JP2001053315A - Solar battery module and manufacture thereof - Google Patents

Solar battery module and manufacture thereof

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JP2001053315A
JP2001053315A JP2000159976A JP2000159976A JP2001053315A JP 2001053315 A JP2001053315 A JP 2001053315A JP 2000159976 A JP2000159976 A JP 2000159976A JP 2000159976 A JP2000159976 A JP 2000159976A JP 2001053315 A JP2001053315 A JP 2001053315A
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JP
Japan
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solar cell
cell module
film
electrode layer
resin
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Application number
JP2000159976A
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Japanese (ja)
Inventor
Takuji Nomura
卓司 野村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solar battery module which is constituted to effectively prevent the occurrence of optical pollution, etc., due to reflection of light at the incidence side and a method for easily, and a method of inexpensively manufacturing the module. SOLUTION: A solar battery module is provided with a transparent insulating substrate 1, having first and second surfaces, a transparent electrode layer 2 formed on the first surface of the substrate 1, and an optical semiconductor layer 3 formed on the electrode layer 2. The module is also provided with a rear-surface electrode layer 4, formed on the semiconductor layer 3 and an antiglare film 10 formed on the second surface of the substrate 1, to which light is made incident. The film 10 contains organic binders 20 and inorganic particles 30.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池モジュー
ルおよびその製造方法に関するものであり、特に太陽光
発電に用いられる太陽電池モジュールおよびその製造方
法に関するものである。
The present invention relates to a solar cell module and a method of manufacturing the same, and more particularly to a solar cell module used for photovoltaic power generation and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、クリーンエネルギの利用がますま
す叫ばれるようになり、それに伴い太陽電池の利用の促
進が図られている。また、太陽電池の量産化に相俟っ
て、製造コストの低減化が進みつつある。太陽電池利用
の形式としては、かっては、大規模に並べて行なった太
陽電池発電所の形態や、人里離れたところでの電源確保
のための形態が主流であった。しかしながら、近年、市
街地で住宅の屋根やビルの外壁に太陽電池モジュールパ
ネルを取付けて電力を発生し、そのエネルギを従来の電
力会社の電気と同様に利用することが主流となりつつあ
る。
2. Description of the Related Art In recent years, the use of clean energy has been increasingly called out, and accordingly, the use of solar cells has been promoted. Further, along with mass production of solar cells, reduction of manufacturing costs is progressing. In the past, the main forms of solar cell utilization were the form of solar cell power plants arranged in large scale and the form for securing power in remote areas. However, in recent years, it has become mainstream to generate electric power by attaching a solar cell module panel to a roof of a house or an outer wall of a building in an urban area, and use that energy in the same way as conventional electric power companies.

【0003】係る太陽電池モジュールパネルは、表面カ
バーガラスと裏面カバーフィルムとの間に、複数の光起
電力素子が樹脂で封止されたものである。表面カバーガ
ラスとしては、かつては透明ガラスで鏡面をなすものが
用いられていたため、光公害の問題が一部で指摘されて
いた。この問題を解決するため、たとえばガラスをプレ
ス加工して表面に特有の形状を形成した型板ガラスの利
用が検討されている。また、特開平11−74552号
公報には、ガラス基板の光入射面に凹凸形状を形成する
技術が開示されている。
In such a solar cell module panel, a plurality of photovoltaic elements are sealed with a resin between a front cover glass and a back cover film. As the front cover glass, a transparent glass having a mirror surface was used in the past, and the problem of light pollution was pointed out in part. In order to solve this problem, for example, use of a template glass formed by pressing a glass to form a unique shape on the surface has been studied. Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-74552 discloses a technique for forming an uneven shape on a light incident surface of a glass substrate.

【0004】一方、太陽電池モジュールのコストを大幅
に低減する構造として、表面カバーガラスと同じサイズ
の透明絶縁基板に、光の入射側から透明電極層、半導体
層、裏面電極層をパターニングしながら順次形成して得
られる、基板一体型薄膜系太陽電池モジュールが提案さ
れている。この構造の特徴は、各光起電力素子の配線
間、および素子とカバーガラスの間に充填する封止樹脂
が必要ないことであり、コスト面の利点のみならず、表
面カバーガラスにおける光の吸収によるエネルギ損失、
ならびに樹脂の黄変による特性劣化がないことである。
On the other hand, as a structure for greatly reducing the cost of the solar cell module, a transparent electrode layer, a semiconductor layer, and a back electrode layer are sequentially patterned on a transparent insulating substrate of the same size as the front cover glass from the light incident side. A substrate-integrated thin-film solar cell module obtained by formation has been proposed. The feature of this structure is that no sealing resin is required to be filled between the wiring of each photovoltaic element and between the element and the cover glass. Energy loss,
In addition, there is no characteristic deterioration due to yellowing of the resin.

【0005】図7は、従来の太陽電池モジュールの一例
の概略構成を示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing a schematic structure of an example of a conventional solar cell module.

【0006】図7を参照して、この太陽電池モジュール
は、透明絶縁基板1と、透明絶縁基板1の光入射面と異
なる面上に形成された透明電極層2と、透明電極層2上
に形成された光半導体層3と、光半導体層3上に形成さ
れた裏面電極層4とを備えている。透明電極層2、光半
導体層3、および裏面電極層4が順次積層されて構成さ
れる光半導体素子5は、複数の領域に分離され、各領域
は互いに電気的に直列または並列に接続されている。
Referring to FIG. 7, this solar cell module includes a transparent insulating substrate 1, a transparent electrode layer 2 formed on a surface of the transparent insulating substrate 1 different from the light incident surface, and a transparent electrode layer 2 on the transparent electrode layer 2. The semiconductor device includes the formed optical semiconductor layer 3 and the back electrode layer 4 formed on the optical semiconductor layer 3. The optical semiconductor element 5 configured by sequentially laminating the transparent electrode layer 2, the optical semiconductor layer 3, and the back electrode layer 4 is divided into a plurality of regions, and each region is electrically connected to each other in series or in parallel. I have.

【0007】また、この太陽電池モジュールは、光半導
体素子5を保護するため、充填樹脂6、および裏面カバ
ーフィルム7により封止、保護されている。さらに、こ
のように封止された太陽電池には、フレーム8が取付け
られている。
The solar cell module is sealed and protected by a filling resin 6 and a back cover film 7 to protect the optical semiconductor element 5. Further, a frame 8 is attached to the solar cell thus sealed.

【0008】このように構成される従来の太陽電池モジ
ュールの製造工程には、プラズマCVD、スパッタ等の
製膜工程の他、レーザ加工工程等が含まれる。そのた
め、従来の太陽電池モジュールにおいては、これらの工
程を安定的に行なうため、一般に透明絶縁基板1の光入
射面側の表面は、平坦な面に形成されている。
The manufacturing process of the conventional solar cell module configured as described above includes a laser processing process and the like in addition to a film forming process such as plasma CVD and sputtering. Therefore, in the conventional solar cell module, the surface on the light incident surface side of the transparent insulating substrate 1 is generally formed as a flat surface in order to stably perform these steps.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに構成される従来の太陽電池モジュールを屋根やビル
の外壁に配列した場合、太陽と太陽電池モジュールとの
角度によっては、太陽光が反射して隣接する家屋の中を
照らしたりする等の光公害の問題が一部で指摘されてい
た。
However, when the conventional solar cell module configured as described above is arranged on a roof or an outer wall of a building, sunlight is reflected depending on the angle between the sun and the solar cell module. Some people pointed out the problem of light pollution such as illuminating the inside of an adjacent house.

【0010】そこで、このような問題を解決するため、
前述したように基板の表面を光を散乱する型板ガラスに
することが検討されているが、こうしたガラスを用いた
場合、型板ガラスのテクスチャ仕様の細かな検討あるい
は特別なレーザ加工条件が必要となり、これに伴うコス
トの増加が発生するという問題があった。
Therefore, in order to solve such a problem,
As described above, it has been studied to make the surface of the substrate into a template glass that scatters light.However, when such a glass is used, detailed examination of the texture specification of the template glass or special laser processing conditions are required, There is a problem that the cost is increased accordingly.

【0011】また、特開平11−74552号公報に開
示されるように、ガラス基板自体に凹凸形状を形成する
場合には、ガラスの加工は高温や反応性の高いフッ酸等
の溶液の使用を伴うため、モジュール完成後には実施で
きないという問題があった。また、モジュール作製前に
予めガラス基板自体に加工を施しておいた場合では、半
導体層や電極層のレーザによるカットをガラス基板面よ
り行なうことができない等の問題があった。さらに、ガ
ラス基板に凹凸形状を形成する方法としては、ブラスト
処理も考えられるが、ガラスの強度が弱くなるという問
題があった。
Further, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-74552, when forming irregularities on the glass substrate itself, the processing of the glass requires the use of a high-temperature or highly reactive solution of hydrofluoric acid or the like. As a result, there is a problem that it cannot be performed after completion of the module. In addition, if the glass substrate itself is processed before the module is manufactured, there is a problem that the laser cut of the semiconductor layer and the electrode layer cannot be performed from the glass substrate surface. Further, as a method of forming the irregular shape on the glass substrate, blasting can be considered, but there is a problem that the strength of the glass is weakened.

【0012】一方、従来の太陽電池モジュールの製造に
おいては、ロットによりガラス基板の色調に差があるた
め、完成した太陽電池モジュールにおいても、色調に差
が生じてしまうという問題もあった。
On the other hand, in the production of the conventional solar cell module, there is a problem that the color tone of the glass substrate varies depending on the lot, so that the color tone also differs in the completed solar cell module.

【0013】この発明の目的は、上述の問題点を解決
し、光入射側における光の反射による光公害等が有効に
防止され、かつ色調の統一された太陽電池モジュールお
よびそれを簡易かつ安価に製造する方法を提供すること
にある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, to effectively prevent light pollution due to light reflection on the light incident side, and to provide a solar cell module having a uniform color tone and a simple and inexpensive solar cell module. It is to provide a manufacturing method.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】この発明による太陽電池
モジュールは、第1および第2の面を有する透明絶縁基
板と、透明絶縁基板の第1の面上に形成された第1電極
層と、第1電極層上に形成された光半導体層と、光半導
体層上に形成された第2電極層と、透明絶縁基板の光が
入射される第2の面上に形成された防眩膜とを備え、防
眩膜は、有機材バインダと無機材粒子とを含んでいる。
A solar cell module according to the present invention comprises: a transparent insulating substrate having first and second surfaces; a first electrode layer formed on the first surface of the transparent insulating substrate; An optical semiconductor layer formed on the first electrode layer, a second electrode layer formed on the optical semiconductor layer, and an antiglare film formed on the second surface of the transparent insulating substrate on which light is incident. And the anti-glare film includes an organic binder and inorganic particles.

