなる非晶質シリコン系半導体の非晶質または微結晶を、pin型、nip型、ni型、pn型、MIS型、ヘテロ接合型、ホモ接合型、ショットキバリア型あるいはこれら組合せた型等に合成した半導体層が用いられる。この他、半導体光電変換層としては、CdS系、GaAs系、InP系等を用いることもできる。裏面電極層としては、金属または金属酸化物/金属の複合膜等が用いられる。
【0017】
上記のような構造の太陽電池素子の裏面は、充填材で封止され、背面カバーで保護される。充填材としては、シリコーン、エチレン−ビニルアセテート共重合体(EVA)、ポリビニルブチラール等が用いられる。背面カバーフィルムとしては、フッ素系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート、またはアルミニウム等の金属フィルムやSiO2等の薄膜をラミネートした多層構造のフィルム等が用いられる。
【0018】
一方、透明絶縁基板の光入射面側には防眩膜が形成される。本発明方法の特徴は、太陽電池素子の裏面に充填材および背面カバーを積層し充填材を熱硬化させて封止し、次いで透明絶縁基板の光入射面側に防眩膜の塗布液を塗布して製膜化させた後、封止工程において前記透明絶縁基板の端部からはみ出した充填材および背面カバーの周縁部をトリミングすることにある。このような方法では、防眩膜の塗布液を塗布した際に塗布液の溶媒により充填材の周縁部が溶解または膨潤したとしても、その部分は次のトリミング工程で除去されるので、最終的に製造される太陽電池モジュールではガラス基板と充填材との間に水分の侵入経路が生じることはなく、絶縁不良やシリコン層の腐食などの欠陥発生を防止できる。
【0019】
次に、防眩膜の材料についてより詳細に説明する。防眩膜の材料は、十分な耐候性を有し、光透過性が良好で、太陽電池素子を劣化させない温度、具体的には200℃以下、より好ましくは150℃以下で硬化あるいは乾燥により製膜化することが要求される。このような要求を満たす防眩膜の材料としては、有機ポリマー、無機ポリマー、またはそれらの複合材料を用いることができる。これらの原料に必要に応じて硬化剤を添加したり希釈剤(たとえば有機溶剤)で希釈した塗布液を所定の厚さに塗布した後、製膜化することにより防眩膜を形成することができる。このうち、有機ポリマーは柔軟であってひび割れしにくい点で好ましく、無機ポリマーは耐候性や耐熱性が高いという点で好ましい。
【0020】
本発明において、防眩膜として有機ポリマーを用いる場合、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、またはこれらの混合物を含むものを用いることが好ましい。有機ポリマー中のアクリル系樹脂、フッ素系樹脂、またはこれらの混合物の含有率は、50重量%以上、好ましくは80重量%以上、さらに好ましくは95重量%以上に設定される。
【0021】
アクリル系樹脂としては、アクリル系モノマーを含むビニルモノマーと、加水分解性シリル基含有モノマーとの共重合により得られるものが好ましい。このようなアクリル系樹脂は、主鎖が実質的に炭素−炭素結合からなり、末端または側鎖に少なくとも1個の加水分解性シリル基を含有する。加水分解性シリル基とは、加水分解性基と結合した珪素原子を有する置換基である。なお、上記のアクリル系樹脂は、主鎖または側鎖にウレタン結合またはシロキサン結合を一部含んでもよい。
【0022】
ビニルモノマーは特に限定されない。具体的には、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリフロロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフロロプロピル(メタ)アクリレート、ポリカルボン酸(マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等)と炭素数1〜20の直鎖または分岐のアルコールとのジエステルまたはハーフエステル等の不飽和カルボン酸のエステル;スチレン、a−メチルスチレン、クロロスチレン、スチレンスルホン酸、4−ヒドロキシスチレン、ビニルトルエン等の芳香族炭化水素系ビニル化合物;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ジアリルフタレート等のビニルエステルやアリル化合物;(メタ)アクリロニトリル等のニトリル基含有ビニル化合物;グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基含有ビニル化合物;ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ビニルピリジン、アミノエチルビニルエーテル等のアミノ基含有ビニル化合物;(メタ)アクリルアミド、イタコン酸ジアミド、a−エチル(メタ)アクリルアミド、クロトンアミド、マレイン酸ジアミド、フマル酸ジアミド、N−ビニルピロリドン、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン等のアミド基含有ビニル化合物;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、アロニクス5700(東亜合成(株)製)、Placcel FA-1、Placcel FA-4、Placcel FM-1、Placcel FM-4(以上ダイセル化学(株)製)等の水酸基含有ビニル化合物;(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸およびそれらの塩(アルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン塩等)、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸、酸無水物、またはその塩;ビニルメチルエーテル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、クロロプレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン、マレイミド、N−ビニルイミダゾール、ビニルスルホン酸等のその他のビニル化合物等が挙げられる。
【0023】
加水分解性シリル基含有モノマーとしては、具体的には、以下のようなアルコキシシランビニルモノマーが挙げられる。
【0024】
【化3】
【0025】
加水分解性シリル基含有アクリル系共重合体中のアルコキシシランビニルモノマー単位の含有率は、5〜90重量%、好ましくは20〜80重量%、さらに好ましくは30〜70重量%に設定される。
【0026】