【0015】なお、本願発明における太陽電池モジュー
ルには、薄膜系の太陽電池モジュールと結晶系の太陽電
池モジュールの両方が包含される。
The solar cell module according to the present invention includes both a thin-film solar cell module and a crystalline solar cell module.

【0016】有機材バインダとしては、アクリル系樹
脂、フッ素系樹脂、またはこれらの混合樹脂、またはこ
れらの樹脂あるいは混合樹脂を主成分とするものが用い
られる。
As the organic material binder, an acrylic resin, a fluorine resin, a mixed resin thereof, or a resin containing these resins or the mixed resin as a main component is used.

【0017】また、無機材粒子としては、シリカからな
る粒子が用いられる。
Further, as the inorganic material particles, particles made of silica are used.

【0018】好ましくは、無機材粒子は、直径が0.0
5〜200μmであるとよい。
Preferably, the inorganic material particles have a diameter of 0.0
It is good to be 5-200 μm.

【0019】さらに好ましくは、無機材粒子は、直径が
1〜10μmであるとよい。
[0019] More preferably, the inorganic material particles have a diameter of 1 to 10 µm.

【0020】好ましくは、有機材バインダと無機材粒子
との混合重量比は、有機材バインダの重量を100とし
たとき、無機材粒子の重量が0.1〜2000であると
よい。
Preferably, the weight ratio of the organic material binder to the inorganic material particles is 0.1 to 2,000 when the weight of the organic material binder is 100.

【0021】さらに好ましくは、無機材粒子の直径が1
〜10μmの場合、有機材バインダと無機材粒子との混
合重量比は、有機材バインダの重量を100としたと
き、無機材粒子の重量が1〜10であるとよい。
More preferably, the diameter of the inorganic material particles is 1
When the weight is 10 to 10 μm, the weight ratio of the inorganic material particles is preferably 1 to 10 when the weight ratio of the organic material binder to the inorganic material particles is 100.

【0022】好ましくは、防眩膜の厚さは、0.1〜5
00μmであるとよい。
Preferably, the thickness of the antiglare film is 0.1 to 5
It is preferably 00 μm.

【0023】防眩膜において、無機材粒子は、単層に配
置されていてもよいし、2層以上の複層に配置されてい
てもよい。
In the antiglare film, the inorganic material particles may be arranged in a single layer or in two or more layers.

【0024】また、本願発明においては、透明絶縁基板
と防眩膜との間に、界面処理剤からなる膜がさらに介在
されていてもよい。
In the present invention, a film made of an interfacial treatment agent may be further interposed between the transparent insulating substrate and the antiglare film.

【0025】また、好ましくは、防眩膜は、表面に凹凸
形状が形成されているとよい。
Preferably, the anti-glare film has an uneven shape on its surface.

【0026】また、本願発明による太陽電池モジュール
は、防眩膜上に、さらに表面保護膜が形成されていると
よい。
Further, in the solar cell module according to the present invention, it is preferable that a surface protective film is further formed on the antiglare film.

【0027】この発明による太陽電池モジュールの製造
方法は、第1および第2の面を有する透明絶縁基板の第
1の面上に、第1電極層を形成するステップと、形成さ
れた第1電極層上に光半導体層を形成するステップと、
形成された光半導体層上に第2電極層を形成するステッ
プと、透明絶縁基板の光が入射される第2の面上に、有
機材バインダと無機材粒子とを含む防眩膜を形成するス
テップとを備え、防眩膜は、透明絶縁基板の第1の面上
に第1電極層、光半導体層、および第2電極層を形成し
た後に形成することを特徴としている。
According to the method of manufacturing a solar cell module of the present invention, a step of forming a first electrode layer on a first surface of a transparent insulating substrate having first and second surfaces; Forming an optical semiconductor layer on the layer;
Forming a second electrode layer on the formed optical semiconductor layer; and forming an anti-glare film including an organic binder and inorganic particles on a second surface of the transparent insulating substrate on which light is incident. And forming the antiglare film after forming the first electrode layer, the optical semiconductor layer, and the second electrode layer on the first surface of the transparent insulating substrate.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】図1は、本発明による第1実施の
形態の太陽電池モジュールの概略構成を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view showing a schematic configuration of a solar cell module according to a first embodiment of the present invention.

【0029】図1を参照して、この太陽電池モジュール
は、透明絶縁基板1と、透明絶縁基板1の光入射面と異
なる面上に形成された透明電極層2と、透明電極層2上
に形成された光半導体層3と、光半導体層3上に形成さ
れた裏面電極層4とを備えている。透明電極層2、光半
導体層3および裏面電極層4が順次積層されて構成され
る光半導体素子5は、複数の領域に分離され、各領域は
互いに電気的に直列または並列に接続されている。
Referring to FIG. 1, this solar cell module includes a transparent insulating substrate 1, a transparent electrode layer 2 formed on a surface of the transparent insulating substrate 1 different from the light incident surface, and a transparent electrode layer 2 on the transparent electrode layer 2. The semiconductor device includes the formed optical semiconductor layer 3 and the back electrode layer 4 formed on the optical semiconductor layer 3. The optical semiconductor element 5 configured by sequentially laminating the transparent electrode layer 2, the optical semiconductor layer 3, and the back electrode layer 4 is divided into a plurality of regions, and the respective regions are electrically connected to each other in series or in parallel. .

【0030】また、この太陽電池モジュールは、光半導
体素子5を保護するため、充填樹脂6、および裏面カバ
ーフィルム7により、封止、保護されている。さらに、
このように封止された太陽電池には、透明絶縁基板1、
充填樹脂6および裏面カバーフィルム7等を保持すると
ともに、屋根等の架台等に取付けるために用いられるフ
レーム8が取付けられている。但し、フレームの有無は
制限されるものではなく、フレーム無しのもの、瓦に埋
め込まれたものでもよく、限定されるものではない。
The solar cell module is sealed and protected by a filling resin 6 and a back cover film 7 to protect the optical semiconductor element 5. further,
The solar cell thus sealed includes a transparent insulating substrate 1,
A frame 8 used to hold the filling resin 6 and the back cover film 7 and the like and to be attached to a frame such as a roof is attached. However, the presence or absence of a frame is not limited, and may be a frameless frame or a tile embedded, and is not limited.

【0031】さらに、透明絶縁基板1の光入射面側に
は、界面処理剤からなる膜40を介して、本願発明の特
徴である、有機材バインダと無機材粒子とを含む防眩膜
10が形成されている。防眩膜10の表面には、凹凸形
状が形成されている。さらに、凹凸形状が形成された防
眩膜10の表面には、表面が平坦な表面保護膜50がさ
らに形成されている。
Further, an antiglare film 10 containing an organic binder and inorganic particles, which is a feature of the present invention, is provided on the light incident surface side of the transparent insulating substrate 1 via a film 40 made of an interface treatment agent. Is formed. The surface of the anti-glare film 10 has an uneven shape. Further, a surface protection film 50 having a flat surface is further formed on the surface of the antiglare film 10 on which the uneven shape is formed.

【0032】防眩膜10としては、光入射面側から入射
した光を乱反射するものであってもよいし、また、入射
した光の透過率を向上させ、反射するものを減少させる
ものでもよい。
The anti-glare film 10 may be a film that irregularly reflects light incident from the light incident surface side, or a film that improves the transmittance of incident light and reduces the amount of light that is reflected. .

【0033】有機材バインダとして用いることができる
樹脂の特性としては、十分な耐候性を有し、光の透過性
がよく、製膜化のプロセスにおいて太陽電池素子を劣化
させない温度、具体的には200℃以下、より好ましく
は150℃以下で製膜する材料が好ましく用いられる。
The characteristics of the resin which can be used as the organic material binder include sufficient weather resistance, good light transmittance, and a temperature at which the solar cell element is not deteriorated in the film forming process, specifically, a temperature. Materials that form a film at a temperature of 200 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower are preferably used.

【0034】本発明に用いられる有機材バインダは、ア
クリル系樹脂、フッ素系樹脂、あるいはそれらの混合樹
脂、またはこれらの樹脂あるいは混合樹脂を含有するも
のが用いられる。
As the organic binder used in the present invention, an acrylic resin, a fluorine resin, a mixed resin thereof, or a resin containing these resins or the mixed resin is used.

【0035】また、これらの樹脂あるいは樹脂混合物
は、先の特性を満たすものであれば特に限定されない
が、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、あるいはそれらの
混合樹脂がバインダ樹脂中で50重量%以上、好ましく
は80重量%以上、さらには95重量%以上含有してい
ることが好ましい。
The resin or the resin mixture is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned characteristics. However, the acrylic resin, the fluorine resin, or the mixed resin thereof is not less than 50% by weight in the binder resin. The content is preferably 80% by weight or more, more preferably 95% by weight or more.

【0036】アクリル樹脂は、アクリルモノマーを主成
分とするモノマーを重合あるいは共重合して得られる樹
脂が好ましく、フッ素系樹脂はフッ素含有モノマーを用
いて重合して得られる樹脂であることが好ましい。
The acrylic resin is preferably a resin obtained by polymerizing or copolymerizing a monomer containing an acrylic monomer as a main component, and the fluororesin is preferably a resin obtained by polymerizing using a fluorine-containing monomer.