アルコキシシランビニルモノマーとビニルモノマーとの共重合体の製造方法は、たとえば特開昭54−36395、特開昭57−36109、特開昭58−157810等に開示されている。アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系ラジカル開始剤を用いた溶液重合が最も好ましい。また必要に応じて、連鎖移動剤を用い、分子量を調節してもよい。連鎖移動剤としては、n−ドデシルメルカプタン、t−ドデシルメルカプタン、n−ブチルメルカプタン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、(H3CO)3Si−S−S−Si(OCH3)3、(CH3O)3Si−S8−Si(OCH3)3等が挙げられる。特に、分子中に加水分解性シリル基を有する連鎖移動剤、たとえばγ−メルカプトプロピルトリメトキシシランを用いれば、末端に加水分解性シリル基が導入された加水分解性シリル基含有アクリル系共重合体を得ることができる。
【0027】
重合溶剤は炭化水素類(トルエン、キシレン、n−ヘキサン、シクロヘキサン等)、酢酸エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール等)、エーテル類(エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等)、ケトン類(メチルエチルケトン、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、メチルイソブチルケトン、アセトン等)のような非反応性の溶剤であれば特に限定されない。
【0028】
市販の加水分解性シリル基含有アクリル系共重合体としては、鐘淵化学工業株式会社製ゼムラック(登録商標)が挙げられる。ゼムラックは、上述した
(R1)3-a(R2)aSi−
(式中、R1、R2、およびaの定義は上記の通りである。)
という分子構造を含んでいる。
【0029】
一方、フッ素系樹脂としては、水酸基含有フッ素系共重合体を用いることが好ましい。水酸基含有フッ素系共重合体としては、水酸基価が5〜300mgKOH/g、さらに10〜250mgKOH/gのものが特に好ましい。水酸基含有フッ素系共重合体は、(1)フッ素含有ビニルモノマー、(2)水酸基含有ビニルモノマー、および(3)その他のモノマーを共重合することにより合成できる。
【0030】
(1)のフッ素含有ビニルモノマーとしては、クロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、トリフルオロエチレン等のフルオロオレフィン;CH2=CHCOOCH2CF3、CH2=C(CH3)COOCH2CF3、CH2=CHCOOCH(CF3)2、CH3=C(CH3)COOCH(CF3)2、CH2=CHCOOCH2CF2CF2CF3、CH2=CHCOOCF3、CH2=C(CH3)COOCH2CF2CF2CF3、CH2=C(CH3)COOCF3等を含む(メタ)アクリル酸フルオロアルキル等が挙げられる。
【0031】
(2)の水酸基含有ビニルモノマーとしては、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒドロキシヘキシルビニルエーテル等のヒドロキシアルキルビニルエーテル;2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、アロニクス5700(東亜合成(株)製)、Placcel FA-1、同 FA-4、同FM-1、同FM-4(以上ダイセル化学(株)製)等が挙げられる。
【0032】
(3)のその他のモノマーとしては、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル;シクロヘキシルビニルエーテル;マレイン酸、フマール酸、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシルアルキルビニルエーテル等のカルボキシル基含有モノマー;エチレン、プロピレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル;メタクリル酸メチル、アクリル酸メチル等の不飽和カルボン酸エステル;ビニルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の加水分解性シリル基含有モノマー等が挙げられる。
【0033】
市販の水酸基含有フッ素系樹脂としては、旭硝子株式会社製のルミフロン、ボンフロン、株式会社トウベ製ニューガメット、大日本塗料株式会社製Vフロン(いずれも登録商標)が挙げられる。
【0034】
本発明において、防眩膜として無機ポリマーを用いる場合、その原料としてアルキルシリケートを用いることができる。アルキルシリケートとしては、たとえばエチルシリケート、ブチルシリケート、またはこれらの混合物が挙げられる。このような原料から生成される無機ポリマーはシリカを含有する。こうした無機ポリマーを生成させる際には、原料に触媒好ましくはHCl等の酸触媒を添加した後に塗布することにより、硬化速度をコントロールしてもよい。
【0035】
市販の無機ポリマーの原料としては、たとえば(有)テー・エス・ビー製の無機ワニス、TSB4200、TSB4300、TSB4400が挙げられる。TSB4200はエチルシリケート、TSB4400はブチルシリケートを主成分とするものであり、TSB4300はエチルシリケートとブチルシリケートとの混合物である。これらの原料からは耐候性かつ耐熱性の無機ポリマーが得られる。
【0036】
さらに、防眩膜として複合材料を用いてもよい。複合材料としては、無機ポリマー分子構造中に有機分子を付加したもの、無機ポリマーと有機ポリマーとの混合物、無機ポリマー中に有機ポリマーを分散したものなどが挙げられる。
【0037】
市販の複合材料としては、日本油脂株式会社製のセラミック系塗料、ベルクリーン(登録商標)が挙げられる。ベルクリーンはアルキルシリケートに高耐久性の有機ポリマーを混合したものである。
【0038】
防眩膜の平均厚さは、0.1〜500μm、好ましくは0.5〜100μm、さらに好ましくは1〜30μmに設定される。防眩膜の平均厚さが0.1μmより薄い場合には光散乱に適した凹凸を形成することが困難になる。防眩膜の平均厚さが500μmより厚い場合には防眩膜の透光性が低下して太陽電池素子5に達する光が減少するおそれがある。
【0039】
本発明においては、複数層の防眩膜を積層してもよい。たとえば、屈折率の異なる材料からなる複数層の防眩膜を組合せることにより光乱反射効果を向上することができる。上層の防眩膜として無機ポリマーを用いれば、表面硬度や耐摩耗性を向上させることができる。上層の防眩膜として有機ポリマーを用いれば、表面のクラックやひずみを吸収することができる。また、上層の防眩膜として、汚染防止のために撥水性の高いフッ素系樹脂や、水分散性のよい無機ポリマーを用いてもよい。
【0040】
本発明においては、有機ポリマーまたは無機ポリマーからなる防眩膜中に無機粒子または/および有機粒子を分散させてもよい。
【0041】
無機粒子としては、シリカからなるものが用いられる。具体的には、たとえば、φ4μmのシリカからなるデグサジャパン製TS100、φ2μmのシリカからなるデグサジャパン製デグサOK−607、φ0.07〜0.1μmのシリカゾルからなる日産化学工業株式会社製EG−ST−ZL等が用いられる。
【0042】
有機粒子としては、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリエチレンワックス、またはこれらの少なくとも2種以上の混合物を主成分とするものが用いられる。具体的には、たとえば、φ8μmのPMMA(ポリメチルメタクリレート)からなる積水化成製MBX−8、平均φ15μm、最大φ30μmのPE(ポリエチレン)からなる楠本化成製SE480−10T等が用いられる。
【0043】
無機粒子または/および有機粒子の粒径は、0.05〜200μm、より好ましくは0.5〜100μm、特に好ましくは1〜10μmである。
【0044】
有機または無機のポリマーと無機または有機の粒子との混合重量比は、無機または有機粒子の粒径に応じて調整することが好ましい。粒子の粒径が1μm未満の場合は50〜2000、特には100〜1500が好ましい。粒子の粒径が1μm以上、たとえば1〜10μmである場合は、0.1〜98、さらに1〜50、特に1〜10が好ましい。粒径が小さいと光乱反射効果が十分に発揮されず、逆に粒径が大きいとポリマーに対する粒子の分散性が低下するため好ましくない。
【0045】
さらに、防眩膜の凹凸表面上に平滑な表面を有する汚れ防止膜を形成してもよい。すなわち、防眩膜が微細な凹凸構造の表面を有する場合には汚れが付着しやすいが、その凹凸表面を汚れ防止膜で平坦化することによって、太陽電池モジュールの表面の汚れを軽減することができる。
【0046】
このような汚れ防止膜の材料としては、防眩膜として例示した材料を用いることができる。光乱反射効果の観点からは、汚れ防止膜と防眩膜は互いに異なる材料で形成されていることが好ましい。ただし、汚れ防止膜と防眩膜が同じ材料で形成されていても、一旦形成された防眩膜の凹凸表面は汚れ防止膜との間に明瞭な界面を形成するので、その凹凸界面によって光乱反射効果は維持される。
【0047】
汚れ防止膜としてフッ素系樹脂を用いた場合、その表面は良好な撥水性を有するので、雨水などによる塵の付着が減少する。汚れ防止膜としてアルキルシリケートから形成されるシリカを含む無機ポリマーを用いた場合、太陽電池素子の表面の耐薬品性が向上するとともに、親水性が良好になるため汚れがついたとしても均一化されて目立ちにくくなる。
【0048】
【実施例】
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
本発明の方法の理解を容易にするために、本発明の方法を説明する前に、まず本発明の方法により製造される薄膜系太陽電池モジュールについて説明する。図4に本発明に係る薄膜系太陽電池モジュールの端部近傍を断面で示す。図4において、ガラス基板1の下面には、SnO2等の透明導電酸化膜(TCO)からなる透明電極層2、シリコン等からなる半導体光電変換層3、およびAg等からなる裏面電極層4が順に積層されている。これらは、図4の紙面に直交する方向に延びる透明電極層2のスクライブ線2a、半導体光電変換層3のスクライブ線3a、および裏面電極層4のスクライブ線4aによってそれぞれ複数の細長い短冊状の領域に分割されている。このように順次積層されたそれぞれ短冊状の透明電極2、半導体光電変換層3および裏面電極4により1つの短冊状の太陽電池素子5が形成されている。そして、任意の太陽電池素子5の透明電極2は半導体層のスクライブ線3aを介して隣り合う太陽電池素子5の裏面電極4に接続され、複数の太陽電池素子5が電気的に直列に集積化されている。
【0049】
ガラス基板1の全周にわたって太陽電池セルを外部と電気的に分離するために、ガラス基板1の外周から5mmの位置で透明電極層、半導体光電変換層および裏面電極層をレーザーにより除去して絶縁分離領域としている。また、両端にあるストリングより外側の半導体光電変換層および裏面電極層を約3.5mmの幅で除去して配線領域としている。この配線領域に半田6を付け、その上に半田メッキ銅箔からなるバスバー電極7を形成している。このバスバー電極7は太陽電池セルのストリングと平行に配置されている。バスバー電極7には電力取出線(図4には図示せず)が接続される。
【0050】
このように集積化された複数の太陽電池素子の背面は充填材9によって封止され、さらにその上に積層された耐候性の背面カバーフィルム10によって保護されている。
【0051】
一方、ガラス基板1の上面(光入射面)には、透光性の防眩膜11が形成されている。図4の防眩膜11は、たとえば塗布液を塗布した後にエンボスローラーを押し付けることにより、光を散乱させるのに適した微細な凹凸を含む表面を有する。
【0052】
図4の太陽電池モジュールの製造方法を図1〜図3を参照して説明する。
まず、図1に示すように、ガラス基板1上に積層された透明電極層2、半導体光電変換層3および裏面電極層4からなる多数のストリング状の太陽電池素子5ならびに両端部のバスバー電極7を形成した後、バスバー電極7に電力取出線8を半田付けする。次に、太陽電池素子5の裏面に例えばEVAからなる充填材シート9および例えばテドラー(デュポン社製フッ素樹脂)からなる背面カバーフィルム10を積層する。なお、周縁部をトリミングすることを想定して、背面カバーフィルム10はガラス基板1より大きな面積を有するものが用いられる。
【0053】
次に、図2に示すように、図1の積層体を真空ラミネーター20を用いて封止する。すなわち、加熱台21上に太陽電池素子が形成されたガラス基板1、充填材シート9および背面カバーフィルム10の積層体を設置する。そして、加熱台21により充填材シート9を硬化可能な温度(140℃程度)に加熱するとともに、ゴム膜22により隔てられた加熱台21側の室内を真空引きすることにより大気圧でゴム膜22を介して背面カバーフィルム10および充填材シート9をガラス基板1へ押し付け、太陽電池素子の裏面を封止する。
【0054】
真空ラミネーターによる封止工程後には、図3(a)に示すように、太陽電池素子が形成されたガラス基板1の外側に、真空ラミネーターにおいて加熱されて溶融した後に硬化した充填材9および背面カバー10がはみ出した状態になっている。