【0037】アクリル樹脂としてはさらには、加水分解
性シリル基を含有する樹脂が好ましく、主鎖が実質的に
ポリビニル型結合からなり、末端あるいは側鎖に加水分
解性基と結合した珪素原子を1分子中に少なくとも1個
を有するシリル基含有ビニル樹脂で、ビニルモノマーと
加水分解性シリル基含有モノマーとの共重合により得ら
れ、主鎖または側鎖にウレタン結合あるいはシロキサン
結合を一部含んでもよい。ビニルモノマーとしては特に
限定はなく、メチル(メタ)クリレート、エチル(メ
タ)クリレート、ブチル(メタ)クリレート、2−エチ
ルヘキシル(メタ)クリレート、ステアリル(メタ)ク
リレート、ベンジル(メタ)クリレート、シクロヘキシ
ル(メタ)クリレート、トリフロロエチル(メタ)クリ
レート、ペンタフロロプロピル(メタ)クリレート、ポ
リカルボン酸(マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等)
の炭素数1〜20の直鎖または分岐のアルコールとのジ
エステルまたはハーフエステル等の不飽和カルボン酸の
エステル;スチレン、a−メチルスチレン、クロロスチ
レン、スチレンスルホン酸、4−ヒドロキシスチレン、
ビニルトルエン等の芳香族炭化水素系ビニル化合物;酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ジアリルフタレート等
のビニルエステルやアリル化合物;(メタ)クリロニト
リル等のニトリル基含有ビニル化合物;グリシジル(メ
タ)クリレート等のエポキシ基含有ビニル化合物;ジメ
チルアミノエチル(メタ)クリレート、ジエチルアミノ
エチル(メタ)クリレート、ビニルピリジン、アミノエ
チルビニルエーテル等のアミノ基含有ビニル化合物;
(メタ)クリルアミド、イタコン酸ジアミド、a−エチ
ル(メタ)クリルアミド、クロトンアミド、マレイン酸
ジアミド、フマル酸ジアミド、N−ビニルピロリドン、
N−ブトキシメチル(メタ)クリルアミド、N,N−ジ
メチルアクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、ア
クリロイルモルホリン等のアミド基含有ビニル化合物;
2−ヒドロキシエチル(メタ)クリレート、2−ヒドロ
キシプロピル(メタ)クリレート、2−ヒドロキシエチ
ルビニルエーテル、N−メチロール(メタ)クリルアミ
ド、アロニクス5700(東亜合成(株)製)、Placce
l FA-1、Placcel FA-4、Placcel FM-1、Placcel FM-4
(以上ダイセル化学(株)製)等の水酸基含有ビニル化
合物;(メタ)クリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタ
コン酸およびそれらの塩(アルカリ金属塩、アンモニウ
ム塩、アミン塩等)、無水マレイン酸等の不飽和カルボ
ン酸、酸無水物、またはその塩;ビニルメチルエーテ
ル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、クロロプレン、プロ
ピレン、ブタジエン、イソプレン、マレイミド、N−ビ
ニルイミダゾール、ビニルスルホン酸等のその他のビニ
ル化合物等が挙げられる。
Further, as the acrylic resin, a resin containing a hydrolyzable silyl group is preferable, and the main chain is substantially composed of a polyvinyl type bond, and one or more silicon atoms bonded to the terminal or side chain with the hydrolyzable group are preferred. A silyl group-containing vinyl resin having at least one in the molecule, which is obtained by copolymerization of a vinyl monomer and a hydrolyzable silyl group-containing monomer, and may partially include a urethane bond or a siloxane bond in a main chain or a side chain. . The vinyl monomer is not particularly limited, and may be methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) ) Crylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, pentafluoropropyl (meth) acrylate, polycarboxylic acid (maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, etc.)
Esters of unsaturated carboxylic acids such as diesters or half-esters with linear or branched alcohols having 1 to 20 carbon atoms; styrene, a-methylstyrene, chlorostyrene, styrenesulfonic acid, 4-hydroxystyrene,
Aromatic hydrocarbon vinyl compounds such as vinyl toluene; vinyl esters and allyl compounds such as vinyl acetate, vinyl propionate and diallyl phthalate; nitrile group-containing vinyl compounds such as (meth) acrylonitrile; epoxy such as glycidyl (meth) acrylate Group-containing vinyl compounds; amino group-containing vinyl compounds such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, vinylpyridine, and aminoethyl vinyl ether;
(Meth) acrylamide, itaconic acid diamide, a-ethyl (meth) acrylamide, crotonamide, maleic acid diamide, fumaric acid diamide, N-vinylpyrrolidone,
Amide group-containing vinyl compounds such as N-butoxymethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methylacrylamide, and acryloylmorpholine;
2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl vinyl ether, N-methylol (meth) acrylamide, Alonix 5700 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Placce
l FA-1, Placcel FA-4, Placcel FM-1, Placcel FM-4
(Including those produced by Daicel Chemical Industries, Ltd.); (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and salts thereof (alkali metal salts, ammonium salts, amine salts, etc.), maleic anhydride And other vinyl compounds such as vinyl methyl ether, vinyl chloride, vinylidene chloride, chloroprene, propylene, butadiene, isoprene, maleimide, N-vinylimidazole, and vinyl sulfonic acid. Is mentioned.

【0038】アルコキシシランビニルモノマーとして
は、具体的には、
As the alkoxysilane vinyl monomer, specifically,

【0039】[0039]

【化2】 等が挙げられる。Embedded image And the like.

【0040】これらアルコキシシランビニルモノマー単
位は、加水分解性シリル基含有ビニル系共重合体の中
で、好ましくは5〜90重量%、さらに好ましくは20
〜80重量%、特に好ましくは30〜70重量%含む。
These alkoxysilane vinyl monomer units are preferably 5 to 90% by weight, more preferably 20% by weight, of the vinyl copolymer containing a hydrolyzable silyl group.
-80% by weight, particularly preferably 30-70% by weight.

【0041】アルコキシシランビニルモノマーとビニル
モノマーの共重合体の製造方法については、たとえば特
開昭54−36395、同57−36109、同58−
157810等に示される方法を用いればよい。アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ系ラジカル開始剤を用い
た溶液重合が最も好ましい。また必要に応じてn−ドデ
シルメルカブタン、t−ドデシルメルカブタン、n−ブ
チルメルカブタン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、(H
3CO)3Si−S−S−Si(OCH33、(CH
3O)3Si−S8−Si(OCH33等連鎖移動剤を用
い、分子量調節をすることができる。特に加水分解性シ
リル基を分子中に有する連鎖移動剤、たとえばγ−メル
カプトプロピルトリメトキシシランを用いればシリル基
含有ビニル系共重合体の末端に加水分解性シリル基を導
入することができる。重合溶剤は炭化水素類(トルエ
ン、キシレン、n−ヘキサン、シクロヘキサン等)、酢
酸エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、アルコー
ル類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、n
−ブタノール等)、エーテル類(エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、セロソルブアセテート等)、ケトン類
(メチルエチルケトン、アセト酢酸エチル、アセチルア
セトン、ジアセトンアルコール、メチルイソブチルケト
ン、アセトン等)の如き非反応性の溶剤であれば特に限
定はない。
The method for producing a copolymer of an alkoxysilane vinyl monomer and a vinyl monomer is described in, for example, JP-A-54-36395, JP-A-57-36109, and JP-A-58-36109.
157810 or the like may be used. Solution polymerization using an azo radical initiator such as azobisisobutyronitrile is most preferred. If necessary, n-dodecyl mercaptan, t-dodecyl mercaptan, n-butyl mercaptan, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane,
γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, (H
3 CO) 3 Si-S- S-Si (OCH 3) 3, (CH
The molecular weight can be controlled by using a chain transfer agent such as 3 O) 3 Si—S 8 —Si (OCH 3 ) 3 . In particular, when a chain transfer agent having a hydrolyzable silyl group in the molecule, for example, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, a hydrolyzable silyl group can be introduced into the terminal of the vinyl copolymer containing a silyl group. Polymerization solvents include hydrocarbons (toluene, xylene, n-hexane, cyclohexane, etc.), acetates (ethyl acetate, butyl acetate, etc.), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, n
Non-reactive solvents such as butanol, ethers (ethyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, etc.), ketones (methyl ethyl ketone, ethyl acetoacetate, acetylacetone, diacetone alcohol, methyl isobutyl ketone, acetone, etc.) There is no particular limitation.

【0042】フッ素系樹脂としてはさらには、水酸基を
含有している樹脂であることが好ましく、たとえばその
一例である水酸基含有フッ素系共重合体は、クロロト
リフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、トリフ
ルオロエチレン等のフルオロオレフィン;CH2=CH
COOCH2CF3、CH2=C(CH3)COOCH2
3、CH2=CHCOOCH(CF32、CH3=C
(CH3)COOCH(CF 32、CH2=CHCOOC
2CF2CF2CF3、CH2=CHCOOCF3、CH2
=C(CH3)COOCH2CF2CF2CF3、CH2=C
(CH3)COOCF 3等を含む(メタ)アクリル酸フル
オロアルキル等のフッ素含有ビニルモノマー、ヒドロ
キシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピルビニル
エーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒドロキ
シヘキシルビニルエーテル等のヒドロキシアルキルビニ
ルエーテル;2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロール
メタクリルアミド、アロニクス5700(東亜合成
(株)製)、Placcel FA-1、同 FA-4、同FM-1、同FM-4
(以上ダイセル化学(株)製)等の水酸基含有ビニルモ
ノマー、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエー
テル、ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテ
ル;シクロヘキシルビニルエーテル;マレイン酸、フマ
ール酸、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシルアル
キルビニルエーテル等のカルボキシル基含有モノマー;
エチレン、プロピレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、
酢酸ビニル;メタクリル酸メチル、アクリル酸メチル等
の不飽和カルボン酸エステル;ビニルトリエトキシシラ
ン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメト
キシシラン等の加水分解性シリル基含有モノマー等;上
記、、を共重合して得られる水酸基価5〜300
mgKOH/g、好ましくは10〜250mgKOH/
gのものである。
Further, as the fluorine-based resin, a hydroxyl group
It is preferable that the resin
An example of a hydroxyl group-containing fluorocopolymer is chlorotoluene.
Trifluoroethylene, tetrafluoroethylene, trif
Fluoroolefins such as fluoroethylene; CHTwo= CH
COOCHTwoCFThree, CHTwo= C (CHThree) COOCHTwoC
FThree, CHTwo= CHCOOCH (CFThree)Two, CHThree= C
(CHThree) COOCH (CF Three)Two, CHTwo= CHCOOC
HTwoCFTwoCFTwoCFThree, CHTwo= CHCOOCFThree, CHTwo
= C (CHThree) COOCHTwoCFTwoCFTwoCFThree, CHTwo= C
(CHThree) COOCF Three(Meth) acrylic acid full including
Fluoro-containing vinyl monomers such as oloalkyl, hydro
Xylethyl vinyl ether, hydroxypropyl vinyl
Ether, hydroxybutyl vinyl ether, hydroxy
Hydroxyalkyl vinyl such as sihexyl vinyl ether
Ether; 2-hydroxyethyl acrylate, 2-
Hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypro
Pill acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate
N-methylol acrylamide, N-methylol
Methacrylamide, Aronix 5700 (Toa Gosei
Co., Ltd.), Placcel FA-1, FA-4, FM-1, FM-4
(Including those manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.)
Nomer, ethyl vinyl ether, propyl vinyl A
Alkyl vinyl ethers such as ter and butyl vinyl ether
Cyclohexyl vinyl ether; maleic acid, fuma
Acrylic acid, acrylic acid, methacrylic acid, carboxylic acid
Carboxyl-group-containing monomers such as kyl vinyl ether;
Ethylene, propylene, vinyl chloride, vinylidene chloride,
Vinyl acetate; methyl methacrylate, methyl acrylate, etc.
Unsaturated carboxylic acid ester of vinyltriethoxysila
Γ- (meth) acryloyloxypropyltrimeth
Hydrolyzable silyl group-containing monomers such as xysilane;
The hydroxyl value obtained by copolymerizing
mgKOH / g, preferably 10-250 mgKOH / g
g.