【0055】
本発明においては、図3(b)に示すように、図3(a)の状態で防眩膜の塗布液を塗布し、硬化させることにより防眩膜11を形成する。その後、図3(c)に示すように、ガラス基板1の外側にはみ出した充填材9および背面カバー10をトリミングして除去する。このようにして図4に示した太陽電池モジュールを製造する。
【0056】
本発明の方法では、図3(b)の工程で防眩膜の塗布液を塗布した際に塗布液の溶媒により充填材9の周縁部が溶解または膨潤したとしても、その部分は図3(c)のトリミング工程で除去されるので、最終的に製造される太陽電池モジュールではガラス基板1と充填材9との間に水分の侵入経路が生じることはなく、絶縁不良やシリコン層の腐食などの欠陥発生を防止できる。
【0057】
なお、以上においては主に薄膜系の太陽電池モジュールについて説明したが、本願発明は結晶系の太陽電池モジュールにも適用できることは言うまでもない。
【0058】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、外部から水分の侵入による絶縁不良やシリコン層の腐食などの欠陥発生を効果的に防止できる太陽電池モジュールを簡便に製造できる方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法において太陽電池素子が形成されたガラス基板の裏面に充填材シートおよび背面カバーフィルムを積層する様子を示す斜視図。
【図2】本発明の方法において太陽電池素子が形成されたガラス基板、充填材シートおよび背面カバーフィルムの積層体を真空ラミネーター内に設置した状態を示す断面図。
【図3】本発明の太陽電池モジュールの製造方法を工程順に示す断面図。
【図4】本発明に係る太陽電池モジュールの概略構成を示す断面図。
【符号の説明】
1…ガラス基板
2…透明電極層
3…半導体光電変換層
4…裏面電極層
5…太陽電池素子
6…半田
7…バスバー電極
8…電力取出線
9…充填材
10…背面カバーフィルム
11…防眩膜
20…真空ラミネーター
21…加熱台
22…ゴム膜[0001]
The present invention relates to a method for manufacturing a solar cell module, and more particularly to a method capable of preventing deterioration of characteristics due to intrusion of moisture from a module side surface.
[0002]
[Prior art]
In recent years, from environmental problems such as the increase of CO 2 in the problems and the atmosphere of the depletion of fossil energy resources, has been desired the development of a new clean energy, it is especially expected to solar power. Solar cell modules used for photovoltaic power generation are roughly classified into crystal modules and thin film modules.
[0003]
In the crystalline solar cell module, 20 to 30 solar cell elements formed using a single-crystal semiconductor wafer with a small area are arranged on the front cover glass and interconnected. And these solar cell elements are sealed with fillers, such as EVA, and protected using back covers, such as a Tedlar (trademark) film.
[0004]
In a thin film solar cell module (substrate integrated module), a transparent electrode layer, a semiconductor thin film photoelectric conversion layer, and a back electrode layer are sequentially laminated on a glass substrate that also serves as a front cover glass. These layers are divided into a plurality of solar cell elements using vapor phase growth and patterning by laser scribe and the like, and are electrically interconnected (integrated), thereby outputting desired voltage and current. Is obtained. In the thin film solar cell module, the same filler and back cover as in the case of the crystalline solar cell module are used.
[0005]
The advantages of thin-film solar cell modules over crystalline solar cell modules are that they do not require wiring between elements and a sealing resin between the element and the glass substrate, which is advantageous in terms of cost and light absorption in the sealing resin There is no characteristic loss due to energy loss and yellowing of the sealing resin.
[0006]
By the way, in the solar cell module, when moisture enters the solar cell element region from the outside, fatal defects such as poor insulation and corrosion of the silicon layer occur. In order to prevent such intrusion of moisture, for example, in a thin film solar cell module, the back electrode layer and the silicon layer formed on the periphery of the glass substrate are removed by blasting and then sealed with a filler such as EVA Thus, measures are taken such that the filler is brought into direct contact with the glass substrate (or the transparent electrode layer) at the periphery. This is because the adhesiveness of the filler to the glass substrate (or transparent electrode layer) is better than the adhesiveness to the back electrode or the silicon layer.
[0007]
On the other hand, when the solar cell modules configured as described above are arranged on the roof or the outer wall of a building, depending on the angle between the sun and the solar cell module, sunlight may be reflected to illuminate adjacent houses, etc. Some problems of light pollution were pointed out. In order to solve this problem, measures are taken to form an antiglare film having an effect of irregularly reflecting light on the light incident surface of the glass substrate.
[0008]
The antiglare film is laminated with a transparent front cover, solar cell element, and back cover and sealed with a vacuum laminator using a filler, and the filler and back cover protruding from the glass substrate in the sealing process are trimmed. Then, when an antiglare film coating solution is applied to form a film, an organic solvent (for example, xylene / MIBK or IPA) is often used for the antiglare film coating solution. The resulting filler may dissolve or swell. As a result, a moisture intrusion path is formed between the glass substrate and the filler, and the effect of preventing defects such as defective insulation and corrosion of the silicon layer cannot be obtained.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a method for easily manufacturing a solar cell module that can effectively prevent generation of defects such as insulation failure and corrosion of a silicon layer due to intrusion of moisture from the outside.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The manufacturing method of the solar cell module of the present invention uses the filler for the transparent front cover, the solar cell, and the back cover when manufacturing the solar cell module in which the antiglare film is formed on the light incident side of the transparent front cover. laminated, and a sealing step of sealing the filling material is thermally cured, after the sealing step, a film by coating a coating solution of the anti-glare film on the light incident side of the transparent front cover antiglare A film forming step, and a trimming step for trimming the filler protruding from the end of the transparent front cover and the peripheral edge of the back cover in the sealing step after the anti-glare film forming step. Features.
[0011]
The antiglare film used in the present invention includes an organic polymer, an inorganic polymer, or a composite material thereof.
[0012]
In the case of using an organic polymer for the antiglare film, it is preferable to use an acrylic resin, a fluorine resin, or a mixture thereof. The acrylic resin has the following molecular structure:
[Chemical 2]
[0013]
(In the formula, R 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, and an aralkyl group, a represents 0, 1, or 2.)
The thing containing the hydrolyzable silyl group containing acrylic copolymer containing group represented by these is mentioned. Examples of the fluorine resin include a hydroxyl group-containing fluorine resin.
[0014]
When using an inorganic polymer for the antiglare film, it is preferable to use an inorganic polymer produced from a raw material made of an alkyl silicate. Such inorganic polymers include silica.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
When the solar cell module that can be manufactured by the method of the present invention is a thin-film type, the solar cell element formed on the transparent insulating substrate, the filler and the back cover for sealing the back surface of the solar cell element, and the transparent insulation And an antiglare film formed on the light incident surface side of the substrate.
[0016]
For the solar cell element, amorphous silicon, polycrystalline silicon, or crystalline silicon is used. The thin film solar cell element includes a transparent electrode layer, a semiconductor photoelectric conversion layer, and a back electrode layer sequentially formed on a transparent insulating substrate. As the transparent electrode layer, SnO 2 , ITO, a laminate of ITO / SnO 2 , ZnO, or the like is used. As the semiconductor photoelectric conversion layer, amorphous silicon a-Si, hydrogenated amorphous silicon a-Si: H, hydrogenated amorphous silicon carbide a-SiC: H, amorphous silicon nitride, etc., Amorphous or microcrystalline amorphous silicon semiconductors made of an alloy of silicon and other elements such as carbon, germanium, tin, etc. are pin-type, nip-type, ni-type, pn-type, MIS-type, heterojunction type A semiconductor layer synthesized into a homojunction type, a Schottky barrier type, a combination type thereof, or the like is used. In addition, a CdS system, a GaAs system, an InP system, or the like can be used as the semiconductor photoelectric conversion layer. As the back electrode layer, a metal or a metal oxide / metal composite film or the like is used.
[0017]
The back surface of the solar cell element having the above structure is sealed with a filler and protected by a back cover. As the filler, silicone, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), polyvinyl butyral, or the like is used. As the back cover film, a fluorine resin film, polyethylene terephthalate, a metal film such as aluminum, or a film having a multilayer structure in which a thin film such as SiO 2 is laminated is used.
[0018]
On the other hand, an antiglare film is formed on the light incident surface side of the transparent insulating substrate. The method of the present invention is characterized in that a filler and a back cover are laminated on the back surface of the solar cell element, the filler is thermally cured and sealed, and then an antiglare film coating solution is applied to the light incident surface side of the transparent insulating substrate. Then, after forming the film, the filler protruding from the end of the transparent insulating substrate and the peripheral edge of the back cover are trimmed in the sealing step. In such a method, even when the peripheral portion of the filler is dissolved or swelled by the solvent of the coating solution when the coating solution for the antiglare film is applied, the portion is removed in the next trimming step. In the solar cell module manufactured in (1), a moisture intrusion path does not occur between the glass substrate and the filler, and defects such as poor insulation and corrosion of the silicon layer can be prevented.