【0043】加水分解性シリル基を含有する樹脂として
は、鐘淵化学工業株式会社製ゼムラック(登録商標)、
水酸基を含有するフッ素系樹脂あるいは樹脂組成物とし
ては、旭硝子コートアンドレジン株式会社製のルミフロ
ン、ボンフロン、株式会社トウベ製ニューガメット、大
日本塗料株式会社製Vフロン(いずれも登録商標)が例
示できる。
Examples of the resin containing a hydrolyzable silyl group include Zemurac (registered trademark) manufactured by Kaneka Corporation.
Examples of the hydroxyl group-containing fluororesin or resin composition include Lumiflon and Bonflon manufactured by Asahi Glass Coat and Resin Co., Ltd., New Gamet manufactured by Toube Co., Ltd., and V Freon manufactured by Dainippon Paint Co., Ltd. (all are registered trademarks).

【0044】ルミフロンは、以下に示す基本物性を有し
ている。
Lumiflon has the following basic physical properties.

【0045】[0045]

【表1】 ゼムラックは、以下に示す分子構造を含んでいる。[Table 1] Zemrak has the molecular structure shown below.

【0046】[0046]

【化3】 (式中、R1は炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素
原子または炭素数1〜10のアルキル基、アリール基お
よびアラルキル基よりなる群から選ばれた一価の炭化水
素基、aは0、1または2を示す) 加水分解性シリル基を含有する樹脂には塗装前に硬化触
媒を添加することで、製膜スピードをコントロールする
ことも可能であり好ましい。
Embedded image (Wherein, R 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group and an aralkyl group, a represents 0, 1 or 2) It is preferable that a film-forming speed can be controlled by adding a curing catalyst to the resin containing a hydrolyzable silyl group before coating.

【0047】硬化触媒としては、具体的にはジブチルス
ズジラウレート、ジブチルスズジマレート、ジオクチル
スズジラウレート、ジオクチルスズジマレート、オクチ
ル酸スズ等の有機スズ化合物;リン酸、モノメチルホス
フェート、モノエチルホスフェート、モノブチルホスフ
ェート、モノオクチルホスフェート、モノデシルホスフ
ェート、ジメチルホスフェート、ジエチルホスフェー
ト、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、
ジデシルホスフェート等のリン酸またはリン酸エステ
ル;プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、シク
ロヘキセンオキサイド、グリシジルメタクリレート、グ
リシドール、アクリルグリシジルエーテル、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、
Specific examples of the curing catalyst include organic tin compounds such as dibutyltin dilaurate, dibutyltin dimaleate, dioctyltin dilaurate, dioctyltin dimaleate and tin octylate; phosphoric acid, monomethyl phosphate, monoethyl phosphate, monobutyl phosphate , Monooctyl phosphate, monodecyl phosphate, dimethyl phosphate, diethyl phosphate, dibutyl phosphate, dioctyl phosphate,
Phosphoric acid or phosphoric acid ester such as didecyl phosphate; propylene oxide, butylene oxide, cyclohexene oxide, glycidyl methacrylate, glycidol, acrylic glycidyl ether, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane,

【0048】[0048]

【化4】 カーデユラE(油化シエル(株)製)、エピコート82
8(油化シエル(株)製)、エピコート1001(油化
シエル(株)製)等のエポキシ化合物とリン酸およびま
たはモノ酸性リン酸エステルとの付加反応物;有機チタ
ネート化合物;有機アルミニウム化合物;マレイン酸、
パラトルエンスルホン酸、塩酸等の酸性化合物;エチレ
ンジアミン、ヘキサンジアミンなどの脂肪族ジアミン
類;ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、
テトラエチレンペンタミンなどの脂肪族ポリアミン類;
ピペリジン、ピペラジンなどの脂環式アミン類;その他
メタフェニレンジアミンなどの芳香族アミン類、エタノ
ールアミン類、トリエチルアミン、γ−アミノプロピル
トリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン;ヘキシルアミン、
ジ−2−エチルヘキシルアミン、N,N−ジメチルドデ
シルアミン、ドデシルアミン等のアミン類;これらアミ
ンと酸性リン酸エステルとの反応物;水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ性化合物、またはn−
ドデシルメルカプタン、tert−ブチルメルカプタン
等アルキルメルカプタン;r−メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン等メルカプトシラン;2−メルカプトプ
ロピオン酸、チオサリチル酸、酢酸等カルボン酸;チオ
グリコール酸2−エチルヘキシル等エステル化合物;カ
プキユア3−800(ダイヤモンドシャムロックケミカ
ルズ社製、両末端がメルカプト基であるポリエーテル)
等のポリマーや、チオフェノール、チオ安息香酸等メル
カプト基含有化合物、BT120S(鐘淵化学工業株式
会社製 有機スズ系化合物)等が挙げられる。これらの
硬化触媒のうち、有機スズ化合物、酸性リン酸エステ
ル、アミン類、酸性リン酸エステルとアミン類との反応
物、飽和または不飽和多価カルボン酸またはその酸無水
物、反応性シリコン化合物、有機チタネート化合物、有
機アルミニウム化合物、またはこれらの混合物が作業性
の面で好ましく、中でも有機スズ化合物あるいは有機ス
ズ化合物を含有した硬化触媒が、特には、有機スズ化合
物とアミン類、およびまたはメルカプト化合物を用いた
硬化触媒が作業性の面で好ましい。
Embedded image Cardeura E (Yuka Kasei Co., Ltd.), Epikote 82
No. 8 (manufactured by Yuka Shell), Epicoat 1001 (manufactured by Yuka Shell), and the like, an addition reaction product of an epoxy compound and phosphoric acid and / or a monoacid phosphate; an organic titanate compound; an organic aluminum compound; Maleic acid,
Acidic compounds such as paratoluenesulfonic acid and hydrochloric acid; aliphatic diamines such as ethylenediamine and hexanediamine; diethylenetriamine, triethylenetetramine;
Aliphatic polyamines such as tetraethylenepentamine;
Alicyclic amines such as piperidine and piperazine; other aromatic amines such as metaphenylenediamine; ethanolamines; triethylamine; γ-aminopropyltriethoxysilane; N-β- (aminoethyl) -γ-
Aminopropyltrimethoxysilane; hexylamine,
Amines such as di-2-ethylhexylamine, N, N-dimethyldodecylamine and dodecylamine; reactants of these amines with acidic phosphoric acid esters; alkaline compounds such as sodium hydroxide and potassium hydroxide;
Alkyl mercaptans such as dodecyl mercaptan and tert-butyl mercaptan; mercaptosilanes such as r-mercaptopropyltrimethoxysilane; carboxylic acids such as 2-mercaptopropionic acid, thiosalicylic acid and acetic acid; ester compounds such as 2-ethylhexyl thioglycolate; (Diamond Shamrock Chemicals, polyether with mercapto groups at both ends)
And a mercapto group-containing compound such as thiophenol and thiobenzoic acid, and BT120S (organotin-based compound manufactured by Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd.). Among these curing catalysts, organotin compounds, acid phosphates, amines, reactants of acid phosphates and amines, saturated or unsaturated polycarboxylic acids or acid anhydrides thereof, reactive silicon compounds, Organic titanate compounds, organoaluminum compounds, or mixtures thereof are preferred in terms of workability, and among them, a curing catalyst containing an organotin compound or an organotin compound is particularly preferable, in which an organotin compound and an amine, and / or a mercapto compound are used. The curing catalyst used is preferred in terms of workability.

【0049】一方、防眩膜10を構成する無機材粒子と
しては、シリカからなるものが用いられる。具体的に
は、たとえば、φ4μmのシリカからなるデグサジャパ
ン製TS100、φ2μmのシリカからなるデグサジャ
パン製デグサOK−607、φ0.07〜0.1μmの
シリカゾルからなる日産化学工業株式会社製EG−ST
−ZL等が用いられる。
On the other hand, as the inorganic material particles constituting the antiglare film 10, those made of silica are used. Specifically, for example, TS100 manufactured by Degussa Japan made of silica of φ4 μm, Degussa OK-607 manufactured by Degussa Japan made of silica of φ2 μm, and EG-ST manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. made of silica sol of φ0.07 to 0.1 μm
-ZL or the like is used.

【0050】また、無機材粒子の直径は、好ましくは
0.05〜200μm、より好ましくは0.5〜100
μm、特に好ましくは1〜10μmであるとよい。粒子
の直径がこの範囲にあれば、反射の程度を低下させるこ
とができる。
The diameter of the inorganic material particles is preferably 0.05 to 200 μm, more preferably 0.5 to 100 μm.
μm, particularly preferably 1 to 10 μm. If the diameter of the particles is in this range, the degree of reflection can be reduced.

【0051】また、有機材バインダと無機材粒子との混
合重量比は、無機材粒子径が1μm未満である場合は5
0〜2000、特には100〜1500が好ましい。
The mixing weight ratio between the organic binder and the inorganic material particles is 5 when the inorganic material particle diameter is less than 1 μm.
0 to 2000, especially 100 to 1500 is preferred.