[0019]
Next, the material for the antiglare film will be described in more detail. The material of the antiglare film has sufficient weather resistance, good light transmission, and is produced by curing or drying at a temperature at which the solar cell element is not deteriorated, specifically 200 ° C. or less, more preferably 150 ° C. or less. It is required to form a film. As a material for the antiglare film that satisfies such requirements, an organic polymer, an inorganic polymer, or a composite material thereof can be used. An antiglare film can be formed by adding a curing agent to these raw materials as necessary or applying a coating solution diluted with a diluent (for example, an organic solvent) to a predetermined thickness and then forming the film. it can. Among these, the organic polymer is preferable in terms of being flexible and difficult to crack, and the inorganic polymer is preferable in terms of high weather resistance and heat resistance.
[0020]
In the present invention, when an organic polymer is used as the antiglare film, it is preferable to use an acrylic resin, a fluorine resin, or a mixture thereof. The content of the acrylic resin, the fluorine resin, or a mixture thereof in the organic polymer is set to 50% by weight or more, preferably 80% by weight or more, and more preferably 95% by weight or more.
[0021]
As the acrylic resin, those obtained by copolymerization of a vinyl monomer containing an acrylic monomer and a hydrolyzable silyl group-containing monomer are preferable. In such an acrylic resin, the main chain is substantially composed of a carbon-carbon bond, and contains at least one hydrolyzable silyl group at the terminal or side chain. The hydrolyzable silyl group is a substituent having a silicon atom bonded to the hydrolyzable group. In addition, said acrylic resin may contain a urethane bond or a siloxane bond in part in a principal chain or a side chain.
[0022]
The vinyl monomer is not particularly limited. Specifically, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, triethyl Such as diester or half ester of fluoroethyl (meth) acrylate, pentafluoropropyl (meth) acrylate, polycarboxylic acid (maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, etc.) and linear or branched alcohol having 1 to 20 carbon atoms Esters of unsaturated carboxylic acids; aromatic hydrocarbon vinyl compounds such as styrene, a-methylstyrene, chlorostyrene, styrene sulfonic acid, 4-hydroxystyrene, vinyltoluene; vinyl acetate, vinyl propionate, diallyl phthalate, etc. Vinyl esters and allyl compounds; nitrile group-containing vinyl compounds such as (meth) acrylonitrile; epoxy group-containing vinyl compounds such as glycidyl (meth) acrylate; dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, vinylpyridine, amino Amino group-containing vinyl compounds such as ethyl vinyl ether; (meth) acrylamide, itaconic acid diamide, a-ethyl (meth) acrylamide, crotonamide, maleic acid diamide, fumaric acid diamide, N-vinylpyrrolidone, N-butoxymethyl (meth) Amido group-containing vinyl compounds such as acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methylacrylamide, acryloylmorpholine; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy Propyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl vinyl ether, N-methylol (meth) acrylamide, Aronics 5700 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Placcel FA-1, Placcel FA-4, Placcel FM-1, Placcel FM-4 Hydroxyl-containing vinyl compounds such as those manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd .; (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and their salts (alkali metal salts, ammonium salts, amine salts, etc.), maleic anhydride Unsaturated carboxylic acid, acid anhydride, or salt thereof such as vinyl methyl ether, vinyl chloride, vinylidene chloride, chloroprene, propylene, butadiene, isoprene, maleimide, N-vinylimidazole, vinyl sulfonic acid, and other vinyl compounds Is mentioned.
[0023]
Specific examples of the hydrolyzable silyl group-containing monomer include the following alkoxysilane vinyl monomers.
[0024]
[Chemical 3]
[0025]
The content of the alkoxysilane vinyl monomer unit in the hydrolyzable silyl group-containing acrylic copolymer is set to 5 to 90% by weight, preferably 20 to 80% by weight, and more preferably 30 to 70% by weight.
[0026]
Methods for producing a copolymer of an alkoxysilane vinyl monomer and a vinyl monomer are disclosed in, for example, JP-A-54-36395, JP-A-57-36109, JP-A-58-157810, and the like. Solution polymerization using an azo radical initiator such as azobisisobutyronitrile is most preferable. Moreover, you may adjust a molecular weight using a chain transfer agent as needed. As chain transfer agents, n-dodecyl mercaptan, t-dodecyl mercaptan, n-butyl mercaptan, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyl Examples include diethoxysilane, (H 3 CO) 3 Si—S—S—Si (OCH 3 ) 3 , (CH 3 O) 3 Si—S 8 —Si (OCH 3 ) 3 . In particular, when a chain transfer agent having a hydrolyzable silyl group in the molecule, for example, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, is used, a hydrolyzable silyl group-containing acrylic copolymer having a hydrolyzable silyl group introduced at the terminal Can be obtained.
[0027]
Polymerization solvents include hydrocarbons (toluene, xylene, n-hexane, cyclohexane, etc.), acetate esters (ethyl acetate, butyl acetate, etc.), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, etc.), ethers (ethyl) Any non-reactive solvent such as cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, etc.) or ketones (methyl ethyl ketone, ethyl acetoacetate, acetylacetone, diacetone alcohol, methyl isobutyl ketone, acetone, etc.) is not particularly limited.
[0028]
Examples of commercially available hydrolyzable silyl group-containing acrylic copolymers include Zemlac (registered trademark) manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd. Zemlac is based on the aforementioned (R 1 ) 3-a (R 2 ) a Si-
(Wherein R 1 , R 2 and a are as defined above.)
The molecular structure is included.
[0029]
On the other hand, as the fluorine-based resin, it is preferable to use a hydroxyl group-containing fluorine-based copolymer. As the hydroxyl group-containing fluorine-based copolymer, those having a hydroxyl value of 5 to 300 mgKOH / g, more preferably 10 to 250 mgKOH / g are particularly preferable. The hydroxyl group-containing fluorine-based copolymer can be synthesized by copolymerizing (1) a fluorine-containing vinyl monomer, (2) a hydroxyl group-containing vinyl monomer, and (3) another monomer.
[0030]
Examples of the fluorine-containing vinyl monomer (1) include fluoroolefins such as chlorotrifluoroethylene, tetrafluoroethylene, and trifluoroethylene; CH 2 = CHCOOCH 2 CF 3 , CH 2 = C (CH 3 ) COOCH 2 CF 3 , CH 2 = CHCOOCH (CF 3) 2 ,
[0031]
Examples of the hydroxyl group-containing vinyl monomer (2) include hydroxyalkyl vinyl ethers such as hydroxyethyl vinyl ether, hydroxypropyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, and hydroxyhexyl vinyl ether; 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, Aronics 5700 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), Placcel FA-1, FA-4, FM-1, FM-4 (above Daicel) Chemical Co., Ltd.).
[0032]
Other monomers of (3) include alkyl vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether and butyl vinyl ether; cyclohexyl vinyl ether; carboxyl group-containing monomers such as maleic acid, fumaric acid, acrylic acid, methacrylic acid and carboxyalkyl vinyl ether; ethylene, Propylene, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl acetate; unsaturated carboxylic acid esters such as methyl methacrylate and methyl acrylate; hydrolyzable silyl groups such as vinyltriethoxysilane and γ- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane And monomers.
[0033]
Examples of commercially available hydroxyl group-containing fluororesins include Lumiflon and Bonflon manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., New Gamet manufactured by Toube Co., Ltd., and V Freon manufactured by Dainippon Paint Co., Ltd. (both are registered trademarks).
[0034]
In the present invention, when an inorganic polymer is used as the antiglare film, an alkyl silicate can be used as the raw material. Examples of the alkyl silicate include ethyl silicate, butyl silicate, and a mixture thereof. The inorganic polymer produced from such a raw material contains silica. When such an inorganic polymer is produced, the curing rate may be controlled by applying a catalyst, preferably an acid catalyst such as HCl, to the raw material and then applying the catalyst.
[0035]
Examples of commercially available inorganic polymer materials include inorganic varnish, TSB4200, TSB4300, and TSB4400 manufactured by TS B. TSB4200 is ethyl silicate, TSB4400 is mainly composed of butyl silicate, and TSB4300 is a mixture of ethyl silicate and butyl silicate. From these raw materials, weather-resistant and heat-resistant inorganic polymers can be obtained.
[0036]
Further, a composite material may be used as the antiglare film. Examples of the composite material include a material obtained by adding an organic molecule in an inorganic polymer molecular structure, a mixture of an inorganic polymer and an organic polymer, and a material obtained by dispersing an organic polymer in an inorganic polymer.
[0037]
Examples of commercially available composite materials include ceramic paints and Bell Clean (registered trademark) manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd. Bell Clean is a mixture of alkyl silicate and a highly durable organic polymer.
[0038]
The average thickness of the antiglare film is set to 0.1 to 500 μm, preferably 0.5 to 100 μm, and more preferably 1 to 30 μm. When the average thickness of the antiglare film is less than 0.1 μm, it becomes difficult to form irregularities suitable for light scattering. When the average thickness of the antiglare film is thicker than 500 μm, the translucency of the antiglare film is lowered and the light reaching the
[0039]
In the present invention, a plurality of antiglare films may be laminated. For example, the light irregular reflection effect can be improved by combining a plurality of antiglare films made of materials having different refractive indexes. If an inorganic polymer is used as the upper antiglare film, surface hardness and wear resistance can be improved. If an organic polymer is used as the antiglare film of the upper layer, surface cracks and strains can be absorbed. Further, as the antiglare film of the upper layer, a fluorine resin having high water repellency or an inorganic polymer having good water dispersibility may be used for preventing contamination.
[0040]
In the present invention, inorganic particles and / or organic particles may be dispersed in an antiglare film made of an organic polymer or an inorganic polymer.
[0041]
As the inorganic particles, those made of silica are used. Specifically, for example, Degussa Japan TS100 made of φ4 μm silica, Degussa Japan Degussa OK-607 made of φ2 μm silica, and EG-ST made by Nissan Chemical Industries, Ltd. made of silica sol of φ0.07 to 0.1 μm. -ZL or the like is used.