【0052】また、無機材粒子径が1μm以上、好まし
くは1〜10μmである場合は、有機材バインダと無機
材粒子との混合重量比は、0.1〜98、さらには1〜
50、特には1〜10が好ましい。粒子径が小さいと本
発明の防眩効果が十分に発揮されず、また反対に粒子径
が大きいとバインダ樹脂に対する分散性が低下して好ま
しくない。
When the particle diameter of the inorganic material is 1 μm or more, preferably 1 to 10 μm, the mixing weight ratio between the organic material binder and the inorganic material particles is 0.1 to 98, more preferably 1 to 98.
50, particularly preferably 1 to 10. If the particle size is small, the antiglare effect of the present invention is not sufficiently exhibited, and if the particle size is large, dispersibility in the binder resin is undesirably reduced.

【0053】また、防眩膜10の厚さは、0.1〜50
0μm、さらには0.5〜100μm、特に1〜30μ
mであることが好ましい。
The thickness of the anti-glare film 10 is 0.1 to 50.
0 μm, further 0.5 to 100 μm, especially 1 to 30 μm
m is preferable.

【0054】図2は、本願発明による太陽電池モジュー
ルの一例の防眩膜10の部分を一部拡大して示す断面図
である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing, on an enlarged scale, a portion of the antiglare film 10 as an example of the solar cell module according to the present invention.

【0055】図示はしていないが、これらの防眩膜は単
層であってもよいし、違う材質や形状、膜厚である防眩
膜を複層に重ね合わせることで防眩効果や透過率の向上
に有効な場合もある。
Although not shown, these anti-glare films may be a single layer, or an anti-glare effect and transmission can be obtained by superimposing anti-glare films of different materials, shapes and thicknesses in multiple layers. In some cases, it is effective to increase the rate.

【0056】この太陽電池モジュールの防眩膜10にお
いては、図2に示すように、有機材バインダ20中に無
機材粒子30が単層に配置されている。このような構造
とすることにより、透過率の低下を防止することができ
る。
In the antiglare film 10 of this solar cell module, as shown in FIG. 2, the inorganic material particles 30 are arranged in a single layer in the organic material binder 20. With such a structure, a decrease in transmittance can be prevented.

【0057】また、図3は、本願発明による太陽電池モ
ジュールの他の例の防眩膜10の部分を一部拡大して示
す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a part of an antiglare film 10 of another example of the solar cell module according to the present invention in an enlarged manner.

【0058】この太陽電池モジュールの防眩膜10にお
いては、図3に示すように、有機材バインダ20中に無
機材粒子30が複層に配置されている。このような構造
とすることにより、防眩効果を増大させることができ
る。
In the anti-glare film 10 of this solar cell module, as shown in FIG. 3, inorganic material particles 30 are arranged in multiple layers in an organic material binder 20. With such a structure, the antiglare effect can be increased.

【0059】これらの無機材粒子の層は形成された防眩
膜の一面全体が単層あるいは複層であってもよいし、単
層と複層が混じり合っていてもよい。
In the layer of the inorganic material particles, the entire surface of the formed antiglare film may be a single layer or multiple layers, or a single layer and multiple layers may be mixed.

【0060】このように透明絶縁基板の光入射面側に防
眩膜を形成することにより、太陽電池モジュールに入射
した太陽光は、大部分においては発電に寄与することと
なり、表面から反射される入射光の2〜4%程度の成分
は不特定の方向に反射されるようになる。乱反射して散
乱された太陽光は、平行光線ではない。そのため、太陽
電池モジュールから反射された光は、全体としてぼやけ
た状態となり、直接太陽電池を見ても眩しく感じられる
ようなことがなくなる。
By forming the anti-glare film on the light incident surface side of the transparent insulating substrate in this way, the sunlight incident on the solar cell module contributes to power generation for the most part and is reflected from the surface. About 2 to 4% of the incident light is reflected in an unspecified direction. The diffusely scattered sunlight is not a parallel ray. Therefore, the light reflected from the solar cell module is in a blurred state as a whole, and does not feel dazzling even when directly looking at the solar cell.

【0061】なお、この実施の形態による太陽電池モジ
ュールにおいて、透明電極層2としては、ITO、Sn
2、またはこれらの積層体であるITO/SnO2、あ
るいはZnO等の光を透過し得る材料が用いられる。
In the solar cell module according to this embodiment, the transparent electrode layer 2 is made of ITO, Sn
A material that can transmit light, such as O 2 , or a laminate of these materials, such as ITO / SnO 2 or ZnO, is used.

【0062】また、光半導体層3は、非晶質シリコンa
−Si、水素化非晶質シリコンa−Si:H、水素化非
晶質シリコンカーバイドa−SiC:H、非晶質シリコ
ンナイトライド等の他、シリコンと炭素、ゲルマニウ
ム、錫等の他の元素との合金からなる非晶質シリコン系
半導体の非晶質または微結晶を、pin型、nip型、
ni型、pn型、MIS型、ヘテロ接合型、ホモ接合
型、ショットキバリア型あるいはこれら組合せた型等に
合成した半導体層が用いられる。この他、光半導体層と
しては、CdS系、GaAs系、InP系等であっても
よく、何ら限定されるものではない。
The optical semiconductor layer 3 is made of amorphous silicon a
-Si, hydrogenated amorphous silicon a-Si: H, hydrogenated amorphous silicon carbide a-SiC: H, amorphous silicon nitride, etc., and other elements such as silicon and carbon, germanium, tin, etc. An amorphous or microcrystalline amorphous silicon-based semiconductor made of an alloy of
A semiconductor layer synthesized into an ni type, pn type, MIS type, heterojunction type, homojunction type, Schottky barrier type, or a combination thereof is used. In addition, the optical semiconductor layer may be a CdS-based, GaAs-based, InP-based, or the like, and is not limited at all.

【0063】また、裏面電極層4としては、金属または
金属および金属酸化物の複合膜等が用いられる。
As the back electrode layer 4, a metal or a composite film of a metal and a metal oxide is used.

【0064】さらに、充填樹脂6としては、シリコン、
エチレンビニルアセテート、ポリビニルブチラール等が
用いられ、また、裏面カバーフィルム7としては、フッ
素系樹脂フィルムやポリエチレンテレフタレートあるい
はアルミニウム等の金属フィルムやSiO2等の薄膜を
ラミネートした多層構造のフィルム等が用いられる。
Further, as the filling resin 6, silicon,
Ethylene vinyl acetate, polyvinyl butyral, or the like is used. As the back cover film 7, a fluorine-based resin film, a metal film such as polyethylene terephthalate or aluminum, or a film having a multilayer structure in which a thin film such as SiO 2 is laminated is used. .

【0065】なお、この実施の形態においては、薄膜系
の太陽電池モジュールについて説明するが、本願発明
は、結晶系の太陽電池モジュールにも適用できることは
言うまでもない。
In this embodiment, a thin-film solar cell module will be described, but it goes without saying that the present invention can be applied to a crystalline solar cell module.

【0066】次に、図1に示した第1実施形態の太陽電
池モジュールの製造方法について説明する。
Next, a method of manufacturing the solar cell module of the first embodiment shown in FIG. 1 will be described.

【0067】まず、透明絶縁基板1の光入射面と異なる
面上に、透明電極層2、光半導体層3および裏面電極層
4を順次形成する。これらの各層を、レーザスクライブ
等のパターニング手段によって、複数の領域に分離す
る。たとえば、透明電極層2は、レーザ加工、エッチン
グ、リフトオフ等の方法により、所定のパターン形状に
形成する。また、裏面電極層4は、蒸着またはスパッタ
法等により製膜した後、同様にレーザ加工、エッチン
グ、リフトオフ等の方法により、所定のパターン形状に
形成する。
First, a transparent electrode layer 2, an optical semiconductor layer 3, and a back electrode layer 4 are sequentially formed on a surface of the transparent insulating substrate 1 different from the light incident surface. Each of these layers is separated into a plurality of regions by patterning means such as laser scribe. For example, the transparent electrode layer 2 is formed in a predetermined pattern shape by a method such as laser processing, etching, and lift-off. The back electrode layer 4 is formed into a predetermined pattern by a method such as laser processing, etching, and lift-off after forming the film by vapor deposition or sputtering.

【0068】このようにして、透明電極層2、光半導体
層3および裏面電極層4からなる光半導体素子5を透明
絶縁基板1上に形成した後、これらを保護するため、充
填樹脂6で封止固着し、さらに裏面カバーフィルム7を
装着する。
After the optical semiconductor element 5 including the transparent electrode layer 2, the optical semiconductor layer 3 and the back electrode layer 4 is formed on the transparent insulating substrate 1 as described above, the optical semiconductor element 5 is sealed with a filling resin 6 in order to protect them. Then, the back cover film 7 is attached.

【0069】続いて、光半導体素子5が形成された透明
絶縁基板1の光入射面側に、本願発明の特徴である、防
眩膜10を形成する。防眩膜の形成は、第2電極層を形
成し、スクライブした後ならいつでも可能であり、直後
でも裏面封止後でも端子BOX取付け後でも、屋根等に
設置した後でも、塗膜方法にもよるが、特に限定される
ものではない。
Subsequently, an antiglare film 10, which is a feature of the present invention, is formed on the light incident surface side of the transparent insulating substrate 1 on which the optical semiconductor element 5 is formed. The anti-glare film can be formed at any time after the second electrode layer is formed and scribed. Immediately, after sealing the back surface, after attaching the terminal box, after installing on the roof, etc., the coating method can be used. Although not limited, it is not particularly limited.

【0070】このとき、透明絶縁基板1と防眩膜10と
の間に界面処理剤からなる膜40を介在させるとよい。
このような膜40を介在させることにより、透明絶縁基
板1と防眩膜10との接着強度が増大するとともに、塗
装むらが減少される。
At this time, a film 40 made of an interfacial treatment agent may be interposed between the transparent insulating substrate 1 and the anti-glare film 10.
By interposing such a film 40, the adhesive strength between the transparent insulating substrate 1 and the anti-glare film 10 is increased, and the coating unevenness is reduced.

【0071】また、この実施の形態においては、光半導
体素子5を形成した後に防眩膜10を形成している。逆
に防眩膜10を形成した後に光半導体素子5を形成する
とすると、光半導体素子5の形成の際にレーザ照射を行
なう場合、焦点がぼけてしまうといった問題や、光半導
体素子5の形成の際に真空チャンバを使用できないとい
った問題が生じるおそれがあるからである。
In this embodiment, the antiglare film 10 is formed after the optical semiconductor element 5 is formed. Conversely, if the optical semiconductor element 5 is formed after the formation of the antiglare film 10, if laser irradiation is performed during the formation of the optical semiconductor element 5, the problem of blurring of the focus or the formation of the optical semiconductor element 5 may occur. This is because there is a possibility that a problem that the vacuum chamber cannot be used may occur.