[0042]
As the organic particles, those mainly composed of acrylic resin, fluorine resin, polyethylene wax, or a mixture of at least two of these are used. Specifically, for example, Sekisui Plastics MBX-8 made of PMMA (polymethyl methacrylate) of φ8 μm, Enomoto Kasei SE480-10T made of PE (polyethylene) having an average of φ15 μm and a maximum φ30 μm, and the like are used.
[0043]
The particle size of the inorganic particles and / or organic particles is 0.05 to 200 μm, more preferably 0.5 to 100 μm, and particularly preferably 1 to 10 μm.
[0044]
The mixing weight ratio between the organic or inorganic polymer and the inorganic or organic particles is preferably adjusted according to the particle size of the inorganic or organic particles. When the particle diameter is less than 1 μm, 50 to 2000, particularly 100 to 1500 is preferable. When the particle diameter is 1 μm or more, for example, 1 to 10 μm, 0.1 to 98, further 1 to 50, and particularly 1 to 10 are preferable. If the particle size is small, the light irregular reflection effect is not sufficiently exhibited. Conversely, if the particle size is large, the dispersibility of the particles with respect to the polymer is lowered, which is not preferable.
[0045]
Further, an antifouling film having a smooth surface may be formed on the uneven surface of the antiglare film. In other words, when the antiglare film has a surface with a fine concavo-convex structure, it is easy for dirt to adhere, but by flattening the rugged surface with the antifouling film, it is possible to reduce the dirt on the surface of the solar cell module. it can.
[0046]
As a material for such a stain prevention film, the materials exemplified as the antiglare film can be used. From the viewpoint of the diffused light reflection effect, the antifouling film and the antiglare film are preferably formed of different materials. However, even if the anti-smudge film and the anti-glare film are made of the same material, the uneven surface of the anti-glare film once formed forms a clear interface with the anti-smudge film. The diffuse reflection effect is maintained.
[0047]
When a fluorine-based resin is used as the antifouling film, the surface thereof has good water repellency, so that adhesion of dust due to rainwater or the like is reduced. When an inorganic polymer containing silica formed from alkyl silicate is used as an antifouling film, the chemical resistance of the surface of the solar cell element is improved and the hydrophilicity is improved so that even if it is contaminated, it is made uniform. It becomes difficult to stand out.
[0048]
【Example】
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
In order to facilitate understanding of the method of the present invention, a thin film solar cell module manufactured by the method of the present invention will be described first before describing the method of the present invention. FIG. 4 shows a cross section of the vicinity of the end of the thin film solar cell module according to the present invention. In FIG. 4, a
[0049]
In order to electrically separate the solar cells from the entire periphery of the glass substrate 1, the transparent electrode layer, the semiconductor photoelectric conversion layer, and the back electrode layer are removed by a laser at a
[0050]
The back surfaces of the plurality of solar cell elements integrated in this way are sealed with a
[0051]
On the other hand, a light-transmitting antiglare film 11 is formed on the upper surface (light incident surface) of the glass substrate 1. The antiglare film 11 in FIG. 4 has a surface including fine irregularities suitable for scattering light by, for example, pressing an embossing roller after applying a coating liquid.
[0052]
A method for manufacturing the solar cell module of FIG. 4 will be described with reference to FIGS.
First, as shown in FIG. 1, a large number of string-like
[0053]
Next, as shown in FIG. 2, the laminate of FIG. 1 is sealed using a vacuum laminator 20. That is, the laminated body of the glass substrate 1, the
[0054]
After the sealing step by the vacuum laminator, as shown in FIG. 3A, the
[0055]
In this invention, as shown in FIG.3 (b), the glare-proof film 11 is formed by apply | coating the coating liquid of a glare-proof film in the state of Fig.3 (a), and making it harden | cure. Thereafter, as shown in FIG. 3 (c), the
[0056]
In the method of the present invention, even when the peripheral portion of the
[0057]
Although the thin film solar cell module has been mainly described above, it goes without saying that the present invention can also be applied to a crystalline solar cell module.
[0058]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, it is possible to provide a method for easily manufacturing a solar cell module that can effectively prevent the occurrence of defects such as insulation failure and corrosion of the silicon layer due to moisture intrusion from the outside. .
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing a state in which a filler sheet and a back cover film are laminated on the back surface of a glass substrate on which solar cell elements are formed in the method of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which a laminated body of a glass substrate, a filler sheet and a back cover film on which solar cell elements are formed in the method of the present invention is installed in a vacuum laminator.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing a solar cell module of the present invention in the order of steps.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a solar cell module according to the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...
Claims (6)
で表わされる基を含有する加水分解性シリル基含有アクリル系共重合体を含み、前記フッ素系樹脂は水酸基含有フッ素系樹脂であることを特徴とする請求項3記載の太陽電池モジュールの製造方法。The acrylic resin has the following molecular structure:
The method for producing a solar cell module according to claim 3, comprising a hydrolyzable silyl group-containing acrylic copolymer containing a group represented by the formula: wherein the fluororesin is a hydroxyl group-containing fluororesin.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36115699A JP4150143B2 (en) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | Manufacturing method of solar cell module |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36115699A JP4150143B2 (en) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | Manufacturing method of solar cell module |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001177126A JP2001177126A (en) | 2001-06-29 |
JP4150143B2 true JP4150143B2 (en) | 2008-09-17 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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JP (1) | JP4150143B2 (en) |
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---|---|
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