【0072】図4および図5は、本発明による太陽電池
モジュールの製造方法の一例を説明するための断面図で
あって、防眩膜10の形成方法の一例を示す図である。
FIGS. 4 and 5 are cross-sectional views for explaining an example of a method for manufacturing a solar cell module according to the present invention, and are views showing an example of a method for forming the antiglare film 10.

【0073】まず、図4を参照して、封止された太陽電
池モジュールの透明絶縁基板1の光入射面上に、無機材
粒子30が混入された有機材バインダ樹脂20を塗布す
る。
First, referring to FIG. 4, an organic binder resin 20 mixed with inorganic particles 30 is applied on the light incident surface of the transparent insulating substrate 1 of the sealed solar cell module.

【0074】このとき、粒子30のサイズが大きい場合
には、図5に示すように、バインダ樹脂20を製膜させ
る際に、粒子30の分布によって防眩膜10の表面に凹
凸形状が形成される。
At this time, when the size of the particles 30 is large, as shown in FIG. 5, when the binder resin 20 is formed, an uneven shape is formed on the surface of the anti-glare film 10 due to the distribution of the particles 30. You.

【0075】また、図6は、本発明による太陽電池モジ
ュールの製造方法の他の例を説明するための断面図であ
って、防眩膜10の形成方法の他の例を示す図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining another example of the method for manufacturing the solar cell module according to the present invention, and is a view showing another example of the method for forming the antiglare film 10.

【0076】図6を参照して、有機材バインダ樹脂20
を塗布した後、所定のパターン形状を有するクロスが巻
付けられたローラ9を、矢印Aに示すように回転させな
がら矢印Bに示すように移動させて所定パターンを転写
した後、バインダ樹脂20を製膜させることにより、防
眩膜10の表面に凹凸形状を形成することもできる。
Referring to FIG. 6, organic binder resin 20
Is applied, the roller 9 around which the cloth having the predetermined pattern shape is wound is moved as shown by the arrow B while rotating as shown by the arrow A, and the predetermined pattern is transferred. By forming the film, an uneven shape can be formed on the surface of the antiglare film 10.

【0077】なお、防眩膜10の光入射面に凹凸形状を
形成する方法としては、上述したような混入された粒子
による作用を利用する方法、あるいはバインダ樹脂を塗
布して型押し等により成形した後製膜させる方法等の
他、バインダ樹脂を塗布する際のノズルの形状等の工夫
によっても、表面を凹凸形状に形成することができる。
As a method of forming the uneven shape on the light incident surface of the anti-glare film 10, a method utilizing the action of the mixed particles as described above, or a method of applying a binder resin and forming by pressing or the like is used. In addition to the method of forming the film after the formation, the surface can be formed in an uneven shape by devising the shape of the nozzle when applying the binder resin.

【0078】また、この実施の形態においては、表面に
凹凸形状が形成された防眩膜10の表面に、さらに表面
の平坦な表面保護膜50を形成している。このような表
面保護膜50を形成することにより、表面に埃が溜まっ
て光電変換率が低下してしまうことを有効に防止するこ
とができる。
In this embodiment, a surface protection film 50 having a further flat surface is formed on the surface of the antiglare film 10 having the uneven surface. By forming such a surface protective film 50, it is possible to effectively prevent dust from collecting on the surface and lowering the photoelectric conversion rate.

【0079】[0079]

【実施例】以下、ガラス基板に種々の条件で防眩膜を形
成し、光学特性等の評価を行なった。
EXAMPLES An antiglare film was formed on a glass substrate under various conditions, and the optical characteristics and the like were evaluated.

【0080】(実施例1)表面が平坦なガラス基板の一
方の面にTCO(透明導電性酸化物)膜を形成し、他方
の面に以下の条件で防眩膜を形成した。
Example 1 A TCO (transparent conductive oxide) film was formed on one surface of a glass substrate having a flat surface, and an antiglare film was formed on the other surface under the following conditions.

【0081】まず、有機材バインダとして鐘淵化学工業
株式会社製「ゼムラックYC3623」を用い、これに
硬化剤としてBT120S(スズ系)と、希釈剤として
キシレンとを用いて、固形分25%まで希釈した。
First, "Zemlac YC3623" manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd. was used as an organic material binder, BT120S (tin-based) was used as a curing agent, and xylene was used as a diluent to dilute to a solid content of 25%. did.

【0082】また、無機材粒子としては、デグサジャパ
ン製シリカ「TS100」(φ4μm)を用い、これを
前述したバインダ樹脂中にシェーカを用いて分散させ
た。粒子の配合率は、バインダ樹脂:粒子=100:
2.5となるように調製した。
As the inorganic material particles, silica “TS100” (φ4 μm) manufactured by Degussa Japan was used and dispersed in the above-mentioned binder resin using a shaker. The compounding ratio of the particles is as follows: binder resin: particles = 100:
It was prepared to be 2.5.

【0083】このようにして得られた液をガラス基板上
にスプレーにより塗布し、常温で5分間乾燥させた後、
80℃で30分間さらに乾燥させた。
The liquid thus obtained was applied on a glass substrate by spraying and dried at room temperature for 5 minutes.
Further drying was performed at 80 ° C. for 30 minutes.

【0084】このようにして、ガラス基板の一方の面上
にTCO膜が、他方の面上に乱反射膜が形成された実施
例1のサンプルが得られた。
Thus, the sample of Example 1 in which the TCO film was formed on one surface of the glass substrate and the irregular reflection film was formed on the other surface, was obtained.

【0085】この実施例1のサンプルについて、防眩膜
形成面側から光を照射して、「60°光沢」、「20°
光沢」、「全透過率」を測定し、光学特性を評価した。
The sample of Example 1 was irradiated with light from the surface on which the anti-glare film was formed to obtain “60 ° gloss” and “20 ° gloss”.
Gloss "and" total transmittance "were measured to evaluate optical characteristics.

【0086】「60°光沢」は、JIS Z 8741
−1983の鏡面光沢度測定法に従い、60°鏡面光沢
を測定した。
“60 ° gloss” refers to JIS Z8741.
According to the specular gloss measurement method of -1983, 60 ° specular gloss was measured.

【0087】「20°光沢」は、JIS Z 8741
−1983の鏡面光沢度測定法に従い、20°鏡面光沢
を測定した。
“20 ° gloss” refers to JIS Z8741.
According to the specular gloss measurement method of -1983, 20 ° specular gloss was measured.

【0088】次に、実施例1のサンプルについて、膜厚
測定とXカット試験を行ない、初期膜を評価した。
Next, the sample of Example 1 was subjected to a film thickness measurement and an X-cut test to evaluate the initial film.

【0089】「Xカット試験」は、JIS K 540
0に従って行ない、全面が剥がれてしまった場合を0
点、欠陥のない場合を10点として、良好なほど点数が
高くなるように評価した。
The “X-cut test” is based on JIS K540
Perform according to 0, and if the whole surface has been peeled off,
The evaluation was made such that the better the score, the higher the score, assuming that there were no points and no defects.

【0090】さらに、実施例1のサンプルについて、J
IS C 8938に従い、耐久性試験を行ない、その
後の膜を評価した。
Further, with respect to the sample of Example 1, J
A durability test was performed according to IS C 8938, and the subsequent films were evaluated.

【0091】耐久性試験は、85℃中に264時間放
置、85℃、湿度85%中に270時間放置、85
℃、湿度85%と−20℃との間を10サイクル繰返
す、という3つの条件について行ない、試験後の膜につ
いてXカット試験と外観の評価を行なった。
The durability test was carried out by leaving the film at 85 ° C. for 264 hours, and leaving it at 85 ° C. and 85% humidity for 270 hours.
The test was performed under three conditions of repeating 10 cycles between a temperature of 85 ° C., a humidity of 85% and −20 ° C., and an X-cut test and evaluation of appearance were performed on the film after the test.

【0092】(実施例2)バインダ樹脂:粒子=10
0:5となるように粒子の配合率を調製し、実施例1と
同様にして実施例2のサンプルを作製した。
(Example 2) Binder resin: particles = 10
The mixing ratio of the particles was adjusted so as to be 0: 5, and a sample of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1.

【0093】このようにして得られた実施例2のサンプ
ルについて、実施例1と同様にして、光学特性、初期
膜、および耐久性試験後の膜の評価を行なった。
With respect to the sample of Example 2 thus obtained, the optical characteristics, the initial film, and the film after the durability test were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0094】(実施例3)ゼムラックYC3623の代
わりに、鐘淵化学工業株式会社製ゼムラックYC592
0を用いて、バインダ樹脂:粒子=100:5となるよ
うに粒子の配合率を調製し、実施例1と同様にして実施
例3のサンプルを作製した。
(Example 3) Instead of ZEMRAC YC3623, ZEMRAC YC592 manufactured by Kaneka Corporation
Using 0, the blending ratio of the particles was adjusted so that the ratio of binder resin: particles = 100: 5, and a sample of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1.

【0095】このようにして得られた実施例3のサンプ
ルについて、実施例1と同様にして光学特性、初期膜お
よび耐久性試験後の膜の評価を行なった。
With respect to the sample of Example 3 thus obtained, the optical characteristics, the initial film, and the film after the durability test were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0096】(実施例4)表面が平坦なガラス基板の一
方の面にTCO膜を形成した後、アセトンとIPA(イ
ソプロピルアルコール)を用いて基板の前処理を行なっ
た後、基板の他方の面に以下の条件で乱反射膜を形成し
た。
Example 4 After a TCO film was formed on one surface of a glass substrate having a flat surface, pretreatment of the substrate was performed using acetone and IPA (isopropyl alcohol), and then the other surface of the substrate was used. An irregular reflection film was formed under the following conditions.

【0097】まず、有機材バインダとして、旭硝子コー
トアンドレジン株式会社製「ボンフロン♯2020S
R」を用い、これを専用シンナーを用いて2倍に希釈し
た。
First, as an organic material binder, “Bonflon® 2020S” manufactured by Asahi Glass Coat and Resin Co., Ltd.
R ", and this was diluted 2-fold using a special thinner.

【0098】また、無機材粒子としては、デグサジャパ
ン製シリカ「OK−607」(φ2μm)を用い、これ
を前述したバインダ樹脂中に分散させた。配合率は、バ
インダ樹脂:粒子=100:5となるように調製した。
As the inorganic material particles, silica “OK-607” (φ2 μm) manufactured by Degussa Japan was used and dispersed in the binder resin described above. The blending ratio was adjusted so that binder resin: particles = 100: 5.

【0099】このようにして得られた液をガラス基板上
にスプレーにより塗布し、常温で乾燥させた。
The liquid thus obtained was applied on a glass substrate by spraying and dried at normal temperature.

【0100】このようにして、ガラス基板の一方の面に
TCO膜が、他方の面に乱反射膜が形成された実施例4
のサンプルが得られた。
Thus, the fourth embodiment in which the TCO film was formed on one surface of the glass substrate and the irregular reflection film was formed on the other surface of the glass substrate
Sample was obtained.

【0101】この実施例4のサンプルについて、実施例
1と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行な
った。
The optical characteristics and the initial film of the sample of Example 4 were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0102】(実施例5)バインダ樹脂中に粒子が分散
された液をガラス基板上にスプレーにより2回塗布し、
他は実施例4と同様にして、実施例5のサンプルを作製
した。
Example 5 A liquid in which particles were dispersed in a binder resin was applied twice on a glass substrate by spraying.
Other than that produced the sample of Example 5 like Example 4.

【0103】この実施例5のサンプルについて、実施例
1と同様にして、光学特性、および初期膜の評価を行な
った。
The optical characteristics and the initial film of the sample of Example 5 were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0104】(実施例6)バインダ樹脂:粒子=10
0:3となるように粒子の配合率を調製し、実施例4と
同様にして実施例6のサンプルを作製した。
Example 6 Binder Resin: Particle = 10
The mixing ratio of the particles was adjusted so as to be 0: 3, and a sample of Example 6 was produced in the same manner as in Example 4.

【0105】このようにして得られた実施例6のサンプ
ルについて、実施例1と同様にして、光学特性、および
初期膜の評価を行なった。
The optical characteristics and the initial film of the sample of Example 6 thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0106】(実施例7)バインダ樹脂に粒子が分散さ
れた液をガラス基板上にスプレーにより2回塗布し、他
の条件は実施例6と全く同様にして、実施例7のサンプ
ルを作製した。
(Example 7) A sample in Example 7 was prepared by applying a liquid in which particles were dispersed in a binder resin to a glass substrate twice by spraying, and using the other conditions exactly as in Example 6. .

【0107】このようにして得られた実施例7のサンプ
ルについて、実施例1と同様にして、光学特性、および
初期膜の評価を行なった。
With respect to the sample of Example 7 thus obtained, the optical characteristics and the initial film were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0108】(実施例8)バインダ樹脂として、ボンフ
ロン♯2020SRのみを用い、希釈剤を用いないで、
かつ、バインダ樹脂:粒子=100:5となるように粒
子の配合率を調製し、実施例4と同様にして実施例8の
サンプルを作製した。
(Example 8) As the binder resin, only Bonflon # 2020SR was used, and no diluent was used.
In addition, the blending ratio of the particles was adjusted so that binder resin: particles = 100: 5, and a sample of Example 8 was produced in the same manner as in Example 4.

【0109】このようにして得られた実施例8のサンプ
ルについて、実施例1と同様にして、光学特性、および
初期膜の評価を行なった。
The optical characteristics and the initial film of the sample of Example 8 thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0110】(実施例9)バインダ樹脂に粒子が分散さ
れた液をガラス基板上にスプレーにより2回塗布し、他
の条件は実施例8と全く同様にして、実施例9のサンプ
ルを作製した。
(Example 9) A liquid in which particles were dispersed in a binder resin was applied twice on a glass substrate by spraying, and the other conditions were exactly the same as those of Example 8, to thereby prepare a sample of Example 9. .

【0111】このようにして得られた実施例9のサンプ
ルについて、実施例1と同様にして、光学特性、および
初期膜の評価を行なった。
The optical characteristics and the initial film of the thus obtained sample of Example 9 were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0112】(実施例10)基板の前処理として、アセ
トンのみを用い、バインダ樹脂:粒子=100:5とな
るように粒子の配合率を調製し、8番手のピアノ線コー
タを用いてバインダ樹脂に粒子が分散された液をガラス
基板上に塗布し、実施例4と同様にして実施例10のサ
ンプルを作製した。
Example 10 As a pretreatment of a substrate, only acetone was used, and the mixing ratio of the particles was adjusted so that the binder resin: particles = 100: 5. Was applied onto a glass substrate, and a sample of Example 10 was prepared in the same manner as in Example 4.

【0113】このようにして得られた実施例10のサン
プルについて、実施例1と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。
The optical characteristics and the initial film of the sample of Example 10 thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0114】(実施例11)16番手のピアノ線コータ
を用いて、他の条件は実施例10と全く同様にして実施
例11のサンプルを作製した。
(Example 11) A sample of Example 11 was produced using a 16th piano wire coater under exactly the same conditions as in Example 10.

【0115】このようにして得られた実施例11のサン
プルについて、実施例1と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。
With respect to the sample of Example 11 thus obtained, the optical characteristics and the initial film were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0116】(実施例12)バインダ樹脂:粒子=10
0:3となるように粒子の配合率を調製し、8番手のピ
アノ線コータを用いて、実施例10と同様にして実施例
12のサンプルを作製した。
(Example 12) Binder resin: particles = 10
The mixing ratio of the particles was adjusted so as to be 0: 3, and a sample of Example 12 was produced in the same manner as in Example 10 using an eighth-number piano wire coater.

【0117】このようにして得られた実施例12のサン
プルについて、実施例1と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。
The optical characteristics and the initial film of the sample of Example 12 thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0118】(実施例13)16番手のピアノ線コータ
を用いて、他の条件は実施例12と全く同様にして実施
例13のサンプルを作製した。
(Example 13) A sample of Example 13 was produced using a 16th piano wire coater under the same conditions as in Example 12 except for the above conditions.

【0119】このようにして得られた実施例13のサン
プルについて、実施例1と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。
The optical characteristics and the initial film of the sample of Example 13 thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0120】(実施例14)バインダ樹脂:粒子=10
0:1となるように粒子の配合率を調製し、8番手のピ
アノ線コータを用いて、実施例10と同様にして実施例
14のサンプルを作製した。
(Example 14) Binder resin: particles = 10
The blending ratio of the particles was adjusted so as to be 0: 1, and a sample of Example 14 was produced in the same manner as in Example 10 using a piano wire coater of 8th.

【0121】このようにして得られた実施例14のサン
プルについて、実施例1と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。
The optical characteristics and the initial film of the sample of Example 14 thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0122】(実施例15)バインダ樹脂:粒子=10
0:5となるように粒子の配合率を調製し、8番手のピ
アノ線コータを用いて、他の条件は実施例10と全く同
様にして、実施例15のサンプルを作製した。
(Example 15) Binder resin: particles = 10
The mixing ratio of the particles was adjusted so as to be 0: 5, and a sample of Example 15 was produced using an 8th-rank piano wire coater under exactly the same conditions as in Example 10.

【0123】このようにして得られた実施例15のサン
プルについて、実施例1と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。
The optical characteristics and the initial film of the sample of Example 15 thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0124】(実施例16)16番手のピアノ線コータ
を用いて、他の条件は実施例15と全く同様にして、実
施例16のサンプルを作製した。
(Example 16) A sample of Example 16 was produced using a 16th piano wire coater under the same conditions as in Example 15 except for the above conditions.

【0125】このようにして得られた実施例16のサン
プルについて、実施例1と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。
The optical characteristics and the initial film of the sample of Example 16 thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0126】(実施例17)無機材粒子として、日産化
学工業(株)製シリカゾル「EG−ST−ZL」(φ
0.07〜0.1μm)を用い、バインダ樹脂:粒子=
100:1900となるように粒子の配合率を調製し、
他の条件は実施例14と全く同様にして、実施例17の
サンプルを作製した。
(Example 17) As inorganic material particles, a silica sol “EG-ST-ZL” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. (φ
0.07 to 0.1 μm) and binder resin: particles =
The mixing ratio of the particles is adjusted so as to be 100: 1900,
The other conditions were exactly the same as those of Example 14, and the sample of Example 17 was produced.

【0127】このようにして得られた実施例17のサン
プルについて、実施例1と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。
With respect to the thus obtained sample of Example 17, the optical characteristics and the initial film were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0128】(実施例18)バインダ樹脂:粒子=10
0:900となるように粒子の配合率を調製し、実施例
17と同様にして実施例18のサンプルを作製した。
Example 18 Binder Resin: Particle = 10
The blending ratio of the particles was adjusted to be 0: 900, and a sample of Example 18 was produced in the same manner as in Example 17.

【0129】このようにして得られた実施例18のサン
プルについて、実施例1と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。
The samples of Example 18 thus obtained were evaluated for optical characteristics and initial film in the same manner as in Example 1.

【0130】(実施例19)バインダ樹脂:粒子=10
0:400となるように粒子の配合率を調製し、実施例
17と同様にして実施例19のサンプルを作製した。
(Example 19) Binder resin: particles = 10
The blending ratio of the particles was adjusted to be 0: 400, and a sample of Example 19 was produced in the same manner as in Example 17.

【0131】このようにして得られた実施例19のサン
プルについて、実施例1と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。
The optical characteristics and the initial film of the sample of Example 19 thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0132】(実施例20)バインダ樹脂:粒子=10
0:90となるように粒子の配合率を調製し、実施例1
7と同様にして実施例20のサンプルを作製した。
(Example 20) Binder resin: particles = 10
The blending ratio of the particles was adjusted to be 0:90, and
In the same manner as in Example 7, a sample of Example 20 was produced.

【0133】このようにして得られた実施例20のサン
プルについて、実施例1と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。
The optical characteristics and the initial film of the sample of Example 20 thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0134】(実施例21)バインダ樹脂:粒子=10
0:67となるように粒子の配合率を調製し、実施例1
7と同様にして実施例21のサンプルを作製した。
(Example 21) Binder resin: particles = 10
The mixing ratio of the particles was adjusted so as to be 0:67, and Example 1 was used.
In the same manner as in Example 7, a sample of Example 21 was produced.

【0135】このようにして得られた実施例21のサン
プルについて、実施例1と同様にして、光学特性、およ
び初期膜の評価を行なった。
With respect to the sample of Example 21 thus obtained, the optical characteristics and the initial film were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0136】(比較例1)実施例1と同様の表面が平坦
なガラス基板の一方の面にTCO膜を形成し、他方の面
に防眩膜を形成しない比較例1のサンプルを作製した。
Comparative Example 1 A sample of Comparative Example 1 was prepared in which a TCO film was formed on one surface of a glass substrate having the same flat surface as in Example 1 and no antiglare film was formed on the other surface.

【0137】このようにして得られた比較例1のサンプ
ルについて、実施例1と同様にして、光学特性の評価を
行なった。
The optical characteristics of the sample of Comparative Example 1 thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1.

【0138】(比較例2)図8は、従来の太陽電池モジ
ュールの他の例の概略構成を示す断面図である。
(Comparative Example 2) FIG. 8 is a sectional view showing a schematic configuration of another example of a conventional solar cell module.

【0139】図8を参照して、この太陽電池モジュール
においては、ガラス基板として、半導体層形成面側にエ
ンボス加工により凹凸形状が形成された強化エンボスガ
ラス11が用いられている。
Referring to FIG. 8, in this solar cell module, a reinforced embossed glass 11 having an uneven shape formed by embossing on a semiconductor layer forming surface side is used as a glass substrate.

【0140】この従来の太陽電池モジュールに用いられ
る強化エンボスガラス11を比較例2のサンプルとし、
この比較例2のサンプルについても、凹凸が形成された
方とは反対の方向から光を照射し、実施例1と同様に、
光学特性の評価を行なった。
The tempered embossed glass 11 used in this conventional solar cell module was used as a sample of Comparative Example 2,
The sample of Comparative Example 2 was also irradiated with light from the direction opposite to the direction in which the irregularities were formed.
The optical characteristics were evaluated.

【0141】以上説明した実施例1〜21、比較例1〜
2のサンプルの防眩膜の製膜条件、および評価結果を、
表2〜表4にまとめて示す。
Examples 1 to 21 described above and Comparative Examples 1 to
The film forming conditions of the anti-glare film of Sample 2 and the evaluation result were
The results are shown in Tables 2 to 4.

【0142】[0142]

【表2】 [Table 2]

【0143】[0143]

【表3】 [Table 3]

【0144】[0144]

【表4】 [Table 4]

【0145】[0145]

【発明の効果】以上説明したように、本発明による太陽
電池モジュールは、透明絶縁基板の光入射面に防眩膜を
備えているため、光の反射による光公害等の問題が有効
に防止される。特に、本発明によれば、防眩膜は、実用
上影響するほど入射光量が減少することもなく、太陽光
を有効に利用することができる。さらに、無機材粒子
は、劣化の問題も少ないため、耐候性の点でも優れた太
陽電池モジュールが得られる。
As described above, since the solar cell module according to the present invention is provided with the anti-glare film on the light incident surface of the transparent insulating substrate, problems such as light pollution due to light reflection are effectively prevented. You. In particular, according to the present invention, the antiglare film can effectively utilize sunlight without reducing the amount of incident light to such an extent that it affects practically. Further, since the inorganic material particles are less likely to deteriorate, a solar cell module excellent in weather resistance can be obtained.

【0146】また、本発明による太陽電池モジュールの
製造方法は、透明絶縁基板の表面に素子部分を形成後、
防眩膜を形成するようにしたため、基板として高価な型
板ガラス等を用いることなく、太陽電池モジュールの外
観を、映り込みや光公害を防止するように改善できる。
また、最後に防眩膜を形成するようにすることにより、
従来の基本的な太陽電池モジュールの製造工程を何ら変
更させることなく、上記外観の改善を達成することがで
きる。
The method for manufacturing a solar cell module according to the present invention comprises the steps of: forming an element portion on the surface of a transparent insulating substrate;
Since the anti-glare film is formed, the appearance of the solar cell module can be improved so as to prevent glare and light pollution without using expensive template glass or the like as a substrate.
Also, by forming an anti-glare film at the end,
The above-described improvement in appearance can be achieved without any change in a conventional basic solar cell module manufacturing process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による第1実施形態の太陽電池モジュー
ルの概略構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a schematic configuration of a solar cell module according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明による太陽電池モジュールの一例の防眩
膜の部分を一部拡大して示す断面図である。
FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view showing a part of an antiglare film of an example of a solar cell module according to the present invention.

【図3】本発明による太陽電池モジュールの他の例の防
眩膜の部分を一部拡大して示す断面図である。
FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view showing a part of an antiglare film of another example of the solar cell module according to the present invention.

【図4】本発明による太陽電池モジュールの製造方法の
一例を説明するための断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an example of a method for manufacturing a solar cell module according to the present invention.

【図5】本発明による太陽電池モジュールの製造方法の
一例を説明するための断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating an example of a method for manufacturing a solar cell module according to the present invention.

【図6】本発明による太陽電池モジュールの製造方法の
他の例を説明するための断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining another example of the method for manufacturing a solar cell module according to the present invention.

【図7】従来の太陽電池モジュールの一例の概略構成を
示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of an example of a conventional solar cell module.

【図8】従来の太陽電池モジュールの他の例の概略構成
を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of another example of a conventional solar cell module.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明絶縁基板 2 透明電極層 3 光半導体層 4 裏面電極層 5 光半導体素子 6 充填樹脂 7 裏面カバーフィルム 8 フレーム 9 ローラ 10 防眩膜 20 有機材バインダ 30 無機材粒子 なお、各図中、同一符号は同一または相当部分を示す。 REFERENCE SIGNS LIST 1 transparent insulating substrate 2 transparent electrode layer 3 optical semiconductor layer 4 back electrode layer 5 optical semiconductor element 6 filling resin 7 back cover film 8 frame 9 roller 10 anti-glare film 20 organic binder 30 inorganic material particles Same in each drawing Symbols indicate the same or corresponding parts.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1および第2の面を有する透明絶縁基
板と、 前記透明絶縁基板の前記第1の面上に形成された第1電
極層と、 前記第1電極層上に形成された光半導体層と、 前記光半導体層上に形成された第2電極層と、 前記透明絶縁基板の光が入射される前記第2の面上に形
成された防眩膜とを備え、 前記防眩膜は、有機材バインダと無機材粒子とを含む、
太陽電池モジュール。
A transparent insulating substrate having first and second surfaces; a first electrode layer formed on the first surface of the transparent insulating substrate; and a first electrode layer formed on the first electrode layer. An optical semiconductor layer; a second electrode layer formed on the optical semiconductor layer; and an antiglare film formed on the second surface of the transparent insulating substrate on which light is incident; The film includes an organic binder and inorganic particles,
Solar cell module.
【請求項2】 前記有機材バインダは、アクリル系樹
脂、フッ素系樹脂、またはこれらの混合樹脂、またはこ
れらの樹脂あるいは混合樹脂を主成分とする、請求項1
記載の太陽電池モジュール。
2. The organic binder according to claim 1, wherein the main component is an acrylic resin, a fluorine resin, a mixed resin thereof, or a resin or a mixed resin thereof.
The solar cell module as described.
【請求項3】 前記アクリル系樹脂は、以下の分子構
造: 【化1】 (式中、R1は炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素
原子または炭素数1〜10のアルキル基、アリール基お
よびアラルキル基よりなる群から選ばれた一価の炭化水
素基、aは0、1または2を示す)で表わされる基を含
有する加水分解性シリル基含有アクリル共重合体を含
み、 前記フッ素系樹脂は、水酸基含有フッ素系樹脂である、
請求項2記載の太陽電池モジュール。
3. The acrylic resin has the following molecular structure: (Wherein, R 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group and an aralkyl group, a represents 0, 1 or 2) comprising a hydrolyzable silyl group-containing acrylic copolymer containing a group represented by the formula: wherein the fluorine-based resin is a hydroxyl-containing fluorine-based resin,
The solar cell module according to claim 2.
【請求項4】 前記無機材粒子は、シリカからなる、請
求項1記載の太陽電池モジュール。
4. The solar cell module according to claim 1, wherein said inorganic material particles are made of silica.
【請求項5】 前記無機材粒子の直径が1〜10μmで
あって、前記有機材バインダと前記無機材粒子との混合
重量比は、前記有機材バインダの重量を100としたと
き、前記無機材粒子の重量が1〜10である、請求項1
記載の太陽電池モジュール。
5. The inorganic material particles having a diameter of 1 to 10 μm and a mixing weight ratio of the organic material binder and the inorganic material particles, wherein the weight of the organic material binder is 100, The weight of the particles is between 1 and 10.
The solar cell module as described.
【請求項6】 前記透明絶縁基板と前記防眩膜との間に
介在された、界面処理剤からなる膜をさらに備えた、請
求項1記載の太陽電池モジュール。
6. The solar cell module according to claim 1, further comprising a film made of an interfacial treatment agent interposed between the transparent insulating substrate and the antiglare film.
【請求項7】 前記防眩膜は、表面に凹凸形状が形成さ
れている、請求項1記載の太陽電池モジュール。
7. The solar cell module according to claim 1, wherein the antiglare film has an uneven shape on a surface.
【請求項8】 前記防眩膜上に形成された、表面保護膜
をさらに備えた、請求項1記載の太陽電池モジュール。
8. The solar cell module according to claim 1, further comprising a surface protective film formed on the anti-glare film.
【請求項9】 第1および第2の面を有する透明絶縁基
板の前記第1の面上に、第1電極層を形成するステップ
と、 前記形成された第1電極層上に光半導体層を形成するス
テップと、 前記形成された光半導体層上に第2電極層を形成するス
テップと、 前記透明絶縁基板の光が入射される前記第2の面上に、
有機材バインダと無機材粒子とを含む防眩膜を形成する
ステップとを備え、 前記防眩膜は、前記透明絶縁基板の第1の面上に第1電
極層、光半導体層、および第2電極層を形成した後に形
成することを特徴とする、太陽電池モジュールの製造方
法。
9. A step of forming a first electrode layer on the first surface of a transparent insulating substrate having first and second surfaces; and forming an optical semiconductor layer on the formed first electrode layer. Forming; forming a second electrode layer on the formed optical semiconductor layer; and forming, on the second surface of the transparent insulating substrate on which light is incident,
Forming an antiglare film including an organic binder and inorganic material particles, wherein the antiglare film includes a first electrode layer, an optical semiconductor layer, and a second electrode layer on a first surface of the transparent insulating substrate. A method for manufacturing a solar cell module, which is formed after forming an electrode layer.
